JPH09162097A - 薬液吐出ノズル - Google Patents
薬液吐出ノズルInfo
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- JPH09162097A JPH09162097A JP31690595A JP31690595A JPH09162097A JP H09162097 A JPH09162097 A JP H09162097A JP 31690595 A JP31690595 A JP 31690595A JP 31690595 A JP31690595 A JP 31690595A JP H09162097 A JPH09162097 A JP H09162097A
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- Japan
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- chemical solution
- discharge nozzle
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- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 薬液を安定的に、しかも狙った位置に正確に
吐出することが可能な薬液吐出ノズルを提供することで
ある。 【解決手段】 外部から現像液吐出ノズル４に導入され
た現像液は、第１流路４２によって、一旦最下点４１ま
で導かれる。その後、現像液は、第２流路４４によっ
て、最下点４１よりも高い最上点４３に導かれる。第３
流路４５は、第２流路４４から流出した現像液に対して
鉛直方向下向きの速度成分を与える。第３流路４５から
流出した現像液は、現像液吐出孔４６を介して、基板Ｗ
へ吐出される。このように、現像液は、吐出時におい
て、鉛直方向下向きの速度成分のみが与えられるため、
基板Ｗ上での着液点が正確になる。
吐出することが可能な薬液吐出ノズルを提供することで
ある。 【解決手段】 外部から現像液吐出ノズル４に導入され
た現像液は、第１流路４２によって、一旦最下点４１ま
で導かれる。その後、現像液は、第２流路４４によっ
て、最下点４１よりも高い最上点４３に導かれる。第３
流路４５は、第２流路４４から流出した現像液に対して
鉛直方向下向きの速度成分を与える。第３流路４５から
流出した現像液は、現像液吐出孔４６を介して、基板Ｗ
へ吐出される。このように、現像液は、吐出時におい
て、鉛直方向下向きの速度成分のみが与えられるため、
基板Ｗ上での着液点が正確になる。
Description
【０００１】
【発明が属する技術分野】本発明は、薬液吐出ノズルに
関し、より特定的には、基板（半導体ウェハ、液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）のベースとなるガラス基板、フォト
マスク用のガラス基板、光ディスク用の基板など）の表
面に所定の薬液（現像液，エッチング液等）を供給する
薬液吐出ノズルに関する。
関し、より特定的には、基板（半導体ウェハ、液晶ディ
スプレイ（ＬＣＤ）のベースとなるガラス基板、フォト
マスク用のガラス基板、光ディスク用の基板など）の表
面に所定の薬液（現像液，エッチング液等）を供給する
薬液吐出ノズルに関する。
【０００２】
【従来の技術】周知のごとく、半導体デバイスや液晶デ
ィスプレイ等の製造工程においては、基板の表面に種々
の薬液（現像液，エッチング液等）を供給する必要があ
る。この薬液供給に使用されるのが、薬液吐出ノズルで
ある。この薬液吐出ノズルは、回動するノズルアームの
先端に支持され、薬液供給源から供給される薬液を、基
板の表面に向けて吐出する。
ィスプレイ等の製造工程においては、基板の表面に種々
の薬液（現像液，エッチング液等）を供給する必要があ
る。この薬液供給に使用されるのが、薬液吐出ノズルで
ある。この薬液吐出ノズルは、回動するノズルアームの
先端に支持され、薬液供給源から供給される薬液を、基
板の表面に向けて吐出する。
【０００３】図７は、従来の現像装置の各部の構成およ
び現像液供給時における現像装置と基板との配置関係を
説明するための参考図である。図７において、従来の現
像装置は、基板Ｗを真空吸着などによって保持するスピ
ンチャック５１と、モータ（図示せず）などからの駆動
力をスピンチャック５１へと伝達する回転軸５２と、基
板Ｗの表面に現像液Ｑを供給する現像液吐出ノズル５３
とを備える。現像液吐出ノズル５３は、導入管を通じて
供給された現像液Ｑを内部において所定位置へと導く現
像液流路５３１と、現像液流路５３１によって導かれた
現像液Ｑを吐出する現像液吐出孔５３２とを含む。この
現像液吐出ノズル５３は、スピンチャック５１に保持さ
れた基板Ｗに対して、直立状に配置された筒体５５によ
り構成されている。この筒体５５の下端面５５１は閉止
されており、その側壁５５２の所定位置には複数の現像
液吐出孔５３２が設けられている。
び現像液供給時における現像装置と基板との配置関係を
説明するための参考図である。図７において、従来の現
像装置は、基板Ｗを真空吸着などによって保持するスピ
ンチャック５１と、モータ（図示せず）などからの駆動
力をスピンチャック５１へと伝達する回転軸５２と、基
板Ｗの表面に現像液Ｑを供給する現像液吐出ノズル５３
とを備える。現像液吐出ノズル５３は、導入管を通じて
供給された現像液Ｑを内部において所定位置へと導く現
像液流路５３１と、現像液流路５３１によって導かれた
現像液Ｑを吐出する現像液吐出孔５３２とを含む。この
現像液吐出ノズル５３は、スピンチャック５１に保持さ
れた基板Ｗに対して、直立状に配置された筒体５５によ
り構成されている。この筒体５５の下端面５５１は閉止
されており、その側壁５５２の所定位置には複数の現像
液吐出孔５３２が設けられている。
【０００４】現像液吐出ノズル５３を基板Ｗに近接させ
た状態で、現像液Ｑが現像液流路５３１に供給される。
現像液Ｑは、現像液流路５３１によって案内された後、
下端面５５１に衝突する。そのため現像液Ｑは、その流
速が減速した後に、現像液吐出孔５３２から水平方向に
吐出される。このとき、基板Ｗは、スピンチャック５１
と回転軸５２とによって水平面内で回転しているため、
現像液は、基板Ｗの表面全域にわたって供給されること
となる。なお、この現像液吐出ノズルの詳細について
は、「特公平０５−６８０９２」号公報に記載されてい
る。
た状態で、現像液Ｑが現像液流路５３１に供給される。
現像液Ｑは、現像液流路５３１によって案内された後、
下端面５５１に衝突する。そのため現像液Ｑは、その流
速が減速した後に、現像液吐出孔５３２から水平方向に
吐出される。このとき、基板Ｗは、スピンチャック５１
と回転軸５２とによって水平面内で回転しているため、
現像液は、基板Ｗの表面全域にわたって供給されること
となる。なお、この現像液吐出ノズルの詳細について
は、「特公平０５−６８０９２」号公報に記載されてい
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本来、現像液Ｑは、基
板Ｗの回転中心に吐出されることが好ましい。そうすれ
ば、遠心力によって基板の表面全域にわたって均一に現
像液を供給することができる。しかしながら、上記のよ
うに構成された従来の現像液吐出ノズル５３では、現像
液吐出孔５３２から吐出される現像液Ｑの速度成分は、
そのほとんどが水平方向成分を有することとなり、落下
軌跡は放物線を描く。そのため、現像液Ｑの粘性や圧力
などによって、現像液Ｑの基板Ｗに対する到達位置は変
動しやすくなる。従って、従来の現像液吐出ノズル５３
は、現像液Ｑを基板Ｗの表面全域にわたって均一に供給
できないという問題点を有していた。
板Ｗの回転中心に吐出されることが好ましい。そうすれ
ば、遠心力によって基板の表面全域にわたって均一に現
像液を供給することができる。しかしながら、上記のよ
うに構成された従来の現像液吐出ノズル５３では、現像
液吐出孔５３２から吐出される現像液Ｑの速度成分は、
そのほとんどが水平方向成分を有することとなり、落下
軌跡は放物線を描く。そのため、現像液Ｑの粘性や圧力
などによって、現像液Ｑの基板Ｗに対する到達位置は変
動しやすくなる。従って、従来の現像液吐出ノズル５３
は、現像液Ｑを基板Ｗの表面全域にわたって均一に供給
できないという問題点を有していた。
【０００６】また、従来の現像液吐出ノズル５３では、
一旦現像液の供給が停止されると、その内部に現像液吐
出孔５３２から空気が混入する。しかも、空気は現像液
吐出ノズル５３の上部にまで混入することとなる。この
ように空気がノズル内に残留したままで再度現像液Ｑの
供給を開始すると、現像液吐出ノズル５３から安定的に
現像液Ｑを吐出することができなくなる。その結果、現
像特性が悪化するという問題点があった。
一旦現像液の供給が停止されると、その内部に現像液吐
出孔５３２から空気が混入する。しかも、空気は現像液
吐出ノズル５３の上部にまで混入することとなる。この
ように空気がノズル内に残留したままで再度現像液Ｑの
供給を開始すると、現像液吐出ノズル５３から安定的に
現像液Ｑを吐出することができなくなる。その結果、現
像特性が悪化するという問題点があった。
【０００７】なお、上記のような問題点は、他の薬液、
例えばエッチング液を基板に吐出するノズルについても
生じる。
例えばエッチング液を基板に吐出するノズルについても
生じる。
【０００８】それゆえに、本発明の目的は、薬液を安定
的に、しかも狙った位置に正確に吐出することが可能な
薬液吐出ノズルを提供することである。
的に、しかも狙った位置に正確に吐出することが可能な
薬液吐出ノズルを提供することである。
【０００９】
【００１０】第１の発明は、基板の表面に所定の薬液を
供給するための薬液吐出ノズルであって、導入管を通じ
て供給された薬液を上方から下方の先端近傍へと導く第
１流路と、第１流路によって導かれた薬液を放射状に分
流させる第２流路と、第２流路によって導かれた薬液に
対して鉛直方向下向きの速度成分を与える第３流路と、
第３流路によって鉛直方向下向きの速度成分が与えられ
た薬液を、基板表面上に吐出する薬液吐出孔とを備えて
いる。
供給するための薬液吐出ノズルであって、導入管を通じ
て供給された薬液を上方から下方の先端近傍へと導く第
１流路と、第１流路によって導かれた薬液を放射状に分
流させる第２流路と、第２流路によって導かれた薬液に
対して鉛直方向下向きの速度成分を与える第３流路と、
第３流路によって鉛直方向下向きの速度成分が与えられ
た薬液を、基板表面上に吐出する薬液吐出孔とを備えて
いる。
【００１１】上記第１の発明では、第１流路によって導
かれた薬液の流速を第２流路は、減速させて第３流路へ
導く。第３流路は、第２流路によって導かれた薬液に対
して鉛直方向下向きの速度成分を与える。そのため、薬
液吐出孔から基板表面に吐出される薬液はその流速が減
じられ、しかもその落下軌跡は、従来に比べて直線的な
方向性がつけられることとなる。その結果、薬液を基盤
表面に緩やかに着液させることができるとともに、薬液
の着液点が粘性や供給圧力に依存する度合いが少なくな
り、薬液を基板表面の所定位置に落下させることが可能
となる。
かれた薬液の流速を第２流路は、減速させて第３流路へ
導く。第３流路は、第２流路によって導かれた薬液に対
して鉛直方向下向きの速度成分を与える。そのため、薬
液吐出孔から基板表面に吐出される薬液はその流速が減
じられ、しかもその落下軌跡は、従来に比べて直線的な
方向性がつけられることとなる。その結果、薬液を基盤
表面に緩やかに着液させることができるとともに、薬液
の着液点が粘性や供給圧力に依存する度合いが少なくな
り、薬液を基板表面の所定位置に落下させることが可能
となる。
【００１２】第２の発明は、第１の発明において、第３
流路は、薬液が流れる方向を完全に鉛直方向下向きに変
換することを特徴とする。
流路は、薬液が流れる方向を完全に鉛直方向下向きに変
換することを特徴とする。
【００１３】上記第２の発明では、第３流路によって、
薬液の流れる方向が完全に鉛直方向下向きに変換される
ので、薬液吐出孔から吐出される薬液は、鉛直方向下向
きに落下して基板表面に着液する。そのため、薬液を基
板表面の所定位置に極めて正確に落下させることが可能
となる。
薬液の流れる方向が完全に鉛直方向下向きに変換される
ので、薬液吐出孔から吐出される薬液は、鉛直方向下向
きに落下して基板表面に着液する。そのため、薬液を基
板表面の所定位置に極めて正確に落下させることが可能
となる。
【００１４】第３の発明は、第１または第２の発明にお
いて、第２流路は、第１流路によって導かれた薬液を落
差を付けずに第３流路まで導くことを特徴とする。
いて、第２流路は、第１流路によって導かれた薬液を落
差を付けずに第３流路まで導くことを特徴とする。
【００１５】第４の発明は、第１または第２の発明にお
いて、第２流路は、第１流路によって導かれた薬液を上
向きの落差を付けて第３流路に導くことを特徴とする。
いて、第２流路は、第１流路によって導かれた薬液を上
向きの落差を付けて第３流路に導くことを特徴とする。
【００１６】上記第４の発明では、第２流路は、第１流
路によって導かれた薬液を上向きの落差を付けて第３流
路に導くため、たとえ導入管を通じて薬液の供給が停止
されても、薬液吐出孔から混入する空気は、第２流路の
途中でとまり、第１の流路内には混入しない。また、薬
液の吐出を再開すると、第２流路の一部と第３流路に混
入した空気は、薬液の圧力によって全て薬液吐出ノズル
から押し出されてしまうため、薬液吐出ノズル内に空気
が長時間残留することはない。従って、薬液の吐出再開
後に薬液の吐出安定性が損なわれることがない。
路によって導かれた薬液を上向きの落差を付けて第３流
路に導くため、たとえ導入管を通じて薬液の供給が停止
されても、薬液吐出孔から混入する空気は、第２流路の
途中でとまり、第１の流路内には混入しない。また、薬
液の吐出を再開すると、第２流路の一部と第３流路に混
入した空気は、薬液の圧力によって全て薬液吐出ノズル
から押し出されてしまうため、薬液吐出ノズル内に空気
が長時間残留することはない。従って、薬液の吐出再開
後に薬液の吐出安定性が損なわれることがない。
【００１７】第５の発明は、基板の表面に所定の薬液を
供給するための薬液吐出ノズルであって、導入管を通じ
て供給された薬液を上方から下方の先端近傍へと導く第
１流路と、第１流路によって導かれた薬液を放射状に分
流させる第２流路と、第２流路によって導かれた薬液を
水平方向へ吐出する薬液吐出孔と、薬液吐出孔から吐出
された薬液の落下方向を鉛直方向下向きに変える整流板
とを備えている。
供給するための薬液吐出ノズルであって、導入管を通じ
て供給された薬液を上方から下方の先端近傍へと導く第
１流路と、第１流路によって導かれた薬液を放射状に分
流させる第２流路と、第２流路によって導かれた薬液を
水平方向へ吐出する薬液吐出孔と、薬液吐出孔から吐出
された薬液の落下方向を鉛直方向下向きに変える整流板
とを備えている。
【００１８】上記第５の発明では、第１流路によって導
かれた薬液の流速を第２流路は減速させて、薬液を薬液
吐出孔から水平方向に吐出する。整流板は、薬液吐出孔
から吐出された薬液に対して鉛直方向下向きの速度成分
を与える。そのため、整流板から基板表面に落下する薬
液は、その流速が減じられ、さらにその軌跡は、従来に
比べて直線的な方向性がつけられることとなる。その結
果、薬液を基盤表面に緩やかに着液させることができる
とともに、薬液の着液点が粘性や供給圧力に依存する度
合いが少なくなり、薬液を基板表面の所定位置に落下さ
せることが可能となる。
かれた薬液の流速を第２流路は減速させて、薬液を薬液
吐出孔から水平方向に吐出する。整流板は、薬液吐出孔
から吐出された薬液に対して鉛直方向下向きの速度成分
を与える。そのため、整流板から基板表面に落下する薬
液は、その流速が減じられ、さらにその軌跡は、従来に
比べて直線的な方向性がつけられることとなる。その結
果、薬液を基盤表面に緩やかに着液させることができる
とともに、薬液の着液点が粘性や供給圧力に依存する度
合いが少なくなり、薬液を基板表面の所定位置に落下さ
せることが可能となる。
【００１９】
【発明の実施の形態】図１は、本発明の一実施形態に係
る現像液吐出ノズルを備える現像装置の構成を示すブロ
ック図である。図１において、現像装置は、基板Ｗを真
空吸着によって保持するスピンチャック１と、モータ２
から発生した駆動力をスピンチャック１へと伝達する回
転軸３と、基板Ｗの表面上に現像液を吐出する現像液吐
出ノズル４と、現像液吐出ノズル４を回動可能に支持す
るノズルアーム５と、図示しない現像液収容部から現像
液を現像液吐出ノズル４へと導入する現像液導入管６
と、現像液導入管６内を流れる現像液の温度を使用適温
に保つ現像液温調部７とを備える。本実施形態において
は、現像液導入管６は、ノズルアーム５の内部を通され
ている（点線部参照）。なお、現像液温調部７の詳細な
構成については、「実公平０５−２０４６９」号公報な
どに記載されているのでその説明を略する。なお、現像
装置は、上記構成以外にも、種々の構成を有しているが
本発明の趣旨とは関連性がないためその説明を略する。
る現像液吐出ノズルを備える現像装置の構成を示すブロ
ック図である。図１において、現像装置は、基板Ｗを真
空吸着によって保持するスピンチャック１と、モータ２
から発生した駆動力をスピンチャック１へと伝達する回
転軸３と、基板Ｗの表面上に現像液を吐出する現像液吐
出ノズル４と、現像液吐出ノズル４を回動可能に支持す
るノズルアーム５と、図示しない現像液収容部から現像
液を現像液吐出ノズル４へと導入する現像液導入管６
と、現像液導入管６内を流れる現像液の温度を使用適温
に保つ現像液温調部７とを備える。本実施形態において
は、現像液導入管６は、ノズルアーム５の内部を通され
ている（点線部参照）。なお、現像液温調部７の詳細な
構成については、「実公平０５−２０４６９」号公報な
どに記載されているのでその説明を略する。なお、現像
装置は、上記構成以外にも、種々の構成を有しているが
本発明の趣旨とは関連性がないためその説明を略する。
【００２０】図２は、図１に示す現像液吐出ノズル４の
第１の構成例を示す部分断面図である。図２において、
現像液吐出ノズル４は、現像液導入管６から導入された
現像液（矢印参照）を一旦最下点４１まで導く第１流路
４２と、第１流路４２によって導かれた現像液を鉛直方
向への流下を遮る遮蔽部６５に沿って、かつ上向きの落
差を付けて、すなわち最下点４１よりも高い最上点４３
まで導く第２流路４４と、第２流路４４によって導かれ
た現像液に対して鉛直方向下向きの速度成分を与える第
３流路４５と、基板Ｗへ現像液を吐出する現像液吐出孔
４６とを含む。なお、第２流路４４は、好ましくは、第
１流路４２から放射状に所定の路数だけ分岐されている
が、その態様に限らず例えば、遮蔽部６５を支持する部
分以外、３６０度の方向にわたって第２流路４４が連通
するようにしてもよい。また、第２流路４４は、上向き
の落差を付けて現像液を導くための構成として、いわゆ
る「クランク」型の構造を有している。
第１の構成例を示す部分断面図である。図２において、
現像液吐出ノズル４は、現像液導入管６から導入された
現像液（矢印参照）を一旦最下点４１まで導く第１流路
４２と、第１流路４２によって導かれた現像液を鉛直方
向への流下を遮る遮蔽部６５に沿って、かつ上向きの落
差を付けて、すなわち最下点４１よりも高い最上点４３
まで導く第２流路４４と、第２流路４４によって導かれ
た現像液に対して鉛直方向下向きの速度成分を与える第
３流路４５と、基板Ｗへ現像液を吐出する現像液吐出孔
４６とを含む。なお、第２流路４４は、好ましくは、第
１流路４２から放射状に所定の路数だけ分岐されている
が、その態様に限らず例えば、遮蔽部６５を支持する部
分以外、３６０度の方向にわたって第２流路４４が連通
するようにしてもよい。また、第２流路４４は、上向き
の落差を付けて現像液を導くための構成として、いわゆ
る「クランク」型の構造を有している。
【００２１】以下、上記第１の構成例における現像液の
流れについて説明する。基板Ｗがスピンチャック１に保
持された状態において、現像液吐出ノズル４はノズルア
ーム５により基板Ｗ上の所定位置に配置される。このと
き、現像液吐出ノズル４は、その少なくとも１つの現像
液吐出孔４６が基板Ｗの回転中心真上に位置するよう
に、ノズルアーム５によって位置決めされる。また、現
像液吐出ノズル４は、基板Ｗから所定距離をおいて近接
している。
流れについて説明する。基板Ｗがスピンチャック１に保
持された状態において、現像液吐出ノズル４はノズルア
ーム５により基板Ｗ上の所定位置に配置される。このと
き、現像液吐出ノズル４は、その少なくとも１つの現像
液吐出孔４６が基板Ｗの回転中心真上に位置するよう
に、ノズルアーム５によって位置決めされる。また、現
像液吐出ノズル４は、基板Ｗから所定距離をおいて近接
している。
【００２２】上記のような状態において、現像液温調部
７によって使用適温にされた現像液は、現像液導入管６
を介して、現像液吐出ノズル４に導入される。現像液吐
出ノズル４に導入された現像液は、まず第１流路４２に
よって導かれ、最下点４１に到達する。最下点４１に到
達した現像液は、遮蔽部６５に沿って「クランク」型に
構成された第２流路４４によって導かれ、この第２流路
４４では、現像液は鉛直方向への流下を遮蔽部６５によ
って遮られており、流速が減速される。そして、現像液
は最上点４３へと到達する。最上点４３に到達した現像
液は、鉛直方向に沿って延びる第３流路４５に当たり、
これによって鉛直方向下向きの速度成分を有するように
整流されて、現像液吐出孔４６から吐出される。
７によって使用適温にされた現像液は、現像液導入管６
を介して、現像液吐出ノズル４に導入される。現像液吐
出ノズル４に導入された現像液は、まず第１流路４２に
よって導かれ、最下点４１に到達する。最下点４１に到
達した現像液は、遮蔽部６５に沿って「クランク」型に
構成された第２流路４４によって導かれ、この第２流路
４４では、現像液は鉛直方向への流下を遮蔽部６５によ
って遮られており、流速が減速される。そして、現像液
は最上点４３へと到達する。最上点４３に到達した現像
液は、鉛直方向に沿って延びる第３流路４５に当たり、
これによって鉛直方向下向きの速度成分を有するように
整流されて、現像液吐出孔４６から吐出される。
【００２３】上記のように、現像液は、第２流路４４で
その流速が減じられたうえで、第３流路４５によってほ
ぼ鉛直方向下向きの速度成分のみが与えられて現像液吐
出孔４６から吐出される。そのため、現像液の落下軌跡
が鉛直方向下向きになり、その結果、現像液の着液点が
粘性や圧力によって受ける影響が少なくなり、基板Ｗに
対する現像液の到達位置は、常時一定になる。これによ
って、現像液を均一に基板Ｗに供給することが可能とな
る。
その流速が減じられたうえで、第３流路４５によってほ
ぼ鉛直方向下向きの速度成分のみが与えられて現像液吐
出孔４６から吐出される。そのため、現像液の落下軌跡
が鉛直方向下向きになり、その結果、現像液の着液点が
粘性や圧力によって受ける影響が少なくなり、基板Ｗに
対する現像液の到達位置は、常時一定になる。これによ
って、現像液を均一に基板Ｗに供給することが可能とな
る。
【００２４】また、第２流路４４でその流速が減じられ
て、現像液を基盤表面に緩やかに着液させることができ
るので、基盤表面に現像液が強い衝撃で着液することに
よる現像むら（現像液が基盤表面に強い衝撃で着液する
とその部分の現像が進行する）をなくすことができる。
て、現像液を基盤表面に緩やかに着液させることができ
るので、基盤表面に現像液が強い衝撃で着液することに
よる現像むら（現像液が基盤表面に強い衝撃で着液する
とその部分の現像が進行する）をなくすことができる。
【００２５】次に、現像液吐出ノズル４に対する現像液
の供給が停止された場合について考えてみる。このと
き、空気の逆流によって現像液吐出孔４６から流れ出す
現像液は、第２流路４４の一部および第３流路４５内の
現像液である。より詳細には、最上点４３から下流側の
領域（図２おいて、ドットを付した領域α）の現像液が
流れ出す。最上点４３よりも上流側にある現像液は、内
部から押し出す圧力が無い限り、外部へ流れ出さない。
このとき、ノズルに対する現像液の供給は停止されてい
るため、押し出す圧力は与えられておらず、従って領域
α以外の現像液はノズル内に残留することとなる。すな
わち、現像液吐出孔４６から空気が逆流したとしても第
２流路４４の途中までである。従って、空気は、一般的
に大きな容積を有する第１流路４２へ混入することがな
い。しかも、現像液の供給を再開すると、第２流路４４
および第３流路４５に混入した空気は、現像液の圧力に
よって、全て現像液吐出孔４６から押し出されてしま
い、現像液吐出ノズル４内に空気が長時間残留すること
がない。従って、吐出再開時における現像液吐出ノズル
４の吐出安定性が損なわれることがない。
の供給が停止された場合について考えてみる。このと
き、空気の逆流によって現像液吐出孔４６から流れ出す
現像液は、第２流路４４の一部および第３流路４５内の
現像液である。より詳細には、最上点４３から下流側の
領域（図２おいて、ドットを付した領域α）の現像液が
流れ出す。最上点４３よりも上流側にある現像液は、内
部から押し出す圧力が無い限り、外部へ流れ出さない。
このとき、ノズルに対する現像液の供給は停止されてい
るため、押し出す圧力は与えられておらず、従って領域
α以外の現像液はノズル内に残留することとなる。すな
わち、現像液吐出孔４６から空気が逆流したとしても第
２流路４４の途中までである。従って、空気は、一般的
に大きな容積を有する第１流路４２へ混入することがな
い。しかも、現像液の供給を再開すると、第２流路４４
および第３流路４５に混入した空気は、現像液の圧力に
よって、全て現像液吐出孔４６から押し出されてしま
い、現像液吐出ノズル４内に空気が長時間残留すること
がない。従って、吐出再開時における現像液吐出ノズル
４の吐出安定性が損なわれることがない。
【００２６】図３は、図１に示す現像液吐出ノズル４の
第２の構成例を示す部分断面図である。なお、図３に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図２に示す
第１の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図３に示す
第２の構成例は、流路４２から流入した現像液を第３流
路４５へと導く第２流路４７の形状が、第１の構成例に
おけるそれ（第２流路４４）と異なっている。すなわ
ち、第２流路４７は、鉛直方向への流下を遮る遮蔽部６
５に沿って、最下点４１と最上点４３との間を直線的に
結んだ傾斜構造を有している。この第２の構成例に係る
現像液吐出ノズル４もまた、現像液の供給が停止される
と、最上点４３よりも下流側の領域（図３において、ド
ットを付した領域β）においてのみ、現像液が流れ出
し、その他の領域における現像液がノズル内に残留す
る。そのため、前述した第１の構成例に係る現像液吐出
ノズル４と同様の効果が得られる。また、現像液吐出孔
４６から吐出される現像液は、第２流路４７で流速が減
じられたうえで、第３流路４５によってほぼ鉛直方向下
向きの速度成分のみを与えられることになる。そのた
め、現像液を基盤表面に緩やかに着液させることができ
るとともに、基板Ｗに対する現像液の到達位置は、常時
一定になる。
第２の構成例を示す部分断面図である。なお、図３に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図２に示す
第１の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図３に示す
第２の構成例は、流路４２から流入した現像液を第３流
路４５へと導く第２流路４７の形状が、第１の構成例に
おけるそれ（第２流路４４）と異なっている。すなわ
ち、第２流路４７は、鉛直方向への流下を遮る遮蔽部６
５に沿って、最下点４１と最上点４３との間を直線的に
結んだ傾斜構造を有している。この第２の構成例に係る
現像液吐出ノズル４もまた、現像液の供給が停止される
と、最上点４３よりも下流側の領域（図３において、ド
ットを付した領域β）においてのみ、現像液が流れ出
し、その他の領域における現像液がノズル内に残留す
る。そのため、前述した第１の構成例に係る現像液吐出
ノズル４と同様の効果が得られる。また、現像液吐出孔
４６から吐出される現像液は、第２流路４７で流速が減
じられたうえで、第３流路４５によってほぼ鉛直方向下
向きの速度成分のみを与えられることになる。そのた
め、現像液を基盤表面に緩やかに着液させることができ
るとともに、基板Ｗに対する現像液の到達位置は、常時
一定になる。
【００２７】図４は、図１に示す現像液吐出ノズル４の
第３の構成例を示す部分断面図である。なお、図４に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図２に示す
第１の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図４に示す
第３の構成例は、流路４２から流入した現像液を第３流
路４５へと導く第２流路４８の形状が、第１の構成例に
おけるそれ（第２流路４４）と異なっている。すなわ
ち、第２流路４８は、鉛直方向への流下を遮る遮蔽部６
５に沿って形成され、最下点４１から水平方向に放射状
に現像液を導く。
第３の構成例を示す部分断面図である。なお、図４に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図２に示す
第１の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図４に示す
第３の構成例は、流路４２から流入した現像液を第３流
路４５へと導く第２流路４８の形状が、第１の構成例に
おけるそれ（第２流路４４）と異なっている。すなわ
ち、第２流路４８は、鉛直方向への流下を遮る遮蔽部６
５に沿って形成され、最下点４１から水平方向に放射状
に現像液を導く。
【００２８】上記第３の構成例において、最下点４１に
到達した現像液は、最下点から水平方向に形成された第
２流路４８を流れ、第２流路４８で流速が減じられたう
えで、第３流路４５に導かれる。第３流路４５は、現像
液に対して鉛直方向下向きの速度成分を有するように整
流し、整流された現像液が現像液吐出孔４６から吐出さ
れる。従って、基板表面に現像液を緩やかに着液させる
ことができるとともに、基盤Ｗに対する現像液の到達位
置が、常時一定になる。
到達した現像液は、最下点から水平方向に形成された第
２流路４８を流れ、第２流路４８で流速が減じられたう
えで、第３流路４５に導かれる。第３流路４５は、現像
液に対して鉛直方向下向きの速度成分を有するように整
流し、整流された現像液が現像液吐出孔４６から吐出さ
れる。従って、基板表面に現像液を緩やかに着液させる
ことができるとともに、基盤Ｗに対する現像液の到達位
置が、常時一定になる。
【００２９】図５は、図１に示す現像液吐出ノズル４の
第４の構成例を示す部分断面図である。なお、図５に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図４に示す
第３の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図５に示す
第４の構成例では、現像液を整流するための第３流路４
９が下向きに傾斜するように形成されている。そのた
め、第４の構成例では、現像液吐出孔４６から吐出され
る現像液は、水平方向の速度成分も含むことになる。し
かしながら、垂直方向の速度成分も含むため、吐出され
た現像液の落下軌跡は、従来の現像液吐出ノズルの場合
と比べて、直線的な方向性がつけられることとなる。そ
の結果、現像液の着液点が粘性や圧力によって受ける影
響が少なくなり、基板Ｗに対する現像液の到達位置は、
常時一定になる。これによって、現像液を均一に基板Ｗ
に供給することが可能となる。
第４の構成例を示す部分断面図である。なお、図５に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図４に示す
第３の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図５に示す
第４の構成例では、現像液を整流するための第３流路４
９が下向きに傾斜するように形成されている。そのた
め、第４の構成例では、現像液吐出孔４６から吐出され
る現像液は、水平方向の速度成分も含むことになる。し
かしながら、垂直方向の速度成分も含むため、吐出され
た現像液の落下軌跡は、従来の現像液吐出ノズルの場合
と比べて、直線的な方向性がつけられることとなる。そ
の結果、現像液の着液点が粘性や圧力によって受ける影
響が少なくなり、基板Ｗに対する現像液の到達位置は、
常時一定になる。これによって、現像液を均一に基板Ｗ
に供給することが可能となる。
【００３０】なお、現像液の流速を減じて現像液を基盤
表面に緩やかに着液させることができることは、上記各
構成例と同様である。
表面に緩やかに着液させることができることは、上記各
構成例と同様である。
【００３１】図６は、図１に示す現像液吐出ノズル４の
第５の構成例を示す部分断面図である。なお、図６に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図４に示す
第３の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図６に示す
第５の構成例では、現像液を鉛直方向下向きに整流する
ための第３流路が形成されていない。それに代えて、ほ
ぼ４５°の角度をもって傾斜する整流板６１が、各現像
液吐出孔４６の近傍に設けられている。この整流板６１
は、現像液吐出孔４６から水平方向に吐出された現像液
の落下方向を鉛直方向下向きに変える。これによって、
吐出された現像液は、鉛直方向下向きに落下し、基板Ｗ
上の狙った位置に着液する。
第５の構成例を示す部分断面図である。なお、図６に示
す現像液吐出ノズルは、以下の点を除いて、図４に示す
第３の構成例と同一の構成を有し、相当する部分には同
一の参照番号を付し、その説明を省略する。図６に示す
第５の構成例では、現像液を鉛直方向下向きに整流する
ための第３流路が形成されていない。それに代えて、ほ
ぼ４５°の角度をもって傾斜する整流板６１が、各現像
液吐出孔４６の近傍に設けられている。この整流板６１
は、現像液吐出孔４６から水平方向に吐出された現像液
の落下方向を鉛直方向下向きに変える。これによって、
吐出された現像液は、鉛直方向下向きに落下し、基板Ｗ
上の狙った位置に着液する。
【００３２】なお、現像液の流速を減じて現像液を基盤
表面に緩やかに着液させることができることは、上記各
構成例と同様である。
表面に緩やかに着液させることができることは、上記各
構成例と同様である。
【００３３】なお、上述した各実施形態においては、現
像液を吐出するノズルについて説明したが、本発明は、
その他の薬液、例えばエッチング液を吐出するノズルに
ついても適用が可能である。
像液を吐出するノズルについて説明したが、本発明は、
その他の薬液、例えばエッチング液を吐出するノズルに
ついても適用が可能である。
【図１】本発明の一実施形態に係る現像液吐出ノズルを
備える現像装置の構成を示すブロック図である。
備える現像装置の構成を示すブロック図である。
【図２】図１に示す現像液吐出ノズル４の第１の構成例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図３】図１に示す現像液吐出ノズル４の第２の構成例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図４】図１に示す現像液吐出ノズル４の第３の構成例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図５】図１に示す現像液吐出ノズル４の第４の構成例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図６】図１に示す現像液吐出ノズル４の第５の構成例
を示す部分断面図である。
を示す部分断面図である。
【図７】従来の現像液供給ユニットの各部の構成および
現像液供給時における現像液供給ユニットと基板との配
置関係を説明するための参考図である。
現像液供給時における現像液供給ユニットと基板との配
置関係を説明するための参考図である。
Ｗ…基板 １…スピンチャック ２…モータ ３…回転軸 ４…現像液吐出ノズル ４１…最下点 ４２…第１流路 ４３…最上点 ４４，４７，４８…第２流路 ４５，４９…第３流路 ４６…現像液吐出孔 ５…ノズルアーム ６…現像液導入管 ７…現像液温調部 ６１…整流板 ６５…遮蔽部
Claims (5)
- 【請求項１】 基板の表面に所定の薬液を供給するため
の薬液吐出ノズルであって、 導入管を通じて供給された薬液を上方から下方の先端近
傍へと導く第１流路と、 前記第１流路によって導かれた薬液を放射状に分流させ
る第２流路と、 前記第２流路によって導かれた薬液に対して鉛直方向下
向きの速度成分を与える第３流路と、 前記第３流路によって鉛直方向下向きの速度成分が与え
られた薬液を、前記基板表面上に吐出する薬液吐出孔と
を備える、薬液吐出ノズル。 - 【請求項２】 前記第３流路は、前記薬液が流れる方向
を完全に鉛直方向下向きに変換することを特徴とする、
請求項１に記載の薬液吐出ノズル。 - 【請求項３】 前記第２流路は、前記第１流路によって
導かれた薬液を落差を付けずに前記第３流路まで導くこ
とを特徴とする、請求項１または２に記載の薬液吐出ノ
ズル。 - 【請求項４】 前記第２流路は、前記第１流路によって
導かれた薬液を上向きの落差を付けて前記第３流路に導
くことを特徴とする、請求項１または２に記載の薬液吐
出ノズル。 - 【請求項５】 基板の表面に所定の薬液を供給するため
の薬液吐出ノズルであって、 導入管を通じて供給された薬液を上方から下方の先端近
傍へと導く第１流路と、 前記第１流路によって導かれた薬液を放射状に分流させ
る第２流路と、 前記第２流路によって導かれた薬液を水平方向へ吐出す
る薬液吐出孔と、 前記薬液吐出孔から吐出された薬液の落下方向を鉛直方
向下向きに変える整流板とを備える、薬液吐出ノズル。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31690595A JP3398272B2 (ja) | 1995-12-05 | 1995-12-05 | 薬液吐出ノズル |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31690595A JP3398272B2 (ja) | 1995-12-05 | 1995-12-05 | 薬液吐出ノズル |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09162097A true JPH09162097A (ja) | 1997-06-20 |
| JP3398272B2 JP3398272B2 (ja) | 2003-04-21 |
Family
ID=18082226
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31690595A Expired - Lifetime JP3398272B2 (ja) | 1995-12-05 | 1995-12-05 | 薬液吐出ノズル |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3398272B2 (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006231286A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Toray Ind Inc | 口金及びそれを用いた塗液の塗布装置及び方法並びにプラズマディスプレイパネル用部材の製造装置及び方法 |
| JP2009231620A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2016152354A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| JP2016157852A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| US10297476B2 (en) | 2015-02-25 | 2019-05-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US10332761B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-06-25 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
-
1995
- 1995-12-05 JP JP31690595A patent/JP3398272B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006231286A (ja) * | 2005-02-28 | 2006-09-07 | Toray Ind Inc | 口金及びそれを用いた塗液の塗布装置及び方法並びにプラズマディスプレイパネル用部材の製造装置及び方法 |
| JP2009231620A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Sokudo Co Ltd | 基板処理装置 |
| JP2016152354A (ja) * | 2015-02-18 | 2016-08-22 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| US10332761B2 (en) | 2015-02-18 | 2019-06-25 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US11075095B2 (en) | 2015-02-18 | 2021-07-27 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| US11610790B2 (en) | 2015-02-18 | 2023-03-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
| JP2016157852A (ja) * | 2015-02-25 | 2016-09-01 | 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス | 基板処理装置 |
| US10297476B2 (en) | 2015-02-25 | 2019-05-21 | SCREEN Holdings Co., Ltd. | Substrate processing apparatus |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3398272B2 (ja) | 2003-04-21 |
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