JPH0919602A - 洗浄液再生装置 - Google Patents

洗浄液再生装置

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JPH0919602A
JPH0919602A JP16896795A JP16896795A JPH0919602A JP H0919602 A JPH0919602 A JP H0919602A JP 16896795 A JP16896795 A JP 16896795A JP 16896795 A JP16896795 A JP 16896795A JP H0919602 A JPH0919602 A JP H0919602A
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JP
Japan
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distillate
fractionating column
reflux
liquid
pump
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JP16896795A
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English (en)
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Kazuhisa Karaki
和久 唐木
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Olympus Optical Co Ltd
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  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 洗浄液の高精度の再生を行う再生装置を小型
にする。 【構成】 充填材101を装填した精留塔102と、精
留塔102の下部に位置し、蒸留原料103を気化させ
る加熱手段104と、精留塔102内で発生した気体を
液化する冷却手段105と、精留塔102内を減圧する
と共に、冷却手段105で液化した留出液106を留出
液タンク107に送液する減圧手段108と、冷却手段
105によって液化した留出液106の一部を精留塔1
02の上部に導く還流手段109とにより再生装置を構
成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は機構部材等の金属部品、
レンズ、プリズム等の光学部品、実装基板、リードフレ
ーム等の電気部品の精密洗浄に用いられた溶剤系洗浄液
を再生する洗浄液再生装置に関する。
【0002】
【従来の技術】上述のような金属部品、光学部品等の洗
浄用溶剤としては、オゾン層を破壊する1、1、2−ト
リクロロ−1、1、2−トリフルオロエタン(フロン1
13)や、1,1,1−トリクロロエタンに替わり、塩
素系洗浄液として炭化水素系溶剤等が用いられるように
なっている。また、この炭化水素系溶剤の使用の低コス
ト化、環境保護の立場から洗浄液の蒸留再生装置が用い
られている。
【0003】かかる溶剤系洗浄液の蒸留再生装置として
は、従来、特開平6−154502号公報記載の溶剤回
収装置が知られている。この装置は洗浄に使用された溶
剤が供給される減圧タンク内に溶剤を気化させる加熱手
段を設けると共に、減圧タンクの上部と気液分離タンク
の上部とを回収管路で接続している。この回収管路には
熱交換器が挿入されており、減圧タンクで気化した溶剤
を液化して気液分離タンクに送液する。また、減圧タン
ク内の上部には、ミストフィルタが配置されて、気化し
た溶剤を濾過するようになっている。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上述した従来
の蒸留再生装置では、減圧タンク内で気化した溶剤が、
単にミストセパレータを通過して回収管路に流入するた
め、精留効率が極めて低い。この場合、減圧タンクの高
さを高くすることで、精留効率の向上が可能であるが、
このように減圧タンクを高くすると、装置が大型になる
等の不具合を生じる。
【0005】本発明はこのような問題点を考慮してなさ
れたものであり、小型であっても、洗浄液を高精度に再
生することができる洗浄液再生装置を提供することを目
的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】図1は上記目的を達成す
る本発明の洗浄液再生装置の構成を示す。この洗浄液再
生装置は、充填材101を装填した精留塔102と、精
留塔102の下部に位置し、蒸留原料103を気化させ
る加熱手段104と、精留塔102内で発生した気体を
液化する冷却手段105と、精留塔102内を減圧する
と共に、冷却手段105で液化した留出液106を留出
液タンク107に送液する減圧手段108と、冷却手段
105によって液化した留出液106の一部を精留塔1
02の上部に導く還流手段109と、を有している。
【0007】この洗浄液再生装置においては、前記減圧
手段108を、留出液106と同質の溶剤を作動流体と
した液封ポンプで構成するものである。この液封ポンプ
はポンプ内部のインペラーとケーシングのシールを使用
溶剤を用いて行うものであり、真空の維持と真空下から
の溶剤の取り出しとを同時に行うことができる。
【0008】
【作用】上記構成における充填材101は、精留塔10
2のHETP(相当理論段高:Height Equivalent to a
Theoretical Plate)を低くするために設けられてい
る。この充填材101を設けることにより、精留塔10
2の相当論理段数を多くできるので、小さい寸法で高い
精留効率を得ることが可能となる。一方、冷却手段10
5で液化した留出液106の一部を精留塔102の上部
に導く還流手段109は、留出液106を再び精留塔1
02の塔頂部に戻すものであり、このように塔頂部に液
状の留出液を供給することで、留出液と加熱手段104
から気化した洗浄液ガスとが塔頂部において気液接触を
起こす。これにより留出液106への高沸点成分の混入
を抑制することができる。
【0009】精留塔102内は、予め、減圧手段108
によって減圧されるとともに、加熱手段104によって
加熱された蒸留原料103の蒸気が流れている。この蒸
留原料103は精留塔102の中段で充填材101に接
触し、液化、気化を繰り返して蒸留が促進される。この
蒸気は精留塔102の塔頂部から冷却手段105に入り
液化して留出液106となる。この留出液106は減圧
手段108により留出液タンク107に送られるととも
に、その一部は、還流手段109によって再び精留塔1
02の塔頂部に還流される。
【0010】減圧手段108を留出液106と同質の溶
剤を作動流体とした液封ポンプで構成する場合は、ポン
プ1個の簡単な構成で精留塔102の減圧と送液を達成
できる。また、一度負圧を発生させ、次にその負圧によ
り気体を引き込むエジェクターとエジェクターポンプと
の組み合わせからなる減圧手段に比べて、パワーロスが
少ない。さらに、通常の油回転ポンプ等は、溶剤を含有
するような蒸気を吸引した場合にポンプオイルに溶剤が
混入するため、頻繁にメンテナンスが必要となるが、液
封ポンプを用いた方法ではこのようなメンテナンスが不
要となるメリットがある。
【0011】
【実施例】
(実施例1)図2は本発明の実施例1の構成を示す。同
図において、1は精留塔であり、内部には充填材が充填
される。洗浄に用いた洗浄液の汚液は汚液タンク2から
供給ポンプ3によって精留塔内の原料供給段に供給され
る。4は精留塔の下部に設けられたリボイラーであり、
内部にU字型伝熱部を有し、水蒸気ボイラー5によって
加熱される。精留塔1より留出された蒸気はコンデンサ
ー6内に導かれ、このコンデンサー6に供給される冷却
水7によって冷却されて液化される。蒸留された留出液
は留出液タンク8に貯留されるが、留出液はエジェクタ
ー9とエジェクターポンプ10によって取り出される。
このとき、同時に精留塔1、リボイラー4、コンデンサ
ー6内が減圧される。
【0012】また、還流タンク11と還流ポンプ12に
よって還流を行うようにしてある。この還流液の還流タ
ンク11への供給は弁13、14の切替えることによる
エジェクターポンプ10の作動により行われる。コンデ
ンサー6内の減圧度は圧力調整弁15によって一定に保
持される。汚液に混入している汚れ成分は気化せずにリ
ボイラー4に蓄積されていくため、その排出用として廃
液タンク16がリボイラー4に連結されている。このリ
ボイラー4はオーバーフローによって廃液を取り出す。
排出される液は廃液クーラー17によって冷却されて廃
液タンク16に供給される。廃液は廃液タンク16に一
定量が溜まった時点で、廃液ポンプ18によって系外へ
排出される。
【0013】汚れ成分である切削油には、極圧剤として
塩素化合物、硫黄化合物が含有されている。これらが蒸
留時の加熱によって熱分解を起こした場合、リボイラー
4の構成部材に対して何らかの影響を及ぼすことが考え
られる。しかしながら、この塩素化合物等の分解温度は
100℃付近から始まり120℃で加速的に分解するこ
とが知られている。このため、蒸留機1の運転温度とし
てはリボイラー4の温度を100℃以下に抑えることに
よって切削油中の塩素化合物、硫黄化合物の分解を抑え
ることができ、これによりリボイラー4の構成部材に対
する侵食性を抑制することができる。このリボイラー4
の温度を100℃以下に抑えるため、リボイラー4内を
減圧し、減圧度の設定によって沸点を制御している。
【0014】エジェクター9は高速噴射による圧力低下
を応用したもので、エジェクターポンプ10によって高
速循環させることにより蒸留塔1内を負圧とする。また
この時に蒸留された留分を同時に取り出すことができ、
真空維持と真空下からの液の取り出しを行うものであ
る。蒸留留分はエジェクター9によって取り出されて、
留出液タンク8に貯留され、これにより蒸留再生液を取
り出すことができる。
【0015】次に、この構成の装置を用いて、洗浄液の
再生を行った。洗浄液としては、低分子ポリシロキサン
を使用した商品名EE−3110(オリンパス光学工業
(株)製)を用い、この洗浄液に汚れ成分として、切削
油(商品名ダフニーカットHS−5(出光興産(株)
製))を5重量%混入させた。洗浄液EE−3110は
沸点150℃、ダフニーカットHS−5の沸点は、実測
データはないが、270℃付近と推定される。
【0016】精留塔1は直径150mm、高さ1350
mmとし、内部に充填材として商品名グッドロール(東
京特殊金鋼(株)製)を充填した。リボイラー4は直径
200mm、長さ700mmの管体を横置きして使用し
た。このリボイラー4の内部には伝熱面積0.9m2
U字管型の伝熱部が設けられている。コンデンサー6は
直径200mm、長さ1950mmとし、内部には冷却
面積4.6m2 の冷却部を有し、水道水により冷却され
ている。エジェクター9(クリーンチック(株)製)は
真空発生部、留出液回収部である。エジェクターポンプ
10としては、循環ポンプ(商品名SKD5−07 二
国機械(株)製)を用いている。このエジェクターポン
プ10はエジェクター4と、留出液タンク8との間で留
出液を高速循環させることで、エジェクターによる真空
発生、留出液回収を同時に可能としている。また、還流
タンク11、還流ポンプ12の回路切替えによって留出
液を還流タンク11へ移すことで、還流ポンプ12によ
る還流を行うことができる。このような構成に対して、
リボイラー4内にEE−3110とダフニーカットHS
−5との混合溶剤を導入し、水蒸気ボイラー5(三浦工
業(株)製)で加熱を行う。蒸留による塔底液(高沸点
物)はリボイラー4に蓄積されるが、廃液タンク16に
オーバーフローによって蓄積され、一定量になった時点
で、廃液ポンプ18によって吐出される。
【0017】本実施例では、エジェクター9を稼働する
循環ポンプ10を起動させて、装置全体をリボイラー4
内に設けた圧力計で100mmHgになるまで減圧し
た。この減圧到達後、リボイラー4内のEE−3110
とダフニーカットHS−5の混合溶剤をボイラー5の水
蒸気圧力1.2kgf/cm2 で加熱した。そして精留
塔1内の温度が上昇してきた時、汚液の供給ポンプ3を
稼働させて0.8リットル/minの量の汚液を供給し
て蒸留を行った。2時間後、装置を停止した。
【0018】供給量は45.5リットル/hrとなり、
留出液としてEE−3110が42リットル/hrが得
られ、回収率は96%であった。蒸留液の組成をガスク
ロマトグラフィー(商品名GC−14B、島津製作所
製)で測定したところブフニーカットHS−5に由来す
るピークは認められなかった。このガスクロマトグラフ
ィーの分解能は0.01%以下のため、油成分は0.0
1%以下となっている。また、蒸留の排出液の性状に変
化は見られず、切削油成分の分解は認められなかった。
本実施例の結果を表1に示す。
【0019】以上の本実施例では、EE−3110に混
入した汚れ成分ダフニーカットHS−5を完全に除去で
き、精密洗浄分野での乾燥液としての基準をクリアした
再生が可能となった。
【0020】
【表1】
【0021】(実施例2)洗浄液として、低分子ポリシ
ロキサンを使用したEE−3110(オリンパス光学工
業(株)製)を用い、この洗浄液に汚れ成分としてEE
−4110(オリンパス光学工業(株)製)を3重量%
混入させた。この溶剤からEE−3110を再生した。
EE−3110は沸点150℃、EE−4110は沸点
200〜240℃の溶剤系洗浄液である。
【0022】本実施例では、図2に示す実施例1と同様
の装置を用いて再生を行うが、エジェクター9とエジェ
クターポンプ10を用いることなく、これらの代わりに
液封ポンプを用いた。この液封ポンプはポンプ内部のイ
ンペラーとケーシングのシールを使用溶剤を用いて行う
ものであり、真空維持と真空下からの溶剤の取り出しを
同時に行うものである。
【0023】精留塔1は直径150mm、高さ1350
mmとし、内部に充填材として商品名グッドロール(東
京特殊金鋼(株)製)を充填した。リボイラー4は直径
200mm、長さ700mmの管体を横置きして使用し
た。このリボイラー4の内部には伝熱面積0.9m2
U字管型の伝熱部が設けられている。コンデンサー6は
直径200mm、長さ1950mmとし、内部には冷却
面積4.6m2 の冷却部を有し、水道水により冷却され
ている。液封ポンプとして、商品名20SKD5−04
A(二国機械(株)製)を用いた。このポンプは真空発
生部であり、真空発生及び留出液回収を同時に行うよう
になっている。なお、還流タンク11、還流ポンプ12
の回路切替えによって留出液を還流タンク11へ移すこ
とで、還流ポンプ12による還流を行うことができる。
【0024】本実施例では、リボイラー4内に上述した
混合溶剤を導入し、水蒸気ボイラー5(三浦工業(株)
製)で加熱を行う。蒸留による塔底液(高沸点物)はリ
ボイラー4に蓄積されるが、オーバーフローによって廃
液タンク16に蓄積され、一定量になった時点で廃液ポ
ンプ18によって吐出される。また、装置全体の減圧度
は圧力調製弁によって任意の圧力に設定するものであ
る。
【0025】本実施例では、液封ポンプを起動させて、
装置全体をリボイラー4内に設けた圧力計で120mm
Hgになるまで減圧した。この減圧到達後、リボイラー
4内の混合溶剤をボイラー5の水蒸気圧力0.95kg
f/cm2 で加熱した。そして精留塔1内の温度が上昇
してきた時、汚液の供給ポンプ3を稼働させて0.7リ
ットル/minの量の汚液を供給すると共に、0.35
リットル/minの量の還流液を供給することで、0.
6の還流比で蒸留を行った。2時間後、装置を停止し
た。
【0026】供給量は33リットル/hrとなり、留出
液としてEE−3110が30リットル/hrが得ら
れ、回収率は92%であった。蒸留液の組成をガスクロ
マトグラフィー(商品名GC−14B、島津製作所
製))で測定したところ、EE−4110に由来するピ
ークは0.03%であった。本実施例の結果を表2に示
す。
【0027】このような本実施例では、再生装置に還流
を付加することによって、沸点差50℃の溶剤を蒸留に
よって削除することができ、これにより洗浄液寿命を伸
ばすことができる。
【0028】
【表2】
【0029】(実施例3)洗浄液として、低分子ポリシ
ロキサンを使用したEE−3410(オリンパス光学工
業(株)製)を用い、この洗浄液に対して、汚れ成分と
して商品名ナフテゾールMを3重量%混入させた。この
溶剤からEE−3410を再生した。EE−3410は
沸点139℃、ナフテゾールMは沸点210〜245℃
のナフテン系の化合物である。
【0030】精留塔1は直径150mm、高さ1350
mmとし、内部に充填材として商品名グッドロール(東
京特殊金鋼(株)製)を充填した。リボイラー4は直径
200mm、長さ700mmの管体を横置きして使用し
た。このリボイラー4の内部には伝熱面積0.9m2
U字管型の伝熱部が設けられている。コンデンサー6は
直径150mm、長さ1950mmとし、内部には冷却
面積4.6m2 の冷却部を有し、水道水により冷却され
ている。本実施例においては、液封ポンプとして、商品
名20SKD5−04A(二国機械(株)製)を用い
た。このポンプは真空発生部であり、真空発生及び留出
液回収を同時に行うようになっている。なお、還流タン
ク11、還流ポンプ12の回路切替えによって留出液を
還流タンク11へ移すことで、還流ポンプ12による還
流を行うことができる。
【0031】本実施例では、リボイラー4内に上述した
混合溶剤を導入し、水蒸気ボイラー5(三浦工業(株)
製)で加熱を行う。蒸留による塔底液(高沸点物)はリ
ボイラー4に蓄積されるが、オーバーフローによって廃
液タンク16に蓄積され、一定量になった時点で廃液ポ
ンプ18によって吐出される。また、装置全体の減圧度
は圧力調製弁によって任意の圧力に設定するものであ
る。
【0032】本実施例においては、液封ポンプを起動さ
せて、装置全体をリボイラー4内に設けた圧力計で10
0mmHgになるまで減圧した。この減圧到達後、リボ
イラー4内の混合溶剤をボイラー5の水蒸気圧力0.9
kgf/cm2 で加熱した。そして精留塔1内の温度が
上昇してきた時、汚液の供給ポンプ3を稼働させて0.
7リットル/minの量の汚液を供給すると共に、0.
35リットル/minの量の還流液を供給することで、
0.6の還流比で蒸留を行った。2時間後、装置を停止
した。
【0033】供給量は33リットル/hrとなり留出液
としてEE−3410が30リットル/hrが得られ、
回収率は90%であった。蒸留液の組成をガスクロマト
グラフィー(商品名GC−14B、島津製作所製)で測
定したところ、ナフテゾールMに起因するピークは0.
02%であった。本実施例の結果を表3に示す。
【0034】
【表3】
【0035】以上の実施例に基づく本発明では、以下の
実施態様が明確である。 (1)直鎖状低分子シロキサンを主成分とする洗浄液の
再生装置であって、充填材を装填した精留塔と、この精
留塔の下部に位置し、蒸留原料を気化させる加熱手段
と、前記精留塔内で発生した気体を液化する冷却手段
と、前記精留塔内を減圧するとともに、冷却手段によっ
て液化した留出液を留出液タンクに送液する減圧手段
と、前記冷却手段によって液化した留出液の一部を前記
精留塔の上部に導く還流手段と、を有することを特徴と
する洗浄液再生装置。
【0036】この実施態様の理由は、次のようである。
塩素系代替洗浄液として広く用いられる炭化水素系溶剤
の多くは、石油原料を精製して得られる。これらの炭化
水素系溶剤は分子群が多岐にわたるため、純度的に低く
なり、精密洗浄には適さない場合が多い。これに対し
て、直鎖状低分子シロキサンは、分子量が均一なため、
蒸留再生したときの純度が高く、精密洗浄に有利であ
る。
【0037】(2)上記(1)項において、前記減圧手
段が留出液と同質の溶剤を作動流体とした液封ポンプで
あることを特徴とする。
【0038】
【発明の効果】以上のように、請求項1記載の発明によ
れば、蒸留精度が高く、かつ、小型の洗浄液再生装置と
することができる。また、請求項2の発明は液封ポンプ
を用いることにより、簡易な構成で減圧下からの蒸留液
の取り出しを容易にでき、ロスの少ない回収を行うこと
ができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の基本構成を示すブロック図である。
【図2】本発明の実施例に使用される装置のブロック図
である。
【符号の説明】
102 精留塔 104 加熱手段 105 冷却手段 107 留出液タンク 108 減圧手段 109 還流手段

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 充填材を装填した精留塔と、 この精留塔の下部に位置し、蒸留原料を気化させる加熱
    手段と、 前記精留塔内で発生した気体を液化する冷却手段と、 前記精留塔内を減圧すると共に、前記冷却手段で液化し
    た留出液を留出液タンクに送液する減圧手段と、 前記冷却手段によって液化した留出液の一部を前記精留
    塔の上部に導く還流手段と、を有することを特徴とする
    洗浄液再生装置。
  2. 【請求項2】 前記減圧手段は前記留出液と同質の溶剤
    を作動流体とした液封ポンプであることを特徴とする請
    求項1記載の洗浄液再生装置。
JP16896795A 1995-07-04 1995-07-04 洗浄液再生装置 Withdrawn JPH0919602A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015059151A (ja) * 2013-09-18 2015-03-30 アクア化学株式会社 洗浄剤組成物及びその蒸留再生システム
JP2017144395A (ja) * 2016-02-18 2017-08-24 富士ゼロックス株式会社 溶剤回収装置

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