JPH09148741A - Method for manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method for manufacturing multilayer printed wiring board

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JPH09148741A
JPH09148741A JP7311172A JP31117295A JPH09148741A JP H09148741 A JPH09148741 A JP H09148741A JP 7311172 A JP7311172 A JP 7311172A JP 31117295 A JP31117295 A JP 31117295A JP H09148741 A JPH09148741 A JP H09148741A
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JP
Japan
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printed wiring
wiring board
multilayer printed
resin
epoxy resin
Prior art date
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Pending
Application number
JP7311172A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Yoshiyuki Takahashi
良幸 高橋
Kunio Iketani
国夫 池谷
Shigeru Ekusa
繁 江草
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
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  • Moulding By Coating Moulds (AREA)
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve adhesiveness between undercoating material and copper foil and to ensure sufficient properties of laminate without black treatment of circuits on internal layer. SOLUTION: By this method of manufacturing a multilayer printed wiring board, a pre-preg consisting of a substrate impregnated with a thermosetting resin and dried is overlaied on the circuit surface of the copper-clad laminate with circuit patterns and pressed for lamination. On the circuit surface of the copper-clad laminate prepared by the above method, (1) a terminal bifunctional group straight-chain polymer epoxy resin whose average epoxy equivalent is 450 or more and 6000 or less, (2) a resol or a resol and a novolak, and (3) an undercoating material whose essential component is a curing accelerator are applied and dried. Then a pre-preg consisting of a substrate impregnated with an epoxy resin and dried is overlaid and pressed for lamination.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内層回路銅箔とア
ンダーコート剤との密着性に優れ、黒処理(酸化処理)
を不要とすることができる多層プリント配線板の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has excellent adhesion between an inner layer circuit copper foil and an undercoat agent, and has a black treatment (oxidation treatment).
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which can eliminate the need for.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまでの多層プリント配線板の製造方
法としては、一般的には、両面又は片面に回路加工を施
された内層回路板の回路面にいわゆる黒処理と呼ばれる
酸化処理を施し、回路表面を粗化した後、熱硬化型の樹
脂を基材に塗布・含浸・乾燥させたプリプレグを1枚以
上重ね、さらにその上面に金属箔を重ね合わせて、加熱
加圧するものであった。黒処理の目的は、プリプレグと
の良好な密着性を得るためであり、黒処理を施していな
い内層回路とプリプレグは、全くといっていいほど密着
性がなかったために、黒処理は必須の技術であった。と
ころが、この技術は、内層回路板の外層銅箔の化学処理
による酸化現象を応用したものであり、基本的には、工
程の管理が非常に難しく、更に、多大な設備投資とラン
ニングコストが要求される。更に、酸化銅は耐酸性が弱
く、また、物理的な強度も弱いため多層成形時、ドリル
加工時、スルーホールメッキ時に、トラブルが発生しや
すいといった問題点も指摘されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, generally, a so-called black treatment is performed on a circuit surface of an inner circuit board on which circuit processing is performed on both surfaces or one surface, After roughening the circuit surface, one or more prepregs obtained by applying, impregnating, and drying a thermosetting resin on a base material are laminated, and a metal foil is further laminated on the upper surface thereof, followed by heating and pressing. The purpose of the black treatment is to obtain good adhesion with the prepreg, and since the inner layer circuit and the prepreg that have not been subjected to the black treatment have almost no adhesion at all, the black treatment is an essential technology. there were. However, this technology is based on the oxidization phenomenon caused by the chemical treatment of the outer copper foil of the inner circuit board. Basically, it is very difficult to control the process, and furthermore, a great deal of equipment investment and running costs are required. Is done. Further, it has been pointed out that copper oxide has a low acid resistance and a low physical strength, so that problems are likely to occur during multilayer forming, drilling, and through-hole plating.

【0003】本発明に示される回路加工された内層銅張
積層板の回路表面に樹脂層を形成する多層プリント配線
板の製造方法として、特開昭53−132772公報、
特開昭60−62194公報、特開昭63−10879
6公報等があげられるが、いずれの技術においても、成
形時のボイドを減少せしめることにより、耐電圧性の向
上、耐ハロー性の向上、熱放散性の向上、絶縁層厚みの
向上をその目標とするものであり、本発明とは、全く異
なった目的のものであった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 53-132772 discloses a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which a resin layer is formed on the circuit surface of an inner-layer copper-clad laminate processed by a circuit as disclosed in the present invention.
JP-A-60-62194, JP-A-63-10879
In any of the techniques, the goal is to improve the withstand voltage, the halo resistance, the heat dissipation, and the thickness of the insulating layer by reducing the voids during molding. This is for a completely different purpose from the present invention.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、内層回路銅
箔とアンダーコート剤との密着力を向上させることがで
き、これにより黒処理を不要とすることができる多層プ
リント配線板に関するものであり、多層プリント配線板
において、内層回路銅箔、特に黒処理を施していない内
層回路銅箔との密着性、及び吸湿耐熱性、耐メッキ液性
と層間剥離の問題を解決すべくアンダーコート剤の組成
について鋭意検討をすすめた結果、本発明をなすに到っ
た。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a multilayer printed wiring board capable of improving the adhesion between an inner layer circuit copper foil and an undercoat agent, thereby eliminating the need for black processing. Yes, in multi-layer printed wiring boards, undercoat agent to solve the problems of adhesion with inner layer copper foil, especially inner layer copper foil not subjected to black treatment, moisture absorption heat resistance, plating solution resistance and delamination As a result of diligent studies on the composition of the present invention, the present invention has been achieved.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、回路加工され
た銅張積層板の回路面に、熱硬化性樹脂を基材に含浸、
乾燥させたプリプレグを重ね合わせて積層プレスする多
層プリント配線板の製造方法において、前記回路加工さ
れた銅張積層板の回路面に、(1)平均エポキシ当量が
450以上6000以下である末端2官能直鎖状高分子
エポキシ樹脂、(2)レゾール型フェノール樹脂、又は
レゾール型フェノール樹脂とノボラック型フェノール樹
脂、及び(3)硬化促進剤を必須成分とするアンダーコ
ート剤を塗布乾燥した後、エポキシ樹脂を基材に含浸、
乾燥したプリプレグを重ね合わせて積層プレスすること
を特徴とする多層プリント配線板の製造方法、に関する
ものである。
According to the present invention, a base material is impregnated with a thermosetting resin on the circuit surface of a circuit-processed copper-clad laminate.
In the method for producing a multilayer printed wiring board in which dried prepregs are laminated and pressed, in the circuit surface of the circuit-processed copper-clad laminate, (1) a terminal bifunctional having an average epoxy equivalent of 450 or more and 6000 or less. Linear polymer epoxy resin, (2) resol type phenolic resin, or resol type phenolic resin and novolac type phenolic resin, and (3) an undercoating agent containing a curing accelerator as an essential component is applied and dried, and then an epoxy resin Impregnate the base material,
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises stacking and pressing laminated prepregs.

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
目的は、発明が解決しようとする課題の項で述べたよう
に、内層銅箔面の黒処理を不要とすることができる多層
プリント配線板の製造方法を提供することにある。本発
明者は、アンダーコート剤の組成について鋭意検討を行
った結果、黒処理を行った場合はもちろん、黒処理を施
していなくとも、一定の分子量の末端2官能直鎖状高分
子エポキシ樹脂、レゾール型フェノール樹脂及び硬化促
進剤を組み合わせることにより、内層回路銅箔との充分
な密着性と耐熱性を確保できることを見いだした。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which can eliminate the need for black treatment of the inner copper foil surface, as described in the section of the problem to be solved by the invention. The present inventor has conducted diligent studies on the composition of the undercoat agent, and as a result, not only when black treatment is performed but also when no black treatment is performed, a terminal bifunctional linear polymer epoxy resin having a constant molecular weight, It was found that by combining a resol type phenol resin and a curing accelerator, sufficient adhesion and heat resistance to the inner layer circuit copper foil can be secured.

【0007】エポキシ樹脂としては、通常の積層板に使
用されるものであればいかなるものも使用できるが、内
層回路銅箔との充分な密着性が得られ、黒処理を不要と
するためには、好ましくは、平均エポキシ当量が450
以上6000以下である末端2官能直鎖状エポキシ樹脂
であり、代表的には、2官能フェノールとエピハロヒド
リンとを反応して得られる2官能直鎖状エポキシ樹脂、
2官能エポキシ樹脂と2官能フェノールの交互共重合反
応によって得られる末端2官能直鎖状エポキシ樹脂等が
あり、これらは数種類のものを併用することも可能であ
る。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、プロピレンオキサイドビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、2、6ーナフトール型
ジグリシジルエーテル重合物、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂とテトラブロモビスフェノールA共重合物、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂とテトラブロモビスフェ
ノールA共重合物、ビスフェノールS型エポキシ樹脂と
テトラブロモビスフェノールA共重合物等が例示され
る。難燃化のために、臭素化エポキシ樹脂を使用するこ
とができる。
As the epoxy resin, any epoxy resin can be used as long as it is used for ordinary laminated boards. However, in order to obtain sufficient adhesion to the inner layer circuit copper foil and eliminate the need for black processing, Preferably, the average epoxy equivalent is 450
A terminal bifunctional linear epoxy resin having a molecular weight of 6000 or less, typically a bifunctional linear epoxy resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin,
There are terminally bifunctional linear epoxy resins obtained by alternate copolymerization reaction of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol, and these can be used in combination of several types. For example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, tetrabromobisphenol A epoxy resin, propylene oxide bisphenol A epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, biphenyl epoxy resin, 2,6 naphthol diglycidyl ether polymerization Products, bisphenol A type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, bisphenol F type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, bisphenol S type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, and the like. For flame retardancy, a brominated epoxy resin can be used.

【0008】エポキシ樹脂の分子量について言及する。
黒処理がされていない銅との密着性を考えた場合、分子
量が大きいほうが密着性が高い傾向にあるものの、吸湿
後の半田耐熱性は逆に劣化しやすくなることを見いだし
た。エポキシ樹脂のベース骨格、芳香族ポリアミンのベ
ース骨格によって多少の絶対値上の差異はあるものの、
この傾向についてはほとんど変りなかった。エポキシ樹
脂系多層プリント配線板(FR−4グレード等)に実用
上必要とされる内層回路ピール強度は一般的に0.5k
N/mといわれており、平均エポキシ当量450のもの
の使用で、黒処理を施していない内層ピール強度が実用
上最小限のレベルであった。また、平均エポキシ当量が
6000を越えてしまうと、黒処理を施していない内層
ピール強度は1.1kN/mと、充分なレベルであるに
もかかわらず、必要な吸湿耐熱性が発現しない。これ
は、架橋部位であるエポキシ基間が離れ過ぎてしまうた
めと考えられる。本発明においては、充填材として、そ
の表面が、飽和脂肪酸、カップリング剤等で疎水処理さ
れた炭酸カルシウム、及び疎水処理された超微粒子シリ
カを配合しているので、エポキシ樹脂はより分子量の小
さいものまで使用可能である。
The molecular weight of the epoxy resin will be mentioned.
In consideration of the adhesion to copper that has not been subjected to black treatment, it has been found that the higher the molecular weight, the higher the adhesion, but the solder heat resistance after moisture absorption tends to deteriorate. Although there are some differences in the absolute value depending on the base skeleton of the epoxy resin and the base skeleton of the aromatic polyamine,
This trend remained almost the same. The inner layer peel strength required for practical use of epoxy resin multilayer printed wiring boards (FR-4 grade etc.) is generally 0.5k.
It is said to be N / m, and the peel strength of the inner layer not subjected to black treatment was at a practically minimum level by using an epoxy resin having an average epoxy equivalent of 450. If the average epoxy equivalent exceeds 6000, the peel strength of the inner layer not subjected to the black treatment is 1.1 kN / m, which is a sufficient level, but the necessary moisture absorption heat resistance is not exhibited. This is probably because the epoxy groups, which are cross-linking sites, are too far apart. In the present invention, as the filler, the surface thereof is blended with saturated fatty acid, calcium carbonate hydrophobically treated with a coupling agent and the like, and ultrafine particle silica hydrophobically treated, so that the epoxy resin has a smaller molecular weight. Even things can be used.

【0009】硬化剤であるレゾール型フェノール樹脂と
ノボラック型フェノール樹脂について説明する。使用さ
れるフェノール化合物は、2官能性フェノール化合物で
は、オルソクレゾール、パラクレゾール、パラエチルフ
ェノール、パラプロピルフェノール、パラターシャリー
ブチルフェノール、パラオクチルフェノール、パラノニ
ルフェノール等であり、3官能性以上のフェノール化合
物では、フェノール、メタクレゾール、3,5−キシレ
ノール、レゾルシノール、カテコール、ビスフェノール
A、ビスフェノールF等であって、これらの内から選ば
れた1種または2種以上を、ホルムアルデヒドなどのア
ルデヒド類と反応することによりフェノール樹脂を得る
ことができる。この中で、フェノール化合物としてパラ
クレゾールを50重量%以上含むフェノール樹脂が、前
記内層回路との密着性の点で好ましいものである。パラ
クレゾール型レゾール樹脂又はパラクレゾール型ノボラ
ック樹脂を50重量%以上含むフェノール樹脂も同様に
好ましいものである。
The resol type phenolic resin and the novolac type phenolic resin which are hardeners will be described. Phenolic compounds used are orthocresol, paracresol, paraethylphenol, parapropylphenol, paratertiarybutylphenol, paraoctylphenol, paranonylphenol, etc. in the bifunctional phenol compound, and in the trifunctional or higher functional phenol compounds. , Phenol, metacresol, 3,5-xylenol, resorcinol, catechol, bisphenol A, bisphenol F, etc., and reacting one or more selected from these with aldehydes such as formaldehyde Thus, a phenol resin can be obtained. Among them, a phenol resin containing 50% by weight or more of para-cresol as a phenol compound is preferable from the viewpoint of adhesion to the inner layer circuit. A phenol resin containing 50% by weight or more of para-cresol type resole resin or para-cresol type novolac resin is also preferable.

【0010】レゾール型フェノール樹脂はフェノール化
合物とアルデヒドとをアルカリ性の触媒の下で反応させ
たものであり、エポキシ樹脂とは、フェノール性水酸基
及びメチロール基により反応する。溶融温度が80〜1
00℃のものが特性上及び製造の容易さの点から好まし
い。80℃より低いと低分子量のものが多く、耐熱性向
上効果が小さいことがあり、100℃より高いものは製
造が困難である。遊離のフェノール量は少ないほどよい
が、製造上極端に少なくすることは容易ではない。通常
2〜5重量%が好ましい。ノボラック型フェノール樹脂
は、フェノール化合物とアルデヒドとを酸性触媒の下で
反応させたものであり、エポキシ樹脂とは、フェノール
性の水酸基により反応する。溶融温度が80〜135℃
のものが好ましい。80℃より低いと低分子量のものが
多く、耐熱性向上効果が小さいことがあり、135℃よ
り高いものは製造が困難である。遊離フェノール量は1
重量%以下が耐熱性及び密着性のために好ましいもので
ある。
The resol type phenol resin is obtained by reacting a phenol compound with an aldehyde under an alkaline catalyst, and reacts with an epoxy resin through a phenolic hydroxyl group and a methylol group. Melting temperature is 80-1
A material having a temperature of 00 ° C. is preferable from the viewpoint of characteristics and ease of production. If the temperature is lower than 80 ° C, many of them have a low molecular weight and the heat resistance improving effect may be small, and if the temperature is higher than 100 ° C, the production is difficult. The smaller the amount of free phenol, the better, but it is not easy to make it extremely small in production. Generally, 2 to 5% by weight is preferable. The novolac-type phenol resin is obtained by reacting a phenol compound and an aldehyde under an acidic catalyst, and reacts with an epoxy resin by a phenolic hydroxyl group. Melting temperature is 80 ~ 135 ℃
Are preferred. When the temperature is lower than 80 ° C, many of them have a low molecular weight and the heat resistance improving effect is small in some cases, and when the temperature is higher than 135 ° C, the production is difficult. Free phenol amount is 1
Weight% or less is preferable for heat resistance and adhesion.

【0011】レゾール型フェノール樹脂の配合量は、エ
ポキシ樹脂100重量部に対して4〜30重量部が耐熱
性向上及び層間密着性向上のために好ましい範囲である
が、通常よりやや少量(20〜50%少なく)配合し、
ノボラック型フェノール樹脂を併用することも前記特性
向上のために好ましい。これらのフェノール樹脂は、O
H基の量とエポキシ樹脂のエポキシ基の量とが当量比で
0.7〜1.4であることが耐熱性(特に、吸湿後の半
田耐熱性)と層間密着性を両立するために好ましい範囲
である。この当量比が上記範囲より大きくても小さくて
も耐熱性及び密着性において低下する傾向がある。
The amount of the resol-type phenol resin compounded is 4 to 30 parts by weight per 100 parts by weight of the epoxy resin in order to improve heat resistance and interlayer adhesion. (50% less)
It is also preferable to use a novolac type phenol resin in combination for improving the characteristics. These phenolic resins are
It is preferable that the amount of H groups and the amount of epoxy groups of the epoxy resin are 0.7 to 1.4 in terms of an equivalent ratio in order to achieve both heat resistance (particularly solder heat resistance after moisture absorption) and interlayer adhesion. It is a range. If the equivalent ratio is larger or smaller than the above range, the heat resistance and the adhesiveness tend to decrease.

【0012】アンダーコート剤の硬化性向上のための硬
化促進剤としては,特に限定するものではないが、イミ
ダゾール系硬化促進剤とホスフィン系硬化促進剤が好ま
しく使用される。イミダゾール系硬化促進剤としては、
2−メチルイミダゾール、2−エチル−4−メチルイミ
ダゾール、2−フェニル−4−メチルイミダゾール、
2,4’−ジアミノ−6−[2’−エチル−4’−メチ
ルイミダゾリル−(1’)]エチル−s−トリアジン、
2−メチルイミダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−
メチルイミダゾール・トリメリット酸付加物等が、ま
た、ホスフィン系硬化促進剤としては、トリフェニルホ
スフィン、トリフェニルホスフィンフェノール塩等があ
り、さらに好ましくは、2−ウンデシルイミダゾール、
1−シアノエチル−2−ウンデシルイミダゾール又は
2,4−ジアミノ−6−{2’−ウンデシルイミダゾリ
ル−(1’)}エチル−s−トリアジンを各々単独もし
くは併用使用することができる。エポキシ樹脂100重
量部に対する硬化促進剤の量は0.2〜0.9重量部が
好ましい。0.9重量部を越える添加量になると、硬化
が速過ぎて成形性が悪くなるとともに、吸湿後の半田耐
熱性及び層間密着性が両立しないか、あるいは両方の特
性が低下するようになる。一方、0.2重量部未満の添
加量では、硬化不足により耐熱性が不十分となり、密着
性も低下するようになる。
The curing accelerator for improving the curability of the undercoat agent is not particularly limited, but imidazole curing accelerator and phosphine curing accelerator are preferably used. As the imidazole-based curing accelerator,
2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole, 2-phenyl-4-methylimidazole,
2,4'-diamino-6- [2'-ethyl-4'-methylimidazolyl- (1 ')] ethyl-s-triazine,
2-Methylimidazole / isocyanuric acid adduct, 2-
Methylimidazole / trimellitic acid adduct and the like, and as the phosphine-based curing accelerator, there are triphenylphosphine, triphenylphosphine phenol salt and the like, and more preferably, 2-undecylimidazole,
1-Cyanoethyl-2-undecylimidazole or 2,4-diamino-6- {2'-undecylimidazolyl- (1 ')} ethyl-s-triazine can be used alone or in combination. The amount of the curing accelerator based on 100 parts by weight of the epoxy resin is preferably 0.2 to 0.9 parts by weight. If the addition amount exceeds 0.9 parts by weight, the curing speed is too fast to deteriorate the moldability, and the solder heat resistance and the interlayer adhesion after moisture absorption are not compatible, or both properties are deteriorated. On the other hand, if the addition amount is less than 0.2 parts by weight, the heat resistance becomes insufficient due to insufficient curing, and the adhesiveness also decreases.

【0013】さらに、必要に応じてチクソトロピー性、
半田耐熱性や密着性を付与する目的で無機充填材を配合
することも可能である。例えば、水酸化アルミニウム、
水和シリカ、アルミナ、酸化アンチモン、チタン酸バリ
ウム、コロイダルシリカ、炭酸カルシウム、硫酸カルシ
ウム、マイカ、シリカ、シリコンカーバイド、タルク、
酸化チタン、酸化ジルコニウム、珪酸ジルコニウム、窒
化ボロン、炭素、グラファイト等が例示されるが、疎水
処理されたものが好ましい。
Further, if necessary, thixotropy,
It is also possible to mix an inorganic filler for the purpose of imparting solder heat resistance and adhesiveness. For example, aluminum hydroxide,
Hydrated silica, alumina, antimony oxide, barium titanate, colloidal silica, calcium carbonate, calcium sulfate, mica, silica, silicon carbide, talc,
Titanium oxide, zirconium oxide, zirconium silicate, boron nitride, carbon, graphite and the like are exemplified, but those subjected to hydrophobic treatment are preferable.

【0014】この中でも、疎水処理された炭酸カルシウ
ムは、半田耐熱性と密着性の両立ができる。疎水処理は
回路加工工程中に行われるエッチングやメッキ等の酸に
解け出さないために必要である。エポキシ樹脂100重
量部に対する配合量は30〜160重量部が好ましい。
30重量部未満では耐熱性向上の効果が不十分であり、
160重量部を越えると密着性が低下するようになり、
特に吸湿処理後の外観が悪化し剥離が生じることがあ
る。特に40〜100重量部の範囲で最も良好な特性が
得られる。平均粒子径については、0.7〜1.8μm
の範囲が好ましい。0.7μm未満では製造にコストが
かかり、通常のグレードには無いことと、アンダーコー
ト剤の粘度が上がり溶剤の配合量が増え、回路加工され
た基板に塗布乾燥後の外観が悪くなる傾向にあるために
通常は使用しない。また、1.8μmを越える平均粒子
径の場合半田耐熱性と密着性の向上効果が小さくなる。
Among these, hydrophobically treated calcium carbonate can achieve both solder heat resistance and adhesion. The hydrophobic treatment is necessary so as not to dissolve into acid such as etching and plating performed during the circuit processing process. The compounding amount with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin is preferably 30 to 160 parts by weight.
If it is less than 30 parts by weight, the effect of improving heat resistance is insufficient,
If it exceeds 160 parts by weight, the adhesiveness will decrease,
In particular, the appearance after moisture absorption may be deteriorated and peeling may occur. In particular, the best characteristics are obtained in the range of 40 to 100 parts by weight. About the average particle diameter, 0.7 to 1.8 μm
Is preferable. If the thickness is less than 0.7 μm, manufacturing costs are high, and the viscosity of the undercoat agent increases, the amount of the solvent increases, and the appearance after application and drying on a circuit-processed substrate tends to deteriorate, because the viscosity of the undercoat agent increases and the amount of the solvent increases. Not usually used because it is. Further, when the average particle size exceeds 1.8 μm, the effect of improving solder heat resistance and adhesiveness becomes small.

【0015】さらに、必要に応じて、耐熱性と密着性向
上のために、超微粒子シリカを配合することができる。
超微粒子シリカとしては、疎水処理されたものが分散性
が良好となるので好ましい。これは通常粒子表面に存在
するSiOHを更にメチル基、エチル基等の疎水基で覆
うなどの方法によって疎水化したもので、2次凝集が少
なく分散性が良好となり、分散不良による耐熱性の向上
効果の低下の心配が少ない。特に吸湿耐熱性向上のため
に好ましい。かかる超微粒子シリカの配合量はエポキシ
樹脂100重量部に対して5〜30重量部でが好まし
い。5重量部未満ではその配合効果が小さく、30重量
部より多く配合するとアンダーコート剤の粘度が高くな
るため、溶剤の配合量を多くする必要があり、また耐熱
性も低下するようになる。平均粒子径は10〜19nm
が好ましく、更に好ましくは12〜16nmである。こ
の範囲で十分な耐熱性向上効果を発現する。
Furthermore, if necessary, ultrafine silica particles may be added to improve heat resistance and adhesion.
As the ultrafine particle silica, one that has been subjected to a hydrophobic treatment is preferable because the dispersibility is improved. This is because SiOH that is usually present on the surface of particles is hydrophobized by further covering it with a hydrophobic group such as a methyl group or an ethyl group, and secondary disaggregation is small, dispersibility is good, and heat resistance is improved due to poor dispersion. There is little concern that the effect will decrease. It is particularly preferable for improving the moisture absorption heat resistance. The amount of the ultrafine silica is preferably 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount is less than 5 parts by weight, the effect of the compounding is small, and if the amount is more than 30 parts by weight, the viscosity of the undercoat agent is increased, so that the amount of the solvent needs to be increased and the heat resistance also decreases. Average particle size is 10-19nm
Is preferable, and more preferably 12 to 16 nm. In this range, a sufficient heat resistance improving effect is exhibited.

【0016】上記配合物を内層回路板に塗布する際、溶
剤により粘度調整を行うことは可能である。溶剤種とし
ては、アセトン、メチルエチルケチン、トルエン、キシ
レン、エチレングリコールモノエチルエーテル及びその
アセテート化合物、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル及びそのアセテート化物、ジメチルホルムアミ
ド、メチルジグリコール、エチルジグリコール、メタノ
ール、エタノール等が挙げられる。
When the above-mentioned composition is applied to the inner layer circuit board, it is possible to adjust the viscosity with a solvent. Solvent species include acetone, methyl ethyl ketin, toluene, xylene, ethylene glycol monoethyl ether and its acetate compound, propylene glycol monoethyl ether and its acetate, dimethylformamide, methyldiglycol, ethyldiglycol, methanol, ethanol, etc. Is mentioned.

【0017】銅との密着性あるいは無機充填材との密着
性の向上のため、カップリング剤の添加も可能である。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタ
ネート系カップリング剤、アルミキレート系カップリン
グ剤等が使用可能であり、例えば、クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイ
ドプロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリイソ
ステアロイルチタネート、イソプロピルトリメタクリル
チタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルフィロフォ
スフェート)チタネート、イソプロピルイソステアロイ
ルジ(4−アミノベンゾイル)チタネート等が例示され
る。
A coupling agent may be added to improve the adhesion to copper or the adhesion to the inorganic filler.
As the coupling agent, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum chelate coupling agent and the like can be used. For example, chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)
-Γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltrimethacrylate titanate, isopropyltri (dioctylphyrophosphate) titanate, isopropylisostearoyldi (4-aminobenzoyl) titanate, etc. Is exemplified.

【0018】また、消泡機能、破泡機能をもたせるため
にシリコーン系消泡剤、アクリル系消泡剤、フッ素系界
面活性剤等の添加も可能である。更に、内層回路銅箔の
ピーリング強度の向上のためには強靭性の付与が非常に
効果があることが一般に知られている。例えば、カルボ
キシターミネーテイットブタジエンアクリルニトリルゴ
ム(宇部興産(株)製CTBN)、エポキシ変性ポリブ
タジエンゴム等の添加が可能であるが、多量の配合は耐
熱特性が低下する傾向があるので注意する必要がある。
Further, in order to have a defoaming function and a defoaming function, it is possible to add a silicone defoaming agent, an acrylic defoaming agent, a fluorinated surfactant or the like. Further, it is generally known that imparting toughness is very effective for improving the peeling strength of the inner layer circuit copper foil. For example, it is possible to add carboxy-terminated butadiene acrylonitrile rubber (CTBN manufactured by Ube Industries, Ltd.), epoxy-modified polybutadiene rubber, etc. However, it should be noted that a large amount of the compound tends to lower the heat resistance. is there.

【0019】アンダーコート剤の塗布方法としては、ロ
ールコーター、カーテンコーター、キャステイング法、
スピンナーコーター、スクリーン印刷等の方法があり、
いずれの方法でも塗布は可能である。また、内層回路面
をもれなく塗布出来る方法であれば上述の塗布方法に限
定されない。いずれの方法においても、アンダーコート
剤に必要な最適粘性があるため、塗布方法により、反応
性希釈剤、溶剤の種類、無機充填材の種類、粒径、配合
量の調整は必要になってくる。
The undercoat agent can be applied by a roll coater, a curtain coater, a casting method,
There are methods such as spinner coater and screen printing,
Coating is possible by either method. Further, the method is not limited to the above-described coating method as long as the method can apply the inner circuit surface without leakage. In any method, since the undercoat agent has an optimum viscosity required, depending on the application method, it is necessary to adjust the reactive diluent, the type of solvent, the type of inorganic filler, the particle size, and the amount of compounding. .

【0020】アンダーコート剤の硬化状態について言及
する。硬化状態は、一般的に全くの未硬化状態であるA
ステージ状態、半硬化状態であるBステージ状態、さら
に硬化をすすめたゲル状態、そして、完全硬化状態であ
るCステージ状態に分けることができる。本目的のため
にはいずれの状態であっても使用可能であるが、タック
フリーの状態又はそれ以上反応を進めることにより取り
扱いが容易になる。
The cured state of the undercoat agent will be mentioned. The cured state is generally A, which is a completely uncured state.
It can be divided into a stage state, a B-stage state which is a semi-cured state, a gel state which has been further cured, and a C-stage state which is a completely cured state. Although any state can be used for this purpose, handling is facilitated by proceeding the reaction in a tack-free state or higher.

【0021】本発明のアンダーコート剤を用いることに
より、従来多層プリント配線板に必要とされてきた黒処
理を不要とすることができる。従って、黒処理工程の品
質管理に費やす工数の削減、生産コストの削減が期待さ
れ、黒処理のないことによりハロー現象が生じないの
で、容易に高密度配線とすることができる。更に、回路
加工された銅張積層板の上面にアンダーコート層を形成
するため、回路パターン間隙をあらかじめ樹脂で充填さ
せておくことができ、そのためプリプレグを重ね合わせ
て積層しても、気泡を残存させることなく成形すること
ができる。従って、従来内層回路の銅箔残存率によっ
て、プリプレグの樹脂量、加熱時の流動性を変えていた
が、その必要がなくなった。即ち、板厚精度が内層回路
の銅箔残存率に依存することがないため、数少ない種類
のプリプレグにて対応することが可能になる。
By using the undercoating agent of the present invention, it is possible to eliminate the black treatment conventionally required for a multilayer printed wiring board. Therefore, it is expected that the number of man-hours spent for quality control in the black processing step and the production cost are reduced, and the absence of black processing does not cause a halo phenomenon, so that high-density wiring can be easily achieved. Furthermore, since the undercoat layer is formed on the upper surface of the circuit-processed copper-clad laminate, the circuit pattern gap can be filled with resin in advance, so that bubbles remain even when prepregs are stacked and laminated. It can be molded without causing it to form. Accordingly, the amount of resin of the prepreg and the fluidity during heating have been changed depending on the residual ratio of the copper foil in the inner layer circuit, but this is no longer necessary. That is, since the thickness accuracy does not depend on the residual ratio of the copper foil in the inner layer circuit, it is possible to use only a few types of prepregs.

【0022】更に、プリプレグの内層銅箔エッチング部
を埋めるのに要していた時間が不要となる。従来は脱泡
のための時間を確保する必要から昇温速度を2〜5℃/
分としていたため、1回のプレス時間が140分間以上
であったが、本発明では、昇温速度を6〜15℃/分と
大きくすることができるので、プレス時間を80分程度
以下にまで短縮することが可能となり、製造コストが大
幅に削減され、品質管理,在庫管理に費やす工数も大幅
に削減されるようになる。
Furthermore, the time required to fill the inner layer copper foil etched portion of the prepreg is no longer necessary. Conventionally, since it is necessary to secure time for defoaming, the heating rate is 2 to 5 ° C /
However, in the present invention, since the temperature rising rate can be increased to 6 to 15 ° C./minute, the pressing time can be reduced to about 80 minutes or less. It will be possible to shorten the manufacturing cost, the manufacturing cost will be greatly reduced, and the man-hours for quality control and inventory control will be greatly reduced.

【0023】[0023]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.

【0024】(実施例1)ビスフェノールA型エポキシ
樹脂(エポキシ当量475)100重量部をエチルカル
ビトール120重量部に溶解した。そこにフェノール化
合物としてパラクレゾールを使用したレゾール型フェノ
ール樹脂(住友デュレズ(株)製PR−53382)及
びフェノール化合物としてパラクレゾールを使用したノ
ボラック型フェノール樹脂(住友デュレズ(株)製PR
−53447)をエポキシ樹脂に対して所定量添加し溶
解した。更に2,4−ジアミノ−6{2’−ウンデシル
イミダゾール(1’)}エチル−s−トリアジン0.8
重量部、平均粒径1.2μmの疎水処理した炭酸カルシ
ウム(日東粉化工業(株)製NCC−1010)80重
量部、コロイダルシリカ(日本アエロジル(株)製R−
972)20重量部、γ−グリシドキシプロピルトリメ
トキシシラン1重量部を添加した後、三本ロールにより
混錬した。真空脱泡器により3mmHgの真空度で5分
間脱泡を行い、アンダーコート剤を得た。
Example 1 100 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (epoxy equivalent: 475) was dissolved in 120 parts by weight of ethylcarbitol. Resol-type phenol resin using para-cresol as the phenol compound (PR-53382 manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.) and novolac-type phenol resin using para-cresol as the phenol compound (PR manufactured by Sumitomo Durez Co., Ltd.)
-53447) was added and dissolved in a predetermined amount with respect to the epoxy resin. Furthermore, 2,4-diamino-6 {2′-undecylimidazole (1 ′)} ethyl-s-triazine 0.8
80 parts by weight of hydrophobically treated calcium carbonate (NCC-1010 manufactured by Nitto Koka Kogyo KK) having an average particle diameter of 1.2 μm, colloidal silica (R- manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.)
972) After adding 20 parts by weight and 1 part by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, the mixture was kneaded with a triple roll. Defoaming was performed with a vacuum defoamer at a degree of vacuum of 3 mmHg for 5 minutes to obtain an undercoat agent.

【0025】次に、基材厚0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板を表面研磨、ソフトエ
ッチングし防錆処理を除いた後、エッチングにより回路
加工した。通常は回路加工後に黒処理を行うが、この黒
処理を施さず、内層回路板の片面に上記アンダーコート
剤をスクリーン印刷し、しかる後乾燥器内において12
0℃で5分間加熱し、タックフリー状態にした後、同じ
ようにして反対面にもアンダーコート剤を塗布し、乾燥
した。
Next, the substrate thickness is 0.1 mm and the copper foil thickness is 35 μm.
The surface of the glass-epoxy double-sided copper-clad laminate was polished and soft-etched to remove the rust-preventive treatment, and then processed by etching. Normally, black processing is performed after circuit processing, but without performing this black processing, the above undercoat agent is screen-printed on one surface of the inner layer circuit board, and then in a dryer.
After heating at 0 ° C. for 5 minutes to make it tack-free, an undercoat agent was similarly applied to the opposite surface and dried.

【0026】更に、エポキシ樹脂を基材に含浸、乾燥し
たFR−4プリプレグ100μm厚(住友ベークライト
(株)製EI−6765)を上記の乾燥されたアンダー
コート剤の両面にそれぞれ1枚ずつ重ね合わせ、その上
面に厚さ18μmの銅箔を1枚ずつ重ね、真空圧プレス
にて材料の最高到達温度が170℃、昇温、冷却含め8
0分で加熱硬化し、多層プリント配線板を得た。特性を
評価し、その結果を表1に示す。なお、内層回路板に酸
化処理を施していないため、スルーホールメッキを行っ
たときにハロー現象は生じていない。
Further, a FR-4 prepreg 100 μm thick (EI-6765 manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.), which was obtained by impregnating a base material with an epoxy resin and drying it, was superposed on each of the above dried undercoat agents one by one. , 18 μm thick copper foil was laid on top of each one, and the maximum temperature reached by the vacuum press was 170 ° C.
It was cured by heating in 0 minutes to obtain a multilayer printed wiring board. The characteristics were evaluated, and the results are shown in Table 1. Since no oxidation treatment was applied to the inner circuit board, no halo phenomenon occurred when through-hole plating was performed.

【0027】(実施例2〜6)アンダーコート剤の組成
を表1に示したように変更した以外は実施例1と同様の
方法により多層プリント配線板を作製し、特性の評価を
行った。それぞれの組成及び評価結果を表1に示す。実
施例1と同様にハロー現象は生じていない。
(Examples 2 to 6) A multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 except that the composition of the undercoating agent was changed as shown in Table 1, and the characteristics were evaluated. Table 1 shows the compositions and evaluation results. As in the first embodiment, no halo phenomenon occurs.

【0028】[0028]

【表1】 [Table 1]

【0029】(比較例1〜3)アンダーコート剤の組成
を表2に示すように変更した以外は上記各実施例1と同
様の方法により積層板を作製し、評価を行った。それぞ
れの組成及び評価結果を表2に示す。
(Comparative Examples 1 to 3) Laminates were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the composition of the undercoating agent was changed as shown in Table 2. Table 2 shows the compositions and evaluation results.

【0030】(比較例4)アンダーコート剤を塗布しな
いこと、及び酸化処理を施したことを除いて、実施例及
び比較例と同様にして内層回路板を作製し、多層プリン
ト配線板を作製した。特性の評価結果を表2に示す。酸
化処理を施したため、ハロー現象が生じている。
(Comparative Example 4) An inner layer circuit board was prepared in the same manner as in the Examples and Comparative Examples except that the undercoating agent was not applied and oxidation treatment was carried out, and a multilayer printed wiring board was prepared. . Table 2 shows the evaluation results of the characteristics. The halo phenomenon occurs due to the oxidation treatment.

【0031】(比較例5)内層回路板に回路表面に酸化
処理(黒処理)を施した以外は比較例2と同様にして多
層プリント配線板を作製した。特性の評価結果を表2に
示す。酸化処理を施したため、ハロー現象が生じてい
る。
(Comparative Example 5) A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Comparative Example 2 except that the circuit surface of the inner layer circuit board was oxidized (blackened). Table 2 shows the evaluation results of the characteristics. The halo phenomenon occurs due to the oxidation treatment.

【0032】[0032]

【表2】 [Table 2]

【0033】(測定方法) 1.成形性:直径20mmの円形のエッチング部(A)
100個を有する内層回路板を使用して多層プリント配
線板を作製し、表面銅箔をエッチングした後、Aにおい
てボイドの有無を観察し、ボイドのあるAの数からボイ
ド発生率(%)を求めた。 2.外形打抜き性:多層プリント配線板の外周から内部
30〜40mmの部分を直線状に打抜き、アンダーコー
ト層の部分の剥離を測定した。 3.密着性:片面にのみ回路を有する内層回路板を使用
する点を除いて実施例又は比較例に記載した方法にて多
層プリント配線板を作製し、内層回路板とプリプレグと
を剥離してその剥離強度を求め、密着性とした。 4.吸湿半田耐熱性:多層プリント配線板をPCT処理
(125℃、0.5時間)し、260℃の半田浴に20
秒間浸漬し、ふくれの有無を観察した。
(Measurement method) 1. Formability: circular etched part with a diameter of 20 mm (A)
After preparing a multilayer printed wiring board using an inner circuit board having 100 pieces, etching the surface copper foil, observing the presence or absence of voids in A, and determining the void generation rate (%) from the number of voided A. I asked. 2. Outline punching property: A portion 30 to 40 mm from the outer periphery of the multilayer printed wiring board was punched out in a straight line, and the peeling of the undercoat layer was measured. 3. Adhesion: A multilayer printed wiring board is manufactured by the method described in the Examples or Comparative Examples except that an inner layer circuit board having a circuit only on one side is used, and the inner layer circuit board and the prepreg are peeled off. The strength was determined, and the adhesion was determined. 4. Moisture absorption solder heat resistance: PCT treatment of multilayer printed wiring board (125 ° C, 0.5 hours) and soldering at 260 ° C for 20 hours
After immersion for 2 seconds, the presence or absence of blisters was observed.

【0034】(評価基準)表3に示す評価基準に従って
評価した。
(Evaluation Criteria) Evaluation was made according to the evaluation criteria shown in Table 3.

【表3】 [Table 3]

【0035】[0035]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板の製造方法
は、銅箔とアンダーコート剤との密着力が優れている。
従って、従来の方法では必須であった内層回路板に対す
る黒処理を不要とすることができる。従って、ハロー現
象が生じないので、容易に高密度配線とすることがで
き、更に、黒処理工程の品質管理に費やす工数の削減、
生産コストの削減が期待される。
The method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention has excellent adhesion between a copper foil and an undercoat agent.
Therefore, the black processing for the inner layer circuit board, which is essential in the conventional method, can be eliminated. Therefore, since the halo phenomenon does not occur, high-density wiring can be easily achieved, and further, the man-hours spent for quality control in the black processing step can be reduced,
It is expected that production costs will be reduced.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // B29L 31:34 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical indication // B29L 31:34

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路加工された銅張積層板の回路面に、
熱硬化性樹脂を基材に含浸、乾燥させたプリプレグを重
ね合わせて積層プレスする多層プリント配線板の製造方
法において、前記回路加工された銅張積層板の回路面
に、(1)平均エポキシ当量が450以上6000以下
である末端2官能直鎖状高分子エポキシ樹脂、(2)レ
ゾール型フェノール樹脂、又はレゾール型フェノール樹
脂とノボラック型フェノール樹脂、及び(3)硬化促進
剤を必須成分とするアンダーコート剤を塗布、乾燥した
後、エポキシ樹脂を基材に含浸、乾燥処理したプリプレ
グを重ね合わせて積層プレスすることを特徴とする多層
プリント配線板の製造方法。
1. A circuit surface of a circuit-processed copper-clad laminate,
In a method for producing a multilayer printed wiring board, in which a base material is impregnated with a thermosetting resin and dried, and prepregs are laminated and pressed, in a circuit surface of the circuit-processed copper-clad laminate, (1) average epoxy equivalent Of which the terminal is a bifunctional linear polymer epoxy resin having a value of 450 or more and 6000 or less, (2) a resole type phenolic resin, or a resole type phenolic resin and a novolac type phenolic resin, and (3) a curing accelerator as an essential component. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which comprises applying a coating agent, drying the same, impregnating a base material with an epoxy resin, and stacking and drying prepregs, and stacking and pressing.
【請求項2】 前記レゾール型フェノール樹脂、又はレ
ゾール型フェノール樹脂とノボラック型フェノール樹脂
が、フェノール化合物としてパラクレゾールを50%重
量以上含むものである請求項1記載の多層プリント配線
板の製造方法。
2. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the resol-type phenol resin, or the resol-type phenol resin and the novolac-type phenol resin contains 50% by weight or more of para-cresol as a phenol compound.
【請求項3】 前記レゾール型フェノール樹脂の配合量
が、エポキシ樹脂100重量部に対して、4〜30重量
部である請求項1又は2記載の多層プリント配線板の製
造方法。
3. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the amount of the resol-type phenol resin compounded is 4 to 30 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.
【請求項4】 前記回路加工された銅張積層板が、酸化
処理されていないものである請求項1、2又は3記載の
多層プリント配線板の製造方法。
4. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, 2 or 3, wherein the circuit-processed copper-clad laminate is not subjected to an oxidation treatment.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008205374A (en) * 2007-02-22 2008-09-04 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, insulator with support base, and metal-clad laminate for printed circuit board
JP2008227202A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Sumitomo Bakelite Co Ltd Resin composition, insulating material with support base material, and metal-clad laminated plate for printed circuit board

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