JPH09204697A - Method and apparatus for forming a protective film for optical disc - Google Patents

Method and apparatus for forming a protective film for optical disc

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Publication number
JPH09204697A
JPH09204697A JP1007596A JP1007596A JPH09204697A JP H09204697 A JPH09204697 A JP H09204697A JP 1007596 A JP1007596 A JP 1007596A JP 1007596 A JP1007596 A JP 1007596A JP H09204697 A JPH09204697 A JP H09204697A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
resin
protective film
forming
surface tension
Prior art date
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Pending
Application number
JP1007596A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoko Honma
陽子 本間
Mitsuo Endo
三男 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tosoh Corp
Original Assignee
Tosoh Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Tosoh Corp filed Critical Tosoh Corp
Priority to JP1007596A priority Critical patent/JPH09204697A/en
Publication of JPH09204697A publication Critical patent/JPH09204697A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent swelling of resin at the side surface of a substrate by setting a surface tension of the external circumference surface of an optical disc substrate to the particular value or less, and thereafter coating the surface with a protection film-forming resin by the spin coating method. SOLUTION: In this optical disc protection film-forming method, a surface tension of the side surface of substrate is set smaller than the surface tension of the resin coated in order to prevent drooping of resin to the side surface of substrate and creeping of resin to the opposite side of the coating surface at the time of forming a protection film on the substrate by the spin coating method. Thereby, resin coated to form a protection film is never repelled at the edge portion and drooped on the side surface of the substrate. Moreover, since the resin is dropped to the side surface of substrate, two kinds of resin are never overlapped at the side surface of substrate at the time of forming a protection film on the surface in the opposite side and generation of swelling of resin at the side surface of substrate can be prevented. In this case, the surface tension at the side surface of substrate is preferably set to 20 dyne/cm or lower.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、光ディスク用基板
に保護膜を形成する方法及びそのための装置の改良に関
する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for forming a protective film on an optical disk substrate and an improvement in an apparatus therefor.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、ポリカーボネート等の有機高分
子製の基板を用いた光磁気ディスク等の光ディスクの表
面には、取り扱い時等におけるディスク表面の傷つきを
防止するために保護膜が形成されている。このような光
ディスク、特に光磁気ディスクの保護膜を形成するため
の樹脂としては、従来より様々なものが提案されている
が、一般に紫外線硬化型樹脂がハードコート剤等として
広く使用されている。また、この保護膜の形成方法とし
ては一般にスピンコート法が使用されている。
2. Description of the Related Art Generally, a protective film is formed on the surface of an optical disc such as a magneto-optical disc using a substrate made of an organic polymer such as polycarbonate to prevent the disc surface from being scratched during handling. . Various resins have been conventionally proposed as a resin for forming a protective film of such an optical disk, particularly a magneto-optical disk, but an ultraviolet curable resin is generally widely used as a hard coating agent or the like. A spin coating method is generally used as a method for forming this protective film.

【0003】上記の紫外線硬化型樹脂をスピンコート法
により基板上に塗布して硬化させることによる保護膜の
形成は、一般に以下の手順で行われる。まず、基板を低
速で回転させながら所定量の樹脂をノズルから基板上に
吐出させる。次に、基板を静止させるか、又は基板を低
速で回転させて、吐出された樹脂を基板上に広げる。樹
脂がある程度基板上に広がった後、基板を高速で回転さ
せて過剰な樹脂を振り切る。その後、紫外線を照射して
塗布膜を硬化させることにより保護膜を形成する。
The formation of the protective film by coating the above ultraviolet curable resin on the substrate by the spin coating method and curing it is generally carried out by the following procedure. First, while rotating the substrate at a low speed, a predetermined amount of resin is ejected from the nozzle onto the substrate. Next, the substrate is stopped or the substrate is rotated at a low speed to spread the discharged resin on the substrate. After the resin has spread to some extent on the substrate, the substrate is rotated at a high speed to shake off excess resin. After that, the protective film is formed by irradiating ultraviolet rays to cure the coating film.

【0004】しかしながら、この方法では樹脂が基板の
端面に垂れ下がることがあり、ひどい場合には図4に示
すように樹脂を塗布した面(コート面)の反対側の面に
樹脂の回り込みが発生し、これが製品の欠陥につながる
ことがあった。
However, in this method, the resin sometimes hangs down on the end surface of the substrate, and in severe cases, the resin wraps around on the surface opposite to the surface coated with the resin (coated surface) as shown in FIG. , This could lead to product defects.

【0005】また、光ディスクの製造における樹脂製の
保護膜の形成方法には、基板を射出成形した後、読み出
し面側の保護膜を形成し、その後、記録膜等を形成した
後、記録面側の保護膜を形成する方法と、射出成形した
基板に記録膜等を形成した後、記録面側、読み出し面側
の順に保護膜を形成する方法とがあるが、いずれの場合
にも記録面側と読み出し面側の2種類の保護膜が基板の
外周側面で重なることがあり、条件によっては、図6に
示すように、後から形成した保護膜が基板の側面に盛り
上がりを形成することがある。この基板の側面における
樹脂の盛り上がりは、ひどい時には図6のd1が130
ミクロンに達することがある。
Further, in a method of forming a resin-made protective film in the manufacture of an optical disc, a substrate is injection-molded, a protective film on the reading surface side is formed, then a recording film and the like are formed, and then the recording surface side is formed. There is a method of forming a protective film, and a method of forming a recording film and the like on an injection-molded substrate and then forming a protective film in the order of the recording surface side and the reading surface side. And the two kinds of protective films on the read surface side may overlap on the outer peripheral side surface of the substrate, and depending on the conditions, the protective film formed later may form a bulge on the side surface of the substrate, as shown in FIG. . When the resin bulge on the side surface of the substrate is severe, d1 of FIG. 6 is 130.
Can reach micron.

【0006】一方、保護膜形成後の工程であるハブ付け
工程では、一般に基板の側面の数箇所をチャッキングし
てその基板のセンターサーチを行うため、前述の様な基
板側面の樹脂の盛り上がりがあると、基板のセンターサ
ーチが正常に遂行されず、歩留まりの低下をきたす要因
となっていた。
On the other hand, in the hub attaching step, which is a step after the formation of the protective film, the center of the substrate is generally searched by chucking several places on the side face of the substrate, so that the resin swelling on the side face of the substrate as described above occurs. If this is the case, the center search of the substrate is not normally performed, which is a factor of lowering the yield.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、光磁気ディ
スク等の光ディスクの製造において、スピンコート法に
より樹脂製の保護膜を基板上に形成する際に、基板側面
への樹脂の液垂れやコート面の反対側への樹脂の回り込
みを防止することにより、基板側面で2種類の樹脂が重
なることを防止して、基板側面の樹脂の盛り上がりの発
生を防止することのできる保護膜の形成方法及びそのた
めの装置を提供することを目的としている。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is directed to the production of an optical disk such as a magneto-optical disk, when a resin protective film is formed on a substrate by a spin coating method, when the resin drips onto the side surface of the substrate. A method of forming a protective film capable of preventing two kinds of resins from overlapping on the side surface of the substrate by preventing the resin from wrapping around to the opposite side of the coated surface and preventing the resin from rising on the side surface of the substrate. And an apparatus therefor.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、スピンコ
ート法により保護膜を基板上に形成する際に、基板側面
の表面張力を塗布される樹脂の表面張力よりも小さくす
ることにより、基板側面への樹脂の液垂れやコート面の
反対側への樹脂の回り込みを防止できること、さらに基
板側面への樹脂の液垂れを防止することにより、基板側
面で2種類の樹脂が重なることを防止して、基板側面の
樹脂の盛り上がりの発生を防止することができることを
見いだし、本発明を完成するに至った。
Means for Solving the Problems The present inventors have made it possible, when forming a protective film on a substrate by a spin coating method, to make the surface tension of the side surface of the substrate smaller than the surface tension of a resin to be coated. It is possible to prevent resin dripping onto the side surface of the substrate and resin from wrapping around to the opposite side of the coating surface. Furthermore, by preventing liquid dripping onto the side surface of the substrate, it is possible to prevent two types of resin from overlapping on the side surface of the substrate. As a result, they have found that it is possible to prevent the resin from rising on the side surface of the substrate, thus completing the present invention.

【0009】すなわち、本発明の光ディスクの保護膜形
成方法は、光ディスク用基板の外周側面の表面張力を2
0dyn/cm以下にした後、スピンコート法を用いて
保護膜形成用の樹脂を塗布することにより、前記基板上
に保護膜を形成することを特徴とするものであり、光デ
ィスク用基板の外周側面の表面張力を低減するために、
スピンコート法により保護膜形成用の樹脂を塗布する前
に、光ディスク用基板の外周側面に界面活性剤を塗布す
ることを特徴とするものである。
That is, according to the method of forming a protective film for an optical disk of the present invention, the surface tension of the outer peripheral side surface of the optical disk substrate is set to 2 mm.
The protective film is formed on the substrate by applying a resin for forming a protective film using a spin coating method after setting the protective film to 0 dyn / cm or less. To reduce the surface tension of
Before the resin for forming the protective film is applied by the spin coating method, a surfactant is applied to the outer peripheral side surface of the optical disc substrate.

【0010】さらに、本発明の光ディスクの保護膜形成
装置は、光ディスク用基板にスピンコート法により保護
膜を形成する保護膜形成装置において、保護膜形成用の
樹脂をスピンコートする前に、前記基板の外周側面に界
面活性剤を塗布することを特徴とするものである。ま
た、この基板の外周側面への界面活性剤の塗布は、保護
膜の形成に要する時間を短縮するため、保護膜形成用の
樹脂をスピンコートする前に基板上の異物を除去するた
めに行う静電ブローを行っている間に、それと同時に行
うことが好ましい。
Furthermore, the protective film forming apparatus for an optical disk of the present invention is a protective film forming apparatus for forming a protective film on an optical disk substrate by a spin coating method, before the resin for forming the protective film is spin coated. It is characterized in that a surfactant is applied to the outer peripheral side surface of the. Further, the application of the surfactant to the outer peripheral side surface of the substrate is performed to remove foreign matters on the substrate before spin-coating the resin for forming the protective film in order to shorten the time required to form the protective film. While performing the electrostatic blow, it is preferable to perform it at the same time.

【0011】以下、本発明を更に詳細に説明する。Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

【0012】光磁気ディスク等の光ディスクに使用され
るポリカーボネート基板の表面張力は20℃で46.6
dyn/cmである。一方、保護膜の形成に用いられる
アクリルポリマーなどの紫外線硬化樹脂の表面張力は一
般的には35〜40dyn/cm程度であるが、光ディ
スクの高記録密度化に伴い、読み出し面側の保護膜をよ
り均一な膜厚で形成するため、界面活性剤などを添加し
て、その表面張力を22〜30dyn/cmに低減する
傾向がある。記録面側の保護膜は高記録密度化において
も、その膜厚を均一化する必要性は少ないため、最近の
樹脂の表面張力も以前と同様35〜40dyn/cmで
ある。
The surface tension of a polycarbonate substrate used for an optical disk such as a magneto-optical disk is 46.6 at 20 ° C.
dyn / cm. On the other hand, the surface tension of the ultraviolet curable resin such as an acrylic polymer used for forming the protective film is generally about 35 to 40 dyn / cm, but the protective film on the reading surface side has been changed as the recording density of the optical disc increases. In order to form a more uniform film thickness, a surface active agent tends to be reduced to 22 to 30 dyn / cm by adding a surfactant or the like. Since it is not necessary to make the film thickness of the protective film on the recording surface side uniform even when the recording density is increased, the surface tension of the recent resin is 35 to 40 dyn / cm as before.

【0013】このように、現状では基板の表面張力が保
護膜の形成に用いられるアクリルポリマーなどの樹脂の
表面張力より大きいため、樹脂の塗布後に、余分な樹脂
を振り切る目的で基板を高速で回転させても、樹脂は基
板側面で液垂れを起こし、状況によってはコート面の反
対側にまで樹脂の回り込みが発生する場合がある。
As described above, since the surface tension of the substrate is larger than the surface tension of the resin such as acrylic polymer used for forming the protective film at present, the substrate is rotated at a high speed after the application of the resin in order to shake off the excess resin. Even if it is done, the resin may drip on the side surface of the substrate, and depending on the situation, the resin may wrap around to the side opposite to the coated surface.

【0014】また、記録面側と読み出し面側の2種類の
保護膜が基板の外周側面で重なる場合には、図5に示す
ように、後から形成する保護膜2の表面張力が先に形成
した保護膜1の表面張力より小さい場合には、基板の側
面での2種類の樹脂の重なりによっても樹脂の盛り上が
りを生じることはなく問題はない。しかし、図6に示す
ように、後から形成する保護膜4の表面張力が先に形成
した保護膜3の表面張力より大きい場合には、後から形
成した保護膜4が基板の側面ではじかれてしまい、基板
の側面に樹脂の盛り上がりが発生する。
When two kinds of protective films on the recording surface side and the reading surface side overlap on the outer peripheral side surface of the substrate, the surface tension of the protective film 2 to be formed later is formed first, as shown in FIG. When the surface tension of the protective film 1 is smaller than the above, there is no problem because the resin does not rise due to the overlap of the two kinds of resin on the side surface of the substrate. However, as shown in FIG. 6, when the surface tension of the protective film 4 formed later is larger than that of the protective film 3 formed earlier, the protective film 4 formed later is repelled on the side surface of the substrate. As a result, the resin rises on the side surface of the substrate.

【0015】したがって、上記の状況では、読み出し面
側の保護膜を形成した後、記録面側の保護膜を形成する
場合には、記録面側の保護膜の表面張力が先に形成した
読み出し面側の保護膜の表面張力よりも大きいため、基
板の側面に液垂れした読み取り面側の樹脂の上で、記録
面側の樹脂がはじいてしまうため、基板側面に樹脂の盛
り上がりが生じてしまう。
Therefore, in the above situation, when the protective film on the recording surface side is formed after the protective film on the reading surface side is formed, the surface tension of the protective film on the recording surface side causes the read surface to be formed first. Since the surface tension of the protective film on the side is higher than that on the side of the substrate, the resin on the side of the recording surface repels the resin on the side of the reading surface dripping on the side surface of the substrate, and thus the resin rises on the side surface of the substrate.

【0016】本発明では、スピンコート法により保護膜
を基板上に形成する際に、基板側面への樹脂の液垂れや
コート面の反対側への樹脂の回り込みを防止するため
に、基板側面の表面張力を塗布される樹脂の表面張力よ
りも小さくしている。こうすることにより、塗布された
保護膜形成用の樹脂は、基板最外周のエッジ部ではじか
れ、基板側面に液垂れすることがない。また、基板側面
への樹脂の液垂れがないので、この後の反対側の面の保
護層の形成の際にも、基板側面で2種類の樹脂が重なる
ことがなく、そのため基板側面の樹脂の盛り上がりの発
生を防止することができる。なお、上述のように、読み
出し面側の保護層形成用の樹脂の表面張力は22〜30
dyn/cm程度なので、基板側面の表面張力は22d
yn/cm未満とすることが好ましく、20dyn/c
m以下とすることが更に好ましい。
In the present invention, when the protective film is formed on the substrate by the spin coating method, in order to prevent the resin from dripping onto the side surface of the substrate and the wraparound of the resin to the side opposite to the coated surface, The surface tension is made smaller than the surface tension of the applied resin. By doing so, the applied resin for forming the protective film is repelled at the outermost peripheral edge portion of the substrate and does not drip onto the side surface of the substrate. Further, since the resin does not drip onto the side surface of the substrate, the two types of resin do not overlap on the side surface of the substrate even when the protective layer on the opposite surface is formed thereafter, and therefore the resin on the side surface of the substrate does not overlap. Occurrence of swell can be prevented. As described above, the surface tension of the protective layer forming resin on the reading surface side is 22 to 30.
Since it is about dyn / cm, the surface tension on the side surface of the substrate is 22d.
Preferably less than yn / cm, 20 dyn / c
More preferably, it is m or less.

【0017】基板側面の表面張力を低減する方法として
は、例えば、界面活性剤などの表面張力の低い材料を塗
布することが例示される。使用する界面活性剤として
は、その表面張力が塗布される保護膜形成用樹脂の表面
張力よりも小さいものであれば良く、シリコーン系界面
活性剤やフッ素系界面活性剤などが例示でき、具体的に
は、塗膜面の摩擦係数減少剤である信越化学(株)製の
商品名「KP−301」、「KP−302」、「KP−
305」、「KP−306」などのシリコーン系の界面
活性剤を挙げることができる。また、−CF2 をもつ化
合物であるテフロンの表面張力は19dyn/cmであ
り、CF3 を密にパッキングしたポリマーの表面張力は
6dyn/cmであるため、フッ素系の界面活性剤も使
用することができる。
As a method for reducing the surface tension on the side surface of the substrate, for example, a material having a low surface tension such as a surfactant is applied. As the surfactant to be used, those having a surface tension smaller than the surface tension of the protective film-forming resin to be applied may be used, and examples thereof include silicone-based surfactants and fluorine-based surfactants. Is a product of Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. under the trade name of "KP-301", "KP-302", "KP-"
Examples thereof include silicone-based surfactants such as "305" and "KP-306". Also, since the surface tension of Teflon, which is a compound having —CF 2 , is 19 dyn / cm, and the surface tension of a polymer in which CF 3 is densely packed is 6 dyn / cm, a fluorine-based surfactant should also be used. You can

【0018】本発明の光ディスクの保護膜形成装置は、
保護膜形成用の樹脂をスピンコートする前に、基板の外
周側面の表面張力を下げるために、基板の外周側面に界
面活性剤を塗布するものであるが、従来の製造ラインに
新規の装置を備え付けるなど製造工程を増やしたり製造
時間を長くすることは、生産性を考える上で問題とな
る。従来の回転塗布(スピンコート)装置には、一般的
にクリーンエアーイオン(イオン化した清浄空気)など
を基板表面に吹き付ける静電ブロー設備が備わってお
り、保護膜形成用の樹脂を塗布する前に、この静電ブロ
ーにより基板表面上の異物を除去することが行われてい
る。そこで、本発明の光ディスクの保護膜形成装置は、
製造時間は従来通りで前記の界面活性剤の塗布を行うた
め、基板に保護膜形成用の樹脂をコートする前の静電ブ
ロー工程で、静電ブローを行うと同時に基板の外周側面
に界面活性剤を塗布できるようにしたものである。
The optical disk protective film forming apparatus of the present invention comprises:
Before spin-coating the resin for forming the protective film, a surfactant is applied to the outer peripheral side surface of the substrate in order to reduce the surface tension on the outer peripheral side surface of the substrate. Increasing the number of manufacturing processes such as installation and lengthening the manufacturing time are problems in terms of productivity. Conventional spin coating equipment is generally equipped with electrostatic blow equipment that sprays clean air ions (ionized clean air) onto the substrate surface, before applying the resin for forming the protective film. The electrostatic blow is used to remove foreign matter on the substrate surface. Therefore, the protective film forming apparatus for an optical disc of the present invention is
As the manufacturing time is the same as before, the above-mentioned surfactant is applied.Therefore, in the electrostatic blowing process before coating the resin for forming the protective film on the substrate, electrostatic blowing is performed and at the same time, the surface activation is performed on the outer peripheral surface of the substrate. The agent can be applied.

【0019】[0019]

【発明の効果】本発明によれば、スピンコート法により
基板上に保護膜形成用の樹脂を塗布する前に、基板の外
周側面の表面張力を20dyn/cm以下に下げ、しか
る後に保護膜を形成することで、樹脂の基板側面への液
垂れや不必要なエリアへの樹脂の回り込みを防止するこ
とができ、その結果、基板の外周側面での樹脂の盛り上
がりの発生を防止することができ、光ディスクの製造に
おける歩留まりを向上することができる。
According to the present invention, the surface tension of the outer peripheral side surface of the substrate is reduced to 20 dyn / cm or less before the resin for forming the protective film is applied onto the substrate by the spin coating method, and then the protective film is formed. By forming the resin, it is possible to prevent the resin from dripping onto the side surface of the substrate and the wraparound of the resin to unnecessary areas, and as a result, it is possible to prevent the resin from rising on the outer peripheral side surface of the substrate. The yield in the manufacture of optical disks can be improved.

【0020】[0020]

【実施例】以下、本発明を実施例により詳細に説明する
が、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものでは
ない。
EXAMPLES The present invention will now be described in detail with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0021】図1は本発明の光ディスクの保護膜形成装
置の一例の上から見た平面図を示したものであり、図2
は横から見た立面図を示したものである。図1および図
2のディスク供給カセット1から基板が1枚ずつディス
ク供給アーム2により静電ブローのためのディスク位置
に搬送される。図3に本装置の静電ブロー部の概略図を
示す。基板は図3に示す静電ブローのためのディスク位
置4に移動した後、100rpm以下で回転し、静電ブ
ローノズル6はクリーンエアーイオンを基板両面に吹き
付けながらノズル位置Aからノズル位置Bまで移動す
る。このときの排気は静電ブロー排気ダクト7から排出
される。界面活性剤塗布装置8は界面活性剤を貯蔵する
タンクとその界面活性剤が常に浸透しているスポンジ状
のノズル17を備えている。基板がディスク位置4に移
動したとき、界面活性剤塗布装置8に備えられたスポン
ジ状のノズル17の先端と基板の外周側面18が接触
し、クリーンエアーイオンが基板表面に吹き付けられる
と同時に基板が回転し始めるので、界面活性剤塗布装置
8のタンクに貯蔵された界面活性剤を基板側面18に塗
布することができる。本実施例では、基板側面18に塗
布する界面活性剤として、信越化学(株)製のシリコー
ン系界面活性剤、商品名「KP−306」を使用した。
静電ブロー後、基板はディスク搬送アーム5によりコー
ターハウス9に搬送され、樹脂吐出ノズル10から基板
上に樹脂が吐出され、余分な樹脂を基板の高速回転によ
り振り切り、基板上に樹脂が均一に塗布された状態にな
る。樹脂をコートした基板は、紫外線下搬送アーム11
により紫外線ランプの下を通過し、紫外線ランプハウス
12内で紫外線を照射され、樹脂は硬化する。このよう
にして保護膜が形成された基板は、ディスク排出アーム
13によって再び静電ブロー部14に搬送され静電ブロ
ーが施された後、ディスク排出カセット15に搬送され
る。このようにして100枚のポリカーボネート製の基
板(表面張力46.6dyn/cm(20℃))に市販
の保護膜形成用の樹脂(三菱レイヨン製、商品名「UR
−4501」:表面張力24.5dyn/cm(20
℃))を、基板への樹脂の吐出量:1.5g、余剰樹脂
の振り切り回転数:3500rpm、振り切り時間:7
秒の条件で塗布し、膜厚5ミクロンの保護膜を形成した
結果、樹脂がコート面の反対側に回り込む現象は全く見
られなかった。また、この様にして作製した基板に対し
て、その反対側の面に、基板の外周側面18への界面活
性剤の塗布を行わなかったこと以外は上記と同様にし
て、他の市販の保護膜形成用の樹脂(大日本インキ製、
商品名「SD−301」:表面張力40dyn/cm
(20℃))を、基板への樹脂の吐出量:2.5g、余
剰樹脂の振り切り回転数:2000rpm、振り切り時
間:7秒の条件で塗布し、膜厚15ミクロンの保護膜を
得た。この様にして作成した基板の断面の観察結果を図
7に示すが、基板の外周側面での樹脂の重なりによる樹
脂の盛り上がりは認められず、d2は12ミクロンであ
った。
FIG. 1 is a plan view of an example of a protective film forming apparatus for an optical disc according to the present invention, which is seen from above.
Shows an elevation view from the side. Substrates are conveyed one by one from the disc supply cassette 1 of FIGS. 1 and 2 to the disc position for electrostatic blowing by the disc supply arm 2. FIG. 3 shows a schematic view of the electrostatic blow section of this apparatus. The substrate moves to the disk position 4 for electrostatic blowing shown in FIG. 3 and then rotates at 100 rpm or less, and the electrostatic blow nozzle 6 moves from the nozzle position A to the nozzle position B while spraying clean air ions on both sides of the substrate. To do. The exhaust air at this time is exhausted from the electrostatic blow exhaust duct 7. The surfactant coating device 8 includes a tank for storing the surfactant and a sponge-like nozzle 17 into which the surfactant is constantly penetrating. When the substrate moves to the disk position 4, the tip of the sponge-like nozzle 17 provided in the surfactant coating device 8 and the outer peripheral side surface 18 of the substrate come into contact with each other, and clean air ions are sprayed onto the substrate surface, and at the same time, the substrate is removed. Since the rotation starts, the surfactant stored in the tank of the surfactant applying device 8 can be applied to the side surface 18 of the substrate. In this example, as the surfactant applied to the side surface 18 of the substrate, a silicone-based surfactant manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. under the trade name "KP-306" was used.
After the electrostatic blow, the substrate is conveyed to the coater house 9 by the disc conveying arm 5, the resin is ejected onto the substrate from the resin ejection nozzle 10, and the excess resin is shaken off by the high speed rotation of the substrate to make the resin uniform on the substrate. It will be applied. The substrate coated with the resin is the ultraviolet transfer arm 11
Thus, the resin passes under the ultraviolet lamp, is irradiated with ultraviolet rays in the ultraviolet lamp house 12, and the resin is cured. The substrate on which the protective film has been formed in this manner is conveyed again to the electrostatic blow section 14 by the disc discharge arm 13 and electrostatically blown, and then conveyed to the disc discharge cassette 15. In this way, a commercially available resin for forming a protective film (made by Mitsubishi Rayon, trade name “UR” on 100 polycarbonate substrates (surface tension 46.6 dyn / cm (20 ° C.))
−4501 ”: surface tension 24.5 dyn / cm (20
)), The amount of resin discharged onto the substrate: 1.5 g, the rotation speed of excess resin for turning off: 3500 rpm, the time for turning off: 7
As a result of applying under the condition of seconds to form a protective film having a film thickness of 5 μm, no phenomenon of the resin wrapping around to the opposite side of the coated surface was observed. Further, with respect to the substrate manufactured in this manner, other commercially available protection is performed in the same manner as above except that the surface of the substrate on the opposite side is not coated with the surfactant on the outer peripheral side surface 18 of the substrate. Resin for film formation (Dainippon Ink,
Product name "SD-301": Surface tension 40 dyn / cm
(20 ° C.)) was applied under the conditions that the amount of resin discharged onto the substrate was 2.5 g, the rotation speed of excess resin was 2000 rpm, and the shake-off time was 7 seconds to obtain a protective film having a film thickness of 15 μm. The results of observing the cross section of the substrate thus produced are shown in FIG. 7. No resin swelling due to resin overlap on the outer peripheral side surface of the substrate was observed, and d2 was 12 microns.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の光ディスクの保護膜形成装置の一例の
概略を示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing an outline of an example of a protective film forming apparatus for an optical disc of the present invention.

【図2】本発明の光ディスクの保護膜形成装置の一例の
概略を示す立面図である。
FIG. 2 is an elevational view schematically showing an example of a protective film forming apparatus for an optical disc according to the present invention.

【図3】本発明の光ディスクの保護膜形成装置の静電ブ
ロー部の一例の概略を示す図である。
FIG. 3 is a diagram schematically showing an example of an electrostatic blow unit of the optical disk protective film forming apparatus of the present invention.

【図4】片面に保護膜を形成した従来の光ディスクの断
面を示す図である。
FIG. 4 is a view showing a cross section of a conventional optical disc having a protective film formed on one surface.

【図5】表面張力が大きな保護膜の形成後に表面張力が
小さい保護膜を形成した光ディスクの断面を示す図であ
る。
FIG. 5 is a diagram showing a cross section of an optical disc in which a protective film having a small surface tension is formed after forming a protective film having a large surface tension.

【図6】表面張力が小さな保護膜の形成後に表面張力が
大きい保護膜を形成した光ディスクの断面を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing a cross section of an optical disc in which a protective film having a large surface tension is formed after forming a protective film having a small surface tension.

【図7】本発明により両面に保護膜を形成した光ディス
クの断面を示す図である。
FIG. 7 is a view showing a cross section of an optical disc having protective films formed on both sides according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 ディスク供給カセット 2 ディスク供給アーム 3 静電ブロー 4 ディスク位置 5 ディスク搬送アーム 6 静電ブローノズル 7 静電ブロー排気ダクト 8 界面活性剤処理装置 9 コーターハウス 10 樹脂吐出ノズル 11 紫外線下搬送アーム 12 紫外線ランプハウス 13 ディスク排出アーム 14 静電ブロー 15 ディスク排出カセット 16 操作パネル 17 ノズル 18 基板側面 1 Disc Supply Cassette 2 Disc Supply Arm 3 Electrostatic Blow 4 Disc Position 5 Disc Conveying Arm 6 Electrostatic Blow Nozzle 7 Electrostatic Blow Exhaust Duct 8 Surfactant Treatment Device 9 Coater House 10 Resin Discharge Nozzle 11 UV Conveying Arm 12 UV Lamp house 13 Disc ejection arm 14 Electrostatic blow 15 Disc ejection cassette 16 Operation panel 17 Nozzle 18 Side of substrate

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 光ディスク用基板の外周側面の表面張力
を20dyn/cm以下にした後、スピンコート法を用
いて保護膜形成用の樹脂を塗布することにより、前記基
板上に保護膜を形成することを特徴とする光ディスクの
保護膜形成方法。
1. A protective film is formed on the substrate by setting the surface tension of the outer peripheral side surface of the optical disk substrate to 20 dyn / cm or less and then applying a resin for forming a protective film by spin coating. A method for forming a protective film for an optical disc, comprising:
【請求項2】 光ディスク用基板の外周側面に界面活性
剤を塗布した後、スピンコート法を用いて保護膜形成用
の樹脂を塗布することにより、前記基板上に保護膜を形
成することを特徴とする光ディスクの保護膜形成方法。
2. The protective film is formed on the substrate by applying a surfactant to the outer peripheral side surface of the optical disk substrate and then applying a resin for forming the protective film by spin coating. And a method for forming a protective film on an optical disc.
【請求項3】 光ディスク用基板にスピンコート法によ
り保護膜を形成する保護膜形成装置において、保護膜形
成用の樹脂をスピンコートする前に、基板上の異物を除
去するために行う静電ブローを行っている間に、前記基
板の外周側面に界面活性剤を塗布することを特徴とする
光ディスクの保護膜形成装置。
3. A protective film forming apparatus for forming a protective film on an optical disk substrate by a spin coating method, wherein electrostatic blow is performed to remove foreign matter on the substrate before spin coating a resin for forming the protective film. A protective film forming apparatus for an optical disk, wherein a surfactant is applied to the outer peripheral side surface of the substrate while performing the above step.
JP1007596A 1996-01-24 1996-01-24 Method and apparatus for forming a protective film for optical disc Pending JPH09204697A (en)

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Cited By (4)

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JP2011100538A (en) * 2010-11-29 2011-05-19 Toshiba Corp Method for manufacturing magnetic recording medium
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