JPH09214069A - レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置 - Google Patents
レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置Info
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- JPH09214069A JPH09214069A JP8021442A JP2144296A JPH09214069A JP H09214069 A JPH09214069 A JP H09214069A JP 8021442 A JP8021442 A JP 8021442A JP 2144296 A JP2144296 A JP 2144296A JP H09214069 A JPH09214069 A JP H09214069A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 従来の装置では、色素レーザービームの光軸
に対して垂直に光ファイバーを配置する必要があり、屈
曲半径をとらねばならないため装置全体の小型化が図り
にくいという問題点があった。 【解決手段】 この発明に係る色素レーザー装置は、色
素レーザー発振器８と、該色素レーザー発振器８の出力
光の断面形状を矩形化する矩形アパーチャー９と、該色
素レーザー発振器８の出力光を増幅するための色素セル
１０、１１と、該色素セルを励起するための励起レーザ
ー発振器１と、該励起レーザー発振器１の出力光を伝送
する光ファイバー３と、該光ファイバー３からの出力光
の断面形状を矩形化する矩形導波路４Ａとを備えた色素
レーザー装置において、矩形導波路４Ａの正面を４５度
傾けることにより、矩形導波路の入射方向と出射方向が
直交するようにしたものである。
に対して垂直に光ファイバーを配置する必要があり、屈
曲半径をとらねばならないため装置全体の小型化が図り
にくいという問題点があった。 【解決手段】 この発明に係る色素レーザー装置は、色
素レーザー発振器８と、該色素レーザー発振器８の出力
光の断面形状を矩形化する矩形アパーチャー９と、該色
素レーザー発振器８の出力光を増幅するための色素セル
１０、１１と、該色素セルを励起するための励起レーザ
ー発振器１と、該励起レーザー発振器１の出力光を伝送
する光ファイバー３と、該光ファイバー３からの出力光
の断面形状を矩形化する矩形導波路４Ａとを備えた色素
レーザー装置において、矩形導波路４Ａの正面を４５度
傾けることにより、矩形導波路の入射方向と出射方向が
直交するようにしたものである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、加工機などのビ
ーム源として利用されるレーザー光パターン成形装置及
び色素レーザー装置に関するものである。
ーム源として利用されるレーザー光パターン成形装置及
び色素レーザー装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来のレーザー光パターン成形装置及び
それを利用した色素レーザー装置について図８及び図９
を参照しながら説明する。図８は、例えば特公昭６１−
６１６５７号公報に記載された従来のレーザー光パター
ン成形装置を示す図である。また、図９は、図８のレー
ザー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザ
ー装置を示す図である。
それを利用した色素レーザー装置について図８及び図９
を参照しながら説明する。図８は、例えば特公昭６１−
６１６５７号公報に記載された従来のレーザー光パター
ン成形装置を示す図である。また、図９は、図８のレー
ザー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザ
ー装置を示す図である。
【０００３】図８において、１は励起レーザー発振器、
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
は上記レーザー光を矩形状に成形する矩形導波路、５は
上記矩形導波路４から出射されたレーザー光を集束する
レンズである。なお、矩形導波路４の正面４ａおよび背
面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面４ｂ、下面
４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅには金属膜からなる反射膜を
蒸着してある。
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
は上記レーザー光を矩形状に成形する矩形導波路、５は
上記矩形導波路４から出射されたレーザー光を集束する
レンズである。なお、矩形導波路４の正面４ａおよび背
面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面４ｂ、下面
４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅには金属膜からなる反射膜を
蒸着してある。
【０００４】図９において、６はビームスプリッタ、７
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
【０００５】このように、発振器と複数の増幅器とから
構成される色素レーザー装置は、一般にＤＬＭＯＰＡ
（Dye Laser Master Oscillator Power Amplifier）と
呼ばれている。
構成される色素レーザー装置は、一般にＤＬＭＯＰＡ
（Dye Laser Master Oscillator Power Amplifier）と
呼ばれている。
【０００６】次に、上記従来のレーザー光パターン成形
装置及び色素レーザー装置の動作について説明する。
装置及び色素レーザー装置の動作について説明する。
【０００７】色素レーザー発振器８から出力された色素
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
【０００８】一方、励起レーザー発振器１から出力され
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４の正面４ａより入射す
る。励起レーザービームは矩形導波路４内を進行するに
伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅで多数
回反射されて重なりあい矩形に成形されて背面４ｆより
出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４の正面４ａより入射す
る。励起レーザービームは矩形導波路４内を進行するに
伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅで多数
回反射されて重なりあい矩形に成形されて背面４ｆより
出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
【０００９】色素セル１０及び１１内で励起レーザービ
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。この時、励起レーザービームが矩形に成
形されていないと増幅される色素レーザービームの断面
形状が矩形でなくなる。
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。この時、励起レーザービームが矩形に成
形されていないと増幅される色素レーザービームの断面
形状が矩形でなくなる。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】上述したような従来の
レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置で
は、以下に述べるような問題点があった。
レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置で
は、以下に述べるような問題点があった。
【００１１】まず、光ファイバー３を屈曲させる場合、
その屈曲半径には制限がある。特に、加工機などのビー
ム源に利用される色素レーザー装置では高パワーの光を
伝送するため直径の大きい光ファイバーを用いる必要が
あるが、直径の大きい光ファイバーほど、屈曲半径を大
きく取らなければならない。例えば、コア径１.２mmの
光ファイバーの場合、屈曲半径は３００mm以上を必要と
する。従来の装置では、装置の長手方向、すなわち色素
レーザービームの光軸に対して垂直に光ファイバーを配
置する必要があり、前述の屈曲半径をとらねばならない
ため装置全体の小型化が図りにくいという問題点があっ
た。
その屈曲半径には制限がある。特に、加工機などのビー
ム源に利用される色素レーザー装置では高パワーの光を
伝送するため直径の大きい光ファイバーを用いる必要が
あるが、直径の大きい光ファイバーほど、屈曲半径を大
きく取らなければならない。例えば、コア径１.２mmの
光ファイバーの場合、屈曲半径は３００mm以上を必要と
する。従来の装置では、装置の長手方向、すなわち色素
レーザービームの光軸に対して垂直に光ファイバーを配
置する必要があり、前述の屈曲半径をとらねばならない
ため装置全体の小型化が図りにくいという問題点があっ
た。
【００１２】また、矩形導波路４の断面が偏平な場合に
は、幅の広い方向では幅の狭い方向にくらべて内面反射
の回数が少なくなり、色素レーザービームの断面強度分
布の均一性が悪くなるという問題点があった。
は、幅の広い方向では幅の狭い方向にくらべて内面反射
の回数が少なくなり、色素レーザービームの断面強度分
布の均一性が悪くなるという問題点があった。
【００１３】さらに、矩形導波路４内において多数回の
反射を繰り返すため、反射膜吸収による損失が大きく、
装置の効率が低いという問題点があった。一般に反射膜
には、損失の小さい誘電体多層膜と、損失の大きい金属
膜とがあるが、この装置では発散光を反射させなければ
ならないため、入射角依存性が大きい誘電体多層膜は使
用出来ない。
反射を繰り返すため、反射膜吸収による損失が大きく、
装置の効率が低いという問題点があった。一般に反射膜
には、損失の小さい誘電体多層膜と、損失の大きい金属
膜とがあるが、この装置では発散光を反射させなければ
ならないため、入射角依存性が大きい誘電体多層膜は使
用出来ない。
【００１４】この発明は、前述した問題点を解決するた
めになされたもので、装置全体の小型化が図り易く、ま
た色素レーザービームの断面強度分布の均一性を高くで
き、さらに効率を高くできるレーザー光パターン成形装
置及び色素レーザー装置を得ることを目的とする。
めになされたもので、装置全体の小型化が図り易く、ま
た色素レーザービームの断面強度分布の均一性を高くで
き、さらに効率を高くできるレーザー光パターン成形装
置及び色素レーザー装置を得ることを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】この発明に係るレーザー
光パターン成形装置は、レーザー光を出力するレーザー
発振器と、前記レーザー発振器から出力されたレーザー
光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーにより
伝送されたレーザー光の断面形状を矩形化する矩形導波
路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾けら
れ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交させる
ものである。
光パターン成形装置は、レーザー光を出力するレーザー
発振器と、前記レーザー発振器から出力されたレーザー
光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーにより
伝送されたレーザー光の断面形状を矩形化する矩形導波
路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾けら
れ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交させる
ものである。
【００１６】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下
面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が４
５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザー
光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が
蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されているもので
ある。
成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下
面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が４
５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザー
光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が
蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されているもので
ある。
【００１７】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形
導波路が前記複数の光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
成形装置は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形
導波路が前記複数の光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
【００１８】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも
屈折率の低い材料で挟まれているものである。
成形装置は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも
屈折率の低い材料で挟まれているものである。
【００１９】さらに、この発明に係るレーザー光パター
ン成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈
折率の低い物質に接しているものである。
ン成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈
折率の低い物質に接しているものである。
【００２０】この発明に係る色素レーザー装置は、色素
レーザー光を出力する色素レーザー発振器と、前記色素
レーザー発振器から出力された色素レーザー光の断面形
状を矩形化する矩形手段と、前記矩形化された色素レー
ザー光を増幅する色素セルと、前記色素セルを励起する
ための励起レーザー光を出力する励起レーザー発振器
と、前記励起レーザー発振器から出力された励起レーザ
ー光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーによ
り伝送された励起レーザー光の断面形状を矩形化する矩
形導波路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾
けられ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交さ
せるものである。
レーザー光を出力する色素レーザー発振器と、前記色素
レーザー発振器から出力された色素レーザー光の断面形
状を矩形化する矩形手段と、前記矩形化された色素レー
ザー光を増幅する色素セルと、前記色素セルを励起する
ための励起レーザー光を出力する励起レーザー発振器
と、前記励起レーザー発振器から出力された励起レーザ
ー光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーによ
り伝送された励起レーザー光の断面形状を矩形化する矩
形導波路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾
けられ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交さ
せるものである。
【００２１】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、残りの面には反射膜が蒸着されているものであ
る。
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、残りの面には反射膜が蒸着されているものであ
る。
【００２２】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形導波路が
前記複数の光ファイバーにより伝送された励起レーザー
光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形導波路が
前記複数の光ファイバーにより伝送された励起レーザー
光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
【００２３】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも屈折率の
低い材料で挟まれているものである。
は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも屈折率の
低い材料で挟まれているものである。
【００２４】さらに、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈折率の
低い物質に接しているものである。
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈折率の
低い物質に接しているものである。
【００２５】
実施の形態１．以下、この発明の実施の形態１について
図１及び図２を参照しながら説明する。図１は、この発
明の実施の形態１に係るレーザー光パターン成形装置の
構成を示す図である。また、図２は、図１のレーザー光
パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー装置
を示す図である。なお、各図中、同一符号は同一又は相
当部分を示す。
図１及び図２を参照しながら説明する。図１は、この発
明の実施の形態１に係るレーザー光パターン成形装置の
構成を示す図である。また、図２は、図１のレーザー光
パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー装置
を示す図である。なお、各図中、同一符号は同一又は相
当部分を示す。
【００２６】図１において、１は励起レーザー発振器、
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
Ａは上記レーザー光を矩形状に成形する矩形導波路、５
は上記矩形導波路４Ａから出射されたレーザー光を集束
するレンズである。なお、上記矩形導波路４Ａの正面４
ａは、金属膜からなる反射膜を蒸着してあり４５度傾け
てある。また、上記矩形導波路４Ａの右面４ｄのうち、
ビームが入射する部分には反射防止膜を、それ以外の部
分には金属膜からなる反射膜を蒸着してある。さらに、
上記矩形導波路４Ａの背面４ｆには反射防止膜を蒸着し
てあり、上面４ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには金属膜から
なる反射膜を蒸着してある。
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
Ａは上記レーザー光を矩形状に成形する矩形導波路、５
は上記矩形導波路４Ａから出射されたレーザー光を集束
するレンズである。なお、上記矩形導波路４Ａの正面４
ａは、金属膜からなる反射膜を蒸着してあり４５度傾け
てある。また、上記矩形導波路４Ａの右面４ｄのうち、
ビームが入射する部分には反射防止膜を、それ以外の部
分には金属膜からなる反射膜を蒸着してある。さらに、
上記矩形導波路４Ａの背面４ｆには反射防止膜を蒸着し
てあり、上面４ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには金属膜から
なる反射膜を蒸着してある。
【００２７】図２において、６はビームスプリッタ、７
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
【００２８】次に、この実施の形態１に係るレーザー光
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
【００２９】色素レーザー発振器８から出力された色素
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
【００３０】一方、励起レーザー発振器１から出力され
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４Ａの右面４ｄの反射防
止膜が蒸着された部分より入射する。
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４Ａの右面４ｄの反射防
止膜が蒸着された部分より入射する。
【００３１】励起レーザービームは矩形導波路４Ａ内を
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回反射されて重なりあい矩形に成形される。
また、正面４ａにより光軸が９０度曲げられて背面４ｆ
より出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回反射されて重なりあい矩形に成形される。
また、正面４ａにより光軸が９０度曲げられて背面４ｆ
より出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
【００３２】色素セル１０及び１１内で励起レーザービ
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。
【００３３】以上のように、この実施の形態１によれ
ば、励起レーザービームの矩形化手段である矩形導波路
４Ａの１面を４５度傾けることにより、矩形導波路４Ａ
の入射方向と出射方向が直交するようにしたので、装置
全体の小型化が図り易くなるという効果を奏する。
ば、励起レーザービームの矩形化手段である矩形導波路
４Ａの１面を４５度傾けることにより、矩形導波路４Ａ
の入射方向と出射方向が直交するようにしたので、装置
全体の小型化が図り易くなるという効果を奏する。
【００３４】実施の形態２．以下、この発明の実施の形
態２について図３、図４及び図５を参照しながら説明す
る。図３は、この発明の実施の形態２に係るレーザー光
パターン成形装置の構成を示す図である。また、図４
は、図３のレーザー光パターン成形装置を利用して構成
した色素レーザー装置を示す図である。さらに、図５
は、図３の色素セルにおける励起レーザービームの空間
強度分布（太線）を示す図である。
態２について図３、図４及び図５を参照しながら説明す
る。図３は、この発明の実施の形態２に係るレーザー光
パターン成形装置の構成を示す図である。また、図４
は、図３のレーザー光パターン成形装置を利用して構成
した色素レーザー装置を示す図である。さらに、図５
は、図３の色素セルにおける励起レーザービームの空間
強度分布（太線）を示す図である。
【００３５】図３において、１は励起レーザー発振器、
１２ａ、１２ｂはビームスプリッタ、１２ｃは反射鏡、
２ａ、２ｂ、２ｃは上記励起レーザー発振器１から出力
されたレーザー光を集束するレンズ、３ａ、３ｂ、３ｃ
は上記レンズ２ａ〜２ｃによって集束されて入射された
レーザー光を伝送する光ファイバー、４Ａは上記レーザ
ー光を矩形状に成形する矩形導波路、５は上記矩形導波
路４Ａから出射されたレーザー光を集束するレンズであ
る。なお、上記矩形導波路４Ａの正面４ａは、金属膜か
らなる反射膜を蒸着してあり４５度傾けてある。また、
上記矩形導波路４Ａの右面４ｄのうち、ビームが入射す
る部分には反射防止膜を、それ以外の部分には金属膜か
らなる反射膜を蒸着してある。さらに、上記矩形導波路
４Ａの背面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面４
ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには金属膜からなる反射膜を蒸
着してある。
１２ａ、１２ｂはビームスプリッタ、１２ｃは反射鏡、
２ａ、２ｂ、２ｃは上記励起レーザー発振器１から出力
されたレーザー光を集束するレンズ、３ａ、３ｂ、３ｃ
は上記レンズ２ａ〜２ｃによって集束されて入射された
レーザー光を伝送する光ファイバー、４Ａは上記レーザ
ー光を矩形状に成形する矩形導波路、５は上記矩形導波
路４Ａから出射されたレーザー光を集束するレンズであ
る。なお、上記矩形導波路４Ａの正面４ａは、金属膜か
らなる反射膜を蒸着してあり４５度傾けてある。また、
上記矩形導波路４Ａの右面４ｄのうち、ビームが入射す
る部分には反射防止膜を、それ以外の部分には金属膜か
らなる反射膜を蒸着してある。さらに、上記矩形導波路
４Ａの背面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面４
ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには金属膜からなる反射膜を蒸
着してある。
【００３６】図４において、６はビームスプリッタ、７
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
【００３７】次に、この実施の形態２に係るレーザー光
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
【００３８】色素レーザー発振器８から出力された色素
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
【００３９】一方、励起レーザー発振器１から出力され
た励起レーザービームは、ビームスプリッタ１２ａ、１
２ｂ、反射鏡１２ｃによって３本のビームに分割され、
それぞれレンズ２ａ、２ｂ、２ｃによって光ファイバー
３ａ、３ｂ、３ｃに導入される。光ファイバー３ａ、３
ｂ、３ｃから出射された励起レーザービームは、並行し
て矩形導波路４Ａの右面４ｄの反射防止膜を蒸着された
部分より入射する。
た励起レーザービームは、ビームスプリッタ１２ａ、１
２ｂ、反射鏡１２ｃによって３本のビームに分割され、
それぞれレンズ２ａ、２ｂ、２ｃによって光ファイバー
３ａ、３ｂ、３ｃに導入される。光ファイバー３ａ、３
ｂ、３ｃから出射された励起レーザービームは、並行し
て矩形導波路４Ａの右面４ｄの反射防止膜を蒸着された
部分より入射する。
【００４０】励起レーザービームは矩形導波路４Ａ内に
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回反射されて重なりあい矩形に成形される。
また、正面４ａにより光軸が９０度曲げられて背面４ｆ
より出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回反射されて重なりあい矩形に成形される。
また、正面４ａにより光軸が９０度曲げられて背面４ｆ
より出射し、色素セル１０及び１１に入射する。
【００４１】図５において、太線は色素セル１０、１１
における励起レーザービームの空間強度分布を示し、細
線は光ファイバー３ａ、３ｂ若しくは３ｃの１本のみの
励起レーザービームの空間強度分布を示す。図５に示す
ように、光ファイバーを複数本並べることにより均一性
が向上している。
における励起レーザービームの空間強度分布を示し、細
線は光ファイバー３ａ、３ｂ若しくは３ｃの１本のみの
励起レーザービームの空間強度分布を示す。図５に示す
ように、光ファイバーを複数本並べることにより均一性
が向上している。
【００４２】色素セル１０及び１１内で励起レーザービ
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。
ームのエネルギーが、色素レーザービームのエネルギー
に変換され、結果として増幅された色素レーザービーム
が出力される。
【００４３】以上のように、この実施の形態２によれ
ば、矩形導波路４Ａに接続する光ファイバーを複数本な
らべて配置したので、色素レーザービームの断面強度分
布の均一性を高くできるという効果を奏する。
ば、矩形導波路４Ａに接続する光ファイバーを複数本な
らべて配置したので、色素レーザービームの断面強度分
布の均一性を高くできるという効果を奏する。
【００４４】実施の形態３．以下、この発明の実施の形
態３について図６及び図７を参照しながら説明する。図
６は、この発明の実施の形態３に係るレーザー光パター
ン成形装置の構成を示す図である。また、図７は、図６
のレーザー光パターン成形装置を利用して構成した色素
レーザー装置を示す図である。
態３について図６及び図７を参照しながら説明する。図
６は、この発明の実施の形態３に係るレーザー光パター
ン成形装置の構成を示す図である。また、図７は、図６
のレーザー光パターン成形装置を利用して構成した色素
レーザー装置を示す図である。
【００４５】図６において、１は励起レーザー発振器、
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
Ｂは上記レーザー光を矩形状に成形する光学ガラスＢＫ
７からなる矩形導波路、１３は石英硝子の板、５は上記
矩形導波路４Ｂから出射されたレーザー光を集束するレ
ンズである。なお、上記矩形導波路４Ｂの正面４ａは、
金属膜からなる反射膜を蒸着してあり４５度傾けてあ
る。また、上記矩形導波路４Ｂの右面４ｄのうち、ビー
ムが入射する部分には反射防止膜を、それ以外の部分に
は何もコーティングしていない。さらに、上記矩形導波
路４Ｂの背面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面
４ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには何もコーティングしてい
ない。
２は上記励起レーザー発振器１から出力されたレーザー
光を集束するレンズ、３は上記レンズ２によって集束さ
れて入射されたレーザー光を伝送する光ファイバー、４
Ｂは上記レーザー光を矩形状に成形する光学ガラスＢＫ
７からなる矩形導波路、１３は石英硝子の板、５は上記
矩形導波路４Ｂから出射されたレーザー光を集束するレ
ンズである。なお、上記矩形導波路４Ｂの正面４ａは、
金属膜からなる反射膜を蒸着してあり４５度傾けてあ
る。また、上記矩形導波路４Ｂの右面４ｄのうち、ビー
ムが入射する部分には反射防止膜を、それ以外の部分に
は何もコーティングしていない。さらに、上記矩形導波
路４Ｂの背面４ｆには反射防止膜を蒸着してあり、上面
４ｂ、下面４ｃ、左面４ｅには何もコーティングしてい
ない。
【００４６】図７において、６はビームスプリッタ、７
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
は反射鏡、８は色素レーザー発振器、９は色素レーザー
発振器８の出力光の断面形状を矩形化する手段である矩
形アパーチャー、１０は第１段目の増幅器である色素セ
ル、１１は第２段目の増幅器である色素セルである。
【００４７】次に、この実施の形態３に係るレーザー光
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
パターン成形装置及び色素レーザー装置の動作について
説明する。
【００４８】色素レーザー発振器８から出力された色素
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
レーザービームは、矩形アパーチャー９によって断面形
状を矩形に成形され、第１段目の増幅器である色素セル
１０に入射する。
【００４９】一方、励起レーザー発振器１から出力され
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４Ｂの右面４ｄの反射防
止膜を蒸着された部分より入射する。
た励起レーザービームは、レンズ２によって光ファイバ
ー３に導入される。光ファイバー３から出射された励起
レーザービームは、矩形導波路４Ｂの右面４ｄの反射防
止膜を蒸着された部分より入射する。
【００５０】励起レーザービームは矩形導波路４Ｂ内に
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回全反射されて重なりあい矩形に成形され
る。この上面４ｂ、下面４ｃは石英硝子１３に接してお
り、右面４ｄ、左面４ｅは空気に接している。
進行するに伴い、上面４ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面
４ｅで多数回全反射されて重なりあい矩形に成形され
る。この上面４ｂ、下面４ｃは石英硝子１３に接してお
り、右面４ｄ、左面４ｅは空気に接している。
【００５１】石英硝子１３と空気は共に光学ガラスＢＫ
７よりも屈折率が低いため、臨界角以上の角度で入射し
た光は全く損失無く反射される。この現象を全反射とい
う。臨界角θは、内側の屈折率をｎ１、外側の屈折率を
ｎ２とした場合、次の式で表される。
７よりも屈折率が低いため、臨界角以上の角度で入射し
た光は全く損失無く反射される。この現象を全反射とい
う。臨界角θは、内側の屈折率をｎ１、外側の屈折率を
ｎ２とした場合、次の式で表される。
【００５２】θ＝ｓｉｎ-1（ｎ２／ｎ１）
【００５３】励起レーザービームの波長である約５００
ｎｍにおいては、光学ガラスＢＫ７、石英硝子、空気の
屈折率はおよそ１.５２、１.４６、１.００である。従
って、上面４ｂ、下面４ｃの臨界角は、７３.８度であ
り、右面４ｄ、左面４ｅの臨界角は４１.１度である。
ｎｍにおいては、光学ガラスＢＫ７、石英硝子、空気の
屈折率はおよそ１.５２、１.４６、１.００である。従
って、上面４ｂ、下面４ｃの臨界角は、７３.８度であ
り、右面４ｄ、左面４ｅの臨界角は４１.１度である。
【００５４】光ファイバー３から出射する励起レーザー
ビームの開口数（ＮＡ）は、０.２であるから、上面４
ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅに対する入射角は、
最小でも７８.７度であり、臨界角よりも大きい。従っ
て、励起レーザービームは損失なく進行する。
ビームの開口数（ＮＡ）は、０.２であるから、上面４
ｂ、下面４ｃ、右面４ｄ、左面４ｅに対する入射角は、
最小でも７８.７度であり、臨界角よりも大きい。従っ
て、励起レーザービームは損失なく進行する。
【００５５】また、正面４ａにより光軸が９０度曲げら
れて背面４ｆより出射し、色素セル１０及び１１に入射
する。色素セル１０及び１１内で励起レーザービームの
エネルギーが、色素レーザービームのエネルギーに変換
され、結果として増幅された色素レーザービームが出力
される。
れて背面４ｆより出射し、色素セル１０及び１１に入射
する。色素セル１０及び１１内で励起レーザービームの
エネルギーが、色素レーザービームのエネルギーに変換
され、結果として増幅された色素レーザービームが出力
される。
【００５６】以上のように、この実施の形態３によれ
ば、矩形導波路４Ｂの保持手段として、矩形導波路４Ｂ
よりも屈折率の低い材料で挟む構成としたので、矩形導
波路４Ｂ内での反射損失が小さく、装置の効率を向上で
きるという効果を奏する。
ば、矩形導波路４Ｂの保持手段として、矩形導波路４Ｂ
よりも屈折率の低い材料で挟む構成としたので、矩形導
波路４Ｂ内での反射損失が小さく、装置の効率を向上で
きるという効果を奏する。
【００５７】
【発明の効果】この発明に係るレーザー光パターン成形
装置は、レーザー光を出力するレーザー発振器と、前記
レーザー発振器から出力されたレーザー光を伝送する光
ファイバーと、前記光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の断面形状を矩形化する矩形導波路とを備え、前
記矩形導波路は、１面が４５度傾けられ、これにより入
射方向と出射方向を互いに直交させるものである。
装置は、レーザー光を出力するレーザー発振器と、前記
レーザー発振器から出力されたレーザー光を伝送する光
ファイバーと、前記光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の断面形状を矩形化する矩形導波路とを備え、前
記矩形導波路は、１面が４５度傾けられ、これにより入
射方向と出射方向を互いに直交させるものである。
【００５８】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下
面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が４
５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザー
光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が
蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されているもので
ある。
成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下
面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が４
５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザー
光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が
蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されているもので
ある。
【００５９】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形
導波路が前記複数の光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
成形装置は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形
導波路が前記複数の光ファイバーにより伝送されたレー
ザー光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
【００６０】また、この発明に係るレーザー光パターン
成形装置は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも
屈折率の低い材料で挟まれているものである。
成形装置は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも
屈折率の低い材料で挟まれているものである。
【００６１】さらに、この発明に係るレーザー光パター
ン成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈
折率の低い物質に接しているものである。
ン成形装置は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈
折率の低い物質に接しているものである。
【００６２】この発明に係る色素レーザー装置は、色素
レーザー光を出力する色素レーザー発振器と、前記色素
レーザー発振器から出力された色素レーザー光の断面形
状を矩形化する矩形手段と、前記矩形化された色素レー
ザー光を増幅する色素セルと、前記色素セルを励起する
ための励起レーザー光を出力する励起レーザー発振器
と、前記励起レーザー発振器から出力された励起レーザ
ー光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーによ
り伝送された励起レーザー光の断面形状を矩形化する矩
形導波路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾
けられ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交さ
せるものである。
レーザー光を出力する色素レーザー発振器と、前記色素
レーザー発振器から出力された色素レーザー光の断面形
状を矩形化する矩形手段と、前記矩形化された色素レー
ザー光を増幅する色素セルと、前記色素セルを励起する
ための励起レーザー光を出力する励起レーザー発振器
と、前記励起レーザー発振器から出力された励起レーザ
ー光を伝送する光ファイバーと、前記光ファイバーによ
り伝送された励起レーザー光の断面形状を矩形化する矩
形導波路とを備え、前記矩形導波路は、１面が４５度傾
けられ、これにより入射方向と出射方向を互いに直交さ
せるものである。
【００６３】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、残りの面には反射膜が蒸着されているものであ
る。
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、残りの面には反射膜が蒸着されているものであ
る。
【００６４】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形導波路が
前記複数の光ファイバーにより伝送された励起レーザー
光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
は、前記光ファイバーが複数であり、前記矩形導波路が
前記複数の光ファイバーにより伝送された励起レーザー
光の混合光の断面形状を矩形化するものである。
【００６５】また、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも屈折率の
低い材料で挟まれているものである。
は、前記矩形導波路が、前記矩形導波路よりも屈折率の
低い材料で挟まれているものである。
【００６６】さらに、この発明に係る色素レーザー装置
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈折率の
低い物質に接しているものである。
は、前記矩形導波路が、正面、背面、上面、下面、右面
及び左面を有する６面体であり、前記正面が４５度傾け
られ、前記右面または左面のうち前記励起レーザー光の
ビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜が蒸着
され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈折率の
低い物質に接しているものである。
【図１】 この発明の実施の形態１に係るレーザー光パ
ターン成形装置の構成を示す図である。
ターン成形装置の構成を示す図である。
【図２】 この発明の実施の形態１に係る図１のレーザ
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
【図３】 この発明の実施の形態２に係るレーザー光パ
ターン成形装置の構成を示す図である。
ターン成形装置の構成を示す図である。
【図４】 この発明の実施の形態２に係る図３のレーザ
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
【図５】 この発明の実施の形態２に係る励起レーザー
ビームの空間強度分布を示す図である。
ビームの空間強度分布を示す図である。
【図６】 この発明の実施の形態３に係るレーザー光パ
ターン成形装置の構成を示す図である。
ターン成形装置の構成を示す図である。
【図７】 この発明の実施の形態３に係る図６のレーザ
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
ー光パターン成形装置を利用して構成した色素レーザー
装置を示す図である。
【図８】 従来のレーザー光パターン成形装置の構成を
示す図である。
示す図である。
【図９】 従来の色素レーザー装置の構成を示す図であ
る。
る。
１ 励起レーザー発振器、２ レンズ、３ 光ファイバ
ー、４Ａ、４Ｂ 矩形導波路、５ レンズ、６ ビーム
スプリッタ、７ 反射鏡、８ 色素レーザー発振器、９
矩形アパーチャー、１０ 色素セル、１１ 色素セ
ル、１３ 石英硝子板。
ー、４Ａ、４Ｂ 矩形導波路、５ レンズ、６ ビーム
スプリッタ、７ 反射鏡、８ 色素レーザー発振器、９
矩形アパーチャー、１０ 色素セル、１１ 色素セ
ル、１３ 石英硝子板。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０２Ｂ 27/09 Ｇ０２Ｂ 27/00 Ｅ
Claims (10)
- 【請求項１】 レーザー光を出力するレーザー発振器
と、 前記レーザー発振器から出力されたレーザー光を伝送す
る光ファイバーと、 前記光ファイバーにより伝送されたレーザー光の断面形
状を矩形化する矩形導波路とを備えたレーザー光パター
ン成形装置において、 前記矩形導波路は、１面が４５度傾けられ、これにより
入射方向と出射方向を互いに直交させることを特徴とす
るレーザー光パターン成形装置。 - 【請求項２】 前記矩形導波路は、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されていること
を特徴とする請求項１記載のレーザー光パターン成形装
置。 - 【請求項３】 前記光ファイバーは複数であり、前記矩
形導波路は前記複数の光ファイバーにより伝送されたレ
ーザー光の混合光の断面形状を矩形化することを特徴と
する請求項２記載のレーザー光パターン成形装置。 - 【請求項４】 前記矩形導波路は、前記矩形導波路より
も屈折率の低い材料で挟まれていることを特徴とする請
求項１記載のレーザー光パターン成形装置。 - 【請求項５】 前記矩形導波路は、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記レーザ
ー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防止膜
が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路よりも屈
折率の低い物質に接していることを特徴とする請求項４
記載のレーザー光パターン成形装置。 - 【請求項６】 色素レーザー光を出力する色素レーザー
発振器と、 前記色素レーザー発振器から出力された色素レーザー光
の断面形状を矩形化する矩形手段と、 前記矩形化された色素レーザー光を増幅する色素セル
と、 前記色素セルを励起するための励起レーザー光を出力す
る励起レーザー発振器と、 前記励起レーザー発振器から出力された励起レーザー光
を伝送する光ファイバーと、 前記光ファイバーにより伝送された励起レーザー光の断
面形状を矩形化する矩形導波路とを備えた色素レーザー
装置において、 前記矩形導波路は、１面が４５度傾けられ、これにより
入射方向と出射方向を互いに直交させることを特徴とす
る色素レーザー装置。 - 【請求項７】 前記矩形導波路は、正面、背面、上面、
下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正面が
４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記励起レ
ーザー光のビームが入射する部分と前記背面には反射防
止膜が蒸着され、残りの面には反射膜が蒸着されている
ことを特徴とする請求項６記載の色素レーザー装置。 - 【請求項８】 前記光ファイバーは複数であり、前記矩
形導波路は前記複数の光ファイバーにより伝送された励
起レーザー光の混合光の断面形状を矩形化することを特
徴とする請求項７記載の色素レーザー装置。 - 【請求項９】 前記矩形導波路は、前記矩形導波路より
も屈折率の低い材料で挟まれていることを特徴とする請
求項６記載の色素レーザー装置。 - 【請求項１０】 前記矩形導波路は、正面、背面、上
面、下面、右面及び左面を有する６面体であり、前記正
面が４５度傾けられ、前記右面または左面のうち前記励
起レーザー光のビームが入射する部分と前記背面には反
射防止膜が蒸着され、前記上面と下面が前記矩形導波路
よりも屈折率の低い物質に接していることを特徴とする
請求項９記載の色素レーザー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021442A JPH09214069A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021442A JPH09214069A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09214069A true JPH09214069A (ja) | 1997-08-15 |
Family
ID=12055088
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021442A Pending JPH09214069A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | レーザー光パターン成形装置及び色素レーザー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09214069A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006046495A1 (en) | 2004-10-27 | 2006-05-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Beam homogenizer, and laser irradiation method, laser irradiation apparatus, and laser annealing method of non-single crystalline semiconductor film using the same |
| CN101380694A (zh) * | 2007-09-03 | 2009-03-11 | 奥林巴斯株式会社 | 激光加工装置 |
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1996
- 1996-02-07 JP JP8021442A patent/JPH09214069A/ja active Pending
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