JPH09134516A - Magnetic recording medium - Google Patents
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- JPH09134516A JPH09134516A JP29003595A JP29003595A JPH09134516A JP H09134516 A JPH09134516 A JP H09134516A JP 29003595 A JP29003595 A JP 29003595A JP 29003595 A JP29003595 A JP 29003595A JP H09134516 A JPH09134516 A JP H09134516A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁
性膜を有する磁気記録媒体に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium having an Fe-CO system magnetic film.
【０００２】[0002]
【発明が解決しようとする課題】磁気テープ等の磁気記
録媒体においては、高密度記録化の要請から、非磁性支
持体上に設けられる磁性膜として、バインダ樹脂を用い
た塗布型のものではなく、バインダ樹脂を用いない金属
薄膜型のものが提案されている。すなわち、無電解メッ
キ等の湿式メッキ手段、真空蒸着、スパッタリングある
いはイオンプレーティング等の乾式メッキ手段により磁
性膜を構成した磁気記録媒体が提案されている。そし
て、この種の磁気記録媒体は磁性体の充填密度が高いこ
とから、高密度記録に適したものである。この種の金属
薄膜型の磁気記録媒体における磁性材料としては、例え
ばＣｏ−Ｃｒ合金やＣｏ−Ｎｉ合金などの磁性金属が用
いられている。しかし、Ｃｏは稀少物質であることか
ら、多量に使用するとコストが高く付く。In a magnetic recording medium such as a magnetic tape, due to the demand for high density recording, the magnetic film provided on the non-magnetic support is not a coating type using a binder resin. , A metal thin film type that does not use a binder resin has been proposed. That is, there has been proposed a magnetic recording medium having a magnetic film formed by a wet plating means such as electroless plating or a dry plating means such as vacuum deposition, sputtering or ion plating. This kind of magnetic recording medium is suitable for high-density recording because of its high packing density of magnetic material. As a magnetic material in this kind of metal thin film type magnetic recording medium, a magnetic metal such as a Co—Cr alloy or a Co—Ni alloy is used. However, since Co is a rare substance, the cost increases when used in a large amount.
【０００３】そこで、非Ｃｏ系金属磁性材料としてＦｅ
とＮｉが考えられるものの、Ｆｅは安価であり、かつ、
環境汚染の問題も少なく、更には飽和磁化が大きいこと
から、金属薄膜型の磁気記録媒体の磁性材料としてＦｅ
が注目され始めた。しかし、Ｆｅは錆やすいことから、
化学的に安定なものとする必要が有る。このような観点
から、磁性膜をＦｅx Ｎ（Ｆｅ−Ｎ）やＦｅ−Ｎ−Ｏで
構成することが提案された。そして、これらの磁性膜で
構成した磁気記録媒体は、磁気特性が良好であり、か
つ、耐蝕性に優れ、高密度記録に優れたものであると謳
われている。Therefore, Fe is used as a non-Co metallic magnetic material.
Although Ni can be considered, Fe is inexpensive and
Since there are few problems of environmental pollution and the saturation magnetization is large, Fe is used as a magnetic material of a metal thin film type magnetic recording medium.
Started to be noticed. However, since Fe easily rusts,
It needs to be chemically stable. From this point of view, it has been proposed that the magnetic film be made of Fe x N (Fe-N) or Fe-N-O. A magnetic recording medium composed of these magnetic films is said to have good magnetic properties, excellent corrosion resistance, and high density recording.
【０００４】しかし、最近においては、高密度記録に伴
い、厳しい屋外での使用など、より厳しい条件下での使
用がなされるようになった。従って、本発明の目的は、
より耐久性に優れた磁気記録媒体を提供することであ
る。However, in recent years, along with high density recording, it has come to be used under more severe conditions such as severe outdoor use. Therefore, the object of the present invention is to
An object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having higher durability.
【０００５】[0005]
【課題を解決するための手段】前記本発明の目的は、Ｆ
ｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備えてなり、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ
系磁性膜の上層部と下層部とにＣ濃度が高く、上層部と
下層部との間にあってはＣ濃度が低い領域があることを
特徴とする磁気記録媒体によって達成される。The above-mentioned object of the present invention is F
and a Fe—C—O-based magnetic film.
This is achieved by a magnetic recording medium characterized in that there is a region having a high C concentration in the upper layer portion and the lower layer portion of the system magnetic film and a region having a low C concentration between the upper layer portion and the lower layer portion.
【０００６】特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備えてな
り、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部と下層部とにＣ
濃度が高い領域があり、上層部と下層部との間にあって
はＣ濃度が低いことを特徴とする磁気記録媒体によって
達成される。又、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備えてな
り、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェ電子分光分析
において、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆｅ量＋Ｃ
量＋Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間をとる
と、スパッタ開始近傍時とスパッタ終了近傍時において
Ｃ量に山が認められるものであることを特徴とする磁気
記録媒体によって達成される。In particular, a Fe--C--O based magnetic film is provided, and C is provided in the upper and lower layers of the Fe--C--O based magnetic film.
This is achieved by a magnetic recording medium characterized by having a high concentration region and a low C concentration between the upper layer portion and the lower layer portion. The Fe-C-O-based magnetic film is provided, and in the Auger electron spectroscopy analysis of the Fe-C-O-based magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, the C content, and the O content (Fe content + C).
(Amount + O amount = 100%), and when the sputtering time is taken on the horizontal axis, a peak is found in the C amount near the start of sputtering and near the end of sputtering. .
【０００７】上記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部におけ
るＣ濃度のピーク値Ｃ1 は１０〜５０ａｔ．％、下層部
におけるＣ濃度のピークＣ2 は１０〜５０ａｔ．％であ
るものが好ましい。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層
部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 が１５〜４５ａｔ．
％、下層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は１５〜４５
ａｔ．％、前記上層部と下層部との中間におけるＣ濃度
Ｃ3 は５〜３０ａｔ．％であり、Ｃ1 ＞Ｃ3 ，Ｃ2 ＞Ｃ
3 であるものが好ましい。The peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O type magnetic film is 10 to 50 at. %, The peak C 2 of C concentration in the lower layer is 10 to 50 at. % Is preferred. Particularly, the peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 15 to 45 at.
%, The peak value C 2 of C concentration in the lower layer is 15 to 45
at. %, The C concentration C 3 in the middle between the upper layer portion and the lower layer portion is 5 to 30 at. %, And C 1 > C 3 , C 2 > C
Those of 3 are preferred.
【０００８】又、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＣ濃度
のピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点においてはＦｅ濃度
が低下したものが好ましい。すなわち、Ｃ濃度において
Ｃ1やＣ2 の値を示す山（ピーク）の位置に対応した位
置で、Ｆｅ濃度が低下したものが好ましい。前記Ｆｅ−
Ｃ−Ｏ系磁性膜においては、Ｃ濃度分布に山が、又、Ｆ
ｅ濃度分布には谷があることを述べたが、前記山（谷）
の間の領域においてはＯ濃度がほぼ一定であるのが好ま
しい。Further, in the point corresponding to the peak values C 1 and C 2 of the C concentration in the Fe—C—O type magnetic film, it is preferable that the Fe concentration is lowered. That is, it is preferable that the Fe concentration is lowered at the position corresponding to the position of the peak (peak) showing the values of C 1 and C 2 in the C concentration. Fe-
In the C—O magnetic film, the C concentration distribution has peaks and F
e It was stated that there are valleys in the concentration distribution.
It is preferable that the O concentration is substantially constant in the region between.
【０００９】又、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ
量、Ｃ量、及びＯ量は ５０ａｔ．％≦Ｆｅ量≦９０ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｃ量≦３５ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｏ量≦３５ａｔ．％ を満たすことが好ましい。Fe in the Fe--C--O system magnetic film
Amount, C amount, and O amount are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ C amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. % Is preferably satisfied.
【００１０】特に、 ５０ａｔ．％≦Ｆｅ量≦８０ａｔ．％ ７ａｔ．％≦Ｃ量≦３０ａｔ．％ ７ａｔ．％≦Ｏ量≦３０ａｔ．％ が好ましい。Particularly, at 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 80 at. % 7 at. % ≦ C amount ≦ 30 at. % 7 at. % ≦ O amount ≦ 30 at. % Is preferred.
【００１１】又、本発明の磁気記録媒体にあっては、Ｆ
ｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜以外の磁性膜を持っていても良い
が、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上には記録再生に用いられ
る磁性膜がない、つまりＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜が最上層
にあるのが好ましい。特に、本発明が規定する内容のＦ
ｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜が最上層にあるのが好ましい。Further, in the magnetic recording medium of the present invention, F
A magnetic film other than the e-C-O based magnetic film may be provided, but there is no magnetic film used for recording / reproduction on the Fe-C-O based magnetic film, that is, the Fe-C-O based magnetic film. It is preferable that the magnetic film is the uppermost layer. In particular, the F specified by the present invention
It is preferable that the e-C-O based magnetic film is the uppermost layer.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、Ｆｅ−
Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備えてなり、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁
性膜の上層部と下層部とにＣ濃度が高く、上層部と下層
部との間にあってはＣ濃度が低い領域がある。特に、Ｆ
ｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備えてなり、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ
系磁性膜の上層部と下層部とにＣ濃度が高い領域があ
り、上層部と下層部との間にあってはＣ濃度が低い。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The magnetic recording medium of the present invention is Fe-
The Fe—C—O-based magnetic film has a high C concentration in the upper and lower layers and a region with a low C concentration between the upper and lower layers. is there. In particular, F
and a Fe—C—O-based magnetic film.
There is a region having a high C concentration in the upper layer portion and the lower layer portion of the system magnetic film, and the C concentration is low between the upper layer portion and the lower layer portion.
【００１３】あるいは、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系の磁性膜を備え
てなり、前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェ電子分光
分析において、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆｅ量
＋Ｃ量＋Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間をと
ると、スパッタ開始近傍時とスパッタ終了近傍時におい
てＣ量に山が認められるものである。上記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ
系磁性膜の上層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 は１０
〜５０ａｔ．％、下層部におけるＣ濃度のピークＣ2 は
１０〜５０ａｔ．％である。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性
膜の上層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 が１５〜４５
ａｔ．％、下層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は１５
〜４５ａｔ．％、前記上層部と下層部との中間における
Ｃ濃度Ｃ3 は５〜３０ａｔ．％であり、Ｃ1 ＞Ｃ3 ，Ｃ
2 ＞Ｃ3 である。Alternatively, in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—C—O system magnetic film, which comprises a Fe—C—O system magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, C content, and O content (Fe content). + C amount + O amount = 100%), and the horizontal axis indicates the sputtering time, the C amount has a peak near the start of sputtering and near the end of sputtering. Fe-CO
The peak value C 1 of C concentration in the upper layer of the magnetic system magnetic film is 10
~ 50 at. %, The peak C 2 of C concentration in the lower layer is 10 to 50 at. %. In particular, the peak value C 1 of the C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 15 to 45.
at. %, The peak value C 2 of C concentration in the lower layer is 15
~ 45 at. %, The C concentration C 3 in the middle between the upper layer portion and the lower layer portion is 5 to 30 at. %, And C 1 > C 3 , C
2 > C 3 .
【００１４】又、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＣ濃度
のピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点においてはＦｅ濃度
が低下したものである。すなわち、Ｃ濃度においてＣ1
やＣ 2 の値を示す山（ピーク）の位置に対応した位置
で、Ｆｅ濃度分布には谷がある。前記Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁
性膜においては、Ｃ濃度分布に山が、又、Ｆｅ濃度分布
には谷があることを述べたが、前記山（谷）の間の領域
においてはＯ濃度がほぼ一定である。Further, the C concentration in the Fe--C--O system magnetic film
Peak value C1, CTwoAt the point corresponding to
Is a decrease. That is, at the C concentration, C1
And C TwoPosition corresponding to the position of the mountain (peak) showing the value of
Therefore, there is a valley in the Fe concentration distribution. The Fe-C-O based magnet
In the crystalline film, the C concentration distribution has peaks and the Fe concentration distribution
There is a valley in the area, but the area between the mountains (valleys)
In, the O concentration is almost constant.
【００１５】又、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ
量、Ｃ量、及びＯ量は ５０ａｔ．％≦Ｆｅ量≦９０ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｃ量≦３５ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｏ量≦３５ａｔ．％ を満たす。Fe in the Fe--C--O system magnetic film
Amount, C amount, and O amount are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ C amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. % Is satisfied.
【００１６】本発明の磁気記録媒体は、支持体上にイオ
ンアシスト法により磁性膜を成膜して磁気記録媒体を製
造する方法であって、蒸発源物質としてＦｅが用いられ
ての蒸着工程と、炭素イオンや炭素活性種を蒸着Ｆｅ膜
に衝突させる衝突工程と、酸素イオンあるいは酸素ガス
等の酸素活性種を蒸着Ｆｅ膜に衝突させる衝突工程とを
具備し、前記炭素イオンや炭素活性種を蒸着Ｆｅ膜に衝
突させる衝突範囲や衝突量を制御することによって得ら
れる。例えば、Ｆｅが支持体上に堆積し始めた蒸着初期
近傍の地点及び堆積が終了し終わる蒸着終期近傍の地点
の二地点向けて炭素イオンや炭素活性種を供給してやる
ことにより、上層部と下層部とにＣ濃度が高い領域があ
り、上層部と下層部との間にあってはＣ濃度が低いＦｅ
−Ｃ−Ｏ系磁性膜が得られる。The magnetic recording medium of the present invention is a method for producing a magnetic recording medium by forming a magnetic film on a support by an ion assist method, and comprises a vapor deposition step using Fe as an evaporation source substance. A collision step of causing carbon ions or active carbon species to collide with the vapor deposited Fe film; and a collision step of causing oxygen active species such as oxygen ions or oxygen gas to collide with the vapor deposited Fe film. It can be obtained by controlling the collision range and the collision amount of the evaporated Fe film. For example, by supplying carbon ions and active carbon species to two points near the beginning of vapor deposition where Fe begins to deposit on the support and near the end of vapor deposition where the deposition ends, Fe and the upper layer are And a region having a high C concentration, and Fe having a low C concentration between the upper layer portion and the lower layer portion.
A -C-O magnetic film is obtained.
【００１７】図１に、本発明で用いるイオンアシスト斜
め蒸着装置を示す。図１中、１１はガイド部材、１２は
支持体１の供給側ロール、１３は支持体１の巻取側ロー
ル、１４は遮蔽板、１５はルツボ、１６はＦｅ、１７は
電子銃、１８は真空容器、１９ａ，１９ｂはイオン銃、
２０は酸素ガス供給ノズルである。図１では、酸素ガス
を供給するタイプのものを示したが、酸素イオンを供給
するようにしても良い。そして、イオン銃１９ａ，１９
ｂによる炭素イオンの目標照射位置や供給量、及び酸素
ガス供給ノズル２０による酸素ガスの供給量を特定のも
のとした他は、通常のイオンアシスト斜め蒸着に準じて
行わせることによって、本発明になる図３などのオージ
ェプロファイルのＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜が得られる。FIG. 1 shows an ion assisted oblique vapor deposition apparatus used in the present invention. In FIG. 1, 11 is a guide member, 12 is a supply side roll of the support 1, a take-up roll of 13 is the support 1, 14 is a shield plate, 15 is a crucible, 16 is Fe, 17 is an electron gun, and 18 is Vacuum containers, 19a and 19b are ion guns,
Reference numeral 20 is an oxygen gas supply nozzle. Although FIG. 1 shows a type in which oxygen gas is supplied, oxygen ions may be supplied. And the ion guns 19a, 19
The target irradiation position and supply amount of carbon ions by b and the supply amount of oxygen gas by the oxygen gas supply nozzle 20 are specified, and the present invention is carried out in accordance with ordinary ion-assisted oblique deposition. A Fe—C—O based magnetic film having an Auger profile as shown in FIG. 3 is obtained.
【００１８】このようにして得られた本発明になる磁気
記録媒体を図２に示す。図２中、１は支持体である。こ
の支持体１は磁性を有するものでも非磁性のものでも良
いが、一般的には、非磁性のものである。例えば、ポリ
エチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリアミ
ド、ポリイミド、ポリスルフォン、ポリカーボネート、
ポリプロピレン等のオレフィン系の樹脂、セルロース系
の樹脂、塩化ビニル系の樹脂といった高分子材料、ガラ
スやセラミック等の無機系材料、アルミニウム合金など
の金属材料が用いられる。支持体１面上には磁性膜の密
着性を向上させる為のアンダーコート層が必要に応じて
設けられる。すなわち、表面の粗さを適度に粗すことに
より乾式メッキで構成される磁性膜の密着性を向上さ
せ、さらに磁気記録媒体表面の表面粗さを適度なものと
して走行性を改善する為、例えばＳｉＯ2 等の粒子を含
有させた厚さが０．０１〜０．５μｍの塗膜を設けるこ
とによってアンダーコート層が構成されている。The magnetic recording medium according to the present invention thus obtained is shown in FIG. In FIG. 2, 1 is a support. The support 1 may be magnetic or non-magnetic, but is generally non-magnetic. For example, polyester such as polyethylene terephthalate, polyamide, polyimide, polysulfone, polycarbonate,
Polymer materials such as olefin resins such as polypropylene, cellulose resins and vinyl chloride resins, inorganic materials such as glass and ceramics, and metal materials such as aluminum alloys are used. An undercoat layer for improving the adhesion of the magnetic film is provided on the surface of the support 1 as needed. That is, to improve the adhesion of the magnetic film formed by dry plating by appropriately roughening the surface roughness, and to further improve the runnability by making the surface roughness of the magnetic recording medium moderate, for example, The undercoat layer is formed by providing a coating film containing particles such as SiO 2 and having a thickness of 0.01 to 0.5 μm.
【００１９】アンダーコート層の上には、図１に示した
イオンアシスト斜め蒸着装置によってＦｅ−Ｃ−Ｏ系の
金属薄膜型の磁性膜２が設けられる。例えば、１０-4〜
１０ -6Ｔｏｒｒ程度の真空雰囲気下でＦｅを抵抗加熱、
高周波加熱、電子ビーム加熱などにより蒸発させ、支持
体１のアンダーコート層面上に堆積（蒸着）させること
により、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜２が６００〜６０００
Å、特に１０００〜４０００Å厚形成される。斜め蒸着
の際の最小入射角は３０°〜８０°、望ましくは約４５
°〜７０°である。このＦｅの蒸着時には炭素イオンや
酸素ガス（酸素イオン）を蒸着Ｆｅ膜に衝突させる。但
し、炭素イオンを、Ｆｅが支持体上に堆積し始めた蒸着
初期及び堆積が終了し終わる蒸着終期の二地点向けて供
給する。前記炭素イオンや酸素ガス（酸素イオン）の供
給は、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜が上記に規定された内容の
ものになるよう制御される。Above the undercoat layer is shown in FIG.
The ion assisted oblique vapor deposition apparatus was used to
A metal thin film type magnetic film 2 is provided. For example, 10-Four~
10 -6Resistance heating of Fe in a vacuum atmosphere of about Torr,
Support by evaporating by high frequency heating, electron beam heating, etc.
To deposit (evaporate) on the undercoat layer surface of body 1
As a result, the Fe—C—O based magnetic film 2 becomes 600 to 6000.
Å, especially 1000-4000Å thickness is formed. Oblique deposition
In this case, the minimum incident angle is 30 ° to 80 °, preferably about 45 °.
The angle is between 70 ° and 70 °. When depositing Fe, carbon ions and
Oxygen gas (oxygen ions) is made to collide with the vapor deposition Fe film. However
Evaporation of carbon ions, Fe began to deposit on the support
Provided for two locations, the initial stage and the end of deposition where the deposition is completed.
Pay. Supply of the carbon ions and oxygen gas (oxygen ions)
The Fe-C-O-based magnetic film has the content specified above.
Controlled to be things.
【００２０】３は、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜２の上に設け
られた厚さが１０〜２００Å程度の保護膜である。この
保護膜３は、例えばダイヤモンドライクカーボン、グラ
ファイト等のカーボン膜、酸化珪素、炭化珪素などの含
珪素膜などで構成される。これらの中でも、ダイヤモン
ドライクカーボンが好ましい。尚、図３のオージェプロ
ファイルは、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上にダイヤモンド
ライクカーボン膜や後述の潤滑剤膜が設けられた場合の
ものである。従って、図３のオージェプロファイルで
は、スパッタ開始時にはＣのみであって、ＦｅやＯが検
出されていない。そして、スパッタが進むにつれてＦｅ
やＯが検出されて行く。この為、磁性膜の表面がどこか
らかの決定は極めて困難なるも、磁性膜の表面がどこか
らかの決定は一般的な取扱いに従う。本実施例では、ダ
イヤモンドライクカーボン膜などのカーボン膜が設けら
れている場合においては、オージェプロファイルにおけ
る最初のＣとＦｅが同じ値になる（交差する）ポイント
から磁性膜になると考える。同様に、磁性膜の下面（支
持体側の界面）がどこからかの決定も一般的な取扱いに
従う。本実施例では、支持体がＣを含む支持体である場
合においては、オージェプロファイルにおけるＣとＦｅ
が交差するポイントが界面と考える。Reference numeral 3 is a protective film having a thickness of about 10 to 200 Å provided on the Fe—C—O type magnetic film 2. The protective film 3 is composed of, for example, a carbon film such as diamond-like carbon or graphite, a silicon-containing film such as silicon oxide or silicon carbide, or the like. Among these, diamond-like carbon is preferable. The Auger profile shown in FIG. 3 is obtained when a diamond-like carbon film or a lubricant film described later is provided on the Fe—C—O based magnetic film. Therefore, in the Auger profile of FIG. 3, only C is present at the start of sputtering, and Fe and O are not detected. Then, as the sputtering progresses, Fe
And O are detected. Therefore, it is extremely difficult to determine where the surface of the magnetic film is, but the determination of where the surface of the magnetic film is is in accordance with general handling. In the present embodiment, when a carbon film such as a diamond-like carbon film is provided, it is considered that the first C and Fe in the Auger profile become the magnetic film from the point where they have the same value (cross). Similarly, the determination of where the lower surface of the magnetic film (interface on the support side) is from follows the general handling. In the present embodiment, when the support is a support containing C, C and Fe in the Auger profile are used.
The point at which the points intersect is considered to be the interface.
【００２１】４は、保護膜３の上に設けられた潤滑剤層
である。すなわち、炭化水素系の潤滑剤やパーフルオロ
ポリエーテル等のフッ素系潤滑剤、特にフッ素系潤滑剤
を含有させた塗料を所定の手段で塗布することにより、
約２〜５０Å、好ましくは約１０〜３０Å程度の厚さの
潤滑剤層４が設けられる。５は、支持体１の他面に設け
られたカーボンブラック等を含有させた厚さが０．１〜
１μｍ程度のバックコート層である。尚、バックコート
層５は、Ａｌ−Ｃｕ合金等の金属を蒸着させて形成した
ものであっても良い。Reference numeral 4 is a lubricant layer provided on the protective film 3. That is, by applying a fluorine-based lubricant such as a hydrocarbon-based lubricant or perfluoropolyether, particularly a coating containing a fluorine-based lubricant by a predetermined means,
A lubricant layer 4 having a thickness of about 2 to 50Å, preferably about 10 to 30Å is provided. 5 has a thickness of 0.1 to 100 including carbon black or the like provided on the other surface of the support 1.
The back coat layer has a thickness of about 1 μm. The back coat layer 5 may be formed by depositing a metal such as an Al—Cu alloy.
【００２２】[0022]
【実施例１】図１に示されるイオンアシスト斜め蒸着装
置に６μｍ厚のＰＥＴフィルム１を装着し、ＰＥＴフィ
ルム１が２ｍ／分の走行速度で走行させられている。酸
化マグネシウム製のルツボ１５にＦｅ１６が入ってお
り、３０ｋＷの電子銃１７を作動させてＦｅを蒸発さ
せ、ＰＥＴフィルム１にＦｅを蒸着させると共に、メタ
ンガスを出力４００Ｗのイオン銃１９ａ，１９ｂに供給
（イオン銃１９ａへのメタンガス供給量は４０ｓｃｃ
ｍ、イオン銃１９ｂへのメタンガス供給量は３５ｓｃｃ
ｍ）し、ＰＥＴフィルム１上のＦｅ膜に向けて炭素イオ
ンを照射する。又、酸素ガス供給ノズル２０より酸素ガ
スを１５ｓｃｃｍ供給し、図２に示されるタイプの８ｍ
ｍＶＴＲ用磁気テープを得た。Example 1 A PET film 1 having a thickness of 6 μm was mounted on the ion assisted oblique vapor deposition apparatus shown in FIG. 1, and the PET film 1 was run at a running speed of 2 m / min. Fe16 is contained in the crucible 15 made of magnesium oxide, the electron gun 17 of 30 kW is operated to evaporate Fe, vaporize Fe on the PET film 1, and supply methane gas to the ion guns 19a and 19b of 400 W output ( The supply amount of methane gas to the ion gun 19a is 40 scc
m, the amount of methane gas supplied to the ion gun 19b is 35 scc
Then, the Fe film on the PET film 1 is irradiated with carbon ions. Further, the oxygen gas is supplied from the oxygen gas supply nozzle 20 at 15 sccm to obtain 8 m of the type shown in FIG.
A magnetic tape for mVTR was obtained.
【００２３】この磁気テープのオージェプロファイル
（測定条件：電子銃；加速電圧１０ｋＶ、エミッション
電流１０ｎＡ、倍率２０００倍、エッチング条件；エッ
チングガスはアルゴン、加速電圧３ｋＶ、イオン電流３
００ｎＡ、３０秒間毎にエッチング）を図３に示す。こ
のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプロファイルにおい
て、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆｅ量＋Ｃ量＋Ｏ
量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間をとると、Ｆｅ
−Ｃ−Ｏ系磁性膜のスパッタ開始近傍時とスパッタ終了
近傍時においてＣ量に山が認められる。すなわち、Ｆｅ
−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部と下層部とにＣ濃度が高い
（山）領域があり、上層部と下層部との間にあってはＣ
濃度が低い。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部にお
けるＣ濃度のピーク値Ｃ1 は４４ａｔ．％、下層部にお
けるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は４１ａｔ．％、前記二つの
ピーク値を示す間におけるＣ濃度Ｃ3 は１０〜１４ａ
ｔ．％である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜における
二つのピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点においてはＦｅ
濃度が低下したものである。又、ピーク値Ｃ1 とピーク
値Ｃ2 との間にあってはＯ濃度はほぼ一定である。そし
て、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ量は６４ａｔ．
％、Ｃ量は２３ａｔ．％、Ｏ量は１３ａｔ．％である。Auger profile of this magnetic tape (measurement condition: electron gun; acceleration voltage 10 kV, emission current 10 nA, magnification 2000 times, etching condition; etching gas is argon, acceleration voltage 3 kV, ion current 3)
(00 nA, etching every 30 seconds) is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe—C—O based magnetic film, the vertical axis represents the amounts of Fe, C, and O (Fe amount + C amount + O).
Amount = 100%), and the sputtering time is plotted on the horizontal axis, Fe
A peak is observed in the amount of C near the start of sputtering and near the end of sputtering of the —C—O magnetic film. That is, Fe
There is a high C-concentration (mountain) region in the upper and lower layers of the -CO-based magnetic film, and C is present between the upper and lower layers.
Low concentration. Particularly, the peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 44 at. %, The peak value C 2 of C concentration in the lower layer is 41 at. %, The C concentration C 3 between the two peak values is 10 to 14 a
t. %. Then, at the point corresponding to the two peak values C 1 and C 2 in the Fe—C—O system magnetic film, Fe is
The concentration has decreased. Further, the O concentration is almost constant between the peak value C 1 and the peak value C 2 . The Fe content in the Fe—C—O based magnetic film is 64 at.
%, C amount is 23 at. %, O amount is 13 at. %.
【００２４】[0024]
【実施例２】実施例１において、イオン銃１９ａへのメ
タンガス供給量は３０ｓｃｃｍ、イオン銃１９ｂへのメ
タンガス供給量は２８ｓｃｃｍ、酸素ガス供給ノズル２
０より１７ｓｃｃｍの酸素ガスと２０ｓｃｃｍのメタン
ガスとの混合ガスを供給した以外は実施例１に準じて行
い、図２に示されるタイプの８ｍｍＶＴＲ用磁気テープ
を得た。Second Embodiment In the first embodiment, the supply amount of methane gas to the ion gun 19a is 30 sccm, the supply amount of methane gas to the ion gun 19b is 28 sccm, and the oxygen gas supply nozzle 2 is used.
A magnetic tape for 8 mm VTR of the type shown in FIG. 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixed gas of 0 to 17 sccm of oxygen gas and 20 sccm of methane gas was supplied.
【００２５】この磁気テープのオージェプロファイルを
図４に示す。このＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプロ
ファイルにおいて、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆ
ｅ量＋Ｃ量＋Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間
をとると、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のスパッタ開始近傍時
とスパッタ終了近傍時においてＣ量に山が認められる。
すなわち、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部と下層部とに
Ｃ濃度が高い（山）領域があり、上層部と下層部との間
にあってはＣ濃度が低い。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜
の上層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 は３５ａｔ．
％、下層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は３２ａｔ．
％、前記二つのピーク値を示す間におけるＣ濃度Ｃ3 は
１８〜２２ａｔ．％である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁
性膜における二つのピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点に
おいてはＦｅ濃度が低下したものである。又、ピーク値
Ｃ1 とピーク値Ｃ2 との間にあってはＯ濃度はほぼ一定
である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ量
は６３ａｔ．％、Ｃ量は２２ａｔ．％、Ｏ量は１５ａ
ｔ．％である。The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe-C-O-based magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, C content, and O content (F
(e amount + C amount + O amount = 100%), when the sputtering time is plotted on the horizontal axis, peaks are observed in the C amount near the start of sputtering and near the end of sputtering of the Fe—C—O-based magnetic film.
That is, there are high (peak) regions in the upper and lower layers of the Fe—C—O based magnetic film, and the C concentration is low between the upper and lower layers. Particularly, the peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 35 at.
%, The peak value C 2 of C concentration in the lower layer is 32 at.
%, The C concentration C 3 between the two peak values is 18 to 22 at. %. The Fe concentration is lowered at the points corresponding to the two peak values C 1 and C 2 in the Fe—C—O based magnetic film. Further, the O concentration is almost constant between the peak value C 1 and the peak value C 2 . The Fe content in the Fe—C—O based magnetic film is 63 at. %, C amount is 22 at. %, O amount is 15a
t. %.
【００２６】[0026]
【実施例３】実施例１において、イオン銃１９ａへのメ
タンガス供給量は５０ｓｃｃｍ、イオン銃１９ｂへのメ
タンガス供給量は３０ｓｃｃｍ、酸素ガス供給ノズル２
０より酸素ガスの供給量を１７ｓｃｃｍとした以外は実
施例１に準じて行い、図２に示されるタイプの８ｍｍＶ
ＴＲ用磁気テープを得た。Third Embodiment In the first embodiment, the supply amount of methane gas to the ion gun 19a is 50 sccm, the supply amount of methane gas to the ion gun 19b is 30 sccm, and the oxygen gas supply nozzle 2 is used.
8 mmV of the type shown in FIG. 2 was performed according to Example 1 except that the supply amount of oxygen gas was changed from 0 to 17 sccm.
A magnetic tape for TR was obtained.
【００２７】この磁気テープのオージェプロファイルを
図５に示す。このＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプロ
ファイルにおいて、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆ
ｅ量＋Ｃ量＋Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間
をとると、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のスパッタ開始近傍時
とスパッタ終了近傍時においてＣ量に山が認められる。
すなわち、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部と下層部とに
Ｃ濃度が高い（山）領域があり、上層部と下層部との間
にあってはＣ濃度が低い。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜
の上層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 は４３ａｔ．
％、下層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は３５ａｔ．
％、前記二つのピーク値を示す間におけるＣ濃度Ｃ3 は
２０〜３０ａｔ．％である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁
性膜における二つのピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点に
おいてはＦｅ濃度が低下したものである。又、ピーク値
Ｃ1 とピーク値Ｃ2 との間にあってはＯ濃度はほぼ一定
である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ量
は５７ａｔ．％、Ｃ量は２８ａｔ．％、Ｏ量は１５ａ
ｔ．％である。The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe-C-O-based magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, C content, and O content (F
(e amount + C amount + O amount = 100%), when the sputtering time is plotted on the horizontal axis, peaks are observed in the C amount near the start of sputtering and near the end of sputtering of the Fe—C—O-based magnetic film.
That is, there are high (peak) regions in the upper and lower layers of the Fe—C—O based magnetic film, and the C concentration is low between the upper and lower layers. In particular, the peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 43 at.
%, The peak value C 2 of the C concentration in the lower layer is 35 at.
%, The C concentration C 3 between the two peak values is 20 to 30 at. %. The Fe concentration is lowered at the points corresponding to the two peak values C 1 and C 2 in the Fe—C—O based magnetic film. Further, the O concentration is almost constant between the peak value C 1 and the peak value C 2 . The Fe content in the Fe—C—O based magnetic film is 57 at. %, C amount is 28 at. %, O amount is 15a
t. %.
【００２８】[0028]
【実施例４】実施例１において、イオン銃１９ａへのメ
タンガス供給量は１８ｓｃｃｍ、イオン銃１９ｂへのメ
タンガス供給量は１５ｓｃｃｍ、酸素ガス供給ノズル２
０より酸素ガスの供給量を２５ｓｃｃｍとした以外は実
施例１に準じて行い、図２に示されるタイプの８ｍｍＶ
ＴＲ用磁気テープを得た。Fourth Embodiment In the first embodiment, the supply amount of methane gas to the ion gun 19a is 18 sccm, the supply amount of methane gas to the ion gun 19b is 15 sccm, and the oxygen gas supply nozzle 2 is used.
8 mmV of the type shown in FIG. 2 was performed according to Example 1 except that the supply amount of oxygen gas was set to 25 sccm from 0.
A magnetic tape for TR was obtained.
【００２９】この磁気テープのオージェプロファイルを
図６に示す。このＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプロ
ファイルにおいて、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆ
ｅ量＋Ｃ量＋Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間
をとると、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のスパッタ開始近傍時
とスパッタ終了近傍時においてＣ量に山が認められる。
すなわち、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜の上層部と下層部とに
Ｃ濃度が高い（山）領域があり、上層部と下層部との間
にあってはＣ濃度が低い。特に、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜
の上層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ1 は２５ａｔ．
％、下層部におけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は２４ａｔ．
％、前記二つのピーク値を示す間におけるＣ濃度Ｃ3 は
８〜１３ａｔ．％である。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性
膜における二つのピーク値Ｃ1 ，Ｃ2 に対応した点にお
いてはＦｅ濃度が低下したものである。又、ピーク値Ｃ
1 とピーク値Ｃ2 との間にあってはＯ濃度はほぼ一定で
ある。そして、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦｅ量は
６５ａｔ．％、Ｃ量は１２ａｔ．％、Ｏ量は２３ａｔ．
％である。The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. In the Auger profile of this Fe-C-O-based magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, C content, and O content (F
(e amount + C amount + O amount = 100%), when the sputtering time is plotted on the horizontal axis, peaks are observed in the C amount near the start of sputtering and near the end of sputtering of the Fe—C—O-based magnetic film.
That is, there are high (peak) regions in the upper and lower layers of the Fe—C—O based magnetic film, and the C concentration is low between the upper and lower layers. Particularly, the peak value C 1 of C concentration in the upper layer portion of the Fe—C—O based magnetic film is 25 at.
%, The peak value C 2 of C concentration in the lower layer is 24 at.
%, The C concentration C 3 between the two peak values is 8 to 13 at. %. The Fe concentration is lowered at the points corresponding to the two peak values C 1 and C 2 in the Fe—C—O based magnetic film. Also, the peak value C
The O concentration is almost constant between 1 and the peak value C 2 . The Fe content in the Fe—C—O based magnetic film is 65 at. %, C amount is 12 at. %, O amount is 23 at.
%.
【００３０】[0030]
【比較例１】実施例１において、セット位置を変えたイ
オン銃１９へのメタンガス供給量を３５ｓｃｃｍ、酸素
ガス供給ノズル２０より酸素ガスの供給量を１７ｓｃｃ
ｍとした以外は実施例１に準じて行い、図２に示される
タイプの８ｍｍＶＴＲ用磁気テープを得た。Comparative Example 1 In Example 1, the supply amount of methane gas to the ion gun 19 whose set position was changed was 35 sccm, and the supply amount of oxygen gas from the oxygen gas supply nozzle 20 was 17 sccc.
A magnetic tape for 8 mm VTR of the type shown in FIG. 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that m was used.
【００３１】この磁気テープのオージェプロファイルを
図７に示す。尚、このＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜におけるＦ
ｅ量は７４ａｔ．％、Ｃ量は１５ａｔ．％、Ｏ量は１１
ａｔ．％である。The Auger profile of this magnetic tape is shown in FIG. It should be noted that F in this Fe--C--O system magnetic film
The amount of e is 74 at. %, C amount is 15 at. %, O amount is 11
at. %.
【００３２】[0032]
【特性】上記各例の磁気テープについてのスチル耐久性
（５時間のスチル再生後における１０ＭＨｚでの出力低
下）、Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のスクラッチ試験を調べた
ので、その結果を表−１に示す。 表−１ スチル耐久性（ｄＢ） スクラッチ試験 実施例１ −０．３ ５ 実施例２ −０．５ ３ 実施例３ −０．２ ４ 実施例４ −０．７ ２ 比較例１ −１．２ １ ＊スクラッチ試験は、目視５段階評価で行い、１〜５で数字の大きい方が優 れている。[Characteristics] Still durability (reduction of output at 10 MHz after still reproduction for 5 hours) and scratch test of Fe—C—O type magnetic film were examined for the magnetic tapes of the above examples. Shown in 1. Table-1 Still durability (dB) Scratch test Example 1-0.35 Example 2-0.53 Example 3-0.24 Example 4-0.72 Comparative example 1-1.2 1 * The scratch test is conducted by visual evaluation in 5 grades, and the larger number from 1 to 5 is superior.
【００３３】[0033]
【発明の効果】耐久性に富み、かつ、支持体との剥離性
が改善される。EFFECTS OF THE INVENTION The durability is excellent and the peelability from the support is improved.
【図１】磁気記録媒体製造装置の概略図FIG. 1 is a schematic diagram of a magnetic recording medium manufacturing apparatus.
【図２】磁気記録媒体の概略断面図FIG. 2 is a schematic sectional view of a magnetic recording medium.
【図３】実施例１のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプ
ロファイルFIG. 3 is an Auger profile of the Fe—C—O based magnetic film of Example 1.
【図４】実施例２のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプ
ロファイルFIG. 4 is an Auger profile of the Fe—C—O magnetic film of Example 2.
【図５】実施例３のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプ
ロファイルFIG. 5 is an Auger profile of the Fe—C—O magnetic film of Example 3.
【図６】実施例４のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプ
ロファイルFIG. 6 is an Auger profile of the Fe—C—O magnetic film of Example 4.
【図７】比較例１のＦｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜のオージェプ
ロファイルFIG. 7 is an Auger profile of the Fe—C—O based magnetic film of Comparative Example 1.
１ 支持体 ２ 磁性膜（Ｆｅ−Ｃ−Ｏ系磁性膜） ３ 保護膜 1 Support 2 Magnetic Film (Fe—C—O System Magnetic Film) 3 Protective Film
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 石川 准子 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 (72)発明者 遠藤 克巳 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606 花王株 式会社情報科学研究所内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Junko Ishikawa 2606 Kabane, Kaiga Co., Ltd., Haga-gun, Tochigi Prefecture Kao Stock Company (72) Inventor Katsumi Endo 2606 Kao, Kabushi, Kai-cho, Haga-gun, Tochigi Prefecture Shikisha Institute of Information Science
Claims (7)
が高く、上層部と下層部との間にあってはＣ濃度が低い
領域があることを特徴とする磁気記録媒体。1. An Fe—C—O based magnetic film is provided, wherein an upper layer portion and a lower layer portion of the Fe—C—O based magnetic film have a high C concentration, and are located between the upper layer portion and the lower layer portion. Is a magnetic recording medium having a region having a low C concentration.
いて、縦軸にＦｅ量、Ｃ量、及びＯ量（Ｆｅ量＋Ｃ量＋
Ｏ量＝１００％）を、横軸にスパッタ時間をとると、ス
パッタ開始近傍時とスパッタ終了近傍時においてＣ量に
山が認められるものであることを特徴とする磁気記録媒
体。2. An Fe—C—O based magnetic film is provided, and in the Auger electron spectroscopic analysis of the Fe—C—O based magnetic film, the vertical axis represents the Fe content, the C content, and the O content (Fe content). + C amount +
When the sputtering time is plotted on the horizontal axis (O content = 100%), a peak is found in the C content near the start of sputtering and near the end of sputtering.
Ｃ濃度のピーク値Ｃ 1 が１０〜５０ａｔ．％、下層部に
おけるＣ濃度のピークＣ2 は１０〜５０ａｔ．％である
ことを特徴とする請求項１又は請求項２の磁気記録媒
体。3. An upper layer portion of a Fe—C—O type magnetic film.
Peak value C of C concentration 1Is 10 to 50 at. %, In the lower layer
Peak C of C concentration inTwoIs 10 to 50 at. %
The magnetic recording medium according to claim 1 or 2,
body.
Ｃ濃度のピーク値Ｃ 1 が１０〜５０ａｔ．％、下層部に
おけるＣ濃度のピーク値Ｃ2 は１０〜５０ａｔ．％、前
記上層部と下層部との中間におけるＣ濃度Ｃ3 は５〜３
５ａｔ．％であり、Ｃ1 ＞Ｃ3 ，Ｃ2 ＞Ｃ3 であること
を特徴とする請求項１又は請求項２の磁気記録媒体。4. An upper layer portion of a Fe—C—O type magnetic film.
Peak value C of C concentration 1Is 10 to 50 at. %, In the lower layer
Peak value C of C concentration inTwoIs 10 to 50 at. %,Before
C concentration C between the upper and lower layersThreeIs 5 to 3
5 at. %, And C1> CThree, CTwo> CThreeBeing
3. The magnetic recording medium according to claim 1 or 2.
ピーク値Ｃ1 ，Ｃ2に対応した点においてはＦｅ濃度が
低下したものであることを特徴とする請求項１又は請求
項２の磁気記録媒体。5. The Fe concentration is lowered at a point corresponding to the peak values C 1 and C 2 of the C concentration in the Fe—C—O system magnetic film. Magnetic recording medium.
ピーク値Ｃ1 に対応した点と下層部におけるピーク値Ｃ
2 に対応した点との間においてはＯ濃度がほぼ一定であ
ることを特徴とする請求項１又は請求項２の磁気記録媒
体。6. A point corresponding to a peak value C 1 in the upper layer portion of the Fe—C—O system magnetic film and a peak value C in the lower layer portion.
3. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the O concentration is substantially constant between the point corresponding to 2 and the point corresponding to 2 .
Ｃ量、及びＯ量は ５０ａｔ．％≦Ｆｅ量≦９０ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｃ量≦３５ａｔ．％ ５ａｔ．％≦Ｏ量≦３５ａｔ．％ を満たすことを特徴とする請求項１〜請求項６いずれか
の磁気記録媒体。7. The amount of Fe in the Fe—C—O magnetic film,
The amount of C and the amount of O are 50 at. % ≦ Fe amount ≦ 90 at. % 5 at. % ≦ C amount ≦ 35 at. % 5 at. % ≦ O amount ≦ 35 at. %, The magnetic recording medium according to any one of claims 1 to 6.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29003595A JPH09134516A (en) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29003595A JPH09134516A (en) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | Magnetic recording medium |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09134516A true JPH09134516A (en) | 1997-05-20 |
Family
ID=17750948
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29003595A Pending JPH09134516A (en) | 1995-11-08 | 1995-11-08 | Magnetic recording medium |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09134516A (en) |
-
1995
- 1995-11-08 JP JP29003595A patent/JPH09134516A/en active Pending
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