JPH09151334A - Protection material composition for electronic part - Google Patents

Protection material composition for electronic part

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JPH09151334A
JPH09151334A JP7336112A JP33611295A JPH09151334A JP H09151334 A JPH09151334 A JP H09151334A JP 7336112 A JP7336112 A JP 7336112A JP 33611295 A JP33611295 A JP 33611295A JP H09151334 A JPH09151334 A JP H09151334A
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JP
Japan
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formula
sio
parts
weight
group
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JP7336112A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyoshi Naitou
浩佳 内藤
Katsutoshi Mine
勝利 峰
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DuPont Toray Specialty Materials KK
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Dow Corning Toray Silicone Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain the subject composition composed of an acrylic functional organopolysiloxane and a photopolymerization initiator, curable by ultraviolet irradiation and heating and useful for forming a cured coating film having high hardness and excellent adhesivity to an organic resin for electronic parts. SOLUTION: The objective composition contains (A) 100 pts.wt. of an acrylic functional organopolysiloxane consisting of a unit of the formula R<1> SiO3/2 [R<1> is a group of the formula (R<5> is H or methyl; (k) is an integer of 1-10)], a unit of the formula R<1> R<2> a SiO(3-a)/2 (R<2> is OH; (a) is 1 or 2), a unit of the formula R<2> b R<3> c SiO(4-b-c)/2 (R<3> is a univalent hydrocarbon group; (b) is 1 or 2; (c) is 0, 1 or 2) and a unit of the formula R<3> d SiO(4-d)/2 ((d) is 0, 1 or 2) wherein the amount of R<2> is 3-90mol% based on the total molar number of R<1> to R<3> , (B) 0.01-25 pts.wt. of a photpolymerization initiator and, preferably, (C) 0.01-5 pts.wt. of an organic peroxide (preferably di-t-butyl peroxide).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は電子部品保護材料組
成物に関し、詳しくは、紫外線照射および加熱により硬
化して、高硬度であり、電子部品に使用されている有機
樹脂との接着性に優れた硬化皮膜を形成し得る電子部品
保護材料組成物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a protective material composition for electronic parts, and more specifically, it has a high hardness by being cured by irradiation with ultraviolet rays and heating, and has excellent adhesiveness to an organic resin used in electronic parts. The present invention relates to an electronic component protective material composition capable of forming a cured film.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、アクリル官能性オルガノポリシロ
キサンを主剤とする紫外線硬化性シリコーン組成物とし
ては数多くの組成物が提案されている。例えばアクリル
官能性シリコーン樹脂よりなる組成物(特開昭61−1
11330号公報参照)、コロイダルシリカと多官能価
アクリレートモノマーおよびアクリレートシランの加水
分解物とからなる組成物(特開昭58−1756号公報
参照)、アクリル官能性シリコーン樹脂と多官能価アク
リレートモノマーとからなる組成物(特公平6−293
82号公報参照)などが知られている。しかし、これら
の組成物は硬化後形成される皮膜の硬度が低く、特に、
電子部品に使用されている有機樹脂、例えば半導体封止
樹脂であるエポキシ樹脂への接着性が悪いため、電子部
品保護材料としての使用が限定されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, many compositions have been proposed as a UV-curable silicone composition containing an acrylic functional organopolysiloxane as a main component. For example, a composition comprising an acrylic functional silicone resin (JP-A-61-1)
11330), a composition comprising colloidal silica, a polyfunctional acrylate monomer and a hydrolyzate of acrylate silane (see JP-A-58-1756), an acrylic functional silicone resin and a polyfunctional acrylate monomer. A composition consisting of (Japanese Patent Publication No. 6-293
No. 82) and the like are known. However, these compositions have low hardness of the film formed after curing, and in particular,
Because of poor adhesion to organic resins used in electronic components, such as epoxy resin, which is a semiconductor encapsulating resin, its use as a protective material for electronic components has been limited.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】本発明者は上記問題点
を解決するために鋭意検討した結果、本発明に達した。
即ち、本発明の目的は、紫外線および加熱により硬化し
て、硬度の高い皮膜を形成し、特に、電子部品に使用さ
れている半導体封止用樹脂への接着性に優れた硬化皮膜
を形成し得る電子部品保護材料組成物を提供することに
ある。
The present inventor has reached the present invention as a result of extensive studies to solve the above problems.
That is, an object of the present invention is to cure by ultraviolet rays and heating to form a film having high hardness, and particularly to form a cured film having excellent adhesiveness to a resin for semiconductor encapsulation used in electronic parts. It is to provide an electronic component protective material composition to be obtained.

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記目的は、(A)式、R
1SiO3/2で示される単位、式、R12 aSiO(3-a)/2
で示される単位、式、R2 b3 cSiO(4-b-c)/2で示さ
れる単位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位
からなるアクリル官能性オルガノポリシロキサン[式
中、R1は式
Means for Solving the Problems The above-mentioned objects are represented by the formula (A), R
A unit represented by 1 SiO 3/2 , a formula, R 1 R 2 a SiO (3-a) / 2
An acrylic functional organopolycomprising a unit represented by the formula: R 2 b R 3 c SiO (4-bc) / 2 and a unit represented by the formula: R 3 d SiO (4-d) / 2 Siloxane [wherein R 1 is a formula

【化3】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部および(B)光重合開始剤0.01〜
25重量部から成る電子部品保護材料組成物によって達
成される。
Embedded image (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and k is 1
Is an integer of 10 to 10. ), R 2 is a hydroxyl group, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and a and b
Is 1 or 2, c and d are 0, 1 or 2, and the ratio of R 1 to the total number of moles of R 1 , R 2 and R 3 is 2
˜80 mole percent, and the ratio of R 2 to the total number of moles of R 1 , R 2 , and R 3 is 3 to 90 mole percent. ] 100 parts by weight and (B) photopolymerization initiator 0.01-
It is achieved by an electronic component protective material composition comprising 25 parts by weight.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本発明に使用される(A)成分のア
クリル官能性オルガノポリシロキサンは、アクリル基お
よび水酸基を同時に有するものであり、式、R1SiO
3/2で示される単位、式、R12 aSiO(3-a)/2で示さ
れる単位、式、R2 b3 cSiO(4-b-c)/2で示される単
位および式、R3 dSiO(4-d)/2で示される単位からな
るものである。前記した式中、R1は式
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION As used in the present invention as the component (A) acrylic functional organopolysiloxanes are those having an acrylic group and a hydroxyl group at the same time, wherein, R 1 SiO
A unit represented by 3/2 , a formula, a unit represented by R 1 R 2 a SiO (3-a) / 2 , a formula, a unit represented by R 2 b R 3 c SiO (4-bc) / 2 , and a formula , R 3 d SiO (4-d) / 2 . In the above formula, R 1 is a formula

【化4】 で示される基である。ここで、式中、R5は水素原子ま
たはメチル基であり、好ましくはメチル基である。)k
は1〜10の正数であり、好ましくは3である。R2
水酸基である。R3はメチル基,エチル基,プロピル基
などのアルキル基、フェニル基,トリル基などのアリー
ル基、フェニル基などのアリール基で例示される一価炭
化水素基である。これらの中でもフェニル基が好まし
い。aおよびbは1または2であり、cおよびdは2以
下の数である。また、このオルガノポリシロキサン中に
占めるR1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は
2〜80モルパーセントであり、好ましくは10〜60
モルパーセントである。これは2モルパーセント未満で
は良好な硬化特性が得られないためである。R1,R2
3の合計モル数に対するR2の割合は3〜90モルパー
セントであり、好ましくは10〜70モルパーセントで
ある。これは3モルパーセント未満であると良好な接着
力が得られないためである。このオルガノポリシロキサ
ン中のR1SiO3/2単位は、硬化物の硬度を高め、か
つ、その靱性を高める作用があり、R12 aSiO
(3-a)/2単位は、硬化物の硬度の架橋密度を高める作用
がある。また、R3 dSiO(4-d)/2単位は、硬化物の硬
度を高め、R3がフェニル基である場合には本発明組成
物の硬化速度を高める作用がある。このようなオルガノ
ポリシロキサンは、例えば、メタクリロキシプロピルト
リクロロシラン,アクリロキシプロピルトリクロロシラ
ンなどのアクリルオキシアルキルトリクロロシランと、
ジフェニルジヒドロキシシラン,メチルフェニルジヒド
ロキシシランなどのオルガノシランを有機溶媒中で脱塩
酸縮重合することによって容易に製造される。
Embedded image Is a group represented by. Here, in the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and preferably a methyl group. ) K
Is a positive number from 1 to 10, and is preferably 3. R 2 is a hydroxyl group. R 3 is a monovalent hydrocarbon group exemplified by an alkyl group such as a methyl group, an ethyl group and a propyl group, an aryl group such as a phenyl group and a tolyl group, and an aryl group such as a phenyl group. Of these, a phenyl group is preferable. a and b are 1 or 2, and c and d are numbers of 2 or less. The ratio of R 1 to the total number of moles of R 1 , R 2 and R 3 in the organopolysiloxane is 2 to 80 mol%, preferably 10 to 60.
It is a mole percentage. This is because if it is less than 2 mol%, good curing characteristics cannot be obtained. R 1 , R 2 ,
The ratio of R 2 to the total number of moles of R 3 is 3 to 90 mol%, preferably 10 to 70 mol%. This is because if it is less than 3 mol%, good adhesive strength cannot be obtained. The R 1 SiO 3/2 unit in this organopolysiloxane has the functions of increasing the hardness and the toughness of the cured product and increasing the hardness of the R 1 R 2 a SiO 2.
The (3-a) / 2 unit has the effect of increasing the crosslink density of the hardness of the cured product. The R 3 d SiO (4-d) / 2 unit has the effect of increasing the hardness of the cured product and, when R 3 is a phenyl group, increasing the curing rate of the composition of the present invention. Such organopolysiloxanes include, for example, acryloxyalkyltrichlorosilanes such as methacryloxypropyltrichlorosilane and acryloxypropyltrichlorosilane,
It can be easily produced by dehydrochlorination polycondensation of an organosilane such as diphenyldihydroxysilane or methylphenyldihydroxysilane in an organic solvent.

【0006】本発明に使用される(B)成分の光重合開始
剤は(A)成分のアクリル官能性のオルガノポリシロキサ
ンの重合反応を促進させ、本発明組成物を硬化を促進す
る働きをする。かかる光重合開始剤としては、アセトフ
ェノン、プロピオフェノン、ベンゾフェノン、キサント
ール、ベンズアルデヒド、4−メチルアセトフェノン、
3−ペンチルアセトフェノン、4−メトキシアセトフェ
ノン、3−ブロモアセトフェノン、4−アリルアセトフ
ェノン、3−メトキシベンゾフェノン、p−クロロベン
ゾフェノン、4−ジメトキシベンゾフェノン、4−クロ
ロ−4−ベンジルベンゾフェノン、3−クロロキサント
ール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
イン−n−ブチルエーテル、ベンゾイン−i−ブチルエ
ーテル、ビス(4−ジメチルアミノフェニル)ケトン、
ベンジルメトキシケタール、ジエチルアセトフェノン、
2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ジ
エトキシアセトフェノン等が挙げられる。本成分の配合
量は、(A)成分のオルガノポリシロキサン100重量部
に対して0.01〜25重量部であり、好ましくは0.1
〜10重量部である。
The photopolymerization initiator of the component (B) used in the present invention functions to accelerate the polymerization reaction of the acrylic functional organopolysiloxane of the component (A) and accelerate the curing of the composition of the present invention. . Examples of the photopolymerization initiator include acetophenone, propiophenone, benzophenone, xanthol, benzaldehyde, 4-methylacetophenone,
3-pentylacetophenone, 4-methoxyacetophenone, 3-bromoacetophenone, 4-allylacetophenone, 3-methoxybenzophenone, p-chlorobenzophenone, 4-dimethoxybenzophenone, 4-chloro-4-benzylbenzophenone, 3-chloroxanthol, Benzoin, benzoin methyl ether, benzoin-n-butyl ether, benzoin-i-butyl ether, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone,
Benzyl methoxy ketal, diethyl acetophenone,
2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, diethoxyacetophenone and the like can be mentioned. The content of this component is 0.01 to 25 parts by weight, preferably 0.1 to 100 parts by weight of the organopolysiloxane (A).
To 10 parts by weight.

【0007】本発明の組成物は上記(A)成分および(B)
成分から成るものであるが、これら(A)成分および(B)
成分に加えて、さらに硬化を促進するために(C)成分と
して、有機パーオキサイドを添加配合することが好まし
い。有機パーオキサイドとしては、例えば、ベンゾイル
パーオキサイド、ジメチルベンゾイルパーオキサイド、
クロロベンゾイルパーオキサイド、ジクロロベンゾイル
パーオキサイド、ジ−t−ブチルパーオキサイド、2,
5−ジ−t−ブチルパーオキシブチル−2,5−ジメチ
ルヘキサン、2,5−ジ−t−ブチルパーオキシブチル
−2,5−ジメチルヘキシン、t−ブチルクミルパーオ
キサイド、ジクミルパーオキサイド、t−ブチルパーオ
キシベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−4−クロロ
ベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−2,4−ジクロ
ロベンゾエート、t−ブチルパーオキシ−4−トルオエ
ート、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)シクロヘキ
サン、1,1−ジ(t−ブチルパーオキシ)−3,3,5
−トリメチルシクロヘキサン、2,2−ジ(t−ブチル
パーオキシ)ブタン等が例示される。これらの中でも相
溶性のあるジ−t−ブチルパーオキサイドが好ましい。
かかる有機パーオキサイドの配合量は、(A)成分のオル
ガノポリシロキサン100重量部に対して0.01〜5
重量部である。
The composition of the present invention comprises the above-mentioned components (A) and (B).
Consist of components (A) and (B)
In addition to the components, it is preferable to add and blend an organic peroxide as the component (C) in order to further accelerate the curing. Examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, dimethylbenzoyl peroxide,
Chlorobenzoyl peroxide, dichlorobenzoyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,
5-di-t-butylperoxybutyl-2,5-dimethylhexane, 2,5-di-t-butylperoxybutyl-2,5-dimethylhexyne, t-butylcumyl peroxide, dicumyl peroxide , T-butylperoxybenzoate, t-butylperoxy-4-chlorobenzoate, t-butylperoxy-2,4-dichlorobenzoate, t-butylperoxy-4-toluoate, 1,1-di (t- Butylperoxy) cyclohexane, 1,1-di (t-butylperoxy) -3,3,5
Examples include -trimethylcyclohexane and 2,2-di (t-butylperoxy) butane. Among these, compatible di-t-butyl peroxide is preferable.
The amount of the organic peroxide blended is 0.01 to 5 with respect to 100 parts by weight of the organopolysiloxane as the component (A).
Parts by weight.

【0008】本発明の組成物は上記(A)成分および(B)
成分あるいは(A)成分,(B)成分および(C)成分を均一
に混合することにより容易に製造されるが、これの成分
に加えて、基材への塗布性を良くするために希釈剤とし
て、溶剤あるいは反応性希釈剤を添加しても良い。溶剤
としてはトルエン,キシレン,乳酸ブチル等の有機系溶
媒が例示される。反応性希釈剤としては1官能価アクリ
レート,2官能価アクリレート、多官能価アクリレート
等が例示される。
The composition of the present invention comprises the above-mentioned components (A) and (B).
Component or component (A), component (B) and component (C) can be easily produced by uniform mixing. In addition to these components, a diluent for improving the coating property on the substrate As a solvent, a reactive diluent may be added. Examples of the solvent include organic solvents such as toluene, xylene and butyl lactate. Examples of reactive diluents include monofunctional acrylates, difunctional acrylates, and polyfunctional acrylates.

【0009】本発明の組成物には、紫外線照射による硬
化反応を促進させるために、光増感剤を添加しても良
い。光増感剤としては4−メチル−7−(N,N−ジメ
チルアミノ)−クマリン等の染料、アセトフェノン等の
ケトン系あるいはエーテル系化合物、ベンゾキノン等の
キノン系化合物などが挙げられる。また、基材との接着
性を良くするために接着付与剤を添加しても良い。この
ような接着剤としては、γ−(2−アミノエチル)アミ
ノプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシランが
挙げられる。
A photosensitizer may be added to the composition of the present invention in order to accelerate the curing reaction by ultraviolet irradiation. Examples of the photosensitizer include dyes such as 4-methyl-7- (N, N-dimethylamino) -coumarin, ketone-based or ether-based compounds such as acetophenone, and quinone-based compounds such as benzoquinone. Further, an adhesion-imparting agent may be added to improve the adhesiveness with the base material. Examples of such an adhesive include alkoxysilanes such as γ- (2-aminoethyl) aminopropyltrimethoxysilane.

【0010】本発明の組成物を電子部品に適用する場合
には、本発明組成物を電子部品の表面に塗布し、その上
から紫外線を照射するかあるいは加熱することにより硬
化させることができる。この場合、この組成物に紫外線
を照射して硬化させた後、さらに加熱して硬化を完結さ
せる方法が好ましい。ここで、紫外線を照射するための
紫外線照射装置としては特に限定されず、水素放電管、
高圧水銀灯、中圧水銀灯、低圧水銀灯、メタルハライド
ランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンア
ーク灯等が挙げられる。また、加熱するための装置とし
ては、熱風循環式オーブン、ホットプレート、赤外線照
射装置等の加熱装置が例示される。
When the composition of the present invention is applied to an electronic component, the composition of the present invention can be applied to the surface of the electronic component, and the composition can be cured by irradiation with ultraviolet rays or heating. In this case, it is preferable to irradiate the composition with ultraviolet rays to cure the composition and then heat the composition to complete the curing. Here, the ultraviolet irradiation device for irradiating ultraviolet rays is not particularly limited, and a hydrogen discharge tube,
Examples thereof include a high pressure mercury lamp, a medium pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a chemical lamp and a carbon arc lamp. Moreover, as a device for heating, a heating device such as a hot air circulation type oven, a hot plate, and an infrared irradiation device is exemplified.

【0011】以上のような本発明の組成物は、紫外線お
よび加熱により速やかに硬化して硬度の高い皮膜を形成
し、特に、電子部品に使用されている有機樹脂への接着
性に優れた硬化皮膜を形成するので、各種の電子部品の
保護材料として好適に使用される。保護される電子部品
としては、例えば、半導体素子、ハイブリットIC、プ
リント回路基板、液晶表示板がある。
The composition of the present invention as described above is rapidly cured by ultraviolet rays and heating to form a film having high hardness, and in particular, it is excellent in adhesiveness to an organic resin used in electronic parts. Since it forms a film, it is preferably used as a protective material for various electronic components. Examples of protected electronic components include semiconductor elements, hybrid ICs, printed circuit boards, and liquid crystal display boards.

【0012】[0012]

【実施例】次に、本発明を実施例および参考例により詳
細に説明する。尚、実施例中、部とあるのは重量部のこ
とである。
EXAMPLES Next, the present invention will be described in detail with reference to Examples and Reference Examples. In the examples, “parts” means “parts by weight”.

【0013】[0013]

【参考例1】攪拌機、滴下ロート、分溜管および温度計
を備えた4つ口フラスコに、γ−メタクリロキシプロピ
ルトリクロロシラン525部、トルエン3124部、p
−メトキシフェノール0.047部を投入し攪拌し
た。、次いで、この反応系にジフェニルジヒドロキシシ
ラン329部とトリエチルアミン708部の混合液を徐
々に滴下してこの反応系を80℃で2時間攪拌した。そ
の後、この系に少量の塩酸水溶液を添加して攪拌して反
応させた。その後、トルエン層を分離して、反応成生物
を数回水洗した後、トルエン層を減圧下で加熱して、無
色透明な粘調液体439gを調製した。この粘調液体を
13C−核磁気共鳴スペクトル、29Si−NMRおよび赤
外線分光により分析した結果、下記平均単位式で表され
るオルガノポリシロキサンであると確認された。また、
このオルガノポリシロキサンをゲルパーミエイションク
ロマトグラフにより分析した結果、その重量平均分子量
はポリジメチルシロキサン換算で1700であった。
[Reference Example 1] In a four-necked flask equipped with a stirrer, a dropping funnel, a fractionating tube and a thermometer, 525 parts of γ-methacryloxypropyltrichlorosilane, 3124 parts of toluene, p
-Methylphenol (0.047 parts) was added and the mixture was stirred. Then, a mixed liquid of 329 parts of diphenyldihydroxysilane and 708 parts of triethylamine was gradually added dropwise to this reaction system, and this reaction system was stirred at 80 ° C. for 2 hours. Then, a small amount of aqueous hydrochloric acid solution was added to this system, and the mixture was reacted by stirring. Then, the toluene layer was separated, the reaction product was washed with water several times, and then the toluene layer was heated under reduced pressure to prepare 439 g of a colorless transparent viscous liquid. This viscous liquid
As a result of analysis by 13 C-nuclear magnetic resonance spectrum, 29 Si-NMR and infrared spectroscopy, it was confirmed to be an organopolysiloxane represented by the following average unit formula. Also,
As a result of analyzing this organopolysiloxane by gel permeation chromatography, its weight average molecular weight was 1,700 in terms of polydimethylsiloxane.

【化5】 尚、上式中、R1は下記化学構造式で表される基であ
る。
Embedded image In the above formula, R 1 is a group represented by the following chemical structural formula.

【化6】 [Chemical 6]

【0014】[0014]

【実施例1】参考例1で得られたメタクリルオキシアル
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部および乳酸ブチル
29重量部を均一に混合して電子部品保護材料組成物を
調製した。この組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させ
てガラス板に薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベア
ー式紫外線照射装置により光量100mJ/cm2の紫外線
を照射した後、さらに250℃で1時間加熱した。得ら
れた硬化皮膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は
鉛筆硬度で3Hの硬度を有することが判明した。またこ
の電子部品保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μ
mになるように塗布しコンベアー式紫外線照射装置によ
り光量100mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに2
50℃で1時間加熱して硬化させた。次いでその上から
半導体封止用用エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキ
シ樹脂)を厚さ1mmになるように塗布し、180℃に加
熱し硬化させた。その後、この硬化エポキシ樹脂を半導
体から引き剥し、その剥離面を調べたところ電子部品保
護材料組成物の硬化皮膜は硬化エポキシ樹脂に強固に接
着しており、その界面を爪で擦っても剥離しなかった。
Example 1 65 parts by weight of the methacryloxyalkyl-functional organopolysiloxane obtained in Reference Example 1, 5 parts by weight of benzoin-iso-butyl ether and 29 parts by weight of butyl lactate were uniformly mixed to prepare a composition for protecting electronic parts. Was prepared. This composition was applied on a glass plate and dried to form a thin film on the glass plate. The thin film was irradiated with ultraviolet light having a light amount of 100 mJ / cm 2 by a conveyor type ultraviolet irradiation device, and then further heated at 250 ° C. for 1 hour. When the hardness of the obtained cured film was measured, it was found that this cured film had a pencil hardness of 3H. In addition, this electronic component protective material composition has a film thickness of 20 μm on the semiconductor surface.
m and apply it with a conveyor type UV irradiator to irradiate it with UV light with a light intensity of 100 mJ / cm 2 , and then further 2
It was cured by heating at 50 ° C. for 1 hour. Then, an epoxy resin for semiconductor encapsulation (bisphenol type epoxy resin) was applied thereon to a thickness of 1 mm, and heated at 180 ° C. to cure. After that, the cured epoxy resin was peeled off from the semiconductor, and the peeled surface was examined, and the cured film of the electronic component protective material composition was firmly adhered to the cured epoxy resin, and peeled off even if the interface was rubbed with a nail. There wasn't.

【0015】[0015]

【実施例2】参考例1で得られたメタクリルオキシアル
キル官能性オルガノポリシロキサン65重量部、ベンゾ
イン−イソ−ブチルエーテル5重量部、乳酸ブチル29
重量部およびジ−t−ブチルパーオキサイド1重量部を
均一に混合して電子部品保護材料組成物を調製した。こ
の組成物をガラス板上に塗布し、乾燥させてガラス板に
薄膜を形成させた。この薄膜上にコンベアー式紫外線照
射装置により光量100mJ/cm2の紫外線を照射した
後、さらに250℃で1時間加熱した。得られた硬化皮
膜の硬度を測定したところ、この硬化皮膜は鉛筆硬度で
4Hの硬度を有することが判明した。またこの電子部品
保護材料組成物を半導体の表面に膜厚20μmになるよ
うに塗布し、コンベアー式紫外線照射装置により光量1
00mJ/cm2の紫外線を照射した後、さらに250℃で
1時間加熱して硬化させた。次いでその上から半導体用
エポキシ樹脂(ビスフェノール型エポキシ樹脂)を塗布
し、180℃に加熱し硬化させた。その後、この硬化エ
ポキシ樹脂を半導体から引き剥し、その剥離面を調べた
ところ、オルガノポリシロキサン硬化皮膜はエポキシ樹
脂に強固に接着しており、その界面を爪で擦っても剥離
しなかった。
Example 2 65 parts by weight of methacryloxyalkyl-functional organopolysiloxane obtained in Reference Example 1, 5 parts by weight of benzoin-iso-butyl ether, butyl lactate 29
By weight, 1 part by weight of di-t-butyl peroxide was uniformly mixed to prepare an electronic component protective material composition. This composition was applied on a glass plate and dried to form a thin film on the glass plate. The thin film was irradiated with ultraviolet light having a light amount of 100 mJ / cm 2 by a conveyor type ultraviolet irradiation device, and then further heated at 250 ° C. for 1 hour. When the hardness of the obtained cured film was measured, it was found that this cured film had a pencil hardness of 4H. Further, this electronic component protection material composition was applied on the surface of a semiconductor so as to have a film thickness of 20 μm, and a light amount of 1 was applied by a conveyor type ultraviolet irradiation device.
After irradiating with ultraviolet rays of 00 mJ / cm 2 , it was further cured by heating at 250 ° C. for 1 hour. Then, an epoxy resin for semiconductors (bisphenol type epoxy resin) was applied from above, and heated at 180 ° C. to cure. Then, the cured epoxy resin was peeled off from the semiconductor, and the peeled surface was examined. As a result, the cured organopolysiloxane film was firmly adhered to the epoxy resin and was not peeled off even if the interface was rubbed with a nail.

【0016】[0016]

【発明の効果】本発明の電子部品保護材料組成物は(A)
成分および(B)成分または(A)成分,(B)成分および
(C)成分からなるので、紫外線および加熱により硬化し
て、高硬度であり、かつ、電子部品に使用されている有
機樹脂に対して接着性に優れた硬化皮膜を形成し得ると
いう特徴を有する。
The electronic component protective material composition of the present invention is (A)
Component and (B) component or (A) component, (B) component and
Since it is composed of the component (C), it has a feature that it can be cured by ultraviolet rays and heating to form a cured film having high hardness and excellent adhesiveness to an organic resin used in electronic parts. .

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (A)式、R1SiO3/2で示される単位、
式、R12 aSiO(3-a)/2で示される単位、式、R2 b
3 cSiO(4-b-c)/2で示される単位および式、R3 dSi
(4-d)/2で示される単位からなるアクリル官能性オル
ガノポリシロキサン[式中、R1は式 【化1】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部および(B)光重合開始剤0.01〜
25重量部から成る電子部品保護材料組成物。
1. A unit represented by the formula (A), R 1 SiO 3/2 ,
Formula, unit represented by R 1 R 2 a SiO (3-a) / 2 , Formula, R 2 b R
Units and formulas represented by 3 c SiO (4-bc) / 2 , R 3 d Si
Acrylic functional organopolysiloxane consisting of units represented by O (4-d) / 2 [wherein R 1 is of the formula: (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and k is 1
Is an integer of 10 to 10. ), R 2 is a hydroxyl group, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and a and b
Is 1 or 2, c and d are 0, 1 or 2, and the ratio of R 1 to the total number of moles of R 1 , R 2 and R 3 is 2
˜80 mole percent, and the ratio of R 2 to the total number of moles of R 1 , R 2 , and R 3 is 3 to 90 mole percent. ] 100 parts by weight and (B) photopolymerization initiator 0.01-
An electronic component protection material composition comprising 25 parts by weight.
【請求項2】 (A)式、R1SiO3/2で示される単位、
式、R12 aSiO(3-a)/2で示される単位、式、R2 b
3 cSiO(4-b-c)/2で示される単位および式、R3 dSi
(4-d)/2で示される単位からなるアクリル官能性オル
ガノポリシロキサン[式中、R1は式 【化2】 (式中、R5は水素原子またはメチル基であり、kは1
〜10の整数である。)で示される基であり、R2は水
酸基であり、R3は一価炭化水素基であり、aおよびb
は1または2であり、cおよびdは0,1または2であ
り、R1,R2,R3の合計モル数に対するR1の割合は2
〜80モルパーセントであり、R1,R2,R3の合計モ
ル数に対するR2の割合は3〜90モルパーセントであ
る。]100重量部、(B)光重合開始剤0.01〜25
重量部および(C)有機パーオキサイド0.01〜5重量
部から成る電子部品保護材料組成物。
2. A unit represented by the formula (A), R 1 SiO 3/2 ,
Formula, unit represented by R 1 R 2 a SiO (3-a) / 2 , Formula, R 2 b R
Units and formulas represented by 3 c SiO (4-bc) / 2 , R 3 d Si
Acrylic functional organopolysiloxane consisting of units represented by O (4-d) / 2 [wherein R 1 is of the formula: (In the formula, R 5 is a hydrogen atom or a methyl group, and k is 1
Is an integer of 10 to 10. ), R 2 is a hydroxyl group, R 3 is a monovalent hydrocarbon group, and a and b
Is 1 or 2, c and d are 0, 1 or 2, and the ratio of R 1 to the total number of moles of R 1 , R 2 and R 3 is 2
˜80 mole percent, and the ratio of R 2 to the total number of moles of R 1 , R 2 , and R 3 is 3 to 90 mole percent. ] 100 parts by weight, (B) photopolymerization initiator 0.01-25
An electronic component protective material composition comprising 0.01 part by weight and (C) 0.01 to 5 parts by weight of organic peroxide.
【請求項3】 R3がフェニル基である請求項1記載の
電子部品保護材料組成物。
3. The electronic component protective material composition according to claim 1, wherein R 3 is a phenyl group.
JP7336112A 1995-11-30 1995-11-30 Protection material composition for electronic part Ceased JPH09151334A (en)

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