JPH09147282A - プロセス計測装置 - Google Patents

プロセス計測装置

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JPH09147282A
JPH09147282A JP7307096A JP30709695A JPH09147282A JP H09147282 A JPH09147282 A JP H09147282A JP 7307096 A JP7307096 A JP 7307096A JP 30709695 A JP30709695 A JP 30709695A JP H09147282 A JPH09147282 A JP H09147282A
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JP
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optical
optical fiber
light
signal
frequency
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JP7307096A
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English (en)
Inventor
Masaki Yoda
正樹 依田
Tatsuyuki Maekawa
立行 前川
Shigeru Suzuki
鈴木  茂
Nobuaki Ono
信明 大野
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Toshiba Engineering Corp
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Engineering Corp
Toshiba Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、センサ出力信号を光ファイバによ
り多重伝送し、接続ケーブル数の削減と耐ノイズ性を向
上させたプロセス計測装置を提供する。 【解決手段】 本発明に係るプロセス計測装置は、温度
あるいは圧力などのプロセス量を感知して固有の範囲の
周波数信号に変換しこれを光信号として出力するセンサ
部1と、このセンサ部1の光出力信号を伝送する光ファ
イバ3と、この光ファイバ3により伝送されたセンサ部
1からの光出力信号を電気信号に変換する光電変換回路
11と、この電気信号の周波数からプロセス量を換算す
るための換算補正データ13と、この換算補正データ1
3を用いて前記光電変換回路11から出力される電気信
号をプロセス量に換算するデータ変換回路14とからな
ることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は工場や発電所などの
プラント内における温度や圧力などのプロセス量を計測
するプロセス計測装置に関する。
【0002】
【従来の技術】一般に、工場や発電所などのプラント内
における温度や圧力などのプロセス計測には、熱電対や
圧電素子などのセンサが用いられており、これらのセン
サ出力の多くは4〜20mAの電流信号に規格化され、
それぞれメタルケーブルを介して信号処理装置に1対1
に接続されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上述の従来のプロセス
計測装置においては、センサ出力が信号処理装置に1対
1に接続されているため、センサの数が増加するのに伴
ってケーブル数も増え、ケーブルの敷設や維持が困難に
なり、信号ケーブルへの電気ノイズの影響も問題となっ
てくる。
【0004】本発明は係る従来の事情に対処してなされ
たものであり、その目的は、センサ出力信号を光ファイ
バにより多重伝送し、接続ケーブル数の削減と耐ノイズ
性を向上させたプロセス計測装置を提供することにあ
る。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明のプロセス計測装置では、請求項1記載の発
明では、温度あるいは圧力などのプロセス量を感知して
固有の範囲の周波数信号に変換しこれを光信号として出
力するセンサ部と、このセンサ部の光出力信号を伝送す
る光ファイバと、この光ファイバにより伝送されたセン
サ部からの光出力信号を電気信号に変換する光電変換回
路と、この電気信号の周波数からプロセス量を換算する
ための換算補正データと、この換算補正データを用いて
前記光電変換回路から出力される電気信号をプロセス量
に換算するデータ変換回路を有する。
【0006】請求項2記載の発明では、温度あるいは圧
力などのプロセス量を感知して各々固有の範囲の周波数
信号に変換しこれを光信号として出力する複数のセンサ
部と、各センサ部の光出力信号を多重化して伝送する光
ファイバと、この光ファイバにより伝送されたセンサ部
からの光出力信号を電気信号に変換する光電変換回路
と、この電気信号を周波数の違いによって分離する周波
数分離回路と、この電気信号の周波数からプロセス量を
換算するための換算補正データと、この換算補正データ
を用いて前記光電変換回路から出力される電気信号をプ
ロセス量に換算するデータ変換回路を有する。
【0007】請求項3記載の発明では、外部光源からの
光を送光用光ファイバを介して入力し温度あるいは圧力
などのプロセス量に応じて固有の範囲に強度変調して出
力する光変調型センサ部と、このセンサ部の光出力信号
を伝送する受光用光ファイバと、この受光用光ファイバ
により伝送された光変調型センサ部からの光出力信号を
電気信号に変換する光電変換回路と、この電気信号の周
波数からプロセス量を換算するための換算補正データ
と、この換算補正データを用いて前記光電変換回路から
出力される電気信号をプロセス量に換算するデータ変換
回路を有する。
【0008】請求項4記載の発明では、外部光源からの
光を送光用光ファイバを介して入力し温度あるいは圧力
などのプロセス量に応じて各々固有の範囲に強度変調し
て出力する複数の光変調型センサ部と、各センサ部の光
出力信号を多重化して伝送する受光用光ファイバと、こ
の受光用光ファイバにより伝送された光変調型センサ部
からの光出力信号を電気信号に変換する光電変換回路
と、この電気信号を周波数の違いによって分離する周波
数分離回路と、この電気信号の周波数からプロセス量を
換算するための換算補正データと、この換算補正データ
を用いて前記光電変換回路から出力される電気信号をプ
ロセス量に換算するデータ変換回路を有する。
【0009】請求項5記載の発明は、請求項4記載の発
明において各光変調型センサ部が送光用光ファイバおよ
び受光用光ファイバを介して並列に設置されているもの
である。
【0010】請求項6記載の発明は、請求項4記載の発
明において各光変調型センサ部が両端部を送光用光ファ
イバに設けられた光分岐挿入回路を介して並列に接続さ
れているものである。
【0011】請求項7記載の発明は、請求項4記載の光
変調型センサ部と送光用光ファイバおよび受光用光ファ
イバに替え、外部光源からの光を伝送する光ファイバ
と、この光ファイバを介して光を入力し温度あるいは圧
力などのプロセス量に応じて各々固有の範囲に強度変調
して光信号を反射させて出力する複数の反射光変調型セ
ンサ部と、前記光ファイバに設けられ前記反射光変調型
センサ部から伝送される光出力信号を分岐させて前記光
電変換回路に導く光分岐回路を有するものである。
【0012】請求項8記載の発明は、請求項7記載の発
明において、各反射光変調型センサ部の端部を光ファイ
バに設けられた光分岐挿入回路を介して並列に接続され
ているものである。
【0013】請求項9記載の発明では、請求項1乃至8
記載の発明において、データ変換回路に接続される出力
回路を介して前記プロセス量を出力するものである。上
記構成の請求項1記載のプロセス計測装置においては、
センサ部がプロセス量を固有の範囲の周波数信号に変換
して、これを光信号として出力し、この光出力信号は光
ファイバにより伝送される。そして、この光出力信号は
光電変換回路によって電気信号に変換される。さらにデ
ータ変換回路では、電気信号の周波数からプロセス量を
換算するための換算補正データを用いて処理されプロセ
ス量が求められる。
【0014】請求項2記載のプロセス計測装置では、請
求項1記載のプロセス計測装置のセンサ部を複数とし、
この複数のセンサ部からの光信号を光ファイバによって
多重化して光電変換回路へ伝送する。この光電変換回路
から出力される多重の電気信号は、周波数分離回路によ
って周波数の違いによって分離される。この分離された
電気信号は、請求項1記載のプロセス計測装置と同様に
データ変換回路で変換補正データを用いて処理されプロ
セス量が求められる。
【0015】請求項3記載のプロセス計測装置では、光
変調型センサ部の外部に設けられた光源からの光を送光
用光ファイバを介してこの光変調型センサ部に導入す
る。この光変調型センサ部では、この光をプロセス量に
応じて強度変調し、受光用光ファイバを介して光電変換
回路へ出力され、その後は請求項1記載のプロセス計測
装置と同様である。
【0016】請求項4記載のプロセス計測装置では、請
求項3記載のプロセス計測装置において光変調型センサ
部を複数として、受光用光ファイバにより各光変調型セ
ンサ部で発生する光出力信号を多重化して光電変換回路
に伝送して多重化された電気信号に変換するものであ
る。また、多重化された電気信号から各々の光変調型セ
ンサ部で検知されるプロセス量を求めるために周波数分
離回路を設けている。この周波数分離回路では、電気信
号の周波数の違いによって電気信号を分離する。この分
離された電気信号は、データ変換回路で変換補正データ
を用いて処理されプロセス量が求められる。
【0017】請求項5記載のプロセス計測装置では、請
求項4記載のプロセス計測装置において、光変調型セン
サ部を送光用光ファイバと受光用光ファイバから分岐さ
せて梯子状、すなわち並列に設けるものである。
【0018】請求項6記載のプロセス計測装置では、請
求項4記載のプロセス計測装置において、光変調型セン
サ部の両端部をそれぞれ送光用光ファイバおよび受光用
光ファイバに設けられた光分岐挿入回路を介して並列に
接続されている。この光分岐挿入回路を介して並列とす
れば、センサ部が集中している場合に好適である。
【0019】請求項7記載のプロセス計測装置では、請
求項4記載の複数の光変調型センサ部、送光用光ファイ
バおよび受光用光ファイバに替えて、反射光変調型セン
サ部を設けるものである。この反射光変調型センサ部の
外部に設けられた光源の光は光ファイバを介して反射光
変調型センサに入力され、プロセス量に応じて固有の範
囲に強度変調される。この強度変調された光信号はセン
サ部で反射されて再び光ファイバを介して伝送される。
そして、光分岐回路によって光信号は光源に戻ることな
く光電変換回路に導かれる。その後は、請求項4記載の
プロセス計測装置と同様にプロセス量を求めることがで
きる。この場合には光ファイバ一本で送光用光ファイバ
と受光用光ファイバを兼ねているため、光ファイバの敷
設量の削減に更に有効である。
【0020】請求項8記載のプロセス計測装置では、請
求項7記載の反射光変調型センサは光分岐挿入回路を介
して光ファイバに接続されている。各反射光変調型セン
サからの光信号は光分岐挿入回路を介して光ファイバに
伝送される。請求項9記載のプロセス計測装置では、デ
ータ変換回路に出力回路を接続したため、センサ部で検
知したプロセス量を出力させることができる。
【0021】
【発明の実施の形態】以下に本発明のうち、請求項1乃
至5に係るプロセス計測装置について、第1の実施の形
態として図1および図2を用いて説明する。図1に示さ
れるプロセス計測装置は複数のセンサ部1を有し、この
センサ部1は、例えば発明者らが以前特願平6−325
996号によって示した光変調型センサであって、温度
や圧力などのプロセス量を周波数信号に変換し、さらに
外部から供給される光をこの周波数信号で強度変調して
出力するタイプのセンサである。
【0022】信号処理装置2に内蔵された光源10から
の光は、送光用光ファイバ3aおよび光方向性結合器4
により分岐されてセンサ部1に供給される。センサ部1
は、この光をプロセス量に応じた周波数で強度変調し、
光方向性結合器4および受光用光ファイバ3bにより多
重化されて信号処理装置2に伝送される。信号処理装置
2は、計算機ネットワーク5によりプロセス計算機6や
データ表示装置7に接続されている。
【0023】このように構成されたプロセス計測装置に
おいて、送光用光ファイバ3aにより伝送された光は、
光方向性結合器4により分岐され、各センサ部1に均等
の光量で供給される。そのため、光方向性結合器4はそ
れぞれ異なった分岐比の物が使用される。
【0024】各センサ部1は、プロセス量を周波数に変
換するが、それぞれ予め異なった周波数範囲で周波数変
換を行うように設定されており、出力信号は混ぜ合わさ
れても周波数の違いにより後に電気的に分離することが
可能である。
【0025】各センサ部1の光出力信号は、光方向性結
合器4により合流され、受光用光ファイバ3bにより信
号処理装置2に伝送される。複数のセンサ出力信号を多
重化して光ファイバで伝送するため接続ケーブルを削減
することができ、耐ノイズ性も向上する。
【0026】図2は本発明に係るプロセス計測装置の第
1の実施の形態における信号処理装置2の内部の構成の
概念図である。信号処理装置2に伝送された光は、光電
変換回路11で電気信号に変換され、さらに周波数分離
回路12で各センサ毎に出力信号が分離される。データ
変換回路14では、各センサ毎に予めメモリ内に記録さ
れた変換補正係数テーブル13のデータを用いて、これ
らの周波数からプロセス量を演算により算出する。
【0027】この際、出力値の非直線性や温度変動等の
補正が行われる。各センサの変換補正係数を信号処理装
置2に一括して記憶することにより、各センサはこれら
の補正演算を行う必要がなくなり、演算のための電子回
路をセンサ部1に搭載しなくても良いためセンサ部1は
より単純で信頼性の高い構造とすることができる。
【0028】算出された各プロセス量は、真の値として
出力インターフェイス回路15により計算機ネットワー
ク5に出力される。計算機ネットワーク5には、プロセ
ス計算機6やデータ表示装置7、あるいは他のプロセス
計測装置が接続され、プロセス計算機6やデータ表示装
置7は随時必要なプロセス量を任意のプロセス計測装置
から得ることができる。各プロセス計測装置をネットワ
ークにより接続することで、接続ケーブルの削減と、プ
ラント内のプロセス情報の共有化が可能である。
【0029】このように本実施の形態によれば、光変調
型センサを用いて光ファイバで接続することで、従来に
比べ接続ケーブルが少なくノイズに強いプロセス計測装
置を実現することができる。
【0030】なお、本実施の形態では、センサ部1に光
変調型センサ部を用いているため、信号処理装置2の内
部に設けられた光源10を必要としているが、センサ部
1内部にその光源を有する場合では、光源10は不要で
あり、また、その光源10からの光を伝送する送光用光
ファイバ3aも不要である。従って、センサ部1から下
流側の装置のみでプロセス量の測定が可能である。
【0031】また、本実施の形態では特に、センサ部1
が送光用光ファイバ3aと受光用光ファイバ3bを介し
て並列に設けられているものについて説明したが、セン
サ部1が複数設けられている場合でも、そのセンサ部1
が並列に設けられている場合には限らず、直列に設けら
れている場合もある。また、センサ部1が単数で設けら
れている場合ももちろん考えられる。その場合には図1
に示されるセンサ部1の内、一つのセンサ部1について
のみ送光用光ファイバ3aおよび受光用光ファイバ3b
に接続される。
【0032】さらに、本実施の形態では、図2に示され
る信号処理装置2として、光源10を始め、光電変換回
路11,周波数分離回路12,変換補正係数テーブル1
3,データ変換回路14,出力インターフェイス回路1
5を備える装置を設けている。
【0033】光源10はセンサ部1の外部であって、送
光用光ファイバ3aでセンサ部1に接続されるならば、
どこに設置してもよいが、本実施の形態のようにその他
の回路とまとめて信号処理装置2として一体に設けるこ
とによって保守性、取扱性の向上を図ることができる。
【0034】次に、本発明のうち、請求項6に係るプロ
セス計測装置について、第2の実施の形態として図3を
用いて説明する。なお、図3において、図1と同一部分
には同一符号を付し、その構成についての説明は省略す
る。図3に示すように、本実施の形態に係るプロセス計
測装置は、第1の形態と同様に光変調型の複数のセンサ
部1を有し、温度や圧力などのプロセス量を周波数信号
に変換し、さらに外部から供給される光をこの周波数信
号で強度変調して出力する。
【0035】センサ部1は現場盤などに集中して配置さ
れており、光スター・カプラ8も同一の盤内に設置され
ている。信号処理装置2に内蔵された光源10からの光
は送光用光ファイバ3aおよび光スター・カプラ8によ
り分岐され各センサ部1に供給される。センサ部1はこ
の光をプロセス量に応じた周波数で強度変調し、光スタ
ー・カプラ8および受光用光ファイバ3bにより多重化
されて信号処理装置2に伝送される。信号処理装置2
は、図には明示していないが、計算機ネットワークによ
りプロセス計算機やデータ表示装置に接続してもよい。
【0036】このように構成された本実施の形態につい
ての作用を説明する。光スター・カプラ8は、一本の光
ファイバを複数の光ファイバに分岐するための光学素子
である。送光用光ファイバ3aにより伝送された光は、
光スター・カプラ8により一度に必要数に分岐され、各
センサ部1に均等の光量で供給される。集中してセンサ
部1が配置されている場合、光スター・カプラ8により
一度に分岐しても各センサ部1へ接続するための光ファ
イバは長い距離とはならない。
【0037】各センサ部1はプロセス量をそれぞれ異な
った周波数に変換し、各センサ部1の光出力信号は、光
スター・カプラ8により合流され、受光用光ファイバ3
bにより信号処理装置2に伝送される。
【0038】このように、本実施の形態によれば、接続
ケーブルの削減や耐ノイズ性の向上に加え、センサ部1
が現場盤などに集中して配置されている場合、第1の実
施の形態のように異なった分岐比の光方向性結合器4を
用いて逐一梯子状に接続していくよりも、光スター・カ
プラ8により現場盤などにおいて一度に分岐したほうが
設置なども容易で、コストも低く抑えることができる。
【0039】なお、本実施の形態における光スター・カ
プラ8は光分岐挿入回路の一種である。光分岐挿入回路
は大別すると、上述の光方向性結合器4などの方向性結
合器形とスター・カプラ形がある。方向性結合器形は光
ファイバ中を伝搬する上り下りの2方向の光信号を分離
して取り出す場合や、一本の光ファイバに二つの光信号
を合わせて伝送させたり、逆に一本の光ファイバ中を伝
搬する光信号を分岐したりする場合に用いられる。
【0040】一方、スター・カプラ形は一つの光信号パ
ワーをNポートに分岐したり、N個の光信号パワーを一
つのポートに合流したりする場合や、N個の光信号パワ
ーをそれぞれ1/Nに分岐してN個のポートに一様に出
力する場合に用いられる。
【0041】従って、方向性結合器形はN=2の場合の
スター・カプラ形の機能を持っているということもでき
る。図4は、本発明のうち請求項4に係るプロセス計測
装置について、第3の実施の形態として示す構成図であ
る。図4において、図1と同一部分には同一符号を付
し、その構成の説明は省略する。図4に示すように、プ
ロセス計測装置は第1の実施の形態と同様に光変調型の
複数のセンサ部1を有し、温度や圧力などのプロセス量
を周波数信号に変換し、さらに外部から供給される光を
この周波数信号で強度変調して出力する。
【0042】信号処理装置2に内蔵された光源10から
の光は信号処理装置2内において分岐され、それぞれに
個別の送光用光ファイバ3aにより各センサ部1に均等
の光量で供給される。各センサ部1はプロセス量をそれ
ぞれ異なった周波数に変換し、各センサ部1の光出力信
号は、受光用光ファイバ3bにより信号処理装置2に再
び伝送される。信号処理装置2内ではこれらの光出力信
号を個別に、あるいは光方向性結合器や光スター・カプ
ラにより合流し、電気信号に変換する。
【0043】センサ部1がプラント内に分散して配置さ
れている場合、各センサ部1を梯子状に接続する方式や
光スター・カプラにより接続する方式では、かえって接
続する光ファイバの全長が長くなってしまう場合があ
る。このような場合、本実施の形態に示す放射状接続が
コストの上から最適な接続方法となる。
【0044】このように本実施の形態によれば、接続ケ
ーブルの削減や耐ノイズ性の向上に加え、センサ部1が
プラント内に分散して配置されている場合、コストを低
くすることができる。
【0045】なお、全ての光ファイバを個別に敷設する
必要はなく、必要に応じて最も全体のコストが低くなる
よう、一部の光ファイバを光方向性結合器や光スター・
カプラにより、分岐、合流して接続しても構わない。
【0046】図5は、本発明のうち請求項7に係るプロ
セス計測装置について、第4の実施の形態として示す構
成図である。なお、図5において、図1と同一部分につ
いては同一符号を付し、その構成の説明は省略する。図
5に示すプロセス計測装置は複数のセンサ部1を有し、
このセンサ部1は反射型の光変調センサであって、温度
や圧力などのプロセス量を周波数信号に変換し、さらに
外部から光ファイバ3を介して供給される光をこの周波
数信号で強度変調し、再び光ファイバ3に出力するタイ
プのセンサである。
【0047】信号処理装置2に内蔵された光源10から
の光は、光ファイバ3および光方向性結合器4により分
岐されてセンサ部1に供給される。センサ部1はこの光
をプロセス量に応じた周波数で強度変調し、光方向性結
合器4および光ファイバ3により多重化されて信号処理
装置2に再び伝送される。信号処理装置2は、図には明
示していないが、図1と同様に計算機ネットワークによ
りプロセス計算機やデータ表示装置に接続してもよい。
【0048】このように構成された本発明に係るプロセ
ス計測装置の第4の実施の形態においては、光ファイバ
3により伝送された光は、光方向性結合器4により分岐
され、各センサ部1に均等な光量で供給される。そのた
め、光方向性結合器4はそれぞれ異なった分岐比の物が
使用される。各センサ部1はプロセス量をそれぞれ異な
った周波数に変換し、各センサ部1の光出力信号は光源
からの光と反対方向に出力され、光方向性結合器4によ
り合流された後、光ファイバ3により信号処理装置2に
伝送される。信号処理装置2内ではハーフミラーなどの
光分岐回路16により光出力信号を分岐して光電変換回
路11に伝送し光電変換を行う。
【0049】このような本実施の形態によれば、一本の
光ファイバで送受光を行う光変調型センサを用いて、光
ファイバで多点接続するすることで、第1の実施の形態
に示すプロセス計測装置に比べ、さらに接続ケーブルが
少ないプロセス計測装置を実現することができる。
【0050】図6は、本発明のうち請求項8に係るプロ
セス計測装置について、第5の実施の形態として示す構
成図である。なお、図6において、図1と同一部分につ
いては同一符号を付し、その構成の説明は省略する。図
6に示すように、本実施の形態に係るプロセス計測装置
は、第4の実施の形態を同様に一本の光ファイバで送受
光を行う光変調型の複数のセンサ部1を有し、温度や圧
力などのプロセス量を周波数信号に変換し、さらに外部
から供給される光をこの周波数信号で強度変調して出力
する。
【0051】センサ部1は現場盤などに集中して設置さ
れており、光スター・カプラ8も同一の盤などの中に設
置されている。信号処理装置2内に内蔵された光源10
からの光は、光ファイバ3および光スター・カプラ8に
より分岐され各センサ部1に供給される。センサ部1
は、この光をプロセス量に応じた周波数で強度変調し、
光スター・カプラ8および光ファイバ3により多重化さ
れて信号処理装置2に再び伝送される。信号処理装置2
は図6には明示してないが、図1と同様に計算機ネット
ワークによりプロセス計算機やデータ表示装置に接続し
てもよい。
【0052】このように構成された第5の実施の形態に
おいては、光ファイバ3により伝送された光は、光スタ
ー・カプラ8により一度に必要数に分岐され、各センサ
部1に均等の光量で供給される。集中してセンサ部1が
配置されている場合、光スター・カプラ8により一度に
分岐しても各センサ部1へ接続するための光ファイバ3
は長い距離にならない。
【0053】各センサ部1はプロセス量をそれぞれ異な
った周波数に変換し、光源からの光と反対方向に出力さ
れ、各センサ部1の光出力信号は光スター・カプラ8に
より合流された後、光ファイバ3により信号処理装置2
に伝送される。信号処理装置2内では、ハーフミラーな
どの光分岐回路16により光出力信号を分岐して光電変
換回路11に導き光電変換を行う。
【0054】このように本実施の形態によれば、センサ
部1が現場盤などに集中して配置されている場合にメリ
ットがあることに加え、一本の光ファイバで送受光を行
う光変調型センサを用いて光ファイバで多点接続するこ
とで、第2の実施の形態に示すプロセス計測装置に比
べ、さらに接続ケーブルが少ないプロセス計測装置を実
現することができる。
【0055】図7は、本発明のうち請求項7に係るプロ
セス計測装置について、第6の実施の形態として示す構
成図である。なお、図7において、図1と同一部分につ
いては同一符号を付し、その構成の説明は省略する。図
7に示すように、本実施の形態に係るプロセス計測装置
は、第4の実施の形態と同様に一本の光ファイバで送受
光を行う光変調型の複数のセンサ部1を有し、温度や圧
力などのプロセス量を周波数信号に変換し、さらに外部
から供給される光をこの周波数信号で強度変調して出力
する。
【0056】信号処理装置2に内蔵された光源10から
の光は、それぞれ個別の光ファイバ3によりプラント内
に分散して配置された各センサ部1に供給される。セン
サ部1は、この光をプロセス量に応じた周波数で強度変
調し、再び光ファイバ3により信号処理装置2に伝送さ
れる。信号処理装置2は、図には明示していないが計算
機ネットワークによりプロセス計算機やデータ表示装置
に接続してもよい。
【0057】このように構成された本実施の形態におい
ては、信号処理装置2からの光は信号処理装置2内にお
いて分岐され、それぞれに個別の光ファイバ3により各
センサ部1に均等の光量で供給される。各センサ部1は
プロセス量をそれぞれ異なった周波数に変換し、各セン
サ部1の光出力信号は、光ファイバ3により信号処理装
置2に伝送される。信号処理装置2内ではハーフミラー
などの光分岐回路16により光出力信号を分岐して個別
に、あるいは光方向性結合器や光スター・カプラにより
合流した後ハーフミラーなどにより光出力信号を分岐し
て電気信号に変換する。
【0058】センサ部1がプラント内に分散して配置さ
れている場合、各センサ部1を梯子状に接続する方式や
光スター・カプラにより接続する方式では、かえって接
続する光ファイバの全長が長くなってしまう場合があ
る。このような場合、本実施の形態に示す放射状接続が
コストの上から最適な接続方法となる。
【0059】本実施の形態によれば、センサ部1がプラ
ント内に分散して配置されている場合にメリットがある
ことに加え、一本の光ファイバで送受光を行う光変調型
センサを用いて光ファイバで多点接続することで、第3
の実施の形態に示すプロセス計測装置に比べ、さらに接
続ケーブルが少ないプロセス計測装置を実現することが
できる。
【0060】なお、全ての光ファイバを個別に敷設する
必要はなく、必要に応じて最も全体のコストが低くなる
よう、一部の光ファイバを光方向性結合器や光スター・
カプラにより分岐、合流して接続しても構わない。
【0061】図8は、本発明のうち請求項3乃至8に係
るプロセス計測装置について、第7の実施の形態として
示す構成図である。なお、図8において、図1と同一部
分については同一符号を付し、その構成の説明は省略す
る。図8に示すプロセス計測装置は複数のセンサ部1を
有し、このセンサ部1は光変調型センサであって、温
度、圧力などのプロセス量を周波数信号に変換し、さら
に光源9から供給される光を、この周波数信号で強度変
調して出力する。
【0062】本実施の形態では、センサ部1の近くに光
源9を配置している。この光源9からの光は、送光用光
ファイバ3aおよび必要に応じて光方向性結合器4によ
り分岐されてセンサ部1に供給される。センサ部1は、
この光をプロセス量に応じた周波数で強度変調し、光方
向性結合器4および受光用光ファイバ3bにより多重化
されて信号処理装置2に伝送される。信号処理装置2は
図に明示していないが、図1と同様に計算機ネットワー
クによりプロセス計算機やデータ表示装置に接続しても
よい。
【0063】このように構成された本実施の形態におい
ては、センサ部1の近くに設置された光源9から受光用
光ファイバ3bにより伝送された光は、必要に応じて光
方向性結合器4により分岐され、各センサ部1に均等の
光量で供給される。そのため、光方向性結合器4はそれ
ぞれ異なった分岐比の物が使用される。各センサ部1の
光出力信号は光方向性結合器4により合流され、受光用
光ファイバ3bにより信号処理装置2に伝送される。
【0064】センサ部1が光変調型センサである場合、
センサ部1に供給する光は直流光でよいため、光源9に
は電源さえ供給できればよい。従って、電源の確保が可
能でセンサ部1の近くに光源9を設置できる場合、信号
処理装置2から送光用光ファイバ3aを用いて伝送する
よりも、センサ部1の近くに光源9を設置したほうが送
光用光ファイバ3aを短くすることができる。
【0065】このように本実施の形態によれば、センサ
部1の近くに光源9を設置することで、第1の実施の形
態に示すプロセス計測装置に比べ、さらに接続ケーブル
が少ないプロセス計測装置を実現することができる。
【0066】
【発明の効果】以上説明したように本発明のプロセス計
測装置においては、請求項1および3記載の発明では、
温度や圧力などのプロセス量をセンサ部に固有の範囲の
周波数信号に変換し、これを光信号として出力すること
によって、センサ部で計測されたプロセス量を換算補正
データを用いた演算により求めることができ、センサは
これらの補正演算を行う必要がなくなり、演算のための
電子回路をセンサ部に搭載しなくともよいためセンサ部
はより単純で信頼性の高い構造とすることができる。
【0067】請求項2,4,5記載の発明では、温度や
圧力などのプロセス量を複数のセンサ部に固有の範囲の
周波数信号にそれぞれ変換しつつ多重化して伝送し、さ
らに電気信号に変換して、周波数の違いにより各センサ
部の出力信号を分離するため、請求項1および3記載の
発明の効果に加え、複数のセンサ部におけるプロセス量
を検知しながら、接続ケーブルを削減することができ、
耐ノイズ性も向上する。
【0068】請求項6記載のプロセス計測装置では、請
求項4記載のプロセス計測装置において、各センサ部を
光分岐挿入回路により送光用光ファイバおよび受光用光
ファイバから分岐された光ファイバで接続したことによ
り、特に複数のセンサ部が集中して配置された場合に効
率よく光出力信号を多重化し信号処理装置に接続するこ
とができる。
【0069】請求項7記載のプロセス計測装置では、請
求項4記載のプロセス計測装置において、各センサ部を
光ファイバにより送光あるいは送受光を行うセンサ部と
し、光方向性結合器により光ファイバを分岐されてセン
サ部に接続したことにより、少ない光ファイバと光方向
性結合器で複数のセンサ部の光出力信号を多重化し信号
処理装置に接続することができる。
【0070】請求項8記載のプロセス計測装置によれ
ば、請求項4記載のプロセス計測装置において、各セン
サ部を光ファイバにより送光あるいは送受光を行うセン
サ部とし、光分岐挿入回路により光ファイバから分岐さ
れた光ファイバで接続したことにより、少ない光ファイ
バと光分岐挿入回路で、特に複数のセンサ部が集中して
配置された場合に効率よく光出力信号を多重化し、信号
処理装置に接続することができる。
【0071】請求項9記載のプロセス計測装置によれ
ば、請求項1乃至8記載のプロセス計測装置において、
信号処理装置を計算機ネットワークにより上位プロセス
計算機やデータ表示装置に接続し、この計算機ネットワ
ークを介してプロセス量を出力したことにより、複数の
信号処理装置を一本のケーブルにより上位プロセス計算
機やデータ表示装置に接続ずることができ、ケーブルの
削減や情報の共有化を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係るプロセス計測装置の第1の実施の
形態を示す構成図。
【図2】第1の実施の形態に係るプロセス計測装置の信
号処理装置の内部構成を示す構成図。
【図3】本発明に係るプロセス計測装置の第2の実施の
形態を示す構成図。
【図4】本発明に係るプロセス計測装置の第3の実施の
形態を示す構成図。
【図5】本発明に係るプロセス計測装置の第4の実施の
形態を示す構成図。
【図6】本発明に係るプロセス計測装置の第5の実施の
形態を示す構成図。
【図7】本発明に係るプロセス計測装置の第6の実施の
形態を示す構成図。
【図8】本発明に係るプロセス計測装置の第7の実施の
形態を示す構成図。
【符号の説明】
1…センサ部 2…信号処理装置 3…光ファイバ 3a…送光用光ファイ
バ 3b…受光用光ファイバ 4…光方向性結合器 5…計算機ネットワーク 6…プロセス計算機 7…データ表示装置 8…光スター・カプラ 9…光源 10…光源 11…光電変換回路 12…周波数分離回路 13…変換補正係数テーブル 14…データ変換回路 15…出力インターフェイス回路16…光分岐回路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鈴木 茂 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 大野 信明 神奈川県川崎市幸区堀川町66番2 東芝エ ンジニアリング株式会社内

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 温度あるいは圧力などのプロセス量を感
    知して固有の範囲の周波数信号に変換しこれを光信号と
    して出力するセンサ部と、このセンサ部の光出力信号を
    伝送する光ファイバと、この光ファイバにより伝送され
    たセンサ部からの光出力信号を電気信号に変換する光電
    変換回路と、この電気信号の周波数からプロセス量を換
    算するための換算補正データと、この換算補正データを
    用いて前記光電変換回路から出力される電気信号をプロ
    セス量に換算するデータ変換回路とを有することを特徴
    とするプロセス計測装置。
  2. 【請求項2】 温度あるいは圧力などのプロセス量を感
    知して各々固有の範囲の周波数信号に変換しこれを光信
    号として出力する複数のセンサ部と、各センサ部の光出
    力信号を多重化して伝送する光ファイバと、この光ファ
    イバにより伝送されたセンサ部からの光出力信号を電気
    信号に変換する光電変換回路と、この電気信号を周波数
    の違いによって分離する周波数分離回路と、この電気信
    号の周波数からプロセス量を換算するための換算補正デ
    ータと、この換算補正データを用いて前記光電変換回路
    から出力される電気信号をプロセス量に換算するデータ
    変換回路とを有することを特徴とするプロセス計測装
    置。
  3. 【請求項3】 外部光源からの光を送光用光ファイバを
    介して入力し温度あるいは圧力などのプロセス量に応じ
    て固有の範囲に強度変調して出力する光変調型センサ部
    と、このセンサ部の光出力信号を伝送する受光用光ファ
    イバと、この受光用光ファイバにより伝送された光変調
    型センサ部からの光出力信号を電気信号に変換する光電
    変換回路と、この電気信号の周波数からプロセス量を換
    算するための換算補正データと、この換算補正データを
    用いて前記光電変換回路から出力される電気信号をプロ
    セス量に換算するデータ変換回路とを有することを特徴
    とするプロセス計測装置。
  4. 【請求項4】 外部光源からの光を送光用光ファイバを
    介して入力し温度あるいは圧力などのプロセス量に応じ
    て各々固有の範囲に強度変調して出力する複数の光変調
    型センサ部と、各センサ部の光出力信号を多重化して伝
    送する受光用光ファイバと、この受光用光ファイバによ
    り伝送された光変調型センサ部からの光出力信号を電気
    信号に変換する光電変換回路と、この電気信号を周波数
    の違いによって分離する周波数分離回路と、この電気信
    号の周波数からプロセス量を換算するための換算補正デ
    ータと、この換算補正データを用いて前記光電変換回路
    から出力される電気信号をプロセス量に換算するデータ
    変換回路とを有することを特徴とするプロセス計測装
    置。
  5. 【請求項5】 前記各光変調型センサ部は前記送光用光
    ファイバおよび受光用光ファイバを介して並列に設置さ
    れていることを特徴とする請求項4記載のプロセス計測
    装置。
  6. 【請求項6】 前記各光変調型センサ部は両端部を前記
    送光用光ファイバに設けられた光分岐挿入回路を介して
    並列に接続されていることを特徴とする請求項4記載の
    プロセス計測装置。
  7. 【請求項7】 請求項4記載の光変調型センサ部と送光
    用光ファイバおよび受光用光ファイバに替え、外部光源
    からの光を伝送する光ファイバと、この光ファイバを介
    して光を入力し温度あるいは圧力などのプロセス量に応
    じて各々固有の範囲に強度変調して光信号を反射させて
    出力する複数の反射光変調型センサ部と、前記光ファイ
    バに設けられ前記反射光変調型センサ部から伝送される
    光出力信号を分岐させて前記光電変換回路に導く光分岐
    回路とを有することを特徴とするプロセス計測装置。
  8. 【請求項8】 前記各反射光変調型センサ部は端部を前
    記光ファイバに設けられた光分岐挿入回路を介して並列
    に接続されていることを特徴とする請求項7記載のプロ
    セス計測装置。
  9. 【請求項9】 前記データ変換回路に接続される出力回
    路を介して前記プロセス量を出力することを特徴とする
    請求項1乃至8記載のプロセス計測装置。
JP7307096A 1994-12-27 1995-11-27 プロセス計測装置 Pending JPH09147282A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7307096A JPH09147282A (ja) 1995-11-27 1995-11-27 プロセス計測装置
DE19548920A DE19548920C2 (de) 1994-12-27 1995-12-27 Optischer Sensor und Verwendung eines solchen Sensors in einer Prozeß-Meßgeräteeinrichtung

Applications Claiming Priority (1)

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JP7307096A JPH09147282A (ja) 1995-11-27 1995-11-27 プロセス計測装置

Publications (1)

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JPH09147282A true JPH09147282A (ja) 1997-06-06

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ID=17964984

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JP7307096A Pending JPH09147282A (ja) 1994-12-27 1995-11-27 プロセス計測装置

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JP (1) JPH09147282A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003015022A (ja) * 2001-06-29 2003-01-15 Canon Inc 測距装置、測距方法、及び制御プログラム

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2003015022A (ja) * 2001-06-29 2003-01-15 Canon Inc 測距装置、測距方法、及び制御プログラム

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