JPH091543A - Wafer recovering device for slicing machine - Google Patents

Wafer recovering device for slicing machine

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Publication number
JPH091543A
JPH091543A JP15000895A JP15000895A JPH091543A JP H091543 A JPH091543 A JP H091543A JP 15000895 A JP15000895 A JP 15000895A JP 15000895 A JP15000895 A JP 15000895A JP H091543 A JPH091543 A JP H091543A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wafer
work
suction
slicing
suction member
Prior art date
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Pending
Application number
JP15000895A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshinori Abe
義紀 阿部
Yoshihiro Tadera
慶宏 田寺
Tatsumi Hamazaki
辰己 濱崎
Keiji Kawaguchi
桂司 川口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyo Advanced Technologies Co Ltd
Original Assignee
Toyo Advanced Technologies Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toyo Advanced Technologies Co Ltd filed Critical Toyo Advanced Technologies Co Ltd
Priority to JP15000895A priority Critical patent/JPH091543A/en
Publication of JPH091543A publication Critical patent/JPH091543A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To recover a wafer by satisfactorily sucking and holding the wafer without operating an unreasonable force at the wafer by a simple structure. CONSTITUTION: The wafer recovering device recovers the wafer W quarried from a work by cutting and feeding the work to the inner peripheral edge of the blade rotatably driven. The device comprises a support member such as a sucking and mounting member 40, a sucking member for sucking the wafer W, and fixing member for so coupling the both as to be able to relatively displace the both in a work axis direction via a leaf spring 41 and fixing the relative positions of the both at arbitrary positions. The support member moves between the contact position in contact with the work end face while the sucking member relatively displaces to the support member and the retracted position for retracting from the contact position.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、半導体インゴット等の
ワークを切断してウェハを切り出すためのスライシング
装置に設けられ、切り出された上記ウェハを保持して回
収するための装置に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an apparatus provided in a slicing device for cutting a work such as a semiconductor ingot to cut out a wafer, and holding and recovering the cut out wafer.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、上記のようなスライシング装置と
しては、ワークを回転させずにそのスライシングを行う
ワーク非回転型のものと、ワークを回転させながらスラ
イシングを行うワーク回転型のものとが知られている。
前者のワーク非回転型の場合には、ワークの一端から切
り込みが開始され、最後に他端が切断されてウェハが切
り出されることになり、後者のワーク回転型の場合に
は、ワークがその外周から中心に向かって徐々に切り込
まれ、最後に中心部分が切断されることになる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a slicing device as described above, there are known a work non-rotating type which performs slicing without rotating the work and a work rotating type which performs slicing while rotating the work. Has been.
In the case of the former work non-rotating type, cutting starts from one end of the work, and the other end is cut off at the end to cut out the wafer. From there, it is gradually cut toward the center, and finally the central part is cut.

【0003】これらのスライシング装置では、切り出さ
れるウェハを回収するために、このウェハの切り出し完
了時点よりも前の段階から当該ウェハを予め保持してお
く必要がある。従来、このようなウェハの回収には次の
ような手段がとられている。
In these slicing apparatuses, in order to collect the wafer to be cut out, it is necessary to hold the wafer in advance from the stage before the completion of cutting of the wafer. Conventionally, the following measures have been taken to recover such a wafer.

【0004】A)ワーク非回転形の場合:予めワークの
一端にワーク軸方向に延びるカーボン等のスライスベー
スを接着しておく(例えば特開平1−182011号公
報参照)。そして、上記ワークの他端から切り込みを開
始し、ワークを完全に切断した後、スライスベースを完
全に切断する前の時点で一旦切断動作を止める。これに
より、ワーク本体と切り出されたウェハとがスライスベ
ースのみを介してつながった状態となる。この状態で、
上記ウェハの側面に微小隙間を残して吸着部材を近接さ
せ、エア吸引等によって上記ウェハを吸着させる。この
時、ワークに上記吸着方向の引張力が働くが、このウェ
ハと残りのワークとは完全に切断されているため、ウェ
ハに割れ等が発生するおそれはほとんどない。その後、
上記切断動作を再開し、スライスベースも完全に切断す
ることにより、ウェハをワークから完全に切り離すこと
ができる。
A) In case of non-rotating work: A slice base made of carbon or the like extending in the work axial direction is adhered to one end of the work in advance (for example, refer to JP-A-1-182011). Then, cutting is started from the other end of the work, and after the work is completely cut, the cutting operation is temporarily stopped before the slice base is completely cut. As a result, the work body and the cut wafer are connected to each other only via the slice base. In this state,
A suction member is brought close to the side surface of the wafer leaving a minute gap, and the wafer is sucked by air suction or the like. At this time, the tensile force in the suction direction acts on the work, but since the wafer and the rest of the work are completely cut, there is almost no risk of cracks or the like occurring in the wafer. afterwards,
By restarting the cutting operation and completely cutting the slice base, the wafer can be completely separated from the work.

【0005】B)ワーク回転型の場合には、ワークが外
周から径方向内側に向けて切り込まれ。最後にワーク中
心部分が残るので、上記のようなスライスベースを用い
ることはできない。そこで、特開昭58−55208号
公報には、ウェハを吸着するウェハチャックに加え、ワ
ーク前面とウェハチャックとの接触を検出する検出子
と、この接触子により接触が検出された時点でウェハチ
ャックの移動を自動停止させる位置決め制御手段とを備
えたものが開示されている。この装置によれば、次の要
領でワークを回収できる。
B) In the case of the work rotating type, the work is cut from the outer circumference toward the inner side in the radial direction. Since the work center part remains at the end, the slice base as described above cannot be used. Therefore, in Japanese Patent Laid-Open No. 58-55208, in addition to a wafer chuck for sucking a wafer, a detector for detecting the contact between the front surface of the work and the wafer chuck, and a wafer chuck when the contact is detected by the contact And a positioning control means for automatically stopping the movement of the. According to this device, the work can be collected in the following manner.

【0006】まず、ワークからウェハチャックを離間
させてワークをフリーの状態にし、この状態でワークを
回転させながらその前端を外周よりブレードで切り込ん
でいき、ワーク中心における未切断部分(芯)の径が所
定値まで減少した時点で一旦ワークの回転を停止させ
る。
First, the wafer chuck is separated from the work to make the work free, and while rotating the work in this state, the front end of the work is cut by the blade from the outer circumference, and the diameter of the uncut portion (core) at the center of the work. The rotation of the work is temporarily stopped when is reduced to a predetermined value.

【0007】上記ウェハチャックをワーク前面に近づ
け、このウェハチャックがワーク前面に接触したことを
検出した時点で、ウェハチャックの移動を止める。
When the wafer chuck is brought close to the front surface of the work and it is detected that the wafer chuck contacts the front surface of the work, the movement of the wafer chuck is stopped.

【0008】上記接触状態でウェハチャックを真空源
に連通し、ワーク前面の吸引を行わせる。
In the above contact state, the wafer chuck is connected to a vacuum source to suck the front surface of the work.

【0009】今度はワークを回転させずに切断動作を
再開し、上記芯の部分を切断してウェハをワークから完
全に切り離す。この時、切り出されたウェハは上記ウェ
ハチャックにより吸引され、保持された状態となってい
る。このウェハを所定の回収場所まで搬送する。
This time, the cutting operation is restarted without rotating the work, and the core portion is cut to completely separate the wafer from the work. At this time, the cut-out wafer is held and held by the wafer chuck. This wafer is transported to a predetermined collection place.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上記従来技術では、次
のような解決すべき課題がある。
The above-mentioned prior art has the following problems to be solved.

【0011】A)の場合、ワークにスライスベースを接
着しなければならず、また、ウェハ切り出し後は、この
ウェハからスライスベースを剥離させる作業が必要であ
り、その分コストアップとなる。
In the case of A), the slice base must be adhered to the work, and after the wafer is cut out, the work of peeling the slice base from the wafer is required, which increases the cost.

【0012】B)の場合、ウェハとウェハチャックとの
接触を検出するための検出子や、この接触子により接触
が検出された時点でウェハチャックの移動を自動停止さ
せる位置決め制御手段が必要であり、やはり装置全体の
コストが高くなる。また、これら検出子や位置決め制御
手段を用いても、ワーク前面とウェハチャックとが接触
を開始した時点で正確にウェハチャックを停止させるこ
とは困難であり、実際には、その接触開始時点とウェハ
チャックの停止時点との間にずれが生じる。この時、ウ
ェハチャックの停止タイミングが接触完了タイミングよ
りも遅れた分だけウェハにウェハチャックが無理な力で
押付けられることになり、ウェハ切離し時に欠けやクラ
ックの発生を招くおそれがある。逆に、停止タイミング
が早すぎると、ウェハとウェハチャックとの接触が不完
全となるおそれがある。
In the case of B), a detector for detecting the contact between the wafer and the wafer chuck and a positioning control means for automatically stopping the movement of the wafer chuck when the contact is detected by the contact are required. However, the cost of the entire device becomes high. Even if these detectors and positioning control means are used, it is difficult to stop the wafer chuck accurately when the front surface of the workpiece and the wafer chuck start contacting each other. There is a gap between when the chuck stops and when it stops. At this time, the wafer chuck is pressed against the wafer with an unreasonable force by the amount that the stop timing of the wafer chuck is delayed from the contact completion timing, which may cause chipping or cracking at the time of separating the wafer. On the contrary, if the stop timing is too early, the contact between the wafer and the wafer chuck may be incomplete.

【0013】本発明は、このような事情に鑑み、スライ
スベースや、接触検出手段及び位置決め手段を要しない
簡単な構成で、ウェハに無理な力を作用させることなく
このウェハを保持するための吸着部材とウェハとを確実
に密着させることができ、これによりウェハを良好に回
収できる装置を提供することを目的とする。
In view of such circumstances, the present invention has a simple structure that does not require a slice base, a contact detecting means, and a positioning means, and a suction for holding the wafer without exerting an unreasonable force on the wafer. It is an object of the present invention to provide an apparatus capable of reliably bringing a member and a wafer into close contact with each other and thereby favorably collecting the wafer.

【0014】[0014]

【課題を解決するための手段】本発明は、ワークをスラ
イシング用のブレードに対してスライシング方向に相対
移動させることによりこのワークからウェハを切り出す
スライシング装置に設けられ、切り出された上記ウェハ
を保持して回収するための装置であって、上記ブレード
に対して上記ワークと一体に相対移動するように構成さ
れた支持部材と、この支持部材に上記ワークの軸方向と
平行な方向に相対変位可能に連結され、上記ウェハを吸
着する状態と解放する状態とに切換えられる吸着部材
と、上記支持部材に対する吸着部材の相対位置を任意の
位置で固定する状態と解放する状態とに切換えられる固
定手段と、吸着部材が上記ウェハと接触可能な接触位置
とこの接触位置からワーク軸方向に退避した退避位置と
の間で支持部材を移動させる駆動手段とを備えたもので
ある(請求項1)。
The present invention is provided in a slicing device for cutting a wafer from a work by moving the work relative to a slicing blade in the slicing direction, and holding the cut wafer. And a support member configured to move relative to the blade integrally with the work, and capable of relative displacement in the support member in a direction parallel to the axial direction of the work. An adsorbing member that is connected and that is switched between a state in which the wafer is adsorbed and a state in which the wafer is released, and a fixing unit that is capable of switching the relative position of the adsorbing member to the support member at a desired position and in a releasing state. The support member is moved between a contact position where the suction member can contact the wafer and a retracted position retracted in the work axis direction from this contact position. It is obtained by a drive means for (claim 1).

【0015】この装置では、上記接触位置で吸着部材を
上記ウェハに押付けて両者を密着させる押付け部材を備
えるのが、より好ましい(請求項2)。
It is more preferable that this apparatus includes a pressing member that presses the suction member against the wafer at the contact position to bring them into close contact with each other (claim 2).

【0016】より具体的には、上記支持部材と吸着部材
とを上記ワークの軸方向に撓み可能な板ばねを介して連
結し、この板ばねの弾性力によって上記吸着部材を上記
ウェハに押付けるように構成することにより、後述のよ
うなより優れた効果が得られる(請求項3)。
More specifically, the supporting member and the suction member are connected to each other via a plate spring which is capable of bending in the axial direction of the work, and the elastic force of the plate spring presses the suction member against the wafer. With such a configuration, a more excellent effect as described below can be obtained (claim 3).

【0017】また、上記固定手段としては、上記吸着部
材と支持部材とのいずれか一方に固定され、他方を上記
ワークの軸方向と直交する方向からクランプする状態と
解放する状態とに切換えられるクランプ手段が好適であ
る(請求項4)。
The fixing means is fixed to either one of the suction member and the supporting member, and the other is clamped from a direction orthogonal to the axial direction of the workpiece to a releasing state. Means are preferred (claim 4).

【0018】[0018]

【作用】請求項1記載の装置によれば、例えばワーク回
転型のスライシング装置の場合、次の手順でウェハを不
都合なく回収することができる。
According to the apparatus according to the first aspect, for example, in the case of the work rotating type slicing apparatus, the wafer can be recovered without any trouble by the following procedure.

【0019】ワークを所定の加工位置にセットすると
ともに、支持部材をワークに対して相対移動させて吸着
部材をワークから軸方向に退避させておく。吸着状態は
非吸着状態にしておき、固定手段は解放状態にしてお
く。
The work is set at a predetermined processing position, and the support member is moved relative to the work to retract the suction member from the work in the axial direction. The suction state is set to the non-suction state, and the fixing means is set to the release state.

【0020】支持部材をワークに対して相対移動させ
て吸着部材をワーク端面に接触させ、吸着部材を吸着状
態に切換える。このとき、吸着部材がワーク端面に接触
し始めた位置と吸着部材が停止した位置との間にずれが
あっても、これらの位置の差は支持部材に対する吸着部
材のワーク軸方向の相対変位によって吸収されるため、
ワークに無理な力は加えられない。しかも、この状態で
吸着部材を吸着状態に切換えることにより、この吸着部
材をワーク端面に確実に密着させることができる。
The supporting member is moved relative to the work to bring the suction member into contact with the end surface of the work, and the suction member is switched to the suction state. At this time, even if there is a deviation between the position where the suction member starts to contact the workpiece end surface and the position where the suction member stops, the difference between these positions is due to the relative displacement of the suction member in the work axis direction with respect to the support member. Be absorbed,
Unreasonable force cannot be applied to the work. Moreover, by switching the suction member to the suction state in this state, the suction member can be surely brought into close contact with the work end surface.

【0021】上記固定手段を固定状態に切換え、上記
支持部材に対する吸着部材の相対位置を固定する(すな
わち相対変位を阻止する)。
The fixing means is switched to the fixed state, and the relative position of the suction member with respect to the support member is fixed (that is, relative displacement is prevented).

【0022】吸着部材を非吸着状態に切換える。これ
により、吸着部材からウェハに加えられる荷重はほぼ解
除される。
The suction member is switched to the non-suction state. As a result, the load applied from the suction member to the wafer is almost released.

【0023】ワークを回転させながら、このワーク及
び支持部材を一体にスライシング用のブレードに対して
相対移動させ、ウェハの切り出しを開始する。この時、
停止している吸着部材と回転しているワークとの間には
多少の摩擦が生じるが、スライシング動作にはほとんど
影響を及ぼさない。
While rotating the work, the work and the supporting member are integrally moved relative to the slicing blade to start cutting of the wafer. At this time,
Although some friction occurs between the stationary suction member and the rotating work, it hardly affects the slicing operation.

【0024】スライシングがほぼ完了した時点(ワー
クの中心部分を残して外周部分がスライシングされた時
点)で、ワークの回転及び上記ブレードに対する相対移
動を止め、上記吸着部材を再び吸着状態に切換え、この
吸着部材でワーク端面(切断後はウェハ側面に相当する
面)を吸着保持する。
At the time when the slicing is almost completed (when the outer peripheral portion is sliced while leaving the center portion of the work), the rotation of the work and the relative movement with respect to the blade are stopped, and the suction member is switched to the suction state again. The work piece end face (the face corresponding to the wafer side face after cutting) is sucked and held by the suction member.

【0025】ワークを回転させずに、ブレードに対す
るワーク及び支持部材の相対移動を再開し、ウェハをワ
ークから完全に切り離す。
Without rotating the work, the relative movement of the work and the supporting member with respect to the blade is restarted to completely separate the wafer from the work.

【0026】支持部材及び吸着部材を一体に移動させ
てウェハを回収する。
The support member and the suction member are moved integrally to collect the wafer.

【0027】なお、上記手順において、が終了した時
点で一旦吸着部材をワーク端面から離間させておき、
が終了した時点で吸着部材とワーク端面(将来的にウェ
ハの側面となる面)とを再接触させるようにしてもよ
い。
In the above procedure, the suction member is once separated from the work end surface when is finished,
The suction member and the end surface of the work (the surface which will be the side surface of the wafer in the future) may be brought into contact with each other again at the end of the above step.

【0028】また、ワーク非回転型のスライシング装置
においては、ワークの切断を開始する前からこのワーク
端面を吸着部材によって吸着しておくようにしてもよ
い。
Further, in the non-rotating work slicing device, the end face of the work may be sucked by the suction member before the cutting of the work is started.

【0029】請求項2記載の装置では、上記接触位置で
吸着部材を上記ウェハに押付けて両者を密着させる押付
け部材を備えているので、上記では、支持部材を接触
位置に移動させるだけで上記押付け部材の押付け力によ
り吸着部材をワーク前面に密着させることが可能であ
り、従って、こので吸着部材を吸着状態に切換える操
作は不要になる。
According to the second aspect of the present invention, since the pressing member for pressing the suction member against the wafer at the contact position to bring them into close contact with each other is provided, in the above, the pressing is performed only by moving the support member to the contact position. It is possible to bring the suction member into close contact with the front surface of the work by the pressing force of the member, and therefore, the operation of switching the suction member to the suction state is unnecessary.

【0030】より具体的に、請求項3記載の装置によれ
ば、上記支持部材と吸着部材とを連結する板ばねの撓み
によって、これら支持部材と吸着部材のワークの軸方向
の相対変位が許容されるとともに、この板ばねの弾性力
によって上記吸着部材が上記ウェハに押付けられる。
More specifically, according to the apparatus of claim 3, the relative displacement of the support member and the suction member in the axial direction of the work is allowed by the bending of the leaf spring connecting the support member and the suction member. At the same time, the attracting member is pressed against the wafer by the elastic force of the leaf spring.

【0031】請求項4記載の装置では、クランプ手段が
解放状態に切換えられた状態で、上記吸着部材と支持部
材の相対変位が許容され、この状態から上記クランプ手
段がいずれか一方の部材をワーク軸方向と直交する方向
からクランプすることにより、上記相対変位が阻止され
る(すなわち支持部材に対する吸着部材の相対位置が固
定される)。
In the apparatus according to the fourth aspect, relative displacement between the suction member and the support member is allowed while the clamp means is switched to the released state, and from this state, the clamp means works one of the members. By clamping from the direction orthogonal to the axial direction, the relative displacement is prevented (that is, the relative position of the suction member with respect to the support member is fixed).

【0032】[0032]

【実施例】本発明の一実施例を図面に基づいて説明す
る。
An embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0033】図1〜3に示すスライシング装置は、基台
1を備え、この基台1上にガイドレール2が設置されて
いる。このガイドレール2に沿って切断送り方向(図1
の奥行き方向、図2の矢印A1の方向)にスライド可能
にスライドテーブル3が支持されており、このスライド
テーブル3上には、ワーク支持台3aが立設されてい
る。
The slicing apparatus shown in FIGS. 1 to 3 is equipped with a base 1, on which a guide rail 2 is installed. The cutting feed direction (Fig. 1
The slide table 3 is supported so as to be slidable in the depth direction of FIG. 2 (the direction of arrow A1 in FIG. 2), and a work support table 3a is erected on the slide table 3.

【0034】上記基台1上において、上記ワーク支持台
3aに対向する位置には主軸台4が設置されている。こ
の主軸台4の上部には主軸受4aが設けられ、この主軸
受4aによって主軸6が回転可能に支持されるととも
に、この主軸6にベルト伝動機構7を介して主軸駆動モ
ータ8(図2)の出力軸が連結されている。主軸6の先
端部にはテンションディスク9が固着され、このテンシ
ョンディスク9が、上記主軸6、ベルト伝動機構7、及
び主軸駆動モータ8からなる回転駆動手段5により回転
駆動されるようになっている。
A headstock 4 is installed on the base 1 at a position facing the work support 3a. A main bearing 4a is provided on an upper part of the headstock 4, and a main shaft 6 is rotatably supported by the main bearing 4a, and a main shaft drive motor 8 (FIG. 2) is attached to the main shaft 6 via a belt transmission mechanism 7. The output shafts of are connected. A tension disk 9 is fixed to the tip of the main shaft 6, and the tension disk 9 is rotatably driven by a rotary drive means 5 including the main shaft 6, the belt transmission mechanism 7, and a main shaft drive motor 8. .

【0035】テンションディスク9の周縁部には、ドー
ナツ状の薄板からなるブレード10が装着され、このブ
レード10の内周縁にダイヤモンド粒子等からなる内周
刃11が固着されている。
A blade 10 made of a donut-shaped thin plate is mounted on the peripheral edge of the tension disk 9, and an inner peripheral blade 11 made of diamond particles or the like is fixed to the inner peripheral edge of the blade 10.

【0036】上記基台1上には、切断送り手段14が設
置されている。この切断送り手段14は、ボールねじ1
2と、このボールねじ12を回転駆動する切断送りモー
タ13とを備え、この切断送り手段14によって、上記
スライドテーブル3全体がガイドレール2に沿って前記
切断送り方向にスライド駆動されるようになっている。
A cutting and feeding means 14 is installed on the base 1. This cutting feed means 14 is used for the ball screw 1
2 and a cutting feed motor 13 that rotationally drives the ball screw 12, and the cutting feed means 14 slides the slide table 3 along the guide rail 2 in the cutting feed direction. ing.

【0037】上記ワーク支持台3aには、ワーク割出し
方向(図1の矢印A2方向)にスライド可能に割り出し
移動部材15が設けられるとともに、この割り出し移動
部材15を移動させる割出し送り手段18が設けられて
いる。割出し送り手段18は、ボールねじ16と、この
ボールねじ16を回転駆動する保持部材駆動モータ17
とを備え、この割出し送り手段18によって上記割出し
移動部材15が上記ワーク割出し方向に移送されるよう
になっている。
The work support base 3a is provided with an indexing moving member 15 which is slidable in the work indexing direction (direction of arrow A2 in FIG. 1), and indexing feeding means 18 for moving the indexing moving member 15. It is provided. The indexing feed means 18 includes a ball screw 16 and a holding member drive motor 17 that rotationally drives the ball screw 16.
The indexing moving means 15 transfers the indexing moving member 15 in the work indexing direction.

【0038】上記割出し移動部材15上には、ワーク回
転軸受20が設置され、このワーク回転軸受20に、上
記ワーク割出し方向に延びるワーク回転軸21が回転可
能に支持されている。このワーク回転軸21の後端(図
1では右端)は、減速機22を介してワーク回転駆動モ
ータ23の出力軸に連結されており、前端には、複数
(図例では4つ)の爪24aをもつワーク把持用のチャ
ック24が固定されている。
A work rotary bearing 20 is installed on the index moving member 15, and a work rotary shaft 21 extending in the work indexing direction is rotatably supported by the work rotary bearing 20. The rear end (right end in FIG. 1) of the work rotation shaft 21 is connected to the output shaft of the work rotation drive motor 23 via the speed reducer 22, and the front end has a plurality of (four in the illustrated example) claws. A chuck 24 for gripping a work having 24a is fixed.

【0039】この実施例では、スライシングされるワー
ク30として、円柱状のシリコン製半導体インゴットが
使用される。このワーク30の後端(図1では右端)に
は、被把持プレート25が接着され、この被把持プレー
ト25が上記チャック24で把持されることにより、ワ
ーク30がその割出し方向と平行な状態で保持されるよ
うになっている。そして、上記割出し送り手段18の作
動により、ワーク30が図1実線の退避位置と同図二点
鎖線に示される切断位置(ワーク前端がブレード10中
央の穴内に臨む位置)との間を進退するとともに、上記
ワーク回転駆動モータ23の作動で被把持プレート25
と一体にワーク30が低速で回転駆動されるようになっ
ている。
In this embodiment, a cylindrical silicon semiconductor ingot is used as the work 30 to be sliced. A gripped plate 25 is adhered to the rear end (right end in FIG. 1) of the work 30, and the gripped plate 25 is gripped by the chuck 24 so that the work 30 is parallel to the indexing direction. It is supposed to be held in. By the operation of the indexing and feeding means 18, the work 30 moves back and forth between the retracted position shown by the solid line in FIG. 1 and the cutting position (the position where the front end of the work faces the hole in the center of the blade 10) shown by the chain double-dashed line in FIG. In addition, when the work rotation drive motor 23 operates, the gripped plate 25
The work 30 is rotationally driven at a low speed integrally with the above.

【0040】なお、図1及び図2において26は、蛇腹
状のカバーである。
In FIG. 1 and FIG. 2, 26 is a bellows-shaped cover.

【0041】上記スライドテーブル3上において、上記
ワーク支持台3aの側方(図2では上方)には、ウェハ
回収装置32が設置されている。このウェハ回収装置3
2は、基台34を備え、この基台34はワーク軸方向と
平行な方向にスライド可能に設置されている。スライド
テーブル3には、ワーク軸方向と平行な方向に伸縮シリ
ンダ31が固定され、この伸縮シリンダ31のロッド3
1aが上記基台34に連結されている。従って、この伸
縮シリンダ31の作動により、上記基台34のスライド
駆動が行われるようになっている。
On the slide table 3, a wafer collecting device 32 is installed on the side (upper side in FIG. 2) of the work support base 3a. This wafer recovery device 3
2 includes a base 34, which is installed slidably in a direction parallel to the work axis direction. A telescopic cylinder 31 is fixed to the slide table 3 in a direction parallel to the work axis direction.
1a is connected to the base 34. Therefore, the operation of the telescopic cylinder 31 causes the base 34 to slide.

【0042】なお、図2及び図3において33はガイド
バーである。
Reference numeral 33 in FIGS. 2 and 3 is a guide bar.

【0043】上記基台34上には、支柱36が立設さ
れ、この支柱36の上端にアーム38を介して吸着取付
部材40が取付けられており、これら基台34、支柱3
6、アーム38、及び吸着取付部材40によって、本発
明における支持部材が構成されている。そして、上記吸
着取付部材40に吸着部材50が連結されている。
A column 36 is erected on the base 34, and a suction attachment member 40 is attached to the upper end of the column 36 via an arm 38. The base 34 and the column 3
6, the arm 38, and the suction attachment member 40 constitute a support member in the present invention. The suction member 50 is connected to the suction mounting member 40.

【0044】吸着部材50は、ワーク端面と平行に延び
る板状に構成され、その中央には図4〜図6に示すよう
な吸着パッド51が、4隅には吸着パッド52がそれぞ
れ配設されている。吸着パッド51,52の中央にはエ
ア吸引口53,54がそれぞれ設けられ、これらエア吸
引口53,54は、エア吸引路55,57を介してそれ
ぞれエア吸引ポート56,58に連通されており、これ
らエア吸引ポート56,58はエアポンプ等の図略のエ
ア吸引源に接続されている。
The suction member 50 is formed in a plate shape extending in parallel with the end face of the work, and the suction pads 51 as shown in FIGS. 4 to 6 are arranged at the center thereof and the suction pads 52 are arranged at the four corners. ing. Air suction ports 53, 54 are provided at the centers of the suction pads 51, 52, respectively, and these air suction ports 53, 54 are connected to the air suction ports 56, 58 via air suction passages 55, 57, respectively. The air suction ports 56 and 58 are connected to an unillustrated air suction source such as an air pump.

【0045】この吸着部材50と前記吸着取付部材40
とは、ワーク軸方向に並ぶ前後一対の板ばね41を介し
て連結されている。これら板ばね41は、互いに平行に
配され、その一端が上記吸着取付部材40に、他端が吸
着部材50にそれぞれネジ39によって連結されてい
る。
This suction member 50 and the suction mounting member 40
Are connected to each other via a pair of front and rear leaf springs 41 arranged in the work axis direction. These leaf springs 41 are arranged parallel to each other, and one end thereof is connected to the suction attachment member 40 and the other end thereof is connected to the suction member 50 by screws 39, respectively.

【0046】従って、これら板ばね41の撓み変形によ
って、図7(a)(b)に示されるように、吸着部材5
0が吸着取付部材40に対してワーク軸方向に相対変位
可能とされている。そして、伸縮シリンダ32が伸長し
て上記基台34が前進した位置(退避位置)では、図5
に示すように、上記切断位置にあるワーク30の端面か
ら前方に各吸着パッド51,52が離れる一方、上記伸
縮シリンダ32が収縮して支持部材が後退した位置(接
触位置)では、図6及び図7(b)に示すように、前記
切断位置にあるワーク30の端面に各吸着パッド51,
52が板ばね41の変形(図6では変形の図示を省略し
ている。)を伴いながら接触するように、前記伸縮シリ
ンダ32のストロークが設定されている。
Therefore, due to the bending deformation of these leaf springs 41, as shown in FIGS.
0 can be displaced relative to the suction attachment member 40 in the work axis direction. At the position where the telescopic cylinder 32 is extended and the base 34 is moved forward (the retracted position), as shown in FIG.
As shown in FIG. 6, at the position (contact position) in which the suction pads 51 and 52 are separated from the end surface of the work 30 in the cutting position to the front, and the expandable cylinder 32 is contracted to retract the support member, as shown in FIG. As shown in FIG. 7B, each suction pad 51, is attached to the end surface of the work 30 at the cutting position.
The stroke of the telescopic cylinder 32 is set so that the spring 52 comes into contact with the leaf spring 41 while being deformed (not shown in FIG. 6).

【0047】上記吸着部材50において、上記吸着取付
部材40に近い側の端部(図4〜図9では右側端部)の
上下面には、それぞれネジ46A,46Bを介して板ば
ね45A,45Bの一端が固定されている。上側の板ば
ね45Aの他端には、ネジ47A(図8及び図9)によ
って伸縮シリンダ42が下向きに固定されている。
Leaf springs 45A and 45B are respectively attached to the upper and lower ends of the suction member 50 on the side close to the suction mounting member 40 (right end portions in FIGS. 4 to 9) through screws 46A and 46B, respectively. One end of is fixed. The telescopic cylinder 42 is fixed downward to the other end of the upper leaf spring 45A by a screw 47A (FIGS. 8 and 9).

【0048】この伸縮シリンダ42は、ピストン43を
内蔵するとともに、このこのピストン43よりも下側に
エア出入口42aが、上側にエア出入口42bが、それ
ぞれ設けられている。上記ピストン43には、上下方向
に延びるロッド44の上端が連結され、このロッド44
は、前記吸着取付部材40に設けられた上下方向の貫通
穴40aを貫いて下方に突出している。このロッド44
の下端部には雄ねじが刻まれ、この雄ねじ部にナット4
9によって下側の板ばね45Bの他端が固定されてお
り、このこの板ばね45Bの他端にネジ47Bによって
クランプ板48が固定されている。
The telescopic cylinder 42 has a piston 43 built therein, and an air inlet / outlet 42a is provided below the piston 43 and an air inlet / outlet 42b is provided above the piston 43. The upper end of a rod 44 extending in the vertical direction is connected to the piston 43.
Protrudes downward through a vertical through hole 40a provided in the suction mounting member 40. This rod 44
A male screw is engraved on the lower end of the
The other end of the lower leaf spring 45B is fixed by 9 and the clamp plate 48 is fixed to the other end of this leaf spring 45B by a screw 47B.

【0049】そして、図8に示すように、下側のエア出
入口42aから伸縮シリンダ42内のロッド側室にエア
が導入される場合には、ピストン43が上昇し、伸縮シ
リンダ42本体とクランプ板48とが互いに引き寄せら
れて両者が吸着取付部材40を上下からクランプする一
方、図9に示すように、前記エア出入口42bから伸縮
シリンダ42内のヘッド側室にエアが導入される場合に
は、ピストン43が下降し、板ばね45A,45Bの撓
み変形を伴いながら伸縮シリンダ42本体とクランプ板
48とが互いに離反して上記吸着取付部材40を解放す
るように、伸縮シリンダ42のストロークが設定されて
いる。
Then, as shown in FIG. 8, when air is introduced from the lower air inlet / outlet 42a into the rod-side chamber in the telescopic cylinder 42, the piston 43 rises and the telescopic cylinder 42 main body and the clamp plate 48 are moved. While the two are attracted to each other to clamp the suction mounting member 40 from above and below, as shown in FIG. 9, when air is introduced from the air inlet / outlet 42b to the head side chamber in the telescopic cylinder 42, the piston 43 The stroke of the telescopic cylinder 42 is set such that the telescopic cylinder 42 main body and the clamp plate 48 separate from each other while the leaf springs 45A and 45B are flexibly deformed to release the suction attachment member 40. .

【0050】すなわち、上記板ばね45A,45B、伸
縮シリンダ42、クランプ板48等によって、本発明に
おけるクランプ手段が構成されており、上記図8に示す
クランプ状態では、吸着取付部材40と吸着部材50と
の相対変位が任意の位置で阻止される(すなわち相対位
置が固定される)一方、図9に示すクランプ状態では、
板ばね41の変形を伴う吸着取付部材40と吸着部材5
0との相対変位が許容されるようになっている。
That is, the leaf springs 45A and 45B, the telescopic cylinder 42, the clamp plate 48 and the like constitute the clamping means in the present invention. In the clamped state shown in FIG. 8, the suction attachment member 40 and the suction member 50 are provided. While relative displacement with and is blocked at any position (that is, the relative position is fixed), in the clamped state shown in FIG.
The suction attachment member 40 and the suction member 5 accompanying the deformation of the leaf spring 41
A relative displacement with respect to 0 is allowed.

【0051】次に、この実施例装置を用いて上記ワーク
30からウェハWを切り出すスライシング方法、及び切
り出したウェハWを回収する方法を説明する。
Next, a slicing method for cutting out the wafer W from the work 30 and a method for recovering the cut out wafer W using the apparatus of this embodiment will be described.

【0052】割出し送り手段18を作動させてワーク
30を図1二点鎖線に示す切断位置にセットするととも
に、伸縮シリンダ32を伸長して基台34を退避位置ま
で前進させることにより、図5及び図7(a)に示すよ
うに吸着部材50とワーク端面とを離間させておく。ま
た、伸縮シリンダ42は伸長させて図9に示すようなク
ランプ解放状態にしておく。
By operating the indexing and feeding means 18 to set the work 30 at the cutting position shown by the chain double-dashed line in FIG. 1, the telescopic cylinder 32 is extended and the base 34 is advanced to the retracted position. Further, as shown in FIG. 7A, the suction member 50 and the work end surface are separated from each other. Further, the telescopic cylinder 42 is extended to be in the clamp released state as shown in FIG.

【0053】伸縮シリンダ32を収縮させて基台34
を接触位置まで後退させる。これにより、板ばね41の
撓み変形(弾性変形)を伴いながら吸着部材50の各吸
着パッド51,52が図6及び図7(b)に示すように
ワーク30の前端面に接触し、かつ、上記板ばね41の
弾性力によって各吸着パッド51,52が上記ワーク前
端面に押付けられる。従って、ワーク30に無理な力を
加えることなく、また、従来のように接触検出や位置決
め制御を行うことなく、板ばね41の弾性力を利用して
吸着パッド51,52をワーク30の前端面に確実に密
着させることができる。
The telescopic cylinder 32 is contracted to make the base 34
Back to the contact position. As a result, the suction pads 51 and 52 of the suction member 50 come into contact with the front end surface of the work 30 as shown in FIGS. 6 and 7B while the leaf spring 41 is flexibly deformed (elastically deformed), and The elastic force of the plate spring 41 presses the suction pads 51, 52 against the front end surface of the work. Therefore, the elastic force of the leaf spring 41 is used to attach the suction pads 51 and 52 to the front end surface of the work 30 without applying an excessive force to the work 30 and without performing contact detection or positioning control as in the conventional case. Can be firmly adhered to.

【0054】伸縮シリンダ42を収縮させてこの伸縮
シリンダ42とクランプ板48とで吸着取付部材40を
上下からクランプし(図8)、この吸着取付部材40と
吸着部材50との相対位置を固定する。
The telescopic cylinder 42 is contracted to clamp the suction mounting member 40 from above and below with the telescopic cylinder 42 and the clamp plate 48 (FIG. 8), and the relative position between the suction mounting member 40 and the suction member 50 is fixed. .

【0055】主軸駆動モータ8を作動させ、主軸6と
一体にテンションディスク9及びブレード10を回転駆
動する。
The spindle drive motor 8 is operated to rotate the tension disk 9 and the blade 10 integrally with the spindle 6.

【0056】ワーク回転駆動モータ23を作動させて
ワーク30を回転させながら、このワーク30及びウェ
ハ回収装置32全体をスライドテーブル3と一体にブレ
ード10に対して相対移動させ(すなわち切断送り
し)、ワーク30からのウェハWの切り出しを開始す
る。この時、回転していない吸着部材50と回転してい
るワーク30との間には多少の摩擦が生じるが、スライ
シング動作にはほとんど影響を及ぼさない。
While rotating the work 30 by activating the work rotation drive motor 23, the work 30 and the entire wafer recovery device 32 are moved relative to the blade 10 integrally with the slide table 3 (that is, cutting feed). The cutting of the wafer W from the work 30 is started. At this time, some friction occurs between the suction member 50 that is not rotating and the workpiece 30 that is rotating, but this has little effect on the slicing operation.

【0057】スライシングがほぼ完了した時点、すな
わち、図6に示すようにワーク30の中心部分30aを
残して外周部分がスライシングされ、ウェハWがほぼ切
り出された時点で、ワーク30の回転及び切断送りを一
旦止める。
At the time when the slicing is almost completed, that is, when the outer peripheral portion of the work 30 is sliced and the wafer W is substantially cut out as shown in FIG. 6, the work 30 is rotated and cut and fed. Stop once.

【0058】エア吸引ポート56,58を図略のエア
吸引源に連通し、エア吸引口53,54からエアを吸引
することにより、吸着パッド51,52にワーク30の
前端面(切断後はウェハWの側面となる面)を吸着す
る。
By connecting the air suction ports 56 and 58 to an air suction source (not shown) and sucking air from the air suction ports 53 and 54, the suction pads 51 and 52 are attached to the front end face of the work 30 (after cutting, the wafer is cut). Adsorb the side surface of W).

【0059】今度はワーク30を回転させずに、切断
送りのみを再開し、上記中心部分30aを切断してウェ
ハWをワーク30から完全に切り離す。
This time, the workpiece 30 is not rotated and only the cutting feed is restarted to cut the central portion 30a to completely separate the wafer W from the workpiece 30.

【0060】基台34を退避位置に復帰させ、別の搬
送装置等によって、ウェハWを所定の回収個所まで搬送
する。
The base 34 is returned to the retracted position, and the wafer W is transferred to a predetermined recovery point by another transfer device or the like.

【0061】以上の動作を繰り返すことにより、ワーク
30からのウェハWの切り出し並びにその回収を続ける
ことができる。
By repeating the above operation, the cutting of the wafer W from the work 30 and the recovery thereof can be continued.

【0062】なお、本発明はこの実施例に限定されるも
のでなく、例として次のような態様をとることも可能で
ある。
The present invention is not limited to this embodiment, and the following modes can be taken as examples.

【0063】(1) 上記実施例では、吸着取付部材40と
吸着部材50とを連結する板ばね41を、その弾性力で
吸着パッド51,52をウェハWに押付ける押付け部材
として兼用しているが、これに代え、上記吸着取付部材
40と吸着部材50とをリンク機構等によって単にワー
ク軸方向に相対移動可能となるように連結し、別のばね
部材等を押付け部材として付設するようにしてもよい。
(1) In the above embodiment, the leaf spring 41 connecting the suction attachment member 40 and the suction member 50 is also used as a pressing member for pressing the suction pads 51 and 52 against the wafer W by its elastic force. However, instead of this, the suction attachment member 40 and the suction member 50 are connected by a link mechanism or the like so as to be relatively movable in the work axis direction, and another spring member or the like is attached as a pressing member. Good.

【0064】また、このような押付け部材を設けなくて
も、ウェハWの回収は可能である。この場合、前述のス
ライシング前の段階で、基台34を退避位置から接触位
置へ移動させた後、一旦吸着動作を行わせて吸着パッド
51,52とワーク前端面とを密着させ、この状態で伸
縮シリンダ42を収縮してクランプを行ってから、上記
吸着動作を止めるようにすればよい。その後は、前記
以降の手順に沿って前記実施例と同様にウェハWの回収
ができる。
The wafer W can be collected without providing such a pressing member. In this case, in the stage before the slicing described above, after the base 34 is moved from the retracted position to the contact position, the suction operation is performed once to bring the suction pads 51 and 52 into close contact with the front end surface of the work. The retracting cylinder 42 may be contracted and clamped, and then the suction operation may be stopped. After that, the wafer W can be recovered in the same manner as in the above-described embodiment according to the procedure described above.

【0065】(2) 上記実施例では、吸着パッド51,5
2がワーク30の前端面に接触した状態のままワーク3
0を回転させてスライシングするものを示したが、これ
に代え、伸縮シリンダ42を収縮させて吸着取付部材4
0と吸着部材50との相対位置を固定した後、一旦基台
34を退避位置に戻して吸着パッド51,52をワーク
前端面から離間させ、ワーク中心部分30aを除く切り
込みを完了した後、上記基台34を接触位置に復帰させ
て吸着パッド51,52をワーク前端面に再接触させる
ようにしてもよい。ただし、両吸着パッド51,52を
ワーク前端面に接触させたままスライシングを行えば、
このスライシングによって生じた切粉等が吸着パッド5
1,52とワーク前端面との間に噛み込むことを防止で
き、この噛み込みに起因する吸着不良を回避できる利点
がある。
(2) In the above embodiment, the suction pads 51, 5
Work piece 3 while 2 is in contact with the front end surface of work piece 30
Although the slicing is performed by rotating 0, instead of this, the telescopic cylinder 42 is contracted so that the suction attachment member 4
After fixing the relative position between 0 and the suction member 50, the base 34 is once returned to the retracted position to separate the suction pads 51 and 52 from the front end surface of the work, and after the cutting except the work central portion 30a is completed, The base 34 may be returned to the contact position so that the suction pads 51 and 52 are brought into contact with the front end surface of the work again. However, if slicing is performed with both suction pads 51, 52 in contact with the front end surface of the work,
The chips produced by this slicing are absorbed by the suction pad 5
There is an advantage that it is possible to prevent biting between 1, 52 and the front end face of the work, and to avoid a suction failure caused by the biting.

【0066】(3) 上記実施例では、クランプ手段を構成
する板ばね45A,45Bを吸着部材50側に固定し、
吸着取付部材40をクランプするものを示したが、逆
に、上記板ばね45A,45Bを吸着取付部材40側に
固定し、吸着部材50をクランプするようにしてもよ
い。
(3) In the above embodiment, the leaf springs 45A and 45B constituting the clamp means are fixed to the suction member 50 side,
Although the suction mounting member 40 is clamped, the leaf springs 45A and 45B may be fixed to the suction mounting member 40 side and the suction member 50 may be clamped.

【0067】(4) 上記実施例では、ワーク回転型のスラ
イシング装置を示したが、本発明はワーク非回転型のス
ライシング装置、すなわちワークを回転させずにこれを
スライシングする装置にも適用が可能である。この場
合、前記実施例の〜と同じ手順で回収を行うことも
可能であるし、吸着部材50とワーク端面とを接触させ
た時点から既に吸着を開始してこの吸着状態のままスラ
イシングを行うことも可能である。いずれにしても、上
記吸着によってウェハに無理な力は与えないので、従来
のようにワークにスライスベースを接着することは不要
になる。
(4) In the above embodiment, the work rotating type slicing device is shown. However, the present invention can be applied to a work non-rotating slicing device, that is, a device for slicing a work without rotating the work. Is. In this case, it is possible to perform the recovery by the same procedure as in the above-mentioned examples, or it is possible to start the suction already from the time when the suction member 50 and the work end surface are brought into contact with each other and perform the slicing in this suction state. Is also possible. In any case, since the suction does not apply an unreasonable force to the wafer, it becomes unnecessary to adhere the slice base to the work as in the conventional case.

【0068】(5) 上記実施例では、ワーク30を切断送
り方向に移動させているが、これに代え、テンションデ
ィスク9を切断送り方向に移動させても、スライシング
が可能である。
(5) In the above embodiment, the work 30 is moved in the cutting feed direction, but slicing can be performed by moving the tension disk 9 in the cutting feed direction instead.

【0069】[0069]

【発明の効果】以上のように本発明は、ワークに対して
その軸方向に相対移動する支持部材とウェハを吸着する
吸着部材とをワーク軸方向に相対変位可能に連結すると
ともに、これら支持部材と吸着部材との相対位置を適宜
固定する固定手段と、上記支持部材及び吸着部材をワー
クに対してその軸方向に相対移動させる駆動手段とを備
えたものであるので、スライスベースや接触検出手段及
び位置決め制御手段を用いない簡単な構成で、切り出さ
れるウェハに無理な力を作用させることなくこのウェハ
に確実に上記吸着部材を密着させることができ、この吸
着部材で上記ウェハを良好に保持しながら回収できる効
果がある。
As described above, according to the present invention, the supporting member that moves relative to the work in the axial direction thereof and the suction member that sucks the wafer are connected so as to be relatively displaceable in the work axial direction, and these supporting members are also connected. Since the fixing means for appropriately fixing the relative position between the suction member and the suction member and the driving means for moving the supporting member and the suction member relative to the workpiece in the axial direction thereof, the slice base and the contact detection means are provided. Also, with a simple configuration that does not use positioning control means, the suction member can be reliably brought into close contact with the wafer to be cut without applying an unreasonable force to the wafer, and the suction member can hold the wafer well. While there is an effect that can be collected.

【0070】ここで、請求項2記載の装置では、上記接
触位置で吸着部材を上記ウェハに押付けて両者を密着さ
せる押付け部材を備えているので、支持部材を接触位置
に移動させるだけで上記押付け部材の押付け力により吸
着部材をワーク前面に密着させることができ、この密着
のために吸着部材を吸着状態に切換える操作を不要にし
て、作業能率をさらに高めることができる効果がある。
Since the apparatus according to the second aspect includes the pressing member that presses the suction member against the wafer at the contact position to bring them into close contact with each other, the pressing operation is performed only by moving the support member to the contact position. The pressing force of the member makes it possible to bring the suction member into close contact with the front surface of the work, and there is an effect that the operation of switching the suction member to the suction state is unnecessary for this close contact and the work efficiency can be further enhanced.

【0071】特に、請求項3記載の装置では、上記支持
部材と吸着部材とを連結する板ばねの弾性力を利用して
上記吸着部材を上記ウェハに押付けるようにしているの
で、より簡素な構造で吸着部材とワークとを密着させる
ことができる効果がある。
Particularly, in the apparatus according to the third aspect, since the elastic force of the leaf spring connecting the supporting member and the suction member is used to press the suction member against the wafer, it is simpler. The structure has the effect of allowing the suction member and the work to be brought into close contact with each other.

【0072】また、請求項4記載の装置では、クランプ
手段によって吸着部材もしくは支持部材をクランプする
だけの簡単な構造で、両部材の相対位置を任意の位置で
固定できる効果がある。
Further, in the apparatus according to the fourth aspect, there is an effect that the relative position of both members can be fixed at an arbitrary position with a simple structure in which the adsorbing member or the supporting member is clamped by the clamping means.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の一実施例におけるスライシング装置の
全体側面図である。
FIG. 1 is an overall side view of a slicing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】上記スライシング装置の全体平面図である。FIG. 2 is an overall plan view of the slicing device.

【図3】上記スライシング装置においてスライシングさ
れるワークとウェハ回収装置とを示す断面正面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional front view showing a work and a wafer recovery device which are sliced by the slicing device.

【図4】上記ウェハ回収装置の正面図である。FIG. 4 is a front view of the wafer recovery device.

【図5】上記ウェハ回収装置において吸着部材がワーク
前端面から離間している状態を示す平面図である。
FIG. 5 is a plan view showing a state in which the suction member is separated from the front end face of the work in the wafer recovery device.

【図6】上記ウェハ回収装置において吸着部材がワーク
前端面に接触している状態を示す平面図である。
FIG. 6 is a plan view showing a state in which the suction member is in contact with the front end face of the work in the wafer recovery device.

【図7】(a)は図4のA−A線断面図、(b)は
(a)の状態から吸着部材が吸着取付部材に対して相対
変位した状態を示す断面平面図である。
7A is a sectional view taken along the line AA of FIG. 4, and FIG. 7B is a sectional plan view showing a state in which the suction member is displaced relative to the suction mounting member from the state of FIG.

【図8】図5のB−B線断面図である。8 is a cross-sectional view taken along the line BB of FIG.

【図9】図8の状態から吸着取付部材のクランプが解除
された状態を示す断面正面図である。
9 is a sectional front view showing a state where the clamp of the suction attachment member is released from the state of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 ブレード 11 内周刃 14 切断送り手段 23 ワーク回転駆動モータ 30 ワーク 31 伸縮シリンダ(駆動手段) 32 ウェハ回収手段 34 基台(支持部材) 36 支柱(支持部材) 38 アーム(支持部材) 40 吸着取付部材(支持部材) 41 板ばね 42 伸縮シリンダ(クランプ手段) 45A,45B 板ばね(クランプ手段) 48 クランプ板(クランプ手段) 50 吸着部材 10 Blade 11 Inner Circumferential Blade 14 Cutting Feeding Means 23 Work Rotation Drive Motor 30 Work Work 31 Telescopic Cylinder (Drive Means) 32 Wafer Recovery Means 34 Base (Supporting Member) 36 Support (Supporting Member) 38 Arm (Supporting Member) 40 Adsorption Mounting Member (Supporting Member) 41 Leaf Spring 42 Expansion Cylinder (Clamping Means) 45A, 45B Leaf Spring (Clamping Means) 48 Clamping Plate (Clamping Means) 50 Adsorption Member

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 川口 桂司 広島市南区宇品東5丁目3番38号 トーヨ ーエイテック株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (72) Inventor Keiji Kawaguchi 5-338 Ujinahigashi, Minami-ku, Hiroshima City Toyo Advanced Technologies Co., Ltd.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ワークをスライシング用のブレードに対
してスライシング方向に相対移動させることによりこの
ワークからウェハを切り出すスライシング装置に設けら
れ、切り出された上記ウェハを保持して回収するための
装置であって、上記ブレードに対して上記ワークと一体
に相対移動するように構成された支持部材と、この支持
部材に上記ワークの軸方向と平行な方向に相対変位可能
に連結され、上記ウェハを吸着する状態と解放する状態
とに切換えられる吸着部材と、上記支持部材に対する吸
着部材の相対位置を任意の位置で固定する状態と解放す
る状態とに切換えられる固定手段と、上記支持部材及び
吸着部材を上記ワークに対してその軸方向に相対移動さ
せる駆動手段とを備えたことを特徴とするスライシング
装置におけるウェハ回収装置。
1. A device provided in a slicing device for cutting a wafer from a work by moving the work relative to a blade for slicing in the slicing direction, and a device for holding and collecting the cut-out wafer. And a supporting member configured to move relative to the blade integrally with the work, and connected to the supporting member so as to be relatively displaceable in a direction parallel to the axial direction of the work, and suck the wafer. A suction member that is switched between a state and a release state; a fixing unit that switches the relative position of the suction member to the support member at a desired position and a release state; and the support member and the suction member. A wafer in a slicing device, characterized in that the wafer is provided with a driving means for moving the workpiece relative to the axial direction. Collection device.
【請求項2】 請求項1記載のスライシング装置におけ
るウェハ回収装置において、上記吸着部材を上記ウェハ
に押付けて両者を密着させる押付け部材を備えたことを
特徴とするスライシング装置におけるウェハ回収装置。
2. The wafer collecting device in the slicing device according to claim 1, further comprising a pressing member that presses the suction member onto the wafer to bring them into close contact with each other.
【請求項3】 請求項2記載のスライシング装置におけ
るウェハ回収装置において、上記支持部材と吸着部材と
を上記ワークの軸方向に撓み可能な板ばねを介して連結
し、この板ばねの弾性力によって上記吸着部材を上記ウ
ェハに押付けるように構成したことを特徴とするスライ
シング装置におけるウェハ回収装置。
3. The wafer collecting apparatus in the slicing apparatus according to claim 2, wherein the supporting member and the suction member are connected via a leaf spring which is bendable in the axial direction of the work, and the elastic force of the leaf spring is used. A wafer recovery device in a slicing device, wherein the suction member is pressed against the wafer.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれかに記載のスライ
シング装置におけるウェハ回収装置において、上記固定
手段として、上記吸着部材と支持部材とのいずれか一方
に固定され、他方を上記ワークの軸方向と直交する方向
からクランプする状態と解放する状態とに切換えられる
クランプ手段を備えたことを特徴とするスライシング装
置におけるウェハ回収装置。
4. The wafer collecting device in the slicing device according to claim 1, wherein the fixing means is fixed to either one of the suction member and the supporting member, and the other is the shaft of the work. A wafer recovery device in a slicing device, comprising a clamping means that can switch between a clamping state and a releasing state in a direction orthogonal to the direction.
JP15000895A 1995-06-16 1995-06-16 Wafer recovering device for slicing machine Pending JPH091543A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110587841A (en) * 2019-10-12 2019-12-20 青岛高测科技股份有限公司 Four-wheel-drive slicing machine mechanism suitable for multi-line cutting of hard and brittle materials

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110587841A (en) * 2019-10-12 2019-12-20 青岛高测科技股份有限公司 Four-wheel-drive slicing machine mechanism suitable for multi-line cutting of hard and brittle materials
CN110587841B (en) * 2019-10-12 2024-05-31 青岛高测科技股份有限公司 Four-wheel-drive slicer mechanism suitable for multi-wire cutting of hard and brittle materials

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