JPH09167332A - Magnetic recording medium - Google Patents

Magnetic recording medium

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Publication number
JPH09167332A
JPH09167332A JP32920995A JP32920995A JPH09167332A JP H09167332 A JPH09167332 A JP H09167332A JP 32920995 A JP32920995 A JP 32920995A JP 32920995 A JP32920995 A JP 32920995A JP H09167332 A JPH09167332 A JP H09167332A
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JP
Japan
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magnetic film
amount
concentration
recording medium
film
Prior art date
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Pending
Application number
JP32920995A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Katsumi Sasaki
克己 佐々木
Noriyuki Kitaori
典之 北折
Osamu Yoshida
修 吉田
Junko Ishikawa
准子 石川
Katsumi Endo
克巳 遠藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Kao Corp filed Critical Kao Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a magnetic recording medium excellent in high density recording by making N concentration low at the upper layer part, high at the lower layer part and O concentration low at the upper layer part and high at the lower layer part in a Fe-N-O based magnetic material. SOLUTION: The magnetic recording medium is provided with the Fe-N-O based magnetic film. N concentration in the magnetic film is low at the upper layer part and high at the lower layer part. Particularly, the N concentration in the magnetic film, with which the magnetic recording medium is provided, is low in the upper layer part, becomes higher towards the lower layer part and O concentration in the Fe-N-0 magnetic film is low at the upper layer and high at the lower layer part. And, when each content of Fe, N and O is expressed on the vertical axis and the sputtering time is expressed on the horizontal axis in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe-N-O based magnetic film, the peaks of N content and O content are recognized at the time near the completion of sputtering.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、Fe−N−O系磁
性膜を有する磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium having a Fe-NO system magnetic film.

【0002】[0002]

【発明が解決しようとする課題】磁気テープ等の磁気記
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性膜として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、無電解メッ
キ等の湿式メッキ手段、真空蒸着、スパッタリングある
いはイオンプレーティング等の乾式メッキ手段により磁
性膜を構成した磁気記録媒体が提案されている。そし
て、この種の磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いこ
とから、高密度記録に適したものである。この種の金属
薄膜型の磁気記録媒体における磁性材料としては、例え
ばCo−Cr合金やCo−Ni合金などの磁性金属が用
いられている。しかし、Coは稀少物質であることか
ら、多量に使用するとコストが高く付く。
In a magnetic recording medium such as a magnetic tape, due to the demand for high density recording, the magnetic film provided on the non-magnetic support is not a coating type using a binder resin. , A metal thin film type that does not use a binder resin has been proposed. That is, there has been proposed a magnetic recording medium having a magnetic film formed by a wet plating means such as electroless plating or a dry plating means such as vacuum deposition, sputtering or ion plating. This kind of magnetic recording medium is suitable for high-density recording because of its high packing density of magnetic material. As a magnetic material in this kind of metal thin film type magnetic recording medium, a magnetic metal such as a Co—Cr alloy or a Co—Ni alloy is used. However, since Co is a rare substance, the cost increases when used in a large amount.

【0003】そこで、非Co系金属磁性材料としてFe
とNiが考えられるが、Feは安価であり、かつ、環境
汚染の問題も少なく、更には飽和磁化が大きいことか
ら、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材料としてFeが
注目され始めた。しかし、Feは錆やすいことから、化
学的に安定なものとする必要が有る。このような観点か
ら、磁性膜をFex N(Fe−N)やFe−N−Oで構
成することが提案された。そして、これらの磁性膜で構
成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、かつ、
耐久性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳われ
ている。
Therefore, Fe is used as a non-Co metallic magnetic material.
Ni is considered, but since Fe is inexpensive, has few problems of environmental pollution, and has a large saturation magnetization, Fe has begun to attract attention as a magnetic material for a metal thin film type magnetic recording medium. However, since Fe easily rusts, it is necessary to make it chemically stable. From this point of view, it has been proposed that the magnetic film be made of Fe x N (Fe-N) or Fe-N-O. The magnetic recording medium composed of these magnetic films has good magnetic characteristics, and
It is said to have excellent durability and high density recording.

【0004】しかし、最近においては、より高密度記録
が求められている。従って、本発明の目的は、高密度記
録に優れた磁気記録媒体を提供することである。
However, recently, higher density recording is required. Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium excellent in high density recording.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、F
e−N−O系の磁性膜を備えてなり、前記Fe−N−O
系磁性膜におけるN濃度は、上層部で低く、下層部で高
く、前記Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度は、上層
部で低く、下層部で高いことを特徴とする磁気記録媒体
によって達成される。
The above-mentioned object of the present invention is F
and a Fe-N-O based magnetic film.
According to the magnetic recording medium, the N concentration in the system magnetic film is low in the upper layer and high in the lower layer, and the O concentration in the Fe—N—O system magnetic film is low in the upper layer and high in the lower layer. To be achieved.

【0006】特に、Fe−N−O系の磁性膜を備えてな
り、前記Fe−N−O系磁性膜におけるN濃度は、上層
部で低く、そして下層部に移るにつれて高くなり、前記
Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度は、上層部で低
く、そして下層部に移るにつれて高くなることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成される。
In particular, the magnetic film of Fe--N--O system is provided, and the N concentration in the Fe--N--O system magnetic film is low in the upper layer part and becomes higher as it moves to the lower layer part. The O concentration in the N—O based magnetic film is achieved by a magnetic recording medium characterized by being low in the upper layer portion and being high in the lower layer portion.

【0007】又、Fe−N−O系の磁性膜を備えてな
り、前記Fe−N−O系磁性膜のオージェ電子分光分析
において、縦軸にFe量、N量、及びO量を、横軸にス
パッタ時間をとると、スパッタ終了近傍時においてN
量、及びO量に山が認められるものであることを特徴と
する磁気記録媒体によって達成される。
In addition, in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O system magnetic film, which comprises a Fe—N—O system magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, N content, and O content. When the sputtering time is taken on the axis, N
It is achieved by a magnetic recording medium characterized in that the amount and the amount of O have peaks.

【0008】特に、Fe−N−O系の磁性膜を備えてな
り、前記Fe−N−O系磁性膜のオージェ電子分光分析
において、縦軸にFe量、N量、及びO量を、横軸にス
パッタ時間をとると、スパッタ終了近傍時においてN
量、及びO量に山が認められ、スパッタ開始から前記山
に至るにつれてN量、及びO量は増加するものであるこ
とを特徴とする磁気記録媒体によって達成される。
Particularly, in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O type magnetic film, which comprises a Fe—N—O type magnetic film, the vertical axis represents the Fe amount, N amount and O amount. When the sputtering time is taken on the axis, N
This is achieved by a magnetic recording medium characterized in that the amount and the amount of O have peaks, and the amount of N and the amount of O increase from the start of sputtering to the peak.

【0009】上記Fe−N−O系磁性膜の下層部におけ
るN濃度のピーク値N1 は20〜40at.%であるも
のが好ましい。又、Fe−N−O系磁性膜の下層部にお
けるO濃度のピーク値O1 は20〜40at.%である
ものが好ましい。又、Fe−N−O系磁性膜におけるF
e量、N量、及びO量は 50at.%≦Fe量≦90at.% 5at.%≦N量≦35at.% 5at.%≦O量≦35at.% を満たすことが好ましい。
The peak value N 1 of N concentration in the lower layer of the Fe—N—O system magnetic film is 20 to 40 at. % Is preferred. Further, the peak value O 1 of the O concentration in the lower layer portion of the Fe—N—O system magnetic film is 20 to 40 at. % Is preferred. Further, F in the Fe-N-O system magnetic film
e amount, N amount, and O amount are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ N amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. % Is preferably satisfied.

【0010】特に、 60at.%≦Fe量≦84at.% 8at.%≦N量≦20at.% 8at.%≦O量≦20at.% が好ましい。In particular, 60 at. % ≦ Fe amount ≦ 84 at. % 8 at. % ≦ N amount ≦ 20 at. % 8 at. % ≦ O amount ≦ 20 at. % Is preferred.

【0011】又、本発明の磁気記録媒体にあっては、F
e−N−O系の磁性膜以外の磁性膜を持っていても良い
が、Fe−N−O系磁性膜の上には記録再生に用いられ
る磁性膜がない、つまりFe−N−O系磁性膜が最上層
にあるのが好ましい。特に、本発明が規定する内容のF
e−N−O系磁性膜が最上層にあるのが好ましい。
Further, in the magnetic recording medium of the present invention, F
A magnetic film other than the e-N-O based magnetic film may be provided, but there is no magnetic film used for recording and reproduction on the Fe-N-O based magnetic film, that is, the Fe-N-O based magnetic film. It is preferable that the magnetic film is the uppermost layer. In particular, the F specified by the present invention
It is preferable that the e-N-O based magnetic film is the uppermost layer.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、Fe−
N−O系の磁性膜を備えてなり、前記Fe−N−O系磁
性膜におけるN濃度は、上層部で低く、下層部で高く、
前記Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度は、上層部で
低く、下層部で高いものである。特に、Fe−N−O系
の磁性膜を備えてなり、前記Fe−N−O系磁性膜にお
けるN濃度は、上層部で低く、そして下層部に移るにつ
れて高く、前記Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度
は、上層部で低く、下層部に移るにつれて高いものであ
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The magnetic recording medium of the present invention is Fe-
The Fe concentration of the Fe—N—O magnetic film is low in the upper layer portion and high in the lower layer portion.
The O concentration in the Fe—N—O based magnetic film is low in the upper layer portion and high in the lower layer portion. In particular, the Fe—N—O-based magnetic film is provided, and the N concentration in the Fe—N—O-based magnetic film is low in the upper layer portion and high in the lower layer portion. The O concentration in the magnetic film is low in the upper layer part and is high as it moves to the lower layer part.

【0013】又、Fe−N−O系の磁性膜を備えてな
り、前記Fe−N−O系磁性膜のオージェ電子分光分析
において、縦軸にFe量、N量、及びO量を、横軸にス
パッタ時間をとると、スパッタ終了近傍時においてN
量、及びO量に山が認められるものである。特に、Fe
−N−O系の磁性膜を備えてなり、前記Fe−N−O系
磁性膜のオージェ電子分光分析において、縦軸にFe
量、N量、及びO量を、横軸にスパッタ時間をとると、
スパッタ終了近傍時においてN量、及びO量に山が認め
られ、スパッタ開始から前記山に至るにつれてN量、及
びO量は増加するものである。
In addition, in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O system magnetic film, which comprises a Fe—N—O system magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, the N content, and the O content. When the sputtering time is taken on the axis, N
Mountains are recognized in the amount and the amount of O. In particular, Fe
In the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O magnetic film, the vertical axis represents Fe.
Amount, N amount, and O amount, the horizontal axis indicates the sputtering time,
Peaks are recognized in the N amount and the O amount near the end of sputtering, and the N amount and the O amount increase from the start of sputtering to the peak.

【0014】上記Fe−N−O系磁性膜の下層部におけ
るN濃度のピーク値N1 は20〜40at.%である。
又、Fe−N−O系磁性膜の下層部におけるO濃度のピ
ーク値O1 は20〜40at.%である。そして、Fe
−N−O系磁性膜におけるN濃度のピーク値N1 に対応
した点、及びO濃度のピーク値O1 に対応した点におい
てはFe濃度が低下したものである。
The peak value N 1 of N concentration in the lower layer of the Fe—N—O type magnetic film is 20 to 40 at. %.
Further, the peak value O 1 of the O concentration in the lower layer portion of the Fe—N—O system magnetic film is 20 to 40 at. %. And Fe
The Fe concentration is lowered at the point corresponding to the peak value N 1 of N concentration and the point corresponding to the peak value O 1 of O concentration in the —NO magnetic system film.

【0015】又、Fe−N−O系磁性膜におけるFe
量、N量、及びO量は 50at.%≦Fe量≦90at.% 5at.%≦N量≦35at.% 5at.%≦O量≦35at.% を満たす。
Fe in the Fe--N--O system magnetic film
Amount, N amount, and O amount are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ N amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. % Is satisfied.

【0016】本発明の磁気記録媒体は、支持体上にイオ
ンアシスト法により磁性膜を成膜して磁気記録媒体を製
造する方法であって、蒸発源物質としてFeが用いられ
ての蒸着工程と、窒素イオンや窒素活性種を蒸着Fe膜
に衝突させる衝突工程と、酸素イオンあるいは酸素ガス
等の酸素活性種を蒸着Fe膜に衝突させる衝突工程とを
具備し、前記窒素イオンや窒素活性種、及び酸素イオン
や酸素活性種を蒸着Fe膜に衝突させる衝突範囲や衝突
量を制御することによって得られる。例えば、Feの支
持体上への堆積が開始し始めた蒸着初期近傍の地点に向
けて酸素イオンや酸素活性種を供給すると共に、窒素イ
オンや窒素活性種も供給してやることにより、下層部に
おいてN濃度、及びO濃度が高い領域がある本発明のF
e−N−O系磁性膜が得られる。
The magnetic recording medium of the present invention is a method for producing a magnetic recording medium by forming a magnetic film on a support by an ion assist method, and comprises a vapor deposition step using Fe as an evaporation source substance. A collision step of causing nitrogen ions or nitrogen active species to collide with the vapor deposition Fe film, and a collision step of causing oxygen ions or oxygen active species such as oxygen gas to collide with the vapor deposition Fe film, Also, it can be obtained by controlling the collision range and the collision amount in which oxygen ions and oxygen active species collide with the vapor deposition Fe film. For example, by supplying oxygen ions and oxygen active species toward a point in the vicinity of the initial stage of vapor deposition where the deposition of Fe on the support has started, nitrogen ions and nitrogen active species are also supplied, so that N in the lower layer portion is reduced. F of the present invention having a region having a high concentration and a high O concentration
An eN0 based magnetic film is obtained.

【0017】図1に、本発明で用いるイオンアシスト斜
め蒸着装置を示す。図1中、1は支持体、2aは支持体
1の供給側ロール、2bは支持体1の巻取側ロール、3
は冷却キャンロール、4は遮蔽板、5はルツボ、6はF
e、7は電子銃、8は真空槽、9は酸素ガス供給ノズ
ル、10はイオン銃である。図1では、酸素ガスを供給
するタイプのものを示したが、酸素イオンを供給するよ
うにしても良い。そして、イオン銃10による窒素イオ
ンの目標照射位置や供給量、及び酸素ガス供給ノズル9
による酸素ガスの供給量を特定のものとした他は、通常
のイオンアシスト斜め蒸着に準じて行わせることによっ
て、本発明になる図3などのオージェプロファイルのF
e−N−O系磁性膜が得られる。
FIG. 1 shows an ion assisted oblique vapor deposition apparatus used in the present invention. In FIG. 1, 1 is a support, 2a is a supply side roll of the support 1, 2b is a winding side roll of the support 1, 3
Is a cooling can roll, 4 is a shielding plate, 5 is a crucible, 6 is F
e and 7 are electron guns, 8 is a vacuum chamber, 9 is an oxygen gas supply nozzle, and 10 is an ion gun. Although FIG. 1 shows a type in which oxygen gas is supplied, oxygen ions may be supplied. The target irradiation position and supply amount of nitrogen ions by the ion gun 10 and the oxygen gas supply nozzle 9 are also provided.
In addition to the specific supply amount of oxygen gas by F., the F of Auger profile shown in FIG.
An eN0 based magnetic film is obtained.

【0018】このようにして得られた本発明になる磁気
記録媒体を図2に示す。図2中、1は支持体である。こ
の支持体1は磁性を有するものでも非磁性のものでも良
いが、一般的には、非磁性のものである。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。支持体1面上には磁性膜の密
着性を向上させる為のアンダーコート層が必要に応じて
設けられる。すなわち、乾式メッキで構成される磁性膜
の密着性を向上させ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗
さを適度なものとして走行性を改善する為、例えばSi
2 等の粒子を含有させた厚さが0.01〜0.5μm
の塗膜を設けることによってアンダーコート層が構成さ
れている。
The magnetic recording medium according to the present invention thus obtained is shown in FIG. In FIG. 2, 1 is a support. The support 1 may be magnetic or non-magnetic, but is generally non-magnetic. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polysulfone, polycarbonate,
Polymer materials such as olefin resins such as polypropylene, cellulose resins and vinyl chloride resins, inorganic materials such as glass and ceramics, and metal materials such as aluminum alloys are used. An undercoat layer for improving the adhesion of the magnetic film is provided on the surface of the support 1 as needed. That is, in order to improve the adhesion of the magnetic film formed by dry plating and to improve the running property by making the surface roughness of the surface of the magnetic recording medium moderate, for example, Si
The thickness containing particles such as O 2 is 0.01 to 0.5 μm
The undercoat layer is formed by providing the coating film.

【0019】アンダーコート層の上には、図1に示した
イオンアシスト斜め蒸着装置によってFe−N−O系の
金属薄膜型の磁性膜11が設けられる。例えば、10-4
〜10-6Torr程度の真空雰囲気下でFeを抵抗加
熱、高周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、
支持体1のアンダーコート層面上に堆積(蒸着)させる
ことにより、Fe−N−O系磁性膜11が500〜50
00Å、特に500〜2500Å厚形成される。斜め蒸
着の際の入射角は30°〜80°、望ましくは約45°
〜70°である。このFeの蒸着時には窒素イオンや酸
素ガスを蒸着Fe膜に衝突させる。但し、窒素イオンや
酸素ガスは、Feの支持体上への堆積が開始する蒸着初
期の地点に向けて主に供給する。前記酸素ガスや窒素イ
オンの供給量は、Fe−N−O系磁性膜が上記に規定さ
れた内容のものになるよう制御される。
On the undercoat layer, an Fe—N—O type metal thin film type magnetic film 11 is provided by the ion assisted oblique vapor deposition apparatus shown in FIG. For example, 10 -4
Fe is vaporized by resistance heating, high frequency heating, electron beam heating, etc. in a vacuum atmosphere of about 10 −6 Torr,
By depositing (evaporating) on the surface of the undercoat layer of the support 1, the Fe—N—O based magnetic film 11 can be formed in a thickness of 500 to 50.
It is formed to a thickness of 00Å, particularly 500 to 2500Å. The angle of incidence during oblique deposition is 30 ° to 80 °, preferably about 45 °
Is about 70 °. During the deposition of Fe, nitrogen ions and oxygen gas are made to collide with the deposited Fe film. However, nitrogen ions and oxygen gas are mainly supplied toward a point in the initial stage of vapor deposition where the deposition of Fe on the support starts. The supply amounts of the oxygen gas and nitrogen ions are controlled so that the Fe—N—O based magnetic film has the content defined above.

【0020】12は潤滑剤層である。すなわち、炭化水
素系の潤滑剤やパーフルオロポリエーテル等のフッ素系
潤滑剤、特にフッ素系潤滑剤を含有させた塗料を所定の
手段で塗布することにより、約2〜50Å、好ましくは
約10〜30Å程度の厚さの潤滑剤層12が設けられ
る。13は、支持体1の他面に設けられたカーボンブラ
ック等を含有させた厚さが0.1〜1μm程度のバック
コート層である。尚、バックコート層13は、例えばA
l−Cu合金等の金属を蒸着させて形成したものであっ
ても良い。
Reference numeral 12 is a lubricant layer. That is, about 2 to 50 Å, preferably about 10 to 10 Å, preferably about 10 by applying a coating agent containing a hydrocarbon-based lubricant or a fluorine-based lubricant such as perfluoropolyether, especially a fluorine-based lubricant by a predetermined means. A lubricant layer 12 having a thickness of about 30Å is provided. Reference numeral 13 is a back coat layer having a thickness of about 0.1 to 1 μm, which is provided on the other surface of the support 1 and contains carbon black or the like. The back coat layer 13 is, for example, A
It may be formed by vapor-depositing a metal such as an l-Cu alloy.

【0021】尚、Fe−N−O系磁性膜11の上に厚さ
が10〜200Å程度の保護膜が設けられることが好ま
しい。例えば、ダイヤモンドライクカーボン、グラファ
イト等のカーボン膜、酸化珪素、炭化珪素などの含珪素
膜、特にダイヤモンドライクカーボンからなる保護膜が
設けられることが好ましい。
It is preferable that a protective film having a thickness of about 10 to 200 Å is provided on the Fe—N—O type magnetic film 11. For example, it is preferable to provide a carbon film such as diamond-like carbon or graphite, a silicon-containing film such as silicon oxide or silicon carbide, and particularly a protective film made of diamond-like carbon.

【0022】[0022]

【実施例1】図1に示されるイオンアシスト斜め蒸着装
置に10μm厚のPETフィルム1を装着し、PETフ
ィルム1が2m/分の走行速度で走行させられている。
酸化マグネシウム製のルツボ5にFe6が入っており、
5kWの電子銃7を作動させてFeを蒸発させ、PET
フィルム1にFeを蒸着させると共に、加速電圧300
V、フィラメント電流7.5Aのカウフマン型イオン銃
10に10sccmの窒素ガスを供給すると共に、酸素
ガス供給ノズル9から35sccmの酸素ガスを供給
し、PETフィルム1上のFe膜に向けて酸素ガス及び
窒素イオンを照射する。そして、厚さが2200ÅのF
e−N−O系磁性膜を成膜し、その表面に潤滑剤として
パーフルオロポリエーテルを塗布し、図2に示されるタ
イプの8mmVTR用磁気テープを得た。
Example 1 A PET film 1 having a thickness of 10 μm is mounted on the ion assisted oblique vapor deposition apparatus shown in FIG. 1, and the PET film 1 is run at a running speed of 2 m / min.
Fe6 is contained in the magnesium oxide crucible 5,
The 5kW electron gun 7 is activated to evaporate Fe, and PET
Fe is vapor-deposited on the film 1, and the acceleration voltage is 300.
10 sccm of nitrogen gas was supplied to the Kaufman type ion gun 10 of V and filament current of 7.5 A, and 35 sccm of oxygen gas was supplied from the oxygen gas supply nozzle 9 toward the Fe film on the PET film 1 and oxygen gas and Irradiate with nitrogen ions. And, F of 2200Å thickness
An e-N-O magnetic film was formed, and perfluoropolyether was applied as a lubricant to the surface of the film to obtain an 8 mm VTR magnetic tape of the type shown in FIG.

【0023】この磁気テープのオージェプロファイル
(測定条件:電子銃;加速電圧10kV、エミッション
電流10nA、倍率2000倍、エッチング条件;エッ
チングガスはアルゴン、加速電圧3kV、イオン電流3
00nA、30秒間毎にエッチング)を図3に示す。こ
のFe−N−O系磁性膜のオージェプロファイルにおい
て、縦軸にFe量、N量、及びO量(Fe量+N量+O
量=100%。尚、最表面層は潤滑剤成分からのCが、
又、支持体との界面側にあっては支持体成分からのCが
認められるが、Fe−N−O系磁性膜の領域にあっては
基本的にはCはないと考える。)を、横軸にスパッタ時
間をとると、スパッタ終了近傍時においてN量、及びO
量に山が認められる。すなわち、Fe−N−O系磁性膜
の下層部(Fe−N−O系磁性膜の表面から1600Å
以上の深さにある下層部)にN濃度、及びO濃度が高い
(山)領域がある。すなわち、スパッタの進行につれて
N濃度、及びO濃度は増加(場合によっては平坦な部分
もあるが)している。特に、Fe−N−O系磁性膜の下
層部におけるN濃度のピーク値N1 は25at.%、O
濃度のピーク値O1 は23at.%である。そして、F
e−N−O系磁性膜における二つのピーク値N1 ,O1
に対応した点においてはFe濃度が低下したものであ
る。そして、Fe−N−O系磁性膜におけるFe量は7
3at.%、N量は14at.%、O量は13at.%
である。
Auger profile of this magnetic tape (measurement condition: electron gun; acceleration voltage 10 kV, emission current 10 nA, magnification 2000 times, etching condition; etching gas is argon, acceleration voltage 3 kV, ion current 3)
(00 nA, etching every 30 seconds) is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe—N—O magnetic film, the vertical axis represents the Fe amount, N amount, and O amount (Fe amount + N amount + O).
Amount = 100%. In the outermost surface layer, C from the lubricant component is
Further, although C from the support component is recognized on the interface side with the support, it is considered that there is basically no C in the region of the Fe—N—O based magnetic film. ) Is the sputtering time on the horizontal axis, the N amount and O
A mountain is recognized in the quantity. That is, the lower layer portion of the Fe—N—O based magnetic film (1600 Å from the surface of the Fe—N—O based magnetic film)
In the lower layer portion having the above depth, there is a (peak) region where the N concentration and the O concentration are high. That is, the N concentration and the O concentration increase (although there are flat portions in some cases) as the sputtering progresses. Particularly, the peak value N 1 of N concentration in the lower layer portion of the Fe—N—O based magnetic film is 25 at. %, O
The peak value O 1 of the concentration is 23 at. %. And F
Two peak values N 1 and O 1 in the e-N-O magnetic film
At the point corresponding to, the Fe concentration was lowered. The Fe amount in the Fe—N—O based magnetic film is 7
3 at. %, N amount is 14 at. %, O amount is 13 at. %
It is.

【0024】尚、本発明の磁気記録媒体におけるFe−
N−O系磁性膜の界面については、一般的な取扱いに従
う。
In the magnetic recording medium of the present invention, Fe-
The interface of the N—O type magnetic film follows general handling.

【0025】[0025]

【実施例2】実施例1において、イオン銃10に13s
ccmの窒素ガス、酸素ガス供給ノズル9に42scc
mの酸素ガスを供給した以外は実施例1に準じて行い、
図2に示されるタイプの8mmVTR用磁気テープ(F
e−N−O系磁性膜の厚さは2180Å)を得た。
Second Embodiment In the first embodiment, the ion gun 10 has 13 seconds.
42 scc in the nitrogen gas and oxygen gas supply nozzle 9 of ccm
was carried out according to Example 1 except that m oxygen gas was supplied,
8 mm VTR magnetic tape (F
The thickness of the e-N-O magnetic film was 2180Å).

【0026】この磁気テープのオージェプロファイルを
図4に示す。このFe−N−O系磁性膜のオージェプロ
ファイルにおいて、縦軸にFe量、N量、及びO量(F
e量+N量+O量=100%)を、横軸にスパッタ時間
をとると、スパッタ終了近傍時においてN量、及びO量
に山が認められる。すなわち、Fe−N−O系磁性膜の
下層部(Fe−N−O系磁性膜の表面から1600Å以
上の深さにある下層部)にN濃度、及びO濃度が高い
(山)領域がある。すなわち、スパッタの進行につれて
N濃度、及びO濃度は増加(場合によっては平坦な部分
もあるが)している。特に、Fe−N−O系磁性膜の下
層部におけるN濃度のピーク値N1 は27at.%、O
濃度のピーク値O1 は25at.%である。そして、F
e−N−O系磁性膜における二つのピーク値N1 ,O1
に対応した点においてはFe濃度が低下したものであ
る。そして、Fe−N−O系磁性膜におけるFe量は6
7at.%、N量は17at.%、O量は16at.%
である。
The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe-N-O magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, N content, and O content (F
(e amount + N amount + O amount = 100%) and the horizontal axis indicates the sputtering time, peaks are recognized in the N amount and the O amount near the end of sputtering. That is, there is a high N-concentration and high O-concentration (mountain) region in the lower layer of the Fe—N—O based magnetic film (the lower layer at a depth of 1600 Å or more from the surface of the Fe—N—O based magnetic film). . That is, the N concentration and the O concentration increase (although there are flat portions in some cases) as the sputtering progresses. Particularly, the peak value N 1 of N concentration in the lower layer portion of the Fe—N—O based magnetic film is 27 at. %, O
The peak concentration value O 1 is 25 at. %. And F
Two peak values N 1 and O 1 in the e-N-O magnetic film
At the point corresponding to, the Fe concentration was lowered. The Fe content in the Fe—N—O based magnetic film is 6
7 at. %, N amount is 17 at. %, O amount is 16 at. %
It is.

【0027】[0027]

【実施例3】実施例1に準じて成膜を行い、8mmVT
R用磁気テープを得た。尚、本実施例にあっては、Fe
−N−O系磁性膜11の成膜後、ECR−CVD装置を
用いて厚さが2300ÅのFe−N−O系磁性膜11の
上に厚さが145Åのダイヤモンドライクカーボンから
なる保護膜を成膜(供給ガスはCH4 、照射マイクロ波
は2.45GHzで出力600w、真空度10mTor
r)した。
[Third Embodiment] A film is formed according to the first embodiment, and is subjected to 8 mm VT.
An R magnetic tape was obtained. In the present embodiment, Fe
After forming the -N-O magnetic film 11, a protective film made of diamond-like carbon having a thickness of 145 Å is formed on the Fe-N-O magnetic film 11 having a thickness of 2300 Å by using an ECR-CVD apparatus. Film formation (supply gas is CH 4 , irradiation microwave is 2.45 GHz, output is 600 w, vacuum degree is 10 mTorr
r).

【0028】この磁気テープのオージェプロファイルを
図5に示す。このFe−N−O系磁性膜のオージェプロ
ファイルにおいて、縦軸にFe量、N量、及びO量(F
e量+N量+O量=100%)を、横軸にスパッタ時間
をとると、スパッタ終了近傍時においてN量、及びO量
に山が認められる。すなわち、Fe−N−O系磁性膜の
下層部(Fe−N−O系磁性膜の表面から1600Å以
上の深さにある下層部)にN濃度、及びO濃度が高い
(山)領域がある。すなわち、スパッタの進行につれて
N濃度、及びO濃度は増加(場合によっては平坦な部分
もあるが)している。特に、Fe−N−O系磁性膜の下
層部におけるN濃度のピーク値N1 は24at.%、O
濃度のピーク値O1 は22at.%である。そして、F
e−N−O系磁性膜における二つのピーク値N1 ,O1
に対応した点においてはFe濃度が低下したものであ
る。そして、Fe−N−O系磁性膜におけるFe量は7
5at.%、N量は13at.%、O量は12at.%
である。
The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe-N-O magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, N content, and O content (F
(e amount + N amount + O amount = 100%) and the horizontal axis indicates the sputtering time, peaks are recognized in the N amount and the O amount near the end of sputtering. That is, there is a high N-concentration and high O-concentration (mountain) region in the lower layer of the Fe—N—O based magnetic film (the lower layer at a depth of 1600 Å or more from the surface of the Fe—N—O based magnetic film). . That is, the N concentration and the O concentration increase (although there are flat portions in some cases) as the sputtering progresses. Particularly, the peak value N 1 of the N concentration in the lower layer portion of the Fe—N—O based magnetic film is 24 at. %, O
The peak value O 1 of the concentration is 22 at. %. And F
Two peak values N 1 and O 1 in the e-N-O magnetic film
At the point corresponding to, the Fe concentration was lowered. The Fe amount in the Fe—N—O based magnetic film is 7
5 at. %, N amount is 13 at. %, O amount is 12 at. %
It is.

【0029】尚、本実施例にあっては、Fe−N−O系
磁性膜の上にダイヤモンドライクカーボンからなる保護
膜が設けられているから、スパッタ開始初期にあっては
保護膜のCが認められ、この後Fe−N−O系磁性膜の
Fe,N,Oが認められ出す。
In this embodiment, since the protective film made of diamond-like carbon is provided on the Fe--N--O system magnetic film, C of the protective film is formed at the beginning of sputtering. After that, Fe, N, and O of the Fe—N—O type magnetic film are recognized.

【0030】[0030]

【比較例1】実施例1において、Fe蒸着部の真ん中を
狙うようセット位置を変更したイオン銃10に10sc
cmの窒素ガスを供給、セット位置を変更した酸素ガス
供給ノズル9に27sccmの酸素ガスを供給した以外
は実施例1に準じて行い、図2に示されるタイプの8m
mVTR用磁気テープ(Fe−N−O系磁性膜の厚さは
2270Å)を得た。
[Comparative Example 1] In Example 1, 10 sc was applied to the ion gun 10 whose set position was changed to aim at the center of the Fe vapor deposition portion.
cm of nitrogen gas was supplied and oxygen gas of 27 sccm was supplied to the oxygen gas supply nozzle 9 whose set position was changed.
A magnetic tape for MVTR (the thickness of the Fe—N—O magnetic film was 2270Å) was obtained.

【0031】この磁気テープのオージェプロファイルを
図6に示す。尚、このFe−N−O系磁性膜におけるF
e量は76at.%、N量は16at.%、O量は8a
t.%である。
The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. The F in the Fe-N-O magnetic film is
The amount of e is 76 at. %, N amount is 16 at. %, O amount is 8a
t. %.

【0032】[0032]

【特性】上記各例の磁気テープについての出力を調べた
ので、その結果を表−1に示す。 表−1 高域出力(dB) 低域出力(dB) 実施例1 0.9 0.4 実施例2 0.3 0.0 実施例3 0.3 0.4 比較例1 0.0 0.0 *出力は、ドラムテスタにてヘッド−テープ相対速度10m/sにて記録波 長0.49μm及び5.0μmの出力値を比較
[Characteristics] The output of the magnetic tape of each of the above examples was examined, and the results are shown in Table-1. Table-1 High frequency output (dB) Low frequency output (dB) Example 1 0.9 0.4 Example 2 0.3 0.0 Example 3 0.3 0.4 Comparative example 1 0.0 0.0. 0 * Output is a drum tester comparing head-tape relative speed of 10 m / s and comparing output values of recording wavelengths 0.49 μm and 5.0 μm.

【0033】[0033]

【発明の効果】低域から高域全般にわたって出力が高
い。
EFFECTS OF THE INVENTION The output is high over the entire low range and high range.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】磁気記録媒体製造装置の概略図FIG. 1 is a schematic diagram of a magnetic recording medium manufacturing apparatus.

【図2】磁気記録媒体の概略断面図FIG. 2 is a schematic sectional view of a magnetic recording medium.

【図3】実施例1のFe−N−O系磁性膜のオージェプ
ロファイル
FIG. 3 is an Auger profile of the Fe—N—O based magnetic film of Example 1.

【図4】実施例2のFe−N−O系磁性膜のオージェプ
ロファイル
FIG. 4 is an Auger profile of the Fe—N—O based magnetic film of Example 2.

【図5】実施例3のFe−N−O系磁性膜のオージェプ
ロファイル
FIG. 5: Auger profile of Fe—N—O based magnetic film of Example 3

【図6】比較例1のFe−N−O系磁性膜のオージェプ
ロファイル
FIG. 6 is an Auger profile of the Fe—N—O based magnetic film of Comparative Example 1.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 支持体 11 磁性膜(Fe−N−O系磁性膜) 1 Support 11 Magnetic Film (Fe—N—O System Magnetic Film)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23C 14/48 C23C 14/48 D 14/56 14/56 K (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location C23C 14/48 C23C 14/48 D 14/56 14/56 K (72) Inventor Junko Ishikawa Tochigi Kago Co., Ltd. Information Science Research Institute, Kao Co., Ltd. 2606, Kaigacho, Haga-gun, Tochigi Prefecture Inventor Katsumi Endo 2606 Kao Co., Ltd. Kaga Co., Ltd.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 Fe−N−O系の磁性膜を備えてなり、 前記Fe−N−O系磁性膜におけるN濃度は、上層部で
低く、下層部で高く、 前記Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度は、上層部で
低く、下層部で高いことを特徴とする磁気記録媒体。
1. An Fe—N—O system magnetic film is provided, wherein the N concentration in the Fe—N—O system magnetic film is low in the upper layer part and high in the lower layer part, and the Fe—N—O system magnetic film is used. The magnetic recording medium is characterized in that the O concentration in the magnetic film is low in the upper layer portion and high in the lower layer portion.
【請求項2】 Fe−N−O系の磁性膜を備えてなり、 前記Fe−N−O系磁性膜におけるN濃度は、上層部で
低く、そして下層部に移るにつれて高くなり、 前記Fe−N−O系磁性膜におけるO濃度は、上層部で
低く、そして下層部に移るにつれて高くなることを特徴
とする磁気記録媒体。
2. An Fe—N—O based magnetic film is provided, wherein the N concentration in the Fe—N—O based magnetic film is low in the upper layer part and becomes high as it moves to the lower layer part. A magnetic recording medium characterized in that the O concentration in the N—O magnetic film is low in the upper layer portion and becomes high as it moves to the lower layer portion.
【請求項3】 Fe−N−O系の磁性膜を備えてなり、 前記Fe−N−O系磁性膜のオージェ電子分光分析にお
いて、縦軸にFe量、N量、及びO量を、横軸にスパッ
タ時間をとると、スパッタ終了近傍時においてN量、及
びO量に山が認められるものであることを特徴とする磁
気記録媒体。
3. An Fe—N—O-based magnetic film is provided, and in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O-based magnetic film, the vertical axis indicates the Fe content, the N content, and the O content. A magnetic recording medium characterized in that when the sputtering time is taken on the axis, peaks are recognized in the N amount and the O amount near the end of sputtering.
【請求項4】 Fe−N−O系の磁性膜を備えてなり、 前記Fe−N−O系磁性膜のオージェ電子分光分析にお
いて、縦軸にFe量、N量、及びO量を、横軸にスパッ
タ時間をとると、スパッタ終了近傍時においてN量、及
びO量に山が認められ、スパッタ開始から前記山に至る
につれてN量、及びO量は増加するものであることを特
徴とする磁気記録媒体。
4. An Fe—N—O based magnetic film is provided, and in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—N—O based magnetic film, the vertical axis indicates the Fe content, the N content, and the O content. When the sputtering time is taken on the axis, peaks are recognized in the N amount and the O amount near the end of the sputtering, and the N amount and the O amount increase from the start of sputtering to the peak. Magnetic recording medium.
【請求項5】 Fe−N−O系磁性膜の下層部における
N濃度のピーク値N 1 が20〜40at.%であること
を特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの磁気記録媒
体。
5. The lower layer portion of the Fe—N—O system magnetic film
N concentration peak value N 1Is 20 to 40 at. Be%
A magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 4.
body.
【請求項6】 Fe−N−O系磁性膜の下層部における
O濃度のピーク値O 1 が20〜40at.%であること
を特徴とする請求項1〜請求項4いずれかの磁気記録媒
体。
6. The lower layer portion of the Fe—N—O system magnetic film
O concentration peak value O 1Is 20 to 40 at. Be%
A magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 4.
body.
【請求項7】 Fe−N−O系磁性膜におけるFe量、
N量、及びO量は 50at.%≦Fe量≦90at.% 5at.%≦N量≦35at.% 5at.%≦O量≦35at.% を満たすことを特徴とする請求項1〜請求項6いずれか
の磁気記録媒体。
7. The amount of Fe in the Fe—N—O system magnetic film,
The amount of N and the amount of O are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ N amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. %, The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 6.
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