JPH09197110A - Production of pasted substrate having microprism - Google Patents

Production of pasted substrate having microprism

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JPH09197110A
JPH09197110A JP8007025A JP702596A JPH09197110A JP H09197110 A JPH09197110 A JP H09197110A JP 8007025 A JP8007025 A JP 8007025A JP 702596 A JP702596 A JP 702596A JP H09197110 A JPH09197110 A JP H09197110A
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forming
lens
forming substrate
lens forming
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英雄 山中
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent chip and crack of a substrate having a microprism. SOLUTION: Microlenses ML are first formed on one surface 1a side of the substrate 1 for forming flat planer lenses. A substrate for a flat planar base plate is then pasted via a first resin on the one surface 1a side of the substrate 1 for forming the lenses having these microlenses ML formed. Next, the other surface side of the substrate 1 for forming the lenses is then polished to a prescribed thickness with the substrate for the base plate as a supporting member. The microprisms are formed on the other surface side subjected to polishing of the substrate 1 for forming the lenses.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置等の
対向基板等に使用されるマイクロプリズムを備えた貼り
合わせ基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a bonded substrate having a micro prism used for a counter substrate of a liquid crystal display device or the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、液晶パネルを利用した透過型表示
装置として、画像の明るさを得るために、白色ランプか
らの白色光を3枚のダイクロイックミラーを用いて
(赤)R、(緑)G、(青)Bの三原色に分離し、これ
をカラーフィルタを備えていないモノクロ液晶パネルに
マイクロレンズを介して入射し、角度差を持ったRGB
成分を各々対応する画素に集光させて所望のカラー画像
を得る技術が開示されている(特開平4−60538号
公報参照)。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a transmissive display device using a liquid crystal panel, in order to obtain image brightness, white light from a white lamp is used by using three dichroic mirrors (red) R, (green). G, (blue) B primary colors are separated, and these are incident on a monochrome liquid crystal panel without a color filter through a microlens, and RGB with an angle difference are provided.
A technique has been disclosed in which components are focused on corresponding pixels to obtain a desired color image (see Japanese Patent Laid-Open No. 4-60538).

【0003】また、このようなカラーフィルタを備えて
いない、いわゆるカラーフィルタレス方式の透過型表示
装置において、画素ピッチの小さい高精細の液晶パネル
を使用した場合にはマイクロレンズの焦点距離を非常に
短くする必要がある。このため、液晶パネルを通過した
光束を全て投影するためには口径の大きな投影レンズを
使用する必要がある。
Further, in a so-called color filter-less type transmissive display device which does not include such a color filter, when a high-definition liquid crystal panel having a small pixel pitch is used, the focal length of the microlens is very large. Need to be short. For this reason, it is necessary to use a projection lens with a large aperture in order to project all the light flux that has passed through the liquid crystal panel.

【0004】そこで、いわゆるカラーフィルタレス方式
の透過型表示装置で本体の小型化および高精細に対応す
るため、対向基板としてマイクロレンズを形成した基板
に接着剤を介してマイクロプリズムの形成された基板を
貼り合わせたものを使用した透過型表示装置が考えられ
ている。
Therefore, in order to cope with miniaturization and high definition of a main body in a so-called color filterless type transmission display device, a substrate on which a micro-prism is formed is adhered to a substrate on which a micro-lens is formed as a counter substrate. A transmissive display device using a laminated structure has been considered.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、先にも
説明したように、画素ピッチの小さい高精細の液晶パネ
ルに対応するためにはマイクロレンズの焦点距離を非常
に短くする必要があり、これにマイクロプリズムを備え
た基板を貼り合わせる場合には、マイクロプリズムの形
成された基板を薄くしてマイクロレンズの焦点距離に対
応させる必要がある。
However, as described above, it is necessary to make the focal length of the microlens extremely short in order to cope with a high-definition liquid crystal panel having a small pixel pitch. When the substrates provided with the micro prisms are bonded together, it is necessary to thin the substrate on which the micro prisms are formed to correspond to the focal length of the micro lens.

【0006】ところが、マイクロプリズムを形成する基
板の厚さが薄いと、マイクロプリズムを製造する途中や
製造後の搬送工程において基板の欠けや割れが発生しや
すい。また、基板や接着剤の屈折率の関係から、一枚の
基板の一方面側にマイクロレンズ、他方面側にマイクロ
プリズムを形成する場合もあり、これに用いる基板の厚
さが薄いと、製造途中や搬送工程での基板の欠けや割れ
が顕著に現れることになる。
However, when the thickness of the substrate forming the microprisms is small, chipping or cracking of the substrate is likely to occur during the manufacturing process of the microprisms or during the transportation process after the manufacturing. In addition, due to the refractive index of the substrate or the adhesive, a microlens may be formed on one side of the substrate and a microprism may be formed on the other side of the substrate. If the substrate used for this is thin, The chipping or cracking of the substrate will be prominent on the way or during the transportation process.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、このような課
題を解決するために成されたマイクロプリズムを備えた
貼り合わせ基板の製造方法である。すなわち、先ず、平
板状のレンズ形成用基板の一方面側にマイクロレンズを
形成し、次いで、マイクロレンズが形成されたレンズ形
成用基板の一方面側に所定の樹脂を介して平板状の基台
用基板を貼り合わせる。次に、基台用基板を支持部材と
してレンズ形成用基板の他方面側を研磨して所定の厚さ
にし、レンズ形成用基板の研磨を行った他方面側にマイ
クロプリズムを形成する製造方法である。
The present invention is a method for manufacturing a bonded substrate having a micro-prism, which is made to solve the above problems. That is, first, a microlens is formed on one surface side of a plate-shaped lens forming substrate, and then a plate-shaped base is provided on one surface side of the lens forming substrate on which the microlens is formed with a predetermined resin interposed. Attach the substrate. Next, with the manufacturing method of polishing the other surface side of the lens forming substrate to a predetermined thickness by using the base substrate as a supporting member to form a microprism on the other surface side of the lens forming substrate that has been polished. is there.

【0008】また、先ず、平板状の基台用基板の一方面
側にマイクロレンズを形成し、次いで、マイクロレンズ
が形成された基台用基板の一方面側に所定の樹脂を介し
て平板状のレンズ形成用基板を貼り合わせる。次に、基
台用基板を支持部材としてレンズ形成用基板の基台用基
板が貼り合わされていない面側を研磨して所定の厚さに
し、レンズ形成用基板の研磨を行った面側にマイクロプ
リズムを形成する製造方法でもある。
In addition, first, a microlens is formed on one surface side of a flat base substrate, and then a flat resin is formed on one surface side of the base substrate on which the microlens is formed with a predetermined resin interposed therebetween. The lens forming substrate of is bonded. Next, using the base substrate as a supporting member, the surface side of the lens forming substrate on which the base substrate is not bonded is polished to a predetermined thickness, and the surface of the lens forming substrate that has been polished is micro-machined. It is also a manufacturing method for forming a prism.

【0009】このような製造方法では、少なくともマイ
クロプリズムが形成されるレンズ形成用基板を所定の厚
さに形成する際、樹脂を介して貼り合わせた基台用基板
を支持部材として研磨を行っているため、レンズ形成用
基板を薄くする場合でも基台用基板が支えとなって欠け
や割れを発生させない。また、レンズ形成用基板を搬送
する場合であっても基台用基板が支えとなり、欠けや割
れの発生を防止できるようになる。
In such a manufacturing method, when the lens-forming substrate on which at least the microprisms are formed is formed to have a predetermined thickness, polishing is performed by using the base substrate bonded with resin as a supporting member. Therefore, even when the lens forming substrate is thinned, the base substrate does not serve as a support and does not cause chipping or cracking. Further, even when the lens forming substrate is conveyed, the base substrate serves as a support, and it is possible to prevent the occurrence of chipping or cracking.

【0010】[0010]

【発明の実施の形態】以下に、本発明のマイクロプリズ
ムを備えた貼り合わせ基板の製造方法における実施の形
態を図に基づいて説明する。図1〜図3は第1実施形態
における製造方法を説明する概略断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of a method for manufacturing a bonded substrate having a micro prism of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 3 are schematic cross-sectional views illustrating the manufacturing method according to the first embodiment.

【0011】第1実施形態では、貼り合わせ基板として
液晶表示装置で使用される対向基板を例としており、こ
の対向基板10においてマイクロレンズMLおよびマイ
クロプリズムMPが形成されるレンズ形成用基板1と、
レンズ形成用基板1を研磨する際の基台用基板2とを貼
り合わせて製造する際の処理に特徴がある。
In the first embodiment, a counter substrate used in a liquid crystal display device is taken as an example of a bonded substrate, and a lens forming substrate 1 in which micro lenses ML and micro prisms MP are formed in the counter substrate 10,
The process is characterized in that the lens-forming substrate 1 is bonded to the base substrate 2 when it is polished to manufacture the lens-forming substrate 1.

【0012】先ず、図1(a)〜(c)に示す処理によ
って、レンズ形成用基板1の一方面1a側にマイクロレ
ンズMLを形成する。すなわち、図1(a)に示す処理
では、石英ガラスから成るレンズ形成用基板1の一方面
1aにレジストR1を塗布し、マスク露光、現像および
ポストベークを行う。そして、例えば平行平板プラズマ
エッチング装置により、高選択比エッチング(反応ガ
ス:CCl4 )を行って、図1(b)に示すような凹部
Oを形成する。
First, the microlenses ML are formed on the one surface 1a side of the lens forming substrate 1 by the processing shown in FIGS. That is, in the process shown in FIG. 1A, the resist R1 is applied to the one surface 1a of the lens-forming substrate 1 made of quartz glass, and mask exposure, development and post-baking are performed. Then, a high selectivity etching (reaction gas: CCl 4 ) is performed by using, for example, a parallel plate plasma etching apparatus to form a recess O as shown in FIG. 1B.

【0013】また、図1(b)に示す処理では、レンズ
形成用基板1の一方面1aにレジストR2を塗布し、マ
スク露光、現像およびポストベークを行って図1(c)
に示すマイクロレンズMLの凸部分に対応する部分のみ
レジストR2を残すようにしておく。
Further, in the process shown in FIG. 1B, a resist R2 is applied to the one surface 1a of the lens forming substrate 1 and mask exposure, development and post-baking are performed to perform the process shown in FIG.
The resist R2 is left only in the portion corresponding to the convex portion of the microlens ML shown in FIG.

【0014】次の図1(c)に示す処理では、図1
(b)に示すレジストR2をマスクとして、平行平板プ
ラズマエッチング(反応ガス:CCl4 、CF4 、CH
3 等)を行う。この際、レジストR2を酸素でエッチ
ングしながらレンズ形成用基板1をテーパエッチングす
る。これにより、凹部Oを境として図1(c)に示すよ
うな複数個のマイクロレンズMLがレンズ形成用基板1
に形成される。
In the next process shown in FIG. 1C, the process shown in FIG.
Using the resist R2 shown in (b) as a mask, parallel plate plasma etching (reaction gas: CCl 4 , CF 4 , CH
Perform the F 3, etc.). At this time, the lens forming substrate 1 is taper-etched while etching the resist R2 with oxygen. As a result, a plurality of microlenses ML as shown in FIG.
Formed.

【0015】次に、図2(a)に示すように、レンズ形
成用基板1のマイクロレンズMLが形成されている側
に、所定の屈折率を有する透明接着剤から成る第1樹脂
11を介して例えば石英ガラスから成る平板状の基台用
基板2を貼り合わせる。
Next, as shown in FIG. 2A, the first resin 11 made of a transparent adhesive having a predetermined refractive index is interposed on the side of the lens forming substrate 1 where the microlenses ML are formed. Then, a flat substrate substrate 2 made of, for example, quartz glass is bonded.

【0016】第1樹脂11としては、例えばエポキシ系
やアクリル系から成り、屈折率がレンズ形成用基板1の
屈折率よりも小さいものを使用する。また、第1樹脂1
1を塗布する場合には、先ず、マイクロレンズML側に
塗布して埋め込み、その表面をレベリングして平坦化す
る。次に、真空加熱脱泡し、大気圧に戻す時の圧力で均
一加圧する。その後、治具で加圧加熱して硬化させる。
また、真空中で脱泡し、加熱硬化させてもよい(1気圧
以下、200℃1時間キュア)。さらに、紫外線照射硬
化型から成る第1樹脂11を用いる場合には、真空中で
脱泡し、そのまま真空中で紫外線を照射して(例えば、
3000〜4000mJ/cm2 )硬化させる。
The first resin 11 is made of, for example, an epoxy resin or an acrylic resin, and has a refractive index smaller than that of the lens forming substrate 1. Also, the first resin 1
When 1 is applied, first, the microlens ML side is applied and embedded, and the surface is leveled and flattened. Next, degassing is performed by vacuum heating, and uniform pressure is applied at the pressure for returning to atmospheric pressure. After that, the jig is pressed and heated to cure.
Moreover, you may degas in a vacuum and heat-cure (1 atmospheric pressure or less, 200 degreeC 1 hour cure). Furthermore, when the first resin 11 of the ultraviolet irradiation curing type is used, it is defoamed in a vacuum and then irradiated with ultraviolet rays in a vacuum (for example,
3000 to 4000 mJ / cm 2 ) curing.

【0017】次いで、図2(b)に示すように、基台用
基板2を支持部材としてレンズ形成用基板1の他方面1
b側を光学研磨して所定の厚さにする。例えば、レンズ
形成用基板1の元の厚さt0 が0.5mmであった場
合、光学研磨後の厚さt1 を0.2mm程度にする。こ
のような厚さまで光学研磨するにあたり、基台用基板2
が支持部材としての役目を果たすことから、光学研磨中
にレンズ形成用基板1が欠けたり、割れを起こしたりす
ることが無くなる。
Next, as shown in FIG. 2B, the other surface 1 of the lens-forming substrate 1 using the base substrate 2 as a supporting member.
The b side is optically polished to a predetermined thickness. For example, when the original thickness t 0 of the lens forming substrate 1 is 0.5 mm, the thickness t 1 after optical polishing is set to about 0.2 mm. When optically polishing to such a thickness, the base substrate 2
Plays a role as a supporting member, so that the lens forming substrate 1 is not chipped or cracked during the optical polishing.

【0018】次に、図2(c)に示すように、光学研磨
を行ったレンズ形成用基板1の他方面1b側にレジスト
R3を塗布し、マスク露光、現像およびポストベークを
行う。そして、平行平板プラズマエッチング装置による
高選択比エッチング(反応ガス:CCl4 、CF4 、C
HF3 等)を行い、マイクロレンズMLの凸部分に対応
する他方面1b側に凹部O’を形成する。
Next, as shown in FIG. 2C, a resist R3 is applied to the other surface 1b side of the optically polished lens forming substrate 1, and mask exposure, development and post-baking are performed. Then, high selective ratio etching (reaction gas: CCl 4 , CF 4 , C
HF 3 etc.) is performed to form a concave portion O ′ on the other surface 1b side corresponding to the convex portion of the microlens ML.

【0019】次いで、このレジストR3を剥離した後、
図3(a)に示すように、レンズ形成用基板1の他方面
1b側にレジストR4を塗布し、マスク露光、現像およ
びポストベークを行って、複数のマイクロレンズMLの
境目に対応する部分のみ残すようにする。なお、この
際、凹部O’の少なくとも底面にもレジストR4を残す
ようにする。この状態で、平行平板プラズマエッチング
を行い(反応ガス:CCl4 、O2 、CF4 、CHF3
等)、レジストR4を酸素でエッチングしながらレンズ
形成用基板1の他方面1b側をテーパエッチングする。
Then, after removing the resist R3,
As shown in FIG. 3A, a resist R4 is applied to the other surface 1b side of the lens forming substrate 1, mask exposure, development and post-baking are performed, and only a portion corresponding to a boundary between the plurality of microlenses ML is formed. Try to leave. At this time, the resist R4 is left on at least the bottom surface of the recess O '. In this state, parallel plate plasma etching is performed (reaction gas: CCl 4 , O 2 , CF 4 , CHF 3
Etc.), the other surface 1b side of the lens forming substrate 1 is taper-etched while etching the resist R4 with oxygen.

【0020】これにより、凹部O’を境として図3
(b)に示すような複数のマイクロプリズムMPがレン
ズ形成用基板1に形成される。その後、マイクロプリズ
ムMPの上に所定の屈折率を有する透明接着剤から成る
第2樹脂12を介して透明電極3を形成する。第2樹脂
12としては、例えばエポキシ系やアクリル系から成
り、その屈折率がレンズ形成用基板1の屈折率よりも大
きいものを使用する。
As a result, as shown in FIG.
A plurality of micro prisms MP as shown in (b) are formed on the lens forming substrate 1. After that, the transparent electrode 3 is formed on the micro prism MP via the second resin 12 made of a transparent adhesive having a predetermined refractive index. The second resin 12 is made of, for example, an epoxy resin or an acrylic resin, and has a refractive index larger than that of the lens forming substrate 1.

【0021】第2樹脂12を塗布する場合には、先ず、
マイクロプリズムMPの凹部分に塗布して埋め込み、そ
の表面をレベリングして平坦化する。次に、真空加熱脱
泡し、大気圧に戻す時の圧力で均一加圧する。その後、
治具で加圧加熱して硬化させる。また、真空中で脱泡
し、加熱硬化させてもよい(1気圧以下、200℃1時
間キュア)。さらに、紫外線照射硬化型から成る第2樹
脂12を用いる場合には、真空中で脱泡し、そのまま真
空中で紫外線を照射して(例えば、3000〜4000
mJ/cm2 )硬化させる。
When applying the second resin 12, first,
The concave portion of the micro prism MP is coated and embedded, and the surface is leveled to be flat. Next, degassing is performed by vacuum heating, and uniform pressure is applied at the pressure for returning to atmospheric pressure. afterwards,
Harden by heating with a jig. Moreover, you may degas in a vacuum and heat-cure (1 atmospheric pressure or less, 200 degreeC 1 hour cure). Furthermore, when the second resin 12 of the ultraviolet irradiation curing type is used, it is defoamed in a vacuum and then irradiated with ultraviolet rays in a vacuum (for example, 3000 to 4000).
mJ / cm 2 ) cure.

【0022】また、透明電極3としては、例えばITO
やIXOをスパッタリングによって140nm厚程度形
成する。これによって対向基板10が完成する。
As the transparent electrode 3, for example, ITO is used.
And IXO are formed to a thickness of about 140 nm by sputtering. As a result, the counter substrate 10 is completed.

【0023】以上説明した第1実施形態では、第1樹脂
11の屈折率よりレンズ形成用基板1の屈折率の方が大
きく、レンズ形成用基板1の屈折率より第2樹脂12の
屈折率の方が大きい材料を使用しているため、レンズ形
成用基板1に凸状のマイクロレンズMLと凹状のマイク
ロプリズムMPを形成しているが、各々の屈折率の組合
せによって種々の態様が考えられる。
In the first embodiment described above, the refractive index of the lens forming substrate 1 is larger than that of the first resin 11, and the refractive index of the second resin 12 is larger than that of the lens forming substrate 1. Since the larger material is used, the convex microlenses ML and the concave microprisms MP are formed on the lens forming substrate 1, but various modes can be considered depending on the combination of the respective refractive indexes.

【0024】図4は、第1実施形態における他の例を説
明する概略断面図である。すなわち、図4(a)に示す
対向基板10では、第1樹脂11の屈折率よりもレンズ
形成用基板1の屈折率の方が大きく、第2樹脂12の屈
折率よりもレンズ形成用基板1の屈折率の方が大きくな
っている。このような場合には、レンズ形成用基板1に
マイクロレンズML、マイクロプリズムMPとも凸状に
形成すればよい。
FIG. 4 is a schematic sectional view for explaining another example of the first embodiment. That is, in the counter substrate 10 shown in FIG. 4A, the lens forming substrate 1 has a larger refractive index than the first resin 11 and the lens forming substrate 1 has a larger refractive index than the second resin 12. Has a higher refractive index. In such a case, the microlenses ML and the microprisms MP may be formed in a convex shape on the lens forming substrate 1.

【0025】また、図4(b)に示す対向基板10で
は、第1樹脂11の屈折率よりレンズ形成用基板1の屈
折率の方が小さく、さらにレンズ形成用基板1の屈折率
より第2樹脂12の屈折率の方が小さくなっている。こ
のような場合には、レンズ形成用基板1にマイクロレン
ズMLを凹状に形成し、マイクロプリズムMPを凸状に
形成すればよい。
In the counter substrate 10 shown in FIG. 4B, the refractive index of the lens forming substrate 1 is smaller than the refractive index of the first resin 11, and the second refractive index of the lens forming substrate 1 is smaller than that of the lens forming substrate 1. The refractive index of the resin 12 is smaller. In such a case, the microlens ML may be formed in a concave shape and the microprism MP may be formed in a convex shape on the lens forming substrate 1.

【0026】さらに、図4(c)に示す対向基板10で
は、第1樹脂11の屈折率よりレンズ形成用基板1の屈
折率の方が小さく、レンズ形成用基板1の屈折率より第
2樹脂12の屈折率の方が小さくなっている。このよう
な場合には、レンズ形成用基板1にマイクロレンズM
L、マイクロプリズムMPともに凹状に形成すればよ
い。
Further, in the counter substrate 10 shown in FIG. 4C, the refractive index of the lens forming substrate 1 is smaller than that of the first resin 11, and the second resin is smaller than that of the lens forming substrate 1. The refractive index of 12 is smaller. In such a case, the microlens M is formed on the lens forming substrate 1.
Both L and the micro prism MP may be formed in a concave shape.

【0027】次に、本発明の第2実施形態における貼り
合わせ基板の製造方法を説明する。図5〜図6は第2実
施形態における製造方法を説明する概略断面図である。
第2実施形態では、第1実施形態と同様、貼り合わせ基
板として液晶表示装置で使用される対向基板を例として
いるが、マイクロレンズMLを基台用基板2に形成し、
マイクロプリズムMPをレンズ形成用基板1に形成する
点で相違する。
Next, a method of manufacturing the bonded substrate stack according to the second embodiment of the present invention will be described. 5 to 6 are schematic cross-sectional views illustrating the manufacturing method according to the second embodiment.
In the second embodiment, as in the first embodiment, the opposite substrate used in the liquid crystal display device is taken as an example of the bonded substrate, but the microlens ML is formed on the base substrate 2,
The difference is that the micro prism MP is formed on the lens forming substrate 1.

【0028】先ず、図5(a)に示す処理により、例え
ば石英ガラスから成る基台用基板2に複数のマイクロレ
ンズMLを形成する。このマイクロレンズMLの形成方
法は、図1(a)〜(c)で示す第1実施形態と同様で
ある。
First, by the process shown in FIG. 5A, a plurality of microlenses ML are formed on the base substrate 2 made of, for example, quartz glass. The method of forming the microlens ML is the same as that of the first embodiment shown in FIGS.

【0029】次に、図5(b)に示すように、基台用基
板2のマイクロレンズMLが形成されている側に、所定
の屈折率を有する透明接着剤から成る第1樹脂11を介
して平板状のレンズ形成用基板1を貼り合わせる。第1
樹脂11としては、第1実施形態と同様、例えばエポキ
シ系やアクリル系から成り、屈折率が基台用基板2の屈
折率よりも小さいものを使用する。また、レンズ形成用
基板1としては、例えば石英ガラスを使用する。なお、
第1樹脂11の塗布方法については、第1実施形態と同
様に、気泡が残らないよう真空中での脱泡を行い、加熱
または紫外線照射硬化を行う。
Next, as shown in FIG. 5B, the first resin 11 made of a transparent adhesive having a predetermined refractive index is interposed on the side of the base substrate 2 on which the microlenses ML are formed. Then, the flat plate-shaped lens forming substrate 1 is attached. First
The resin 11 is made of, for example, an epoxy resin or an acrylic resin and has a refractive index smaller than that of the base substrate 2 as in the first embodiment. Moreover, as the lens forming substrate 1, for example, quartz glass is used. In addition,
As for the method of applying the first resin 11, as in the first embodiment, defoaming is performed in a vacuum so that no air bubbles remain, and heating or ultraviolet irradiation curing is performed.

【0030】次いで、図5(c)に示すように、基台用
基板2を支持部材として、貼り合わせたレンズ形成用基
板1の一方面1a側を光学研磨して所定の厚さにする。
例えば、レンズ形成用基板1の元の厚さt0 が0.5m
mであった場合、光学研磨後の厚さt1 を0.2mm程
度にする。第1実施形態と同様、この光学研磨を行う際
に基台用基板2が支持部材としての役目を果たし、光学
研磨中にレンズ形成用基板1が欠けたり、割れを起こし
たりすることが無くなる。
Next, as shown in FIG. 5C, the one surface 1a of the bonded lens forming substrate 1 is optically polished to a predetermined thickness using the base substrate 2 as a supporting member.
For example, the original thickness t 0 of the lens forming substrate 1 is 0.5 m
If it is m, the thickness t 1 after optical polishing is set to about 0.2 mm. Similar to the first embodiment, the base substrate 2 serves as a support member when performing the optical polishing, and the lens forming substrate 1 is not chipped or cracked during the optical polishing.

【0031】次に、図6(a)に示すように、光学研磨
を行ったレンズ形成用基板1の一方面1a側にレジスト
R1を塗布し、マスク露光、現像およびポストベークを
行う。そして、平行平板プラズマエッチング装置による
高選択比エッチング(反応ガス:CCl4 、CF4 、C
HF3 等)を行い、マイクロレンズMLの凸部分に対応
する一方面1a側に凹部Oを形成する。
Next, as shown in FIG. 6A, a resist R1 is applied to the one surface 1a side of the lens-forming substrate 1 which has been optically polished, and mask exposure, development and post-baking are performed. Then, high selective ratio etching (reaction gas: CCl 4 , CF 4 , C
HF 3 etc.) is performed to form a concave portion O on the one surface 1a side corresponding to the convex portion of the microlens ML.

【0032】次いで、このレジストR1を剥離した後、
図6(b)に示すように、レンズ形成用基板1の一方面
1a側にレジストR2を塗布し、マスク露光、現像およ
びポストベークを行って、複数のマイクロレンズMLの
境目に対応する部分のみ残すようにする。なお、この
際、凹部Oの少なくとも底面にもレジストR2を残すよ
うにする。この状態で、平行平板プラズマエッチング
(反応ガス:CCl4 、CF4 、CHF3 等)を行い、
レジストR4を酸素でエッチングしながらレンズ形成用
基板1の他方面1a側をテーパエッチングする。
Then, after removing the resist R1,
As shown in FIG. 6B, a resist R2 is applied to the one surface 1a side of the lens forming substrate 1, mask exposure, development and post-baking are performed, and only a portion corresponding to a boundary between the plurality of microlenses ML is formed. Try to leave. At this time, the resist R2 is left on at least the bottom surface of the recess O as well. In this state, parallel plate plasma etching (reaction gas: CCl 4 , CF 4 , CHF 3, etc.) is performed,
While etching the resist R4 with oxygen, the other surface 1a side of the lens forming substrate 1 is taper-etched.

【0033】これにより、凹部Oを境として図6(c)
に示すような複数のマイクロプリズムMPがレンズ形成
用基板1に形成される。その後、マイクロプリズムMP
の上に所定の屈折率を有する透明接着剤から成る第2樹
脂12を介して透明電極3を形成する。第2樹脂12と
しては、例えばエポキシ系やアクリル系から成り、その
屈折率がレンズ形成用基板1の屈折率よりも小さいもの
を使用する。
As a result, with the recess O as a boundary, FIG.
A plurality of micro-prisms MP as shown in are formed on the lens forming substrate 1. After that, the micro prism MP
The transparent electrode 3 is formed on the above with a second resin 12 made of a transparent adhesive having a predetermined refractive index interposed therebetween. The second resin 12 is made of, for example, an epoxy resin or an acrylic resin, and has a refractive index smaller than that of the lens forming substrate 1.

【0034】なお、第2樹脂12の塗布方法について
は、第1実施形態と同様に、気泡が残らないよう真空中
での脱泡を行い、加熱または紫外線照射硬化を行う。こ
れにより、対向基板10が完成する。
Regarding the method of applying the second resin 12, as in the first embodiment, defoaming is performed in a vacuum so that no air bubbles remain, and heating or ultraviolet irradiation curing is performed. Thereby, the counter substrate 10 is completed.

【0035】第2実施形態では、基台用基板2の屈折率
より第1樹脂11の屈折率の方が小さく、レンズ形成用
基板1の屈折率より第2樹脂12の屈折率の方が小さい
材料を使用しているため、基台用基板2に凸状のマイク
ロレンズMLを形成し、レンズ形成用基板1に凹状のマ
イクロプリズムMPを形成しているが、第1実施形態と
同様に、各々の屈折率の組合せによって種々の態様が考
えられる。
In the second embodiment, the refractive index of the first resin 11 is smaller than that of the base substrate 2, and the refractive index of the second resin 12 is smaller than that of the lens forming substrate 1. Since the material is used, the convex microlenses ML are formed on the base substrate 2 and the concave microprisms MP are formed on the lens forming substrate 1. However, similar to the first embodiment, Various modes are conceivable depending on the combination of the respective refractive indices.

【0036】図7は、第2実施形態における他の例を説
明する概略断面図である。すなわち、図7(a)に示す
対向基板10では、基台用基板2の屈折率より第1樹脂
11の屈折率の方が小さく、レンズ形成用基板1の屈折
率より第2樹脂12の屈折率の方が小さくなっている。
このような場合には、基台用基板2にマイクロレンズM
Lを凸状に形成し、レンズ形成用基板1にマイクロプリ
ズムMPを凸状に形成すればよい。
FIG. 7 is a schematic sectional view for explaining another example of the second embodiment. That is, in the counter substrate 10 shown in FIG. 7A, the refractive index of the first resin 11 is smaller than that of the base substrate 2, and the refractive index of the second resin 12 is smaller than that of the lens forming substrate 1. The rate is smaller.
In such a case, the microlens M is formed on the base substrate 2.
L may be formed in a convex shape, and the microprism MP may be formed in a convex shape on the lens forming substrate 1.

【0037】また、図7(b)に示す対向基板10で
は、基台用基板2の屈折率より第1樹脂11の屈折率の
方が大きく、レンズ形成用基板1の屈折率より第2樹脂
12の屈折率の方が小さくなっている。このような場合
には、基台用基板2にマイクロレンズMLを凹状に形成
し、レンズ形成用基板1にマイクロプリズムMPを凸状
に形成すればよい。
In the counter substrate 10 shown in FIG. 7B, the refractive index of the first resin 11 is larger than that of the base substrate 2, and the second resin is larger than that of the lens forming substrate 1. The refractive index of 12 is smaller. In such a case, the microlenses ML may be formed in a concave shape on the base substrate 2 and the microprisms MP may be formed in a convex shape on the lens forming substrate 1.

【0038】さらに、図7(c)に示す対向基板10で
は、基台用基板2の屈折率より第1樹脂11の屈折率の
方が大きく、レンズ形成用基板1の屈折率より第2樹脂
12の屈折率の方が大きくなっている。このような場合
には、基台用基板2にマイクロレンズMLを凹状に形成
し、レンズ形成用基板1にマイクロプリズムMPを凹状
に形成すればよい。
Further, in the counter substrate 10 shown in FIG. 7C, the refractive index of the first resin 11 is larger than that of the base substrate 2 and the second resin is larger than that of the lens forming substrate 1. The refractive index of 12 is larger. In such a case, the microlenses ML may be formed in a concave shape on the base substrate 2 and the microprisms MP may be formed in a concave shape on the lens forming substrate 1.

【0039】なお、本実施形態では、マイクロプリズム
を備えた貼り合わせ基板として、液晶表装置で使用され
る対向基板を例として説明したが、本発明はこれに限定
されず、マイクロレンズを備えている基板を薄くする必
要があるものに適用可能である。
In the present embodiment, the opposite substrate used in the liquid crystal display device has been described as an example of the bonded substrate provided with the micro prism, but the present invention is not limited to this, and a micro lens is provided. It can be applied to substrates that require thin substrates.

【0040】[0040]

【発明の効果】以上説明したように、本発明のマイクロ
プリズムを備えた貼り合わせ基板の製造方法によれば次
のような効果がある。すなわち、基台用基板を支持部材
としてレンズ形成用基板を研磨するため、マイクロプリ
ズムを高い平行度、高い平坦度を基準として形成でき、
しかも研磨による欠けや割れを発生させずに済むことか
ら、高精度のマイクロプリズムを製造することが可能と
なる。また、マイクロレンズとの組合せにおいて、マイ
クロレンズとマイクロプリズムとの距離の短い貼り合わ
せ基板を生産性良く製造することができ、高品質で高輝
度な液晶表示装置用の対向基板を安価で提供できるよう
になる。
As described above, according to the method for manufacturing a bonded substrate provided with the micro prism of the present invention, the following effects can be obtained. That is, since the lens forming substrate is polished using the base substrate as a supporting member, the microprism can be formed on the basis of high parallelism and high flatness,
Moreover, since it is not necessary to generate chips or cracks due to polishing, it is possible to manufacture a highly accurate microprism. Further, in combination with the microlens, a bonded substrate having a short distance between the microlens and the microprism can be manufactured with high productivity, and a counter substrate for a high quality and high brightness liquid crystal display device can be provided at low cost. Like

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】第1実施形態における製造方法を説明する概略
断面図(その1)である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view (No. 1) for explaining the manufacturing method in the first embodiment.

【図2】第1実施形態における製造方法を説明する概略
断面図(その2)である。
FIG. 2 is a schematic sectional view (No. 2) for explaining the manufacturing method in the first embodiment.

【図3】第1実施形態における製造方法を説明する概略
断面図(その3)である。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view (3) explaining the manufacturing method in the first embodiment.

【図4】第1実施形態の他の例を説明する概略断面図で
ある。
FIG. 4 is a schematic sectional view illustrating another example of the first embodiment.

【図5】第2実施形態における製造方法を説明する概略
断面図(その1)である。
FIG. 5 is a schematic cross-sectional view (No. 1) for explaining the manufacturing method in the second embodiment.

【図6】第2実施形態における製造方法を説明する概略
断面図(その2)である。
FIG. 6 is a schematic sectional view (No. 2) for explaining the manufacturing method in the second embodiment.

【図7】第2実施形態の他の例を説明する概略断面図で
ある。
FIG. 7 is a schematic sectional view illustrating another example of the second embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 レンズ形成用基板 2 基台用基板 3 透明
電極 10 対向基板 11 第1樹脂 12 第2樹脂 ML マイクロレンズ MP マイクロプリズム R1〜R4 レジスト
1 substrate for lens formation 2 substrate for base 3 transparent electrode 10 counter substrate 11 first resin 12 second resin ML microlens MP microprisms R1 to R4 resist

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 平板状のレンズ形成用基板の一方面側に
マイクロレンズを形成する工程と、 前記マイクロレンズが形成されたレンズ形成用基板の一
方面側に所定の樹脂を介して平板状の基台用基板を貼り
合わせる工程と、 前記基台用基板を支持部材として前記レンズ形成用基板
の他方面側を研磨して該レンズ形成用基板を所定の厚さ
にする工程と、 前記レンズ形成用基板の研磨を行った他方面側にマイク
ロプリズムを形成する工程とから成ることを特徴とする
マイクロプリズムを備えた貼り合わせ基板の製造方法。
1. A step of forming a microlens on one surface side of a flat lens-forming substrate, and a plate-shaped substrate on one surface side of the lens-forming substrate on which the microlens is formed via a predetermined resin. Laminating a substrate for a base, polishing the other surface of the substrate for forming a lens to a predetermined thickness by using the substrate for a base as a supporting member, and forming the lens And a step of forming a microprism on the other surface side of the polished substrate, the method for manufacturing a bonded substrate having a microprism.
【請求項2】 前記マイクロレンズは、前記レンズ形成
用基板の一方面に所定ピッチの凹部を設けておき、該凹
部を中心としたテーパエッチングを行うことで形成する
ことを特徴とする請求項1記載のマイクロプリズムを備
えた貼り合わせ基板の製造方法。
2. The microlenses are formed by providing recesses with a predetermined pitch on one surface of the lens forming substrate and performing taper etching centering on the recesses. A method for manufacturing a bonded substrate having the microprism according to claim 1.
【請求項3】 平板状の基台用基板の一方面側にマイク
ロレンズを形成する工程と、 前記マイクロレンズが形成された基台用基板の一方面側
に所定の樹脂を介して平板状のレンズ形成用基板を貼り
合わせる工程と、 前記基台用基板を支持部材として前記レンズ形成用基板
の該基台用基板が貼り合わされていない面側を研磨して
該レンズ形成用基板を所定の厚さにする工程と、 前記レンズ形成用基板の研磨を行った面側にマイクロプ
リズムを形成する工程とから成ることを特徴とするマイ
クロプリズムを備えた貼り合わせ基板の製造方法。
3. A step of forming a microlens on one surface side of a plate-shaped substrate for a base, and a plate-shaped substrate with a predetermined resin interposed on one surface side of the substrate for a substrate on which the microlens is formed. Bonding the lens forming substrate, and polishing the lens forming substrate to a predetermined thickness by polishing the surface of the lens forming substrate on which the base forming substrate is not adhered, using the base forming substrate as a supporting member. And a step of forming microprisms on the polished surface of the lens-forming substrate, the method for producing a bonded substrate having microprisms.
【請求項4】 前記マイクロレンズは、前記基台用基板
の一方面に所定ピッチの凹部を設けておき、該凹部を中
心としたテーパエッチングを行うことで形成することを
特徴とする請求項3記載のマイクロプリズムを備えた貼
り合わせ基板の製造方法。
4. The microlenses are formed by providing recesses with a predetermined pitch on one surface of the substrate for a base and performing taper etching centering on the recesses. A method for manufacturing a bonded substrate having the microprism according to claim 1.
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JP2014032226A (en) * 2012-08-01 2014-02-20 Seiko Epson Corp Microlens substrate, method for manufacturing microlens substrate, and electro-optic device including microlens substrate

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