JPH104270A - Method of manufacturing multilayer printed wiring board - Google Patents

Method of manufacturing multilayer printed wiring board

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JPH104270A
JPH104270A JP8156575A JP15657596A JPH104270A JP H104270 A JPH104270 A JP H104270A JP 8156575 A JP8156575 A JP 8156575A JP 15657596 A JP15657596 A JP 15657596A JP H104270 A JPH104270 A JP H104270A
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JP
Japan
Prior art keywords
epoxy resin
printed wiring
wiring board
multilayer printed
circuit
Prior art date
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Application number
JP8156575A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Shigeru Ekusa
繁 江草
Kunio Iketani
国夫 池谷
Yoshiyuki Takahashi
良幸 高橋
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Sumitomo Bakelite Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Bakelite Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH104270A publication Critical patent/JPH104270A/en
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the adhesive force between an inner layer circuit copper foil and an under coat to be secured by a method wherein, after the circuit surface of a circuit-made copper clad lamination board is coated with a specific under coat agent to be dried up, prepregs made of epoxy resin impregnated and dried up on a substrate are overlapped to be laminate-pressed on the board. SOLUTION: After the circuit surface of a circuit made copper clad lamination board is coat-dried up with an under coat agent comprising essential components such as an epoxy, aromatic polyamine having ether coupling as a hardener, calcium carbonate with the surface thereof made hydrophobic by saturated fatty acid, a coupling agent, etc., as an inorganic filler, prepregs made of epoxy resin impregnate-dried up on a substrate are overlapped to be laminate-pressed. Through these procedures, satisfactory adhesion between the inner layer circuit copper foil and the coat can be secured by the combination of end two functional normal chain type resin in a specific molecular weight, a specific aromatic polyamine and the calcium carbonate made hydrophobic as well as ultrafine particle silica also made hydrophobic.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、内層回路銅箔とア
ンダーコート剤との密着性に優れ、黒処理(酸化処理)
を不要とすることができる多層プリント配線板の製造方
法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention has excellent adhesion between an inner layer circuit copper foil and an undercoat agent, and has a black treatment (oxidation treatment).
The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, which can eliminate the need for.

【0002】[0002]

【従来の技術】これまでの多層プリント配線板の製造方
法としては、一般的には、両面又は片面に回路加工を施
された内層回路板の回路面にいわゆる黒処理と呼ばれる
酸化処理を施し、回路表面を粗化した後、熱硬化型の樹
脂を基材に塗布・含浸・乾燥させたプリプレグを1枚以
上重ね、さらにその上面に金属箔を重ね合わせて、加熱
加圧するものであった。黒処理の目的は、プリプレグと
の良好な密着性を得るためであり、黒処理を施していな
い内層回路とプリプレグは、全くといっていいほど密着
性がなかったために、黒処理は必須の技術であった。と
ころが、この技術は、内層回路板の銅箔の化学処理によ
る酸化現象を応用したものであり、基本的には、工程の
管理が非常に難しく、更に、多大な設備投資とランニン
グコストが要求される。更に、酸化銅は耐酸性が弱く、
また、物理的な強度も弱いため多層成形時、ドリル加工
時、スルーホールメッキ時に、トラブルが発生しやすい
といった問題点も指摘されていた。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board, generally, a so-called black treatment is performed on a circuit surface of an inner circuit board on which circuit processing is performed on both surfaces or one surface, After roughening the circuit surface, one or more prepregs obtained by applying, impregnating, and drying a thermosetting resin on a base material are laminated, and a metal foil is further laminated on the upper surface thereof, followed by heating and pressing. The purpose of the black treatment is to obtain good adhesion with the prepreg, and since the inner layer circuit and the prepreg that have not been subjected to the black treatment have almost no adhesion at all, the black treatment is an essential technology. there were. However, this technology is based on an oxidation phenomenon caused by chemical treatment of the copper foil of the inner circuit board. Basically, it is very difficult to control the process, and furthermore, a great deal of equipment investment and running costs are required. You. In addition, copper oxide has weak acid resistance,
In addition, it has been pointed out that problems are liable to occur during multilayer molding, drilling, and through-hole plating due to low physical strength.

【0003】本発明に示される回路加工された内層銅張
積層板の回路表面に樹脂層を形成する多層プリント配線
板の製造方法として、特開昭53−132772公報、
特開昭60−62194公報、特開昭63−10879
6公報等があげられるが、いずれの技術においても、成
形時のボイドを減少せしめることにより、耐電圧性の向
上、耐ハロー性の向上、熱放散性の向上、絶縁層厚みの
向上をその目標とするものであり、本発明とは、全く異
なった目的のものであった。
Japanese Patent Application Laid-Open No. Sho 53-132772 discloses a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in which a resin layer is formed on the circuit surface of an inner-layer copper-clad laminate processed by a circuit as disclosed in the present invention.
JP-A-60-62194, JP-A-63-10879
In any of the techniques, the goal is to improve the withstand voltage, the halo resistance, the heat dissipation, and the thickness of the insulating layer by reducing the voids during molding. This is for a completely different purpose from the present invention.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、内層回路銅
箔とアンダーコート剤との密着力を向上させることがで
き、これにより黒処理を不要とすることができる多層プ
リント配線板に関するものであり、多層プリント配線板
において、内層回路銅箔、特に黒処理を施していない内
層回路銅箔との密着性、及び吸湿耐熱性、耐メッキ液性
と層間剥離の問題を解決すべくアンダーコート剤の組成
について鋭意検討をすすめた結果、本発明をなすに到っ
た。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a multilayer printed wiring board capable of improving the adhesion between an inner layer circuit copper foil and an undercoat agent, thereby eliminating the need for black processing. Yes, in multi-layer printed wiring boards, undercoat agent to solve the problems of adhesion with inner layer copper foil, especially inner layer copper foil not subjected to black treatment, moisture absorption heat resistance, plating solution resistance and delamination As a result of diligent studies on the composition of the present invention, the present invention has been achieved.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明は、回路加工され
た銅張積層板の片面又は両面に、熱硬化性樹脂を基材に
含浸、乾燥させたプリプレグを重ね合わせて積層プレス
する多層プリント配線板の製造方法において、前記回路
加工された銅張積層板の回路面に、(1)エポキシ樹
脂、(2)硬化剤として、エーテル結合またはエーテル
結合とスルフォン結合を有する芳香族ポリアミン、
(3)無機充填材として、その表面が飽和脂肪酸、カッ
プリング剤等で疎水化処理された炭酸カルシウム、及び
(4)無機充填材として、疎水化処理された超微粒子シ
リカを必須成分とするアンダーコート剤を塗布し、更に
エポキシ樹脂を基材に含浸、乾燥したプリプレグを重ね
合わせて積層プレスする多層プリント配線板の製造方
法、に関するものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a multilayer printing method in which a prepreg impregnated with a thermosetting resin on a substrate and dried is superimposed on one or both surfaces of a circuit-processed copper-clad laminate and laminated and pressed. In the method for manufacturing a wiring board, (1) an epoxy resin, (2) an aromatic polyamine having an ether bond or an ether bond and a sulfone bond as a curing agent,
(3) As an inorganic filler, calcium carbonate whose surface is hydrophobized with a saturated fatty acid, a coupling agent, or the like; and (4) As an inorganic filler, an ultrafine silica which has been hydrophobized as an essential component. The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer printed wiring board, in which a coating agent is applied, and further, a base material is impregnated with an epoxy resin and dried, and prepregs are stacked and laminated and pressed.

【0006】以下、本発明を詳細に説明する。本発明の
目的は、前述のように、内層回路銅箔面とアンダーコー
ト剤との密着性を向上させ、これにより内層回路銅箔の
黒処理を不要とすることができる多層プリント配線板の
製造方法を提供することにある。本発明者は、アンダー
コート剤の組成について鋭意検討を行った結果、黒処理
を行った場合はもちろん、黒処理を施していなくとも、
エポキシ樹脂、特に一定の分子量の末端2官能性直鎖状
エポキシ樹脂、特定の芳香族ポリアミン、疎水化処理さ
れた炭酸カルシウム及び疎水化処理された超微粒子シリ
カの組み合わせにより、内層回路銅箔との充分な密着性
と耐熱性を確保できることを見いだした。
Hereinafter, the present invention will be described in detail. An object of the present invention is, as described above, to improve the adhesion between the inner layer circuit copper foil surface and the undercoat agent, thereby making it possible to eliminate the need for black processing of the inner layer circuit copper foil. It is to provide a method. The present inventor has conducted intensive studies on the composition of the undercoat agent.As a result, not only when the black treatment was performed, but also when the black treatment was not performed,
The combination of an epoxy resin, particularly a terminal bifunctional linear epoxy resin having a certain molecular weight, a specific aromatic polyamine, hydrophobized calcium carbonate, and hydrophobized ultrafine silica, allows the inner layer circuit copper foil to be formed. It has been found that sufficient adhesion and heat resistance can be ensured.

【0007】エポキシ樹脂としては、通常の積層板に使
用されるものであればいかなるものも使用できるが、内
層回路銅箔との充分な密着性が得られ、黒処理を不要と
するためには、好ましくは、平均エポキシ当量が450
以上6000以下である末端2官能直鎖状エポキシ樹脂
であり、代表的には、2官能フェノールとエピハロヒド
リンとを反応して得られる2官能直鎖状エポキシ樹脂、
2官能エポキシ樹脂と2官能フェノールの交互共重合反
応によって得られる末端2官能直鎖状エポキシ樹脂等が
あり、これらは数種類のものを併用することも可能であ
る。例えば、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフ
ェノールF型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノー
ルA型エポキシ樹脂、プロピレンオキサイドビスフェノ
ールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールS型エポキシ樹
脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、2、6ーナフトール型
ジグリシジルエーテル重合物、ビスフェノールA型エポ
キシ樹脂とテトラブロモビスフェノールA共重合物、ビ
スフェノールF型エポキシ樹脂とテトラブロモビスフェ
ノールA共重合物、ビスフェノールS型エポキシ樹脂と
テトラブロモビスフェノールA共重合物等が例示され
る。難燃化のために、臭素化エポキシ樹脂を使用するこ
とができる。
As the epoxy resin, any epoxy resin can be used as long as it is used for ordinary laminated boards. However, in order to obtain sufficient adhesion to the inner layer circuit copper foil and eliminate the need for black processing, Preferably, the average epoxy equivalent is 450
A terminal bifunctional linear epoxy resin having a molecular weight of 6000 or less, typically a bifunctional linear epoxy resin obtained by reacting a bifunctional phenol and epihalohydrin,
There are terminally bifunctional linear epoxy resins obtained by alternate copolymerization reaction of a bifunctional epoxy resin and a bifunctional phenol, and these can be used in combination of several types. For example, bisphenol A epoxy resin, bisphenol F epoxy resin, tetrabromobisphenol A epoxy resin, propylene oxide bisphenol A epoxy resin, bisphenol S epoxy resin, biphenyl epoxy resin, 2,6 naphthol diglycidyl ether polymerization Products, bisphenol A type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, bisphenol F type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, bisphenol S type epoxy resin and tetrabromobisphenol A copolymer, and the like. For flame retardancy, a brominated epoxy resin can be used.

【0008】芳香族ポリアミンについては、黒処理をし
ていない生銅との密着性を考慮した場合、エーテル結合
またはエーテル結合とスルフォン結合を有する芳香族ポ
リアミンを硬化剤として使用した場合、そうでない場合
と比較し、約10〜20%程度密着性が向上する。これ
は、いずれの結合も、酸化数0の銅元素と直接化学結合
をすることはないものの、化学的親和性が高いためと考
えられる。上記の芳香族ポリアミンとして4,4’−ジ
アミノジフェニルエーテル、ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル]エーテル、4,4’−ビス(4−
アミノフェノキシ)ビフェニル、1,4−ビス(4−ア
ミノフェノキシ)ベンゼン、ビス[4−(4−アミノフ
ェノキシ)フェニル)]スルフォン等が例示される。
As for the aromatic polyamine, when the adhesion to raw copper not subjected to black treatment is taken into consideration, when an aromatic polyamine having an ether bond or an ether bond and a sulfone bond is used as a curing agent, Adhesion is improved by about 10 to 20% as compared with. It is considered that this is because any of the bonds does not directly make a chemical bond with the copper element having the oxidation number of 0, but has high chemical affinity. As the above-mentioned aromatic polyamine, 4,4′-diaminodiphenyl ether, bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl] ether, 4,4′-bis (4-
Examples thereof include aminophenoxy) biphenyl, 1,4-bis (4-aminophenoxy) benzene, and bis [4- (4-aminophenoxy) phenyl)] sulfone.

【0009】配合する芳香族アミンの量は、エポキシ樹
脂に対する当量比で0.1〜2.0の範囲で使用可能で
あるが、耐熱性(特に、吸湿後の半田耐熱性)と層間密
着性を両立するために0.5〜1.5が好ましい範囲で
ある。通常エポキシ樹脂に対する芳香族アミンの当量比
は概ね1であるが、本発明においてはこれより大きな値
でも小さな値でも使用することができる。但し、この当
量比が上記0.5〜1.5の範囲より大きくても小さく
ても耐熱性及び密着性において低下する傾向がある。
The amount of the aromatic amine to be blended can be used in an equivalent ratio to the epoxy resin in the range of 0.1 to 2.0, but the heat resistance (particularly the solder heat resistance after moisture absorption) and the interlayer adhesion 0.5 to 1.5 is a preferable range in order to achieve both. Usually, the equivalent ratio of the aromatic amine to the epoxy resin is approximately 1, but in the present invention, larger or smaller values can be used. However, if the equivalent ratio is larger or smaller than the range of 0.5 to 1.5, the heat resistance and the adhesiveness tend to be reduced.

【0010】エポキシ樹脂の分子量について言及する。
黒処理がされていない銅との密着性を考えた場合、分子
量が大きいほうが密着性が高い傾向にあるものの、吸湿
後の半田耐熱性は逆に劣化しやすくなることを見いだし
た。エポキシ樹脂のベース骨格、芳香族ポリアミンのベ
ース骨格によって多少の絶対値上の差異はあるものの、
この傾向についてはほとんど変りなかった。エポキシ樹
脂系多層プリント配線板(FR−4グレード等)に実用
上必要とされる内層回路ピール強度は一般的に0.5k
N/mといわれており、平均エポキシ当量450のもの
の使用で、黒処理を施していない内層ピール強度が実用
上最小限のレベルであった。また、平均エポキシ当量が
6000を越えてしまうと、黒処理を施していない内層
ピール強度は1.1kN/mと、充分なレベルであるに
もかかわらず、必要な吸湿耐熱性が発現しない。これ
は、架橋部位であるエポキシ基間が離れ過ぎてしまうた
めと考えられる。本発明においては、充填材として、そ
の表面が、飽和脂肪酸、カップリング剤等で疎水化処理
された炭酸カルシウム、及び疎水化処理された超微粒子
シリカを配合していることにより、半田耐熱性及び層間
密着性が向上しているので、エポキシ樹脂はより分子量
の小さいものまで使用可能である。
Reference will be made to the molecular weight of the epoxy resin.
In consideration of the adhesion to copper that has not been subjected to black treatment, it has been found that the higher the molecular weight, the higher the adhesion, but the solder heat resistance after moisture absorption tends to deteriorate. Although there are some differences in the absolute value depending on the base skeleton of the epoxy resin and the base skeleton of the aromatic polyamine,
This trend remained almost the same. The inner layer peel strength required for practical use of epoxy resin multilayer printed wiring boards (FR-4 grade etc.) is generally 0.5k.
It is said to be N / m, and the peel strength of the inner layer not subjected to black treatment was at a practically minimum level by using an epoxy resin having an average epoxy equivalent of 450. If the average epoxy equivalent exceeds 6000, the peel strength of the inner layer not subjected to the black treatment is 1.1 kN / m, which is a sufficient level, but the necessary moisture absorption heat resistance is not exhibited. This is probably because the epoxy groups, which are cross-linking sites, are too far apart. In the present invention, as a filler, the surface thereof is saturated fatty acid, calcium carbonate hydrophobized with a coupling agent and the like, and by blending ultrafine silica hydrophobized, solder heat resistance and Since the interlayer adhesion is improved, epoxy resins having a smaller molecular weight can be used.

【0011】アンダーコート剤の硬化性向上のための硬
化促進剤としては,特に限定するものではないが、イミ
ダゾール系化合物とホスフィン系化合物が好ましく使用
される。イミダゾール系化合物としては、2−メチルイ
ミダゾール、2−エチル−4−メチルイミダゾール、2
−フェニル−4−メチルイミダゾール、2,4’−ジア
ミノ−6−[2’−エチル−4’−メチルイミダゾリル
−(1’)]エチル−s−トリアジン、2−メチルイミ
ダゾール・イソシアヌル酸付加物、2−メチルイミダゾ
ール・トリメリット酸付加物等が、また、ホスフィン系
化合物としては、トリフェニルホスフィン、トリフェニ
ルホスフィンフェノール塩等があり、さらに好ましく
は、2−ウンデシルイミダゾール、1−シアノエチル−
2−ウンデシルイミダゾール又は2,4−ジアミノ−6
−{2’−ウンデシルイミダゾリル−(1’)}エチル
−s−トリアジンを各々単独もしくは併用使用すること
ができる。エポキシ樹脂100重量部に対する硬化促進
剤の量は0.2〜0.9重量部が好ましい。0.9重量
部を越える添加量になると、硬化が速過ぎて成形性が悪
くなるとともに、吸湿後の半田耐熱性及び層間密着性が
両立しないか、あるいは両方の特性が低下するようにな
る。一方、0.2重量部未満の添加量では、硬化不足に
より耐熱性が不十分となり、密着性も低下するようにな
る。
The curing accelerator for improving the curability of the undercoat agent is not particularly limited, but an imidazole compound and a phosphine compound are preferably used. Examples of the imidazole compound include 2-methylimidazole, 2-ethyl-4-methylimidazole,
-Phenyl-4-methylimidazole, 2,4′-diamino-6- [2′-ethyl-4′-methylimidazolyl- (1 ′)] ethyl-s-triazine, 2-methylimidazole / isocyanuric acid adduct, 2-methylimidazole / trimellitic acid adducts and the like, and phosphine-based compounds include triphenylphosphine and triphenylphosphine phenol salts, and more preferably, 2-undecylimidazole and 1-cyanoethyl-.
2-undecylimidazole or 2,4-diamino-6
-{2'-Undecylimidazolyl- (1 ')} ethyl-s-triazine can be used alone or in combination. The amount of the curing accelerator based on 100 parts by weight of the epoxy resin is preferably 0.2 to 0.9 parts by weight. If the addition amount exceeds 0.9 parts by weight, the curing speed is too fast to deteriorate the moldability, and the solder heat resistance and the interlayer adhesion after moisture absorption are not compatible, or both properties are deteriorated. On the other hand, if the addition amount is less than 0.2 parts by weight, the heat resistance becomes insufficient due to insufficient curing, and the adhesiveness also decreases.

【0012】本発明において使用する、表面が飽和脂肪
酸、カップリング剤等で疎水化処理された炭酸カルシウ
ムは、半田耐熱性と密着性を共に向上させることができ
る。疎水化処理は、回路加工工程中に行われるエッチン
グやメッキ等の酸に解け出さないために必要である。エ
ポキシ樹脂100重量部に対する配合量は30〜160
重量部が好ましい。30重量部未満では耐熱性向上の効
果が不十分であり、160重量部を越えると密着性が低
下するようになり、特に吸湿処理後の外観が悪化し剥離
が生じることがある。特に40〜100重量部の範囲で
最も良好な特性が得られる。平均粒子径については、
0.7〜1.8μmの範囲が好ましい。0.7μm未満
では製造にコストがかかり、通常のグレードには無いこ
とと、アンダーコート剤の粘度が上がり溶剤の配合量が
増え、回路加工された基板に塗布乾燥後の外観が悪くな
る傾向にあるために通常は使用しない。また、1.8μ
mを越える平均粒子径の場合半田耐熱性と密着性の向上
効果が小さくなる。
The calcium carbonate used in the present invention, whose surface has been hydrophobized with a saturated fatty acid, a coupling agent or the like, can improve both the solder heat resistance and the adhesion. The hydrophobic treatment is necessary so as not to dissolve into acids such as etching and plating performed during the circuit processing step. The compounding amount per 100 parts by weight of the epoxy resin is 30 to 160.
Parts by weight are preferred. If the amount is less than 30 parts by weight, the effect of improving the heat resistance is insufficient. If the amount exceeds 160 parts by weight, the adhesiveness is reduced, and the appearance after moisture absorption treatment is particularly deteriorated, and peeling may occur. In particular, the best characteristics are obtained in the range of 40 to 100 parts by weight. About the average particle size,
The range of 0.7 to 1.8 μm is preferred. If the thickness is less than 0.7 μm, manufacturing costs are high, and the viscosity of the undercoat agent increases, the amount of the solvent increases, and the appearance after application and drying on a circuit-processed substrate tends to deteriorate, because the viscosity of the undercoat agent increases and the amount of the solvent increases. Not usually used because it is. In addition, 1.8μ
When the average particle size exceeds m, the effect of improving the solder heat resistance and the adhesion is reduced.

【0013】次に、疎水化処理された超微粒子シリカに
ついて説明する。疎水化処理された超微粒子シリカと
は、通常粒子表面に存在するSiOHを更にメチル基、
エチル基等の疎水基で覆うなどの方法によって疎水化し
たもので、2次凝集が少なく分散性が良好となり、分散
不良による耐熱性の低下の心配が少ない。特に吸湿耐熱
性向上のために好ましい。かかる超微粒子シリカの配合
量はエポキシ樹脂100重量部に対して5〜30重量部
でが好ましい。5重量部未満ではその配合効果が小さ
く、30重量部より多く配合するとアンダーコート剤の
粘度が高くなるため、溶剤の配合量を多くする必要があ
り、また耐熱性も低下するようになる。平均粒子径は1
0〜19nmが好ましく、更に好ましくは12〜16n
mである。この範囲で十分な耐熱性向上効果を発現す
る。
Next, the ultrafine silica particles subjected to the hydrophobic treatment will be described. Hydrophobized ultrafine silica refers to SiOH, which is usually present on the surface of particles, and is further converted to a methyl group.
Hydrophobized by a method such as covering with a hydrophobic group such as an ethyl group. The secondary aggregation is small, the dispersibility is good, and the heat resistance due to poor dispersion is less likely to be reduced. It is particularly preferable for improving the moisture absorption heat resistance. The amount of the ultrafine silica is preferably 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin. If the amount is less than 5 parts by weight, the effect of the compounding is small, and if the amount is more than 30 parts by weight, the viscosity of the undercoat agent is increased, so that the amount of the solvent needs to be increased and the heat resistance also decreases. Average particle size is 1
It is preferably from 0 to 19 nm, more preferably from 12 to 16 n
m. In this range, a sufficient heat resistance improving effect is exhibited.

【0014】上記配合物を内層回路板に塗布する際、溶
剤により粘度調整を行うことは可能である。溶剤種とし
ては、アセトン、メチルエチルケチン、トルエン、キシ
レン、エチレングリコールモノエチルエーテル及びその
アセテート化合物、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル及びそのアセテート化物、ジメチルホルムアミ
ド、メチルジグリコール、エチルジグリコール、メタノ
ール、エタノール等が挙げられる。
When the above composition is applied to the inner circuit board, the viscosity can be adjusted with a solvent. Solvent species include acetone, methyl ethyl ketin, toluene, xylene, ethylene glycol monoethyl ether and its acetate compound, propylene glycol monoethyl ether and its acetate, dimethylformamide, methyldiglycol, ethyldiglycol, methanol, ethanol, etc. Is mentioned.

【0015】塗布方法によっては、疎水化処理された炭
酸カルシウム及び超微粒子シリカ以外にも、さらにチク
ソトロピー性や半田耐熱性を付与する目的で無機充填材
を配合することも可能である。例えば、水酸化アルミニ
ウム、水和シリカ、アルミナ、酸化アンチモン、チタン
酸バリウム、硫酸カルシウム、マイカ、シリカ、シリコ
ンカーバイド、タルク、酸化チタン、石英、酸化ジルコ
ニウム、珪酸ジルコニウム、窒化ボロン、炭素、グラフ
ァイト等が例示されるが、疎水化処理されたものが更に
良好である。
Depending on the method of application, an inorganic filler may be added for the purpose of imparting thixotropy and solder heat resistance, in addition to calcium carbonate and ultrafine silica which have been subjected to hydrophobic treatment. For example, aluminum hydroxide, hydrated silica, alumina, antimony oxide, barium titanate, calcium sulfate, mica, silica, silicon carbide, talc, titanium oxide, quartz, zirconium oxide, zirconium silicate, boron nitride, carbon, graphite, etc. As an example, those subjected to a hydrophobic treatment are more favorable.

【0016】銅との密着性あるいは無機充填材との密着
性の向上のため、カップリング剤の添加も可能である。
カップリング剤としては、シランカップリング剤、チタ
ネート系カップリング剤、アルミキレート系カップリン
グ剤等が使用可能であり、例えば、クロロプロピルトリ
メトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、γ−グリシ
ドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシラン、N−β−(アミノエチル)
−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−ウレイ
ドプロピルトリエトキシシラン、イソプロピルトリイソ
ステアロイルチタネート、イソプロピルトリメタクリル
チタネート、イソプロピルトリ(ジオクチルフィロフォ
スフェート)チタネート、イソプロピルイソステアロイ
ルジ(4−アミノベンゾイル)チタネート等が例示され
る。
A coupling agent can be added to improve the adhesion to copper or the adhesion to an inorganic filler.
As the coupling agent, a silane coupling agent, a titanate coupling agent, an aluminum chelate coupling agent and the like can be used. For example, chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, γ-glycidoxypropyltrimethoxy Silane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β- (aminoethyl)
-Γ-aminopropyltrimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, isopropyltriisostearoyl titanate, isopropyltrimethacrylate titanate, isopropyltri (dioctylphyrophosphate) titanate, isopropylisostearoyldi (4-aminobenzoyl) titanate, etc. Is exemplified.

【0017】また、消泡あるいは破泡機能のためにシリ
コーン系消泡剤、アクリル系消泡剤、フッ素系界面活性
剤等の添加も可能である。更に、銅箔とのピーリング強
度の向上のためには強靭性の付与が非常に効果があるこ
とが一般に知られている。例えば、末端カルボキシル変
性ブタジエンアクリルニトリルゴム(宇部興産(株)製
CTBN)、エポキシ変性ポリブタジエンゴム等の添加
が可能であるが、多量の配合は耐熱特性が低下する傾向
があるので注意する必要がある。
It is also possible to add a silicone-based antifoaming agent, an acrylic-based antifoaming agent, a fluorine-based surfactant or the like for the purpose of defoaming or defoaming. Furthermore, it is generally known that toughness is very effective for improving the peeling strength with a copper foil. For example, terminal carboxyl-modified butadiene acrylonitrile rubber (CTBN manufactured by Ube Industries, Ltd.), epoxy-modified polybutadiene rubber and the like can be added. However, it should be noted that a large amount of the compound tends to decrease heat resistance. .

【0018】アンダーコート剤の塗布方法としては、ロ
ールコーター、カーテンコーター、キャステイング法、
スピンナーコーター、スクリーン印刷等の方法があり、
いずれの方法でも塗布は可能である。また、内層回路面
をもれなく塗布出来る方法であれば上述の塗布方法に限
定されない。いずれの方法においても、アンダーコート
剤に必要な最適粘性があるため、塗布方法により、反応
性希釈剤、溶剤の種類、無機充填材の種類、粒径、配合
量の調整は必要になってくる。
As a method for applying the undercoat agent, a roll coater, a curtain coater, a casting method,
There are methods such as spinner coater and screen printing,
Coating is possible by either method. Further, the method is not limited to the above-described coating method as long as the method can apply the inner circuit surface without leakage. In any method, since the undercoat agent has an optimum viscosity required, depending on the application method, it is necessary to adjust the reactive diluent, the type of solvent, the type of inorganic filler, the particle size, and the amount of compounding. .

【0019】アンダーコート剤の硬化状態について言及
する。硬化状態は、一般的に全くの未硬化状態であるA
ステージ状態、半硬化状態であるBステージ状態、さら
に硬化をすすめたゲル状態、そして、完全硬化状態であ
るCステージ状態に分けることができる。本目的のため
にはいずれの状態であっても使用可能であるが、タック
フリーの状態又はそれ以上反応を進めることにより取り
扱いが容易になる。
The cured state of the undercoat agent will be described. The cured state is generally A, which is a completely uncured state.
It can be divided into a stage state, a B-stage state which is a semi-cured state, a gel state which has been further cured, and a C-stage state which is a completely cured state. Although any state can be used for this purpose, handling is facilitated by proceeding the reaction in a tack-free state or higher.

【0020】本発明のアンダーコート剤を用いることに
より、従来多層プリント配線板に必要とされてきた黒処
理を不要とすることができる。従って、黒処理工程の品
質管理に費やす工数の削減、生産コストの削減が期待さ
れ、黒処理のないことによりハロー現象が生じないの
で、容易に高密度配線とすることができる。更に、回路
加工された銅張積層板の上面にアンダーコート層を形成
するため、回路パターン間隙をあらかじめ樹脂で充填さ
せておくことができ、そのためプリプレグを重ね合わせ
て積層しても、気泡を残存させることなく成形すること
ができる。従って、従来内層回路の銅箔残存率によっ
て、プリプレグの樹脂量、加熱時の流動性を変えていた
が、その必要がなくなった。即ち、板厚精度が内層回路
の銅箔残存率に依存することがないため、数少ない種類
のプリプレグにて対応することが可能になる。
By using the undercoat agent of the present invention, it is possible to eliminate the need for the black treatment conventionally required for a multilayer printed wiring board. Therefore, it is expected that the number of man-hours spent for quality control in the black processing step and the production cost are reduced, and the absence of black processing does not cause a halo phenomenon, so that high-density wiring can be easily achieved. Furthermore, since the undercoat layer is formed on the upper surface of the circuit-processed copper-clad laminate, the circuit pattern gap can be filled with resin in advance, so that bubbles remain even when prepregs are stacked and laminated. It can be molded without causing it to form. Accordingly, the amount of resin of the prepreg and the fluidity during heating have been changed depending on the residual ratio of the copper foil in the inner layer circuit, but this is no longer necessary. That is, since the thickness accuracy does not depend on the residual ratio of the copper foil in the inner layer circuit, it is possible to use only a few types of prepregs.

【0021】更に、プリプレグの内層銅箔エッチング部
を埋めるのに要していた時間が不要となる。従来は脱泡
のための時間を確保する必要から昇温速度を2〜5℃/
分としていたため、1回のプレス時間が140分間以上
であったが、本発明では、昇温速度を6〜15℃/分と
大きくすることができるので、プレス時間を80分間程
度以下にまで短縮することが可能となり、製造コストが
大幅に削減され、品質管理,在庫管理に費やす工数も大
幅に削減されるようになる。
Further, the time required for filling the etched portion of the inner layer copper foil of the prepreg becomes unnecessary. Conventionally, since it is necessary to secure time for defoaming, the heating rate is 2 to 5 ° C /
The press time was 140 minutes or more because the time was set to 1 minute. However, in the present invention, the heating time can be increased to 6 to 15 ° C./min. As a result, the manufacturing cost is greatly reduced, and the man-hours spent on quality control and inventory control are also significantly reduced.

【0022】[0022]

【実施例】以下、本発明を実施例に基づき詳細に説明す
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below in detail based on embodiments.

【0023】(実施例1)ジグリシジルエーテルビスフ
ェノールA(エポキシ当量475)100重量部をエチ
ルカルビトール120重量部に溶解した。そこに4,
4’−ジアミノジフェニルエーテル5.9重量部(エポ
キシ樹脂に対して1倍当量)を添加し、撹拌したところ
容易に溶解した。更に2,4−ジアミノ−6−{2’−
ウンデシルイミダゾリル−(1’)}エチル−s−トリ
アジン0.5重量部、平均粒径1.2μmの飽和脂肪酸
により疎水化処理された炭酸カルシウム(日東粉化工業
(株)製NCC−1010)80重量部、平均粒径18
nmの疎水化処理された超微粒子シリカR−972(日
本アエロジル(株)製)20重量部、γ−グリシドキシ
プロピルトリメトキシシラン1重量部を添加した後、三
本ロールにより混錬した。真空脱泡器により3mmHg
の真空度で5分間脱泡を行い、アンダーコート剤を得
た。
Example 1 100 parts by weight of diglycidyl ether bisphenol A (epoxy equivalent: 475) was dissolved in 120 parts by weight of ethyl carbitol. There 4,
5.9 parts by weight of 4'-diaminodiphenyl ether (1 equivalent to the epoxy resin) was added, and the mixture was easily dissolved by stirring. Further, 2,4-diamino-6- {2′-
Undecyl imidazolyl- (1 ′)} ethyl-s-triazine 0.5 part by weight, calcium carbonate hydrophobized with saturated fatty acid having an average particle size of 1.2 μm (NCC-1010 manufactured by Nitto Powder Chemical Co., Ltd.) 80 parts by weight, average particle size 18
After adding 20 parts by weight of ultrafine silica R-972 (manufactured by Nippon Aerosil Co., Ltd.) and 1 part by weight of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, the mixture was kneaded with a three-roll mill. 3mmHg by vacuum deaerator
Degassing was performed for 5 minutes at a degree of vacuum of, to obtain an undercoat agent.

【0024】次に、基材厚0.1mm、銅箔厚35μm
のガラスエポキシ両面銅張積層板を表面研磨、ソフトエ
ッチングし防錆処理を除いた後、エッチングにより回路
加工した。通常は回路加工後に黒処理を行うが、この黒
処理を施さず、内層回路板の片面に上記アンダーコート
剤をスクリーン印刷し、しかる後乾燥器内において13
0℃で5分間加熱し、タックフリー状態にした後、同じ
ようにして反対面にもアンダーコート剤を塗布し、13
0℃で20分間加熱乾燥した。
Next, the substrate thickness is 0.1 mm and the copper foil thickness is 35 μm.
The surface of the glass-epoxy double-sided copper-clad laminate was polished and soft-etched to remove the rust-preventive treatment, and then processed by etching. Normally, black processing is performed after circuit processing. However, the black processing is not performed, and the undercoat agent is screen-printed on one side of the inner circuit board.
After heating at 0 ° C. for 5 minutes to make it tack-free, apply an undercoat agent to the opposite surface in the same manner,
The resultant was dried by heating at 0 ° C. for 20 minutes.

【0025】更に、エポキシ樹脂を基材に含浸、乾燥処
理したFR−4プリプレグ100μm厚(住友ベークラ
イト(株)製EI−6765)を上記の乾燥されたアン
ダーコート剤の両面にそれぞれ1枚ずつ重ね合わせ、そ
の上面に厚さ18μmの銅箔を1枚ずつ重ね、真空圧プ
レスにて材料の最高到達温度が170℃、昇温、冷却含
め80分間で加熱硬化し、多層プリント配線板を得た。
特性を評価し、その結果を表1に示す。なお、内層回路
板に酸化処理を施していないため、スルーホールメッキ
を行ったときにハロー現象は生じていない。
Further, a 100 μm thick FR-4 prepreg (EI-6765, manufactured by Sumitomo Bakelite Co., Ltd.) impregnated with an epoxy resin and dried is superimposed one on each side of the dried undercoat agent. Then, a copper foil having a thickness of 18 μm was stacked one by one on the upper surface, and the material was heated and cured by a vacuum press at a maximum temperature of 170 ° C. for 80 minutes including temperature rise and cooling to obtain a multilayer printed wiring board. .
The characteristics were evaluated, and the results are shown in Table 1. Since no oxidation treatment was applied to the inner circuit board, no halo phenomenon occurred when through-hole plating was performed.

【0026】(実施例2〜10)アンダーコート剤の組
成を表1に示したように変更した以外は実施例1と同様
の方法により多層プリント配線板を作製し、特性の評価
を行った。それぞれの組成及び評価結果を表1に示す。
実施例1と同様にハロー現象は生じていない。
(Examples 2 to 10) A multilayer printed wiring board was produced in the same manner as in Example 1 except that the composition of the undercoat agent was changed as shown in Table 1, and the characteristics were evaluated. Table 1 shows the compositions and evaluation results.
As in the first embodiment, no halo phenomenon occurs.

【0027】[0027]

【表1】 ・C11Z・A:2,4−ジアミノ−6−{2'−ウンデ
シルイミダゾリル−(1')}エチル−s−トリアジン
[Table 1] * C11Z * A: 2,4-diamino-6- {2'-undecylimidazolyl- (1 ')} ethyl-s-triazine

【0028】(比較例1〜8)アンダーコート剤の組成
を表2に示すように変更した以外は上記各実施例1と同
様の方法により積層板を作製し、評価を行った。それぞ
れの組成及び評価結果を表2に示す。
Comparative Examples 1 to 8 Laminates were prepared and evaluated in the same manner as in Example 1 except that the composition of the undercoat agent was changed as shown in Table 2. Table 2 shows the compositions and evaluation results.

【0029】(比較例9)アンダーコート剤を塗布しな
いこと、及び酸化処理を施したことを除いて、実施例及
び比較例と同様にして内層回路板を作製し、多層プリン
ト配線板を作製した。特性の評価結果を表2に示す。酸
化処理を施したため、ハロー現象が生じている。
(Comparative Example 9) An inner layer circuit board was produced in the same manner as in the Examples and Comparative Examples except that no undercoat agent was applied and oxidation treatment was carried out, thereby producing a multilayer printed wiring board. . Table 2 shows the evaluation results of the characteristics. The halo phenomenon occurs due to the oxidation treatment.

【0030】(比較例10)内層回路板に回路表面に酸
化処理(黒処理)を施した以外は比較例5と同様にして
多層プリント配線板を作製した。特性の評価結果を表2
に示す。酸化処理を施したため、ハロー現象が生じてい
る。
Comparative Example 10 A multilayer printed wiring board was manufactured in the same manner as in Comparative Example 5, except that the inner surface circuit board was subjected to oxidation treatment (black treatment) on the circuit surface. Table 2 shows the evaluation results of the characteristics.
Shown in The halo phenomenon occurs due to the oxidation treatment.

【0031】[0031]

【表2】 ・DDDDM:4,4'−ジアミノ−3,3'−ジエチル−
5,5'−ジメチルジフェニルメタン ・充填材A:水酸化アルミニウム、充填材B:硫酸バリ
ウム、充填材C:炭酸カルシウム、充填材W:ウォラス
トナイト (いずれも疎水化処理していない)
[Table 2] DDDDM: 4,4'-diamino-3,3'-diethyl-
5,5'-Dimethyldiphenylmethane Filler A: Aluminum hydroxide, Filler B: Barium sulfate, Filler C: Calcium carbonate, Filler W: Wollastonite (None of them is hydrophobized)

【0032】(測定方法) 1.成形性:直径20mmの円形のエッチング部(A)
100個を有する内層回路板を使用して多層プリント配
線板を作製し、表面銅箔をエッチングした後、Aにおい
てボイドの有無を観察し、ボイドのあるAの数からボイ
ド発生率(%)を求めた。 2.外形打抜き性:多層プリント配線板の外周から内部
30〜40mmの部分を直線状に打抜き、アンダーコー
ト層の部分の剥離を測定した。 3.密着性:片面にのみ回路を有する内層回路板を使用
する点を除いて実施例又は比較例に記載した方法にて多
層プリント配線板を作製し、内層回路板とプリプレグと
を剥離してその剥離強度を求め、密着性とした。 4.吸湿半田耐熱性:多層プリント配線板をPCT処理
(125℃、0.5時間)し、260℃の半田浴に20
秒間浸漬し、ふくれの有無を観察した。
(Measurement method) Formability: circular etched part with a diameter of 20 mm (A)
After preparing a multilayer printed wiring board using an inner circuit board having 100 pieces, etching the surface copper foil, observing the presence or absence of voids in A, and determining the void generation rate (%) from the number of voided A. I asked. 2. Outline punching property: A portion 30 to 40 mm from the outer periphery of the multilayer printed wiring board was punched out in a straight line, and the peeling of the undercoat layer was measured. 3. Adhesion: A multilayer printed wiring board is manufactured by the method described in the Examples or Comparative Examples except that an inner layer circuit board having a circuit only on one side is used, and the inner layer circuit board and the prepreg are peeled off. The strength was determined, and the adhesion was determined. 4. Moisture absorption solder heat resistance: PCT treatment of multilayer printed wiring board (125 ° C, 0.5 hours) and soldering at 260 ° C for 20 hours
After immersion for 2 seconds, the presence or absence of blisters was observed.

【0033】(評価基準)表3に示す評価基準に従って
評価した。
(Evaluation Criteria) Evaluation was made according to the evaluation criteria shown in Table 3.

【表3】 [Table 3]

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明の多層プリント配線板の製造方法
は、銅箔とアンダーコート剤との密着力が優れている。
従って、従来の多層プリント配線板の作製に必要とされ
てきた黒処理が不要のものとなる。従って、ハロー現象
が生じないので、容易に高密度配線とすることができ、
更に、黒処理工程の品質管理に費やす工数の削減、生産
コストの削減が期待される。また、あらかじめアンダー
コート剤を塗布し、内層回路の段差を埋め込むため、回
路間の間隙に存在する気泡は皆無となり、従来のような
真空プレスによる長時間加圧を行わなくても、ボイドを
発生させず、良好な成形性を得ることができる。同時
に、内層回路の残存銅箔率によりプリプレグの種類を変
える必要がないためため、多層プリント配線板の製造時
間を大幅に削減することができる。また、現在莫大な工
数をかけ、手作業で行っているプリプレグのセットの自
動化への道が開かれるものと期待される。
The method for producing a multilayer printed wiring board of the present invention has excellent adhesion between a copper foil and an undercoat agent.
Therefore, the black processing, which has been required for manufacturing a conventional multilayer printed wiring board, becomes unnecessary. Therefore, since the halo phenomenon does not occur, high density wiring can be easily achieved,
Further, reductions in man-hours spent on quality control in the black processing step and reductions in production costs are expected. In addition, since an undercoat agent is applied in advance to bury the steps in the inner circuit, there are no air bubbles in the gaps between the circuits, and voids are generated even without long-time pressurization by a conventional vacuum press. Without doing so, good moldability can be obtained. At the same time, it is not necessary to change the type of prepreg according to the residual copper foil ratio of the inner circuit, so that the manufacturing time of the multilayer printed wiring board can be significantly reduced. In addition, it is expected that the road to the automation of the prepreg set, which requires a huge amount of man-hours at present and is performed manually, will be opened.

フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C08L 63/00 NLD C08L 63/00 NLD H05K 3/38 7511−4E H05K 3/38 E Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Agency reference number FI Technical display location C08L 63/00 NLD C08L 63/00 NLD H05K 3/38 7511-4E H05K 3/38 E

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 回路加工された片面又は両面銅張積層板
に、熱硬化性樹脂を基材に含浸、乾燥させたプリプレグ
を重ね合わせて積層プレスする多層プリント配線板の製
造方法において、前記回路加工された銅張積層板の回路
面に、(1)エポキシ樹脂、(2)硬化剤として、エー
テル結合またはエーテル結合とスルフォン結合を有する
芳香族ポリアミン、(3)無機充填材として、その表面
が飽和脂肪酸、カップリング剤等で疎水化処理された炭
酸カルシウム、及び(4)無機充填材として、疎水化処
理された超微粒子シリカを必須成分とするアンダーコー
ト剤を塗布乾燥した後、エポキシ樹脂を基材に含浸、乾
燥処理したプリプレグを重ね合わせて積層プレスするこ
とを特徴とする多層プリント配線板の製造方法。
1. A method for manufacturing a multilayer printed wiring board, comprising laminating and pressing a prepreg obtained by impregnating a thermosetting resin on a substrate and drying the substrate on a circuit-processed single-sided or double-sided copper-clad laminate. On the circuit surface of the processed copper-clad laminate, (1) an epoxy resin, (2) an aromatic polyamine having an ether bond or an ether bond and a sulfone bond as a curing agent, and (3) an inorganic filler as a surface. After applying and drying a saturated fatty acid, calcium carbonate hydrophobized with a coupling agent and the like, and (4) an undercoating agent containing hydrophobized ultrafine silica as an essential component as an inorganic filler, the epoxy resin is dried. A method for producing a multilayer printed wiring board, comprising: laminating and pressing a prepreg impregnated and dried on a substrate.
【請求項2】 エポキシ樹脂が、平均エポキシ当量45
0以上6000以下である末端2官能直鎖状エポキシ樹
脂である請求項1記載の多層プリント配線板の製造方
法。
2. An epoxy resin having an average epoxy equivalent of 45
2. The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the epoxy resin is a bifunctional linear epoxy resin having a terminal number of 0 or more and 6000 or less.
【請求項3】 前記炭酸カルシウムが平均粒子径0.7
〜1.8μmであり、配合量がエポキシ樹脂100重量
部に対して30〜160重量部である請求項1又は2記
載の多層プリント配線板の製造方法。
3. The calcium carbonate has an average particle diameter of 0.7.
The method for producing a multilayer printed wiring board according to claim 1 or 2, wherein the compounding amount is from 30 to 160 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
【請求項4】 前記超微粒子シリカが平均粒子径10〜
19nmであり、その配合量がエポキシ樹脂100重量
部に対して5〜30重量部である請求項1、2、又は3
記載の多層プリント配線板の製造方法。
4. The ultra-fine particle silica has an average particle diameter of 10 to 10.
4. The composition according to claim 1, wherein the amount is 19 nm, and the compounding amount is 5 to 30 parts by weight based on 100 parts by weight of the epoxy resin.
A method for producing the multilayer printed wiring board according to the above.
【請求項5】 前記回路加工された両面銅張積層板が酸
化処理されていないものである請求項1、2、3、又は
4記載の多層プリント配線板の製造方法。
5. The method for manufacturing a multilayer printed wiring board according to claim 1, wherein the circuit-processed double-sided copper-clad laminate is not oxidized.
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