JPH09191040A - 基板の搬送装置及び搬送方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】基板の搬送姿勢を安定にし、引っかかりをなく
して搬送するとともに、塵の発生を無くした基板の搬送
装置を提供する。 【解決手段】基板１０１を略水平方向に搬送するための
基板の搬送装置であって、基板１０１を保持すると共
に、基板の裏面側に突出し、上下に離間して配置された
第１及び第２の係合ピン１０４,１０５を有する基板保
持板１０２と、略水平方向に延出して配置されると共
に、第２の係合ピン１０５を支持し、所定のピッチ距離
だけ水平方向に往復運動する搬送バー１３と、略水平方
向に延出して配置されると共に、第１の係合ピン１０４
を支持し、所定高さだけ上下方向に往復運動する保持バ
ー１２とを具備する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、基板を略水平方向
に搬送する基板の搬送装置及び搬送方法に関し、特に真
空室内で基板に表面処理を施す真空処理装置に使用され
る基板の搬送装置及び搬送方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、真空成膜装置などにおける基板の
搬送は、図３２に示すような方法で行われていた。

【０００３】図３２においては、基板５０１は、その内
周部に内周マスク５０３がセットされ、さらに外周をマ
スクするマスク部材５０２に保持されて搬送される。ガ
イド部材５０４は、マスク部材５０２が倒れないように
ガイドするものである。マスク部材５０２は搬送用ロー
ラーチェーン５０５上に載置されており、不図示の駆動
装置によってローラーチェーン５０５が駆動されると、
ガイド部材５０４によりガイドされながらローラーチェ
ーン５０５の進行方向に搬送される。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来例では、ガイド部材５０４とマスク部材５０２とのク
リアランスを大きくとると、マスク部材５０２の姿勢が
安定しないという問題があった。またクリアランスを小
さくすると、マスク部材５０２がガイド部材５０４と接
触し、引っかかりやすくなり、安定した搬送ができない
という問題があった。

【０００５】また、ガイド部材５０４とマスク部材５０
２とがこすれることにより塵が発生し、真空室内の物質
に塵が付着するという問題があった。

【０００６】従って、本発明は上述した課題に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、基板の搬
送姿勢を安定にし、引っかかりをなくして搬送するとと
もに、塵の発生を無くした基板の搬送装置及び搬送方法
を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上述した課題を解決し目
的を達成するために、本発明に係わる基板の搬送装置
は、基板を略水平方向に搬送するための基板の搬送装置
であって、前記基板を保持すると共に、該基板の裏面側
に突出し、上下に離間して配置された第１及び第２の係
合部を有する基板保持部材と、略水平方向に延出して配
置されると共に、前記第２の係合部を支持し、所定のピ
ッチ距離だけ水平方向に往復運動する搬送バーと、略水
平方向に延出して配置されると共に、前記第１の係合部
を支持し、所定高さだけ上下方向に往復運動する保持バ
ーとを具備することを特徴としている。

【０００８】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記基板保持部材は、前記基板の周辺領域を被
覆するためのマスクであることを特徴としている。

【０００９】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方向に対
して所定角度傾けて配置されていることを特徴としてい
る。

【００１０】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方向に平
行に配置されており、前記第１の係合部と前記保持バー
の係合部位には互いに斜面を形成すると共に、前記第２
の係合部と前記搬送バーの係合部位にも互いに斜面を形
成することにより、前記保持バーと前記搬送バーによる
前記基板保持部材の支持状態を安定化させたことを特徴
としている。

【００１１】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記搬送バーと保持バーの中間部には、前記基
板の表面に膜を形成する真空成膜装置が接続されている
ことを特徴としている。

【００１２】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記保持バーには、前記第２の係合部を所定の
位置に引込むための斜面が形成されていることを特徴と
している。

【００１３】また、この発明に係わる基板の搬送装置に
おいて、前記斜面の水平方向のピッチ間隔は、前記保持
バーの始端部と終端部において前記基板保持部材の幅よ
りも大きく設定され、前記保持バーのの中間部におい
て、前記保持部材の幅以下に設定されていることを特徴
としている。

【００１４】また、本発明に係わる基板の搬送方法は、
基板を略水平方向に搬送するための基板の搬送方法であ
って、前記基板を基板保持部材に保持し、該基板保持部
材に形成された第１及び第２の係合部の内の第１の係合
部を、略水平方向に延出し上下動可能に設けられた保持
バーによって支持し、前記保持バーを下降させて、前記
第２の係合部を前記保持バーと平行に配置された搬送バ
ー上に接触させると共に、前記第１の係合部を前記保持
バーから離間させ、前記搬送バーを水平方向に所定ピッ
チだけ移動させて前記基板を前記所定ピッチだけ搬送
し、前記保持バーを上昇させて、前記第１の係合部を前
記保持バー上に支持させると共に、前記第２の係合部を
前記搬送バーから離間させ、その後、前記搬送バーを前
記所定ピッチだけ水平方向に戻すことを特徴としてい
る。

【００１５】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記基板保持部材は、前記基板の周辺領域を被
覆するためのマスクであることを特徴としている。

【００１６】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方向に対
して所定角度傾けて配置されていることを特徴としてい
る。

【００１７】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方向に平
行に配置されており、前記第１の係合部と前記保持バー
の係合部位には互いに斜面を形成すると共に、前記第２
の係合部と前記搬送バーの係合部位にも互いに斜面を形
成することにより、前記保持バーと前記搬送バーによる
前記基板保持部材の支持状態を安定化させたことを特徴
としている。

【００１８】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記搬送バーと保持バーのの中間部には、前記
基板の表面に膜を形成する真空成膜装置が接続されてい
ることを特徴としている。

【００１９】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記保持バーには、前記第２の係合部を所定の
位置に引込むための斜面が形成されていることを特徴と
している。

【００２０】また、この発明に係わる基板の搬送方法に
おいて、前記斜面の水平方向のピッチ間隔は、前記保持
バーの始端部と終端部において前記基板保持部材の幅よ
りも大きく設定され、前記保持バーの中間部において、
前記保持部材の幅以下に設定されていることを特徴とし
ている。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施形態に
ついて、添付図面を参照して詳細に説明する。

【００２２】（第１の実施形態）図１は本発明の第１の
実施形態に係わる基板の搬送装置が使用される真空処理
装置の概略的な構成を示す図である。

【００２３】図１において、搬送部１の中央部には成膜
処理部であるプロセスチャンバー２が取り付けられてい
る。基板１０１は、基板１０１の外周領域をマスキング
するマスク板１０２によって保持・搬送される。

【００２４】搬送部１および成膜処理部であるプロセス
チャンバー２は、成膜に必要な真空度で真空空間を形成
するよう密閉構造となっている。

【００２５】搬送部１の入り口部には、基板１０１を投
入するための投入チャンバー３が取り付けられている。
投入チャンバー３の前後には、ゲートバルプ５ａ,５ｂ
が取り付けられている。大気側のゲートバルブ５ａを開
き、不図示の投入手段で投入チャンバー３内に基板１０
１が投入される。このとき投入される基板の枚数は、一
枚でも複数枚であってもよい。

【００２６】大気側のゲートバルブ５ａが閉じられる
と、投入チャンバー３は搬送部１と同じ真空度になるま
で、不図示の真空ポンプにて排気される。同じ真空度に
なると、搬送側ゲートバルブ５ｂが開き、不図示の移載
手段で基板１０１が搬送部１に移載される。

【００２７】基板１０１は一枚ずつ搬送部１に移載さ
れ、搬送部１によって順次間欠送りされる。搬送部１の
中央部に取り付けられたプロセスチャンバー２を通過す
る際に、所望の膜が基板１０１上に成膜される。プロセ
スチャンバー２を通過した基板１０１は出口部まで搬送
されるが、搬送部１の出口部には、基板１０１を排出す
るための排出チャンバー４が取り付けられている。搬送
側ゲートバルブ５ｂが開き、不図示の移載手段で基板１
０１が、搬送部１から排出チャンバー４に移載される。

【００２８】図２は、図１に示す装置を断面で示した平
面図である。搬送部１のチャンバー１１内には、保持バ
ー１２、搬送バー１３がそれぞれ移動可能なように支持
されている。搬送バー１３の両端には、ガイドシャフト
１４ａ,１４ｂが取り付けられている。ガイドシャフト
１４ａ,１４ｂは、リニアガイド１６ａ,１６ｂによっ
て、図中左右方向に直線移動可能なような支持されてい
る。

【００２９】大気中に突出しているガイドシャフト１４
ａ,１４ｂと、真空に密閉された搬送部チャンバー１１
間の密閉を保つために、直動シール１５ａ,１５ｂが取
り付けられている。この直動シール１５ａ,１５ｂは、
一般的によく使われるベローズシールや、ウイルソンシ
ールのようなものを用いることができる。

【００３０】一対となっているガイドシャフト１４ａ,
１４ｂの片側のガイドシャフト１４ａには、連結バー１
７が取り付けられている。連結バー１７には、クランク
レバー１８が鉛直面内で回動自在に取り付けられてい
る。クランクレバー１８は、搬送バー駆動モータ１９の
シャフトに対して、不図示のキーとクランプボルトによ
って固着されており、モータ１９の回転駆動力がクラン
クレバー１８に伝達されるようになっている。搬送バー
駆動モータ１９が回転すると、このリンク機構により搬
送バー１３が図中左右方向に往復運動される。ここでは
一例としてリンク機構を取り上げたが、ボールネジやラ
ック＆ピニオンなどのように、直線運動をするものなら
どのようなものであってもい。

【００３１】図３は、図２に示す装置を矢印Ａ方向から
見た断面図である。

【００３２】搬送バー１３が横方向に移動可能なように
支持されていたのに対し、保持バー１２は上下方向に移
動可能なように支持されている。保持バー１２の両端部
側には、ガイドシャフト２０ａ,２０ｂが取り付けられ
ている。ガイドシャフト２０ａ,２０ｂは、リニアガイ
ド２２ａ,２２ｂによって、直線移動可能なように支持
されている。

【００３３】大気中に突出しているガイドシャフト２０
ａ,２０ｂと、真空に密閉された搬送部チャンバー１１
間の密閉を保つために、直動シール２１ａ,２１ｂが取
り付けられている。この直動シール２１は、一般的に良
く使われるベローズシールや、ウイルソンシールのよう
なものを用いることができる。

【００３４】ガイドシャフト２０ａ,２０ｂの下端に
は、カムフォロアー２３ａ,２３ｂが取り付けられてい
る。またガイドシャフト２０ａ,２０ｂは、バネ３３ａ,
３３ｂによって下方に付勢されている。このバネ３３
ａ,３３ｂにより、カムフォロアー２３ａ,２３ｂは保持
バー駆動カム２４ａ,２４ｂに当接されるようになって
いる。保持バー駆動カム２４ａ,２４ｂは、キー２７ａ,
２７ｂによって保持バー駆動モータ２５ａ,２５ｂのシ
ャフトと連結されており、保持バー駆動モータ２５ａ,
２５ｂの回転力が保持バー駆動カム２４ａ,２４ｂに伝
達されるようになっている。従って、保持バー駆動モー
タ２５ａ,２５ｂが回転すると、保持バー１２が上下動
作することになる。

【００３５】図３では一対のガイドシャフト２０ａ,２
０ｂに対し、それぞれ保持バー駆動モータ２５ａ,２５
ｂが取り付けられているが、一対のガイドシャフト２０
ａ,２０ｂを連結バーなどで連結し、その中央にカムフ
ォロアーを設けて、一つのカムとモータで上下に駆動す
ることも可能である。

【００３６】図４は、図３のＢ−Ｂ方向から見た一部断
面で示した側面図である。ここでは直動シール２１ａ,
２１ｂをベローズシールにした場合の例で図示してあ
る。また、リニアガイド２２ａ,２２ｂはベローズシー
ルの内部に取り付けられているが、ベローズシールの外
部にあってもよい。

【００３７】保持バー１２は、シャフト連結ブロック２
８によりガイドシャフト２０ａ,２０ｂと連結されてい
る。保持バー１２はガイドシャフト２０ａ,２０ｂに対
して、ある傾斜角θを持って取り付けられている。保持
バー１２は断面コの字形をしており、この間に搬送バー
１３が配置されている。搬送バー１３も同じ傾斜角θを
もって取り付けられている。この傾斜角θは、マスク板
１０２を安定に搬送できる角度であるとともに、成膜に
影響を及ぼさない角度であることが望ましい。しかし、
基板の成膜面Ｓに対しプロセスチャンバー２を平行に設
置したい場合は、図５のように搬送部のチャンバー１１
を変形し、プロセスチャンバー２を平行に設置すること
もできる。

【００３８】図６は、基板とマスク板の構成を示す図で
ある。図７は、図６に示した基板とマスク板の構成の側
面図である。

【００３９】円形状の基板１０１は、その外周の周辺領
域を被覆するとともに、搬送の際に基板１０１を保持す
るためのマスク板１０２に取り付け固定されている。

【００４０】また、基板１０１は、内周の周辺領域を被
覆する、内周マスク板１０３が中央部に取り付けられて
いる。マスク板１０２には、保持バー１２と係合するピ
ン１０４と、搬送バー１３と係合するピン１０５が設け
られている。

【００４１】図８乃至図１０は、保持バー１２の動作時
のマスク板１０２と保持バー１２及び搬送バー１３の位
置関係を示す図である。

【００４２】図８は、保持バー１２が上昇して、マスク
板１０２が搬送バー１３から切り離された状態を示す。
マスク板１０２に設けられている保持バー係合ピン１０
４は、保持バー１２のＡ面と当接し保持されている。ま
たマスク板１０２の裏面は、保持バー１２のＢ面と当接
している。保持バー１２はガイドシャフト２０ａの上下
方向に対して傾斜角θをもって取り付けられているの
で、マスク板１０２を安定して保持することができるよ
うになっている。保持バー１２が下降すると、マスク板
１０２に設けられた搬送バー係合ピン１０５の根元部Ｄ
が、搬送バー１３の頂点Ｅを目指して下降してゆく。図
９は、保持バー１２がストロークｌ1だけ下降した状態
を示す。マスク板１０２に設けられた搬送バー係合ピン
１０５が搬送バー１３のＣ面と当接し、またマスク板１
０２の裏面は搬送バー１３のＦ面と当接している。それ
からさらに保持バー１２が下降すると、図１０で示す状
態になる。マスク板１０２は保持バー１２から切り離さ
れ、搬送バー１３のみで保持されている。マスク板１０
２の重心Ｇは、搬送バー１３の角部Ｈよりも内側にある
ので、安定して保持することができる。

【００４３】また、保持バーのガイドシャフト２０ａの
移動方向に対して、保持バー１２、搬送バー１３がそれ
ぞれ角度θだけ傾斜しているので、保持バー１２のＢ面
と搬送バー１３のＦ面とは距離ｄだけ隙間が空くことに
なる。この距離ｄは次式で求められる。

【００４４】ｄ＝ｌ1×ｓｉｎθ このように、距離ｄだけ隙間が生じるため、搬送バー１
３の往復動作時に、マスク板１０２が保持バー１２や搬
送バー１３と擦れることがない。また、マスク板１０２
に設けられた保持バー係合ピン１０４や搬送バー係合ピ
ン１０５が、保持バー１２、搬送バー１３と当接する際
も、マスク板１０２が保持バー１２や搬送バー１３と擦
れることがないため、塵を発生させないクリーンな搬送
を行うことができる。

【００４５】図１１は、保持バー１２、搬送バー１３の
動作フローチャートを示したものである。図１２乃至図
１５は、マスク板１０２の搬送動作を正面から示す図で
ある。図１２の状態から保持バー１２が下降し（ステッ
プＳ１）、マスク板１０２を搬送バー１３に載せる（図
１３の状態）。それから搬送バー１３が一定ストローク
前進し（ステップＳ２）、マスク板１０２を搬送する
（図１４の状態）。ここでのストロークは、マスク板１
０２の外形寸法と同一にしている。搬送バー１３が前進
端に達すると、搬送バー１３は停止し、保持バー１２が
上昇する（ステップＳ３）。保持バー１２が上昇端に達
し、搬送バー１３からマスク板１０２を切り離すと、次
のマスク板１０２を搬送するために搬送バー１３が後退
端に戻る（ステップＳ４、図１５の状態）。この動作を
繰り返してマスク板１０２を一枚ずつ順次搬送してゆ
く。

【００４６】（第２の実施形態）図１６乃至図１８は、
本発明の第２のの実施形態に係わる搬送部の構成を示す
図である。

【００４７】図１６は本実施形態における搬送部を断面
で示した側面図である。基板１０１の成膜面Ｓが垂直方
向に沿って配置され、傾斜角θをもって保持バーガイド
シャフト２０が取り付けられている。搬送部チャンバー
１１に取り付けられる直動シールやリニアガイドは、斜
めに切断された間座２９を介して取り付けられている。

【００４８】図１７は、マスク板２０２と保持バー２１
２、搬送バー２１３の一関係を示す図である。図１８
は、マスク板の係合手段の一例を示す図である。保持バ
ー２１２のガイドシャフト２０の移動方向に対して、保
持バー２１２、搬送バー２１３がそれぞれ角度θだけ傾
斜しているので、保持バー２１２のＢ面と搬送バー２１
３のＦ面とは距離ｄだけ隙間が空き、クリーンな搬送を
行うことができる。しかし、マスク板１０２の重心位置
がＢ面、Ｆ面より外側にあるのでマスク板１０２が落下
し易くなる。それを防ぐために、図１８に示すように係
合ピンの形状を工夫してある。図１８の（ａ）では、一
部円錐状になった段付きピンになっている。また（ｂ）
では、一部斜面を持ったブロック形状となっている。保
持バー２１２、搬送バー２１３はそれに合わせた形状と
なっている。

【００４９】このようにすれば、基板の成膜面を垂直に
保ったままクリーンな搬送を行うことができる。これに
より、プロセスチャンバー２を基板面と平行に設置する
事も容易になるとともに、プロセスチャンバー２や搬送
部チャンバー１１から発生する塵が、基板成膜面に落下
することも少なくなる。

【００５０】（第３の実施形態）図１９乃至図２４は、
本発明の第３の実施形態に係わる搬送部の構成を示す図
である。

【００５１】図１９は、搬送部３００を連続的に接続
し、プロセスチャンバーを複数個配置して連続的に成膜
を行う装置構成の概略を示すものである。

【００５２】図２０は搬送部３００の概要を断面で示し
た平面図である。図２１は、図２０を矢印Ｃ方向から見
た断面図である。図２２は、図２０をＸ−Ｘ方向から見
た断面図である。

【００５３】搬送バー３１３の後背面部には、一対のガ
イドシャフト取り付けブロック３１５が取り付けられ、
下方にのびた形状となっている。このガイドシャフト取
り付けブロック３１５には、搬送バーガイドシャフト３
１４がクランプボルトにて固着されている。リニアガイ
ド３１６は、搬送部チャンバー３１１の内部に配置され
ている。このリニアガイド３１６は、真空用のものが用
いられている。片側のガイドシャフト３１４ａには、連
結バー３１７が取り付けられている。連結バー３１７に
は、クランクレバー３１８が垂直面内で回動可能に取り
付けられている。クランクレバー３１８は、搬送バー駆
動モータ３１９と接続されている駆動シャフト３２０と
不図示のキーとクランプボルトにて固着されており、モ
ータ３１９の回転駆動力がクランクレバー３１８に伝達
されるようになっている。搬送バー駆動モータ３１９が
回転すると、このリンク機構により搬送バー３１３が往
復運動される。ここでは一例としてリンク機構を取り上
げたが、ボールネジやラック＆ピニオンなどのように、
直線運動をするものならどのようなものであってもよ
い。

【００５４】大気中に突出している駆動シャフト３２０
と、真空に密閉された搬送部チャンバー３１１間の密閉
を保つために、回転シール３２１が取り付けられてい
る。

【００５５】保持バー３１２の構造等については、第１
の実施形態と同じである。また、搬送の動作フロー等に
ついても同じである。

【００５６】図２３および図２４は、搬送部３００を接
続した状態を示す図である。このように、一対の搬送バ
ーガイドシャフトを搬送部チャンバー３１１の内部に配
置することにより、搬送部チャンバー３１１を連続的に
接続することが可能となる。この様な搬送部を構成する
ことにより、複数の膜を連続的に成膜することができる
ようになる。

【００５７】（第４の実施形態）上記の第１乃至第３の
実施形態においては、マスク板の搬送ピッチがマスク部
材の外径寸法と略等しく設定されているため、以下のよ
うな問題が起こる可能性がある。

【００５８】すなわち、基板投入部の移載手段が保持バ
ー上にマスク板を置き、１ピッチ搬送動作が行われた
後、次のマスク板を保持バー上に置く場合、マスク板の
外形寸法の誤差により、前に置いたマスク板と干渉する
場合が考えられる。この場合、前に置いたマスク板の位
置をずらしてしまったり、落下させてしまったりするこ
とがある。また、基板排出部の移載手段が、保持バーか
らマスク板を取り外す際、隣のマスク板と干渉し、その
マスク板を落下させることも考えられる。

【００５９】また、マスク板の外形寸法が小さいと隣り
合うマスク板との間に隙間が生じ、成膜プロセスチャン
バー部を通過し、膜が基板に成膜される際、生じた隙間
から搬送バーや保持バーにも膜が堆積されてしまう。そ
の結果、搬送バーや保持バーに堆積された膜をはがすた
めのメンテナンスサイクルが短くなり、装置の稼働率を
落としてしまう等の問題が考えられる。

【００６０】この第４の実施形態は、第１乃至第３の実
施形態で起こる可能性のある上記のような問題を解決す
るものである。

【００６１】この第４の実施形態の特徴的な部分は、保
持バー３２に図２５に示すような、マスク部材１０２の
位置決めのためのミゾ５０を設けたことである。その他
の部分の構成は第１の実施形態と同様であるので、同一
部分には同一符号を付して、その説明を省略する。

【００６２】図２６は、保持バー３２に設けられた位置
決めミゾ５０の形状の一例を示す図である。位置決めミ
ゾ５０ａは、Ｖ字型の形状をしている。また、位置決め
ミゾ５０ｂは、一方が垂直の壁で、他方は斜めにカット
された斜面である。位置決めミゾ５０ｃは、位置決めミ
ゾ５０ｂと対称の形状をなしているものである。搬送バ
ー１３で搬送されたマスク板の位置と、保持バー３２で
マスク板１０２を位置決めする位置にはズレがあり、こ
の位置決めミゾの形状は、そのずれ量を吸収できるもの
であれば、どんな形状であってもよい。

【００６３】図２７は、搬送バー１３により搬送された
マスク板１０２の停止位置と、保持バー３２に設けられ
た位置決めミゾ５０の位置関係を示す図である。ここで
は位置決めミゾの形状として、一例としてＶ字型の形状
のもので説明する。

【００６４】マスク板１０２の搬送バー１３上での停止
位置は、図２７（ａ）に示すように、保持バー３２に設
けられた位置決めミゾ５０の位置決めセンタ位置に対し
て、距離δだけ左側にずれた位置に設定されている。搬
送バー１３により搬送されたマスク板１０２が停止し、
次に図２７（ｂ）に示すように、保持バー３２によりマ
スク板１０２が持ち上げられると、マスク板１０２は位
置決めミゾ５０の斜面をすべり、距離δだけ右側にずれ
た位置で停止する。

【００６５】図２８は、投入されたマスク板１０２と搬
送後のマスク板の位置関係を示す図である。図２８
（ａ）は、移載手段により搬送部にマスク板１０２ａが
投入された状態を示す。図２８（ｂ）は、搬送バー１３
によりマスク板１０２ａが、マスク板の外形寸法と同寸
法のピッチＰで搬送された状態を示す。図中実線は、搬
送後のマスク板１０２ａの位置を示すものである。この
とき、保持バー係合ピン１０４のセンタ位置は、保持バ
ー３２に設けられている位置決めミゾ５０のセンタ位置
とは、距離δだけズレている。次に、保持バー３２が上
昇すると、マスク板１０２ａは位置決めミゾ５０によ
り、距離δだけズレた位置に位置決めされる。

【００６６】図２８（ｃ）は、位置決めされたマスク板
１０２ａの状態を示すものである。これにより、このマ
スク板１０２ａはその左隣にくるマスク板１０２ｂと
は、隙間δを持つことになる。従って、次に搬送部に投
入されるマスク板１０２ｂは、隣にあるマスク板１０２
ａと干渉することなく投入することができる。

【００６７】搬送部の下流側でマスク板を排出する場合
も同様である。マスク板１０２ｂを上流側から送られて
くるマスク板とし、マスク板１０２ａを排出する位置に
あるマスク板とすると、前述したようにマスク板１０２
ａは、上流側にあるマスク板１０２ｂとは距離δだけズ
レた位置に位置決めされるので、上流側にあるマスク板
１０２ｂと干渉することなく排出することができる。

【００６８】図２９は、搬送部上流側におけるマスク板
と保持バーの位置決めミゾの位置関係を示す図である。
Ｗはマスク板１０２に設けられた保持バー係合ピン１０
４と、保持バー１２に設けられた一対の位置決めミゾ５
０のピッチ距離である。Ｐは、マスク板の外形寸法と同
寸法の搬送ピッチである。

【００６９】マスク板１０２ａを位置決めする一対の位
置決めミゾ５０ａと、マスク板１０２ｂを位置決めする
一対の位置決めミゾ５０ｂとの距離は、Ｐ＋αだけ離れ
ている。これにより保持バー３２によって位置決めされ
たマスク板１０２ａとマスク板１０２ｂは、距離αだけ
離れている。

【００７０】また同様に、マスク板１０２ｂを位置決め
する一対の位置決めミゾ５０ｂと、マスク板１０２ｃを
位置決めする一対の位置決めミゾ５０ｃとの距離は、Ｐ
＋βだけ離れている。これにより保持バー３２によって
位置決めされたマスク板１０２ｂとマスク板１０２ｃ
は、距離βだけ離れることになる。

【００７１】一方、マスク板１０２ｃを位置決めする一
対の位置決めミゾ５０ｃと、マスク板１０２ｄを位置決
めする一対の位置決めミゾ５０ｄとの距離は、Ｐ−Δで
ある。この距離Δは、マスク板１０２の外形寸法Ｐ±Δ
の寸法公差分である。これにより、マスク板１０２の外
形寸法がＰ−Δと小さいものが投入されても、マスク板
１０２ｃとマスク板１０２ｄとの間には、隙間が生じな
い。また、マスク板１０２の外形寸法がＰ＋Δと大きい
ものが投入された場合は、どちらかのマスク板の係合ピ
ン１０４が位置決めミゾ５０の斜面上に位置することに
なるが、やはりマスク板１０２ｃとマスク板１０２ｄと
の間には、隙間が生じない。

【００７２】同様に、マスク板１０２ｄとマスク板１０
２ｅとの間にも隙間が生じない。

【００７３】上記の隙間αは、マスク板１０２ａが投入
されるとき、隣のマスク板１０２ｂと干渉しない隙間
で、かつ搬送ピッチＰで搬送されたときマスク板１０２
の係合ピン１０４が位置決めミゾ５０のミゾ幅にはいる
距離であれば、いくらであってもよい。また隙間βは、
接し合うマスク板１０２ｃ〜１０２ｈの外形寸法公差が
全て最大寸法交差の場合であっても、その左端にあるマ
スク板１０２ｃが隣のマスク板１０２ｂと干渉しない距
離であれば、いくらであってもよい。

【００７４】図３０は、搬送部全長にわたるマスク板の
位置関係を示す図である。図２９は搬送部の上流側につ
いて述べたが、マスク板１０２を排出する下流側も上流
側と同じように、マスク板と係合する一対の位置決めミ
ゾのピッチを変えることにより、隙間α,βを作り、マ
スク板１０２ｊを排出する際、隣のマスク板１０２ｉと
干渉しないようになっている。

【００７５】また、中央部のマスク板１０２ｄ〜１０２
ｇは、プロセスチャンバーが取り付けられ、膜が堆積さ
れるマスク板である。隣合うマスク板がそれぞれ密着し
ているため、背面にある搬送バー１３や保持バー３２に
は膜が堆積されない。その結果、搬送部に不要な膜が付
着しないので、不要な膜を取り除くためのメンテナンス
の回数を大幅に減少させることができる。

【００７６】図３１は、図３０に示す図で、保持バーの
位置決めミゾの形状の他の一例を示す図である。マスク
板１０２ｃ〜１０２ｅと係合する保持バー３２の位置決
めミゾ５０は、右下がりの斜面を持ったテーパー部でマ
スク板を支持している。これによりマスク板１０２ｃ〜
１０２ｅには、下流側に滑ろうとする力が働いている。
また、マスク板１０２ｆ〜１０２ｈと係合する保持バー
３２の位置決めミゾ５０は、左下がりの斜面を持ったテ
ーパー部でマスク板を支持している。これによりマスク
板１０２ｆ〜１０２ｈには、上流側に滑ろうとする力が
働くことになる。従って、マスク板１０２ｅとマスク板
１０２ｆとが接している面を境に両側から寄せ合うよう
にマスク板が並ぶことになる。これにより、マスク板１
０２ｄ〜１０２ｇがそれぞれ密着しているため、背面に
ある搬送バー１３や保持バー３２には膜が堆積されな
い。

【００７７】なお、本発明は、その主旨を逸脱しない範
囲で、上記実施形態を修正又は変形したものに適用可能
である。

【００７８】

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
保持バーの基板との接触面と、搬送バーの基板との接触
面との間に隙間を持たせているので、基板の搬送時に擦
れることがなく、塵を発生させないクリーンな搬送を行
うことができる。

【００７９】また、マスク板に設けられている係合ピン
を一部円錐状になった段付きピンや、一部斜面を持った
ブロック形状とすることにより、基板の成膜面を垂直に
保ったままクリーンな搬送を行うことができ、プロセス
チャンバーを基板面と平行に設置することも容易になる
とともに、プロセスチャンバーや搬送部チャンバーから
発生する塵が、基板成膜面に落下することも少なくな
る。

【００８０】さらに、一対の搬送バーガイドシャフトを
搬送部チャンバーの内部に配置することにより、搬送部
チャンバーを連続的に接続することが可能となり、複数
の膜を連続的に成膜することができるようになる。

【００８１】また、マスク部材の外形寸法のバラツキに
かかわらず、成膜室内を常に密着させて搬送することが
できるため、搬送部に余分な膜を堆積させることがな
く、メンテナンスに必要な時間を短くすることができ、
高い装置稼働率を得ることができる。

【００８２】

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態に係わる基板の搬送装
置が使用される真空処理装置の概略的な構成を示す図で
ある。

【図２】図１に示す装置を断面で示した平面図である。

【図３】図２に示す装置を矢印Ａ方向から見た断面図で
ある。

【図４】図３のＢ−Ｂ断面図である。

【図５】図４に示す装置でプロセスチャンバーの取り付
け方法を変更した例を示した図である。

【図６】基板とマスク板の構成を示す図である。

【図７】図６に示す基板とマスク板の側面図である。

【図８】保持バー動作時のマスク板と保持バー及び搬送
バーとの位置関係を示す図である。

【図９】保持バー動作時のマスク板と保持バー及び搬送
バーとの位置関係を示す図である。

【図１０】保持バー動作時のマスク板と保持バー及び搬
送バーとの位置関係を示す図である。

【図１１】保持バー及び搬送バーの動作フローチャート
である。

【図１２】マスク板の搬送動作を正面から示す図であ
る。

【図１３】マスク板の搬送動作を正面から示す図であ
る。

【図１４】マスク板の搬送動作を正面から示す図であ
る。

【図１５】マスク板の搬送動作を正面から示す図であ
る。

【図１６】本発明の第２の実施形態に係わる基板の搬送
装置が使用される真空処理装置の側断面図である。

【図１７】本発明の第２の実施形態に係わるマスク板と
保持バー及び搬送バーとの位置関係を示す図である。

【図１８】本発明の第２の実施形態に係わるマスク板の
係合手段の一例を示す図である。

【図１９】本発明の第３の実施形態に係わる真空処理装
置の概略的な構成を示す図である。

【図２０】図１９に示す装置を断面で示した平面図であ
る。

【図２１】図２０に示す装置を矢印Ｃ方向から見た断面
図である。

【図２２】図２０のＸ−Ｘ断面図である。

【図２３】本発明の第３の実施形態に係わる装置の構成
の一例を示す平面図である。

【図２４】図２３に示す装置を断面で示した正面図であ
る。

【図２５】マスク板と保持バー及び搬送バーとの位置関
係を正面から示す図である。

【図２６】保持バーに設けられた位置決めミゾの形状の
一例を示す図である。

【図２７】マスク板と保持バーに設けられた位置決めミ
ゾの位置関係を示す図である。

【図２８】マスク板と保持バーに設けられた位置決めミ
ゾの位置関係を示す図である。

【図２９】マスク板と保持バーに設けられた位置決めミ
ゾの位置関係を示す図である。

【図３０】マスク板と保持バーに設けられた位置決めミ
ゾの位置関係を示す図である。

【図３１】マスク板と保持バーに設けられた位置決めミ
ゾの位置関係を示す図である。

【図３２】従来の搬送装置とマスク板の構成例を示す図
である。

【符号の説明】

１ 搬送部 ２ プロセスチャンバー ３ 投入チャンバー ４ 排出チャンバー ５ ゲートバルブ １１ 搬送部チャンバー １２ 保持バー １３ 搬送バー １４ａ,１４ｂ 搬送バーガイドシャフト １５ａ,１５ｂ 直動シール １６ａ,１６ｂ リニアガイド １７ 連結バー １８ クランクレバー １９ 搬送バー駆動モータ ２０ａ,２０ｂ 保持バーガイドシャフト ２１ａ,２１ｂ 直動シール ２２ａ,２２ｂ リニアガイド ２３ａ,２３ｂ カムフォロアー ２４ａ,２４ｂ 保持バー駆動カム ２５ａ,２５ｂ 保持バー駆動モータ ２６ａ,２６ｂ 駆動モータ取り付け板 ２７ａ,２７ｂ キー ２８ シャフト連結ブロック ２９ａ,２９ｂ シール・ガイド取り付け間座 ３０ａ,３０ｂ Ｏリング ３１ａ,３１ｂ 取り付けボルト ３２ａ,３２ｂ 支持ピン ３３ バネ １０１ 基板 １０２ マスク板 １０３ 内周マスク板 １０４ 保持バー係合ピン １０５ 搬送バー係合ピン ２０４ 保持バー係合ピン ２０５ 搬送バー係合ピン ２０６ 保持バー係合ブロック ２０７ 保持バー係合ブロック ２１２ 保持バー ２１３ 搬送バー ３００ 搬送部 ３１１ 搬送部チャンバー ３１２ 保持バー ３１３ 搬送バー ３１４ａ,３１４ｂ 搬送バーガイドシャフト ３１５ａ,３１５ｂ ガイドシャフト取り付けブロック ３１６ａ,３１６ｂ リニアガイド ３１７ 連結バー ３１８ クランクレバー ３１９ 搬送バー駆動モータ ３２０ 駆動シャフト ３２１ａ,３２１ｂ 保持バーガイドシャフト ３２２ａ,３２２ｂ 直動シール ３２３ａ,３２３ｂ リニアガイド ３２４ａ,３２４ｂ カムフォロアー ３２５ａ,３２５ｂ 支持ピン ３２６ａ,３２６ｂ 保持バー駆動カム ３２７ａ,３２７ｂ 保持バー駆動モータ ５０１ 基板 ５０２ マスク板 ５０３ 内周マスク板 ５０４ ガイド部材 ５０５ ローラーチェーン

Claims (14)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 基板を略水平方向に搬送するための基板
   の搬送装置であって、 前記基板を保持すると共に、該基板の裏面側に突出し、
   上下に離間して配置された第１及び第２の係合部を有す
   る基板保持部材と、 略水平方向に延出して配置されると共に、前記第２の係
   合部を支持し、所定のピッチ距離だけ水平方向に往復運
   動する搬送バーと、 略水平方向に延出して配置されると共に、前記第１の係
   合部を支持し、所定高さだけ上下方向に往復運動する保
   持バーとを具備することを特徴とする基板の搬送装置。
2. 【請求項２】 前記基板保持部材は、前記基板の周辺領
   域を被覆するためのマスクであることを特徴とする請求
   項１に記載の基板の搬送装置。
3. 【請求項３】 前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方
   向に対して所定角度傾けて配置されていることを特徴と
   する請求項１に記載の基板の搬送装置。
4. 【請求項４】 前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直方
   向に平行に配置されており、前記第１の係合部と前記保
   持バーの係合部位には互いに斜面を形成すると共に、前
   記第２の係合部と前記搬送バーの係合部位にも互いに斜
   面を形成することにより、前記保持バーと前記搬送バー
   による前記基板保持部材の支持状態を安定化させたこと
   を特徴とする請求項１に記載の基板の搬送装置。
5. 【請求項５】 前記搬送バーと保持バーの中間部には、
   前記基板の表面に膜を形成する真空成膜装置が接続され
   ていることを特徴とする請求項１に記載の基板の搬送装
   置。
6. 【請求項６】 前記保持バーには、前記第２の係合部を
   所定の位置に引込むための斜面が形成されていることを
   特徴とする請求項１に記載の基板の搬送装置。
7. 【請求項７】 前記斜面の水平方向のピッチ間隔は、前
   記保持バーの始端部と終端部において前記基板保持部材
   の幅よりも大きく設定され、前記保持バーのの中間部に
   おいて、前記保持部材の幅以下に設定されていることを
   特徴とする請求項６に記載の基板の搬送装置。
8. 【請求項８】 基板を略水平方向に搬送するための基板
   の搬送方法であって、 前記基板を基板保持部材に保持し、 該基板保持部材に形成された第１及び第２の係合部の内
   の第１の係合部を、略水平方向に延出し上下動可能に設
   けられた保持バーによって支持し、 前記保持バーを下降させて、前記第２の係合部を前記保
   持バーと平行に配置された搬送バー上に接触させると共
   に、前記第１の係合部を前記保持バーから離間させ、 前記搬送バーを水平方向に所定ピッチだけ移動させて前
   記基板を前記所定ピッチだけ搬送し、 前記保持バーを上昇させて、前記第１の係合部を前記保
   持バー上に支持させると共に、前記第２の係合部を前記
   搬送バーから離間させ、 その後、前記搬送バーを前記所定ピッチだけ水平方向に
   戻すことを特徴とする基板の搬送方法。
9. 【請求項９】 前記基板保持部材は、前記基板の周辺領
   域を被覆するためのマスクであることを特徴とする請求
   項８に記載の基板の搬送方法。
10. 【請求項１０】 前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直
    方向に対して所定角度傾けて配置されていることを特徴
    とする請求項８に記載の基板の搬送方法。
11. 【請求項１１】 前記搬送バーと前記保持バーは、鉛直
    方向に平行に配置されており、前記第１の係合部と前記
    保持バーの係合部位には互いに斜面を形成すると共に、
    前記第２の係合部と前記搬送バーの係合部位にも互いに
    斜面を形成することにより、前記保持バーと前記搬送バ
    ーによる前記基板保持部材の支持状態を安定化させたこ
    とを特徴とする請求項８に記載の基板の搬送方法。
12. 【請求項１２】 前記搬送バーと保持バーのの中間部に
    は、前記基板の表面に膜を形成する真空成膜装置が接続
    されていることを特徴とする請求項８に記載の基板の搬
    送方法。
13. 【請求項１３】 前記保持バーには、前記第２の係合部
    を所定の位置に引込むための斜面が形成されていること
    を特徴とする請求項８に記載の基板の搬送方法。
14. 【請求項１４】 前記斜面の水平方向のピッチ間隔は、
    前記保持バーの始端部と終端部において前記基板保持部
    材の幅よりも大きく設定され、前記保持バーの中間部に
    おいて、前記保持部材の幅以下に設定されていることを
    特徴とする請求項１３に記載の基板の搬送方法。