JPH09208315A - 半導体ドライ洗浄用炭素電極 - Google Patents
半導体ドライ洗浄用炭素電極Info
- Publication number
- JPH09208315A JPH09208315A JP8021039A JP2103996A JPH09208315A JP H09208315 A JPH09208315 A JP H09208315A JP 8021039 A JP8021039 A JP 8021039A JP 2103996 A JP2103996 A JP 2103996A JP H09208315 A JPH09208315 A JP H09208315A
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- JP
- Japan
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- electrode
- carbon
- carbonization
- baking
- semiconductor
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- Withdrawn
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コロナ放電中に酸化やスパッタリング等によ
る劣化損耗で電極自身から発塵しない半導体ドライ洗浄
用炭素電極を提供する。 【解決手段】 炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化
性樹脂を成形し炭化処理を行った嵩密度1.6g/cm3以上の
炭素材からなる半導体ドライ洗浄用炭素電極で、その炭
素電極の先端形状が凸状である半導体ドライ洗浄用炭素
電極である。
る劣化損耗で電極自身から発塵しない半導体ドライ洗浄
用炭素電極を提供する。 【解決手段】 炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化
性樹脂を成形し炭化処理を行った嵩密度1.6g/cm3以上の
炭素材からなる半導体ドライ洗浄用炭素電極で、その炭
素電極の先端形状が凸状である半導体ドライ洗浄用炭素
電極である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体基盤等のド
ライ洗浄用の炭素電極の技術分野に属し、さらに詳しく
はイオン発生源の放電電極の技術分野に属するものであ
る。
ライ洗浄用の炭素電極の技術分野に属し、さらに詳しく
はイオン発生源の放電電極の技術分野に属するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】半導体洗浄の歴史は古く、ゲルマニウム
トランジスタ時代よりウエット洗浄が盛んに行われ、シ
リコントランジスタ時代になってもウエット洗浄の時代
は続き、 LSI時代になり徐々にドライ洗浄が注目される
ようになり、VLSI時代になってから全洗浄工程をドライ
化するよう要望されている。
トランジスタ時代よりウエット洗浄が盛んに行われ、シ
リコントランジスタ時代になってもウエット洗浄の時代
は続き、 LSI時代になり徐々にドライ洗浄が注目される
ようになり、VLSI時代になってから全洗浄工程をドライ
化するよう要望されている。
【０００３】一方、半導体素子の生産、加工工程におけ
る静電気の発生は、それによるコンタミネーションの促
進、放電ノイズの発生による半導体素子の品質低下や生
産工程をコントロールする機器の誤動作につながる。ま
た、上述に関連しているが、クリーンルーム内での静電
気発生問題がある。
る静電気の発生は、それによるコンタミネーションの促
進、放電ノイズの発生による半導体素子の品質低下や生
産工程をコントロールする機器の誤動作につながる。ま
た、上述に関連しているが、クリーンルーム内での静電
気発生問題がある。
【０００４】周知のとおり、清浄空気ないし超清浄空気
を作りだすのにヘパフィルタやウルパフィルタが用いら
れている。しかし、その吹き出し口ではこれらフィルタ
から漏出する超微細粒子の帯電による静電気のクリーン
ルーム内への流入があり、これを何らかの方法で中和除
去しないと、半導体素子、その周辺機器、クリーンルー
ム内の壁、人体など至る所に静電気の蓄積が起こり上記
障害の発生源となる。
を作りだすのにヘパフィルタやウルパフィルタが用いら
れている。しかし、その吹き出し口ではこれらフィルタ
から漏出する超微細粒子の帯電による静電気のクリーン
ルーム内への流入があり、これを何らかの方法で中和除
去しないと、半導体素子、その周辺機器、クリーンルー
ム内の壁、人体など至る所に静電気の蓄積が起こり上記
障害の発生源となる。
【０００５】この中和には、通常交流コロナ放電による
正負両極イオンの供給が各種除電器に用いられている。
従来用いられていたイオン発生源の電極はステンレス製
電極が主流であった。イオンの発生源は電極先端でコロ
ナ放電を起こさせ、この先端近傍の空気の分子をイオン
化し、正イオンと負イオンを発生させる。
正負両極イオンの供給が各種除電器に用いられている。
従来用いられていたイオン発生源の電極はステンレス製
電極が主流であった。イオンの発生源は電極先端でコロ
ナ放電を起こさせ、この先端近傍の空気の分子をイオン
化し、正イオンと負イオンを発生させる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、コロナ
放電中、前記ステンレス製電極は電極自身が放電中に酸
化やスパッタリング等による劣化損耗で電極自身から発
塵し、これが被除電物に降りかかり半導体製品の品質低
下の原因となっていた。このような背景のもとで、従来
のステンレス製電極に替わり無発塵の電極材が求められ
るようになった。そこで、空気中で放電させた場合、気
体になると思われる炭素を電極に使用した。しかしなが
ら、通常のガラス質炭素電極を陰極に用いると炭素電極
が酸化やスパッタリングにより劣化し、破損した炭素が
塵となり被除電物に降りかかるという問題がある。な
お、通常のガラス質炭素材の嵩密度は1.5g/cm3程度であ
る。
放電中、前記ステンレス製電極は電極自身が放電中に酸
化やスパッタリング等による劣化損耗で電極自身から発
塵し、これが被除電物に降りかかり半導体製品の品質低
下の原因となっていた。このような背景のもとで、従来
のステンレス製電極に替わり無発塵の電極材が求められ
るようになった。そこで、空気中で放電させた場合、気
体になると思われる炭素を電極に使用した。しかしなが
ら、通常のガラス質炭素電極を陰極に用いると炭素電極
が酸化やスパッタリングにより劣化し、破損した炭素が
塵となり被除電物に降りかかるという問題がある。な
お、通常のガラス質炭素材の嵩密度は1.5g/cm3程度であ
る。
【０００７】本発明は、上記の問題点を解決するために
なされたもので、コロナ放電中に酸化やスパッタリング
等による劣化損耗で電極自身から発塵しない半導体ドラ
イ洗浄用炭素電極を提供することを目的とする。
なされたもので、コロナ放電中に酸化やスパッタリング
等による劣化損耗で電極自身から発塵しない半導体ドラ
イ洗浄用炭素電極を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】そこで本発明者らは、鋭
意検討を行った結果、炭化焼成後にガラス質炭素となる
熱硬化性樹脂を成形し炭化処理を行った嵩密度1.6g/cm3
以上の炭素材からなる半導体ドライ洗浄用炭素電極とす
ることで発塵を防止できることを見出した。さらに、そ
の炭素電極の先端形状を凸状とすることによって、イオ
ン量を調節することもできることを見出した。
意検討を行った結果、炭化焼成後にガラス質炭素となる
熱硬化性樹脂を成形し炭化処理を行った嵩密度1.6g/cm3
以上の炭素材からなる半導体ドライ洗浄用炭素電極とす
ることで発塵を防止できることを見出した。さらに、そ
の炭素電極の先端形状を凸状とすることによって、イオ
ン量を調節することもできることを見出した。
【０００９】本発明の炭素電極は嵩密度1.6g/cm3以上で
あり、強度も従来のガラス質炭素に比較すると高く、炭
素中に含まれる不純物も従来のガラス質炭素に比較する
と非常に少ない。したがって、本発明の半導体ドライ洗
浄用炭素電極を両極に使用することでイオン発生源であ
る電極からの発塵もなく、極性を交換することが可能で
ある。以下に本発明について詳細に説明する。
あり、強度も従来のガラス質炭素に比較すると高く、炭
素中に含まれる不純物も従来のガラス質炭素に比較する
と非常に少ない。したがって、本発明の半導体ドライ洗
浄用炭素電極を両極に使用することでイオン発生源であ
る電極からの発塵もなく、極性を交換することが可能で
ある。以下に本発明について詳細に説明する。
【００１０】本発明において使用する炭化焼成後にガラ
ス質炭素となる熱硬化性樹脂は、従来のフェノール樹脂
に比べ、炭化焼成による炭素の収率が高く、炭化焼成後
に耐熱性に優れ、曲げ強度や衝撃強度が高くなるものを
使用する。
ス質炭素となる熱硬化性樹脂は、従来のフェノール樹脂
に比べ、炭化焼成による炭素の収率が高く、炭化焼成後
に耐熱性に優れ、曲げ強度や衝撃強度が高くなるものを
使用する。
【００１１】先ず、フェノール樹脂を射出成形機で所定
の形状に成形する。成形後、硬化処理、焼成処理を行い
嵩密度1.6g/cm3以上のガラス質炭素材を得る。こうして
得られたガラス質炭素材を所定の電極形状に加工、研磨
仕上げを行う。
の形状に成形する。成形後、硬化処理、焼成処理を行い
嵩密度1.6g/cm3以上のガラス質炭素材を得る。こうして
得られたガラス質炭素材を所定の電極形状に加工、研磨
仕上げを行う。
【００１２】炭素電極の先端形状は最適なイオン発生量
を得るために、図１(a) 〜(d) のように電極先端を凸状
に仕上げる。図１(e) のように電極先端が平面である
と、電極先端の平面のコーナ部間でコロナ放電が起こり
目的とするイオン発生量が得られない。コロナ放電は電
極先端の曲率が変化して小さくなるいわゆる尖状の端面
間で起こるため、炭素電極先端を凸状の異なった形状に
仕上げることにより、目的に応じたイオン発生量を得る
ことができる。すなわち、電極先端を図１(a) のような
鋭角の円錐状に仕上げるとイオン発生量が多くなる。印
加電圧が同じであれば、イオン発生量は図１(a) 〜(e)
の順に少なくなる。
を得るために、図１(a) 〜(d) のように電極先端を凸状
に仕上げる。図１(e) のように電極先端が平面である
と、電極先端の平面のコーナ部間でコロナ放電が起こり
目的とするイオン発生量が得られない。コロナ放電は電
極先端の曲率が変化して小さくなるいわゆる尖状の端面
間で起こるため、炭素電極先端を凸状の異なった形状に
仕上げることにより、目的に応じたイオン発生量を得る
ことができる。すなわち、電極先端を図１(a) のような
鋭角の円錐状に仕上げるとイオン発生量が多くなる。印
加電圧が同じであれば、イオン発生量は図１(a) 〜(e)
の順に少なくなる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以上のようにして得られた電極を
陽極と陰極に用いて半導体のドライ洗浄を行う。以下に
実施例を挙げて本発明の実施の形態について説明する。
陽極と陰極に用いて半導体のドライ洗浄を行う。以下に
実施例を挙げて本発明の実施の形態について説明する。
【００１４】熱硬化性樹脂には鐘紡株式会社製のベルパ
ールを使用し、これを棒状に射出成形したのち、硬化、
予備焼成、焼成の工程を経て嵩密度1.64g/cm3 のガラス
質炭素材を得た。このガラス質炭素材を図１(a) の電極
形状に加工、研磨仕上げした。また、この嵩密度1.64g/
cm3 のガラス質炭素材には、Ｘ線回折の結果、結晶質の
炭素は確認されていない。
ールを使用し、これを棒状に射出成形したのち、硬化、
予備焼成、焼成の工程を経て嵩密度1.64g/cm3 のガラス
質炭素材を得た。このガラス質炭素材を図１(a) の電極
形状に加工、研磨仕上げした。また、この嵩密度1.64g/
cm3 のガラス質炭素材には、Ｘ線回折の結果、結晶質の
炭素は確認されていない。
【００１５】研磨仕上げした電極を図２に示すように、
イオン発生装置の陽極と陰極に配置し、電極の下方から
清浄空気を送りコロナ放電によりイオンを発生させた。
この時の発塵を測定した。なお、電極への印加電圧は、
陽極に 7000V、陰極に-7000Vである。
イオン発生装置の陽極と陰極に配置し、電極の下方から
清浄空気を送りコロナ放電によりイオンを発生させた。
この時の発塵を測定した。なお、電極への印加電圧は、
陽極に 7000V、陰極に-7000Vである。
【００１６】電極のコロナ放電はクリーンベンチ内で行
い、 1時間および20時間通電後の発塵数をパーティクル
カウンター(RION PARTICLE COUNTER KC-01B)で測定し
た。パーティクルカウンターは通常被除電物がある場所
に配置し60分間観測を行い、発塵の大きさ 0.3μm 以上
のものを測定した。測定結果を表１に示す。
い、 1時間および20時間通電後の発塵数をパーティクル
カウンター(RION PARTICLE COUNTER KC-01B)で測定し
た。パーティクルカウンターは通常被除電物がある場所
に配置し60分間観測を行い、発塵の大きさ 0.3μm 以上
のものを測定した。測定結果を表１に示す。
【００１７】表１に示すように、 1時間および20時間通
電後の発塵数は、両者ともバックグランド程度であり、
無発塵であるといえる。
電後の発塵数は、両者ともバックグランド程度であり、
無発塵であるといえる。
【００１８】
【表１】
【００１９】次に、20時間通電後の除電効果をチャージ
プレートモニタ(Model TI-7000 (RICHMOND製))により測
定し、従来使用されているステンレス製電極と比較し
た。その結果を表２に示す。
プレートモニタ(Model TI-7000 (RICHMOND製))により測
定し、従来使用されているステンレス製電極と比較し
た。その結果を表２に示す。
【００２０】表２に示すように、同一条件の下では本発
明に係わる炭素電極と、従来用いられているステンレス
製電極間には、除電効果の差はない。
明に係わる炭素電極と、従来用いられているステンレス
製電極間には、除電効果の差はない。
【００２１】
【表２】
【００２２】以上のように、本発明に係わる炭素電極
は、無発塵であるといえるほど発塵はなく、除電効果も
従来用いられているステンレス製電極のそれと同等であ
る。
は、無発塵であるといえるほど発塵はなく、除電効果も
従来用いられているステンレス製電極のそれと同等であ
る。
【００２３】
【発明の効果】以上述べたところから明らかなように、
本発明の炭素電極は嵩密度1.6g/cm3以上のガラス質炭素
材を使用しているため、コロナ放電による発塵もなく、
半導体ドライ洗浄用炭素電極として優れた特性を有する
ものである。また、本発明の炭素電極は、用途に合わせ
て電極の先端形状を変えることによりイオン発生量を制
御できるため、半導体ドライ洗浄用のみならず、多岐に
わたっての使用が可能である。
本発明の炭素電極は嵩密度1.6g/cm3以上のガラス質炭素
材を使用しているため、コロナ放電による発塵もなく、
半導体ドライ洗浄用炭素電極として優れた特性を有する
ものである。また、本発明の炭素電極は、用途に合わせ
て電極の先端形状を変えることによりイオン発生量を制
御できるため、半導体ドライ洗浄用のみならず、多岐に
わたっての使用が可能である。
【図１】本発明に係わる炭素電極の先端形状の例を示す
図である。
図である。
【図２】イオン発生装置の概略図である。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｔ 19/00 Ｈ０１Ｔ 19/00 23/00 23/00 (72)発明者 関 博 新潟県小千谷市大字山谷字新保４−12 ヒ ムエレクトロ株式会社内 (72)発明者 植村 賢介 神奈川県鎌倉市七里ガ浜東４丁目21番９号 アイタック株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 炭化焼成後にガラス質炭素となる熱硬化
性樹脂を成形し炭化処理を行った嵩密度1.6g/cm3以上の
炭素材からなることを特徴とする半導体ドライ洗浄用炭
素電極。 - 【請求項２】 炭素電極の先端形状が凸状であることを
特徴とする請求項１記載の半導体ドライ洗浄用炭素電
極。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021039A JPH09208315A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 半導体ドライ洗浄用炭素電極 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8021039A JPH09208315A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 半導体ドライ洗浄用炭素電極 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09208315A true JPH09208315A (ja) | 1997-08-12 |
Family
ID=12043817
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8021039A Withdrawn JPH09208315A (ja) | 1996-02-07 | 1996-02-07 | 半導体ドライ洗浄用炭素電極 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09208315A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006040860A (ja) * | 2003-12-02 | 2006-02-09 | Keyence Corp | イオン化装置 |
| JP2010170937A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Techno Ryowa Ltd | イオナイザーの放電電極 |
-
1996
- 1996-02-07 JP JP8021039A patent/JPH09208315A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006040860A (ja) * | 2003-12-02 | 2006-02-09 | Keyence Corp | イオン化装置 |
| JP4573631B2 (ja) * | 2003-12-02 | 2010-11-04 | 株式会社キーエンス | イオン化装置 |
| JP2010170937A (ja) * | 2009-01-26 | 2010-08-05 | Techno Ryowa Ltd | イオナイザーの放電電極 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20030506 |