JPH09142869A - マグネシア・ファイバ引張り炉 - Google Patents
マグネシア・ファイバ引張り炉Info
- Publication number
- JPH09142869A JPH09142869A JP8289683A JP28968396A JPH09142869A JP H09142869 A JPH09142869 A JP H09142869A JP 8289683 A JP8289683 A JP 8289683A JP 28968396 A JP28968396 A JP 28968396A JP H09142869 A JPH09142869 A JP H09142869A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- susceptor
- furnace
- magnesia
- zirconia
- beaker
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05B—ELECTRIC HEATING; ELECTRIC LIGHT SOURCES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; CIRCUIT ARRANGEMENTS FOR ELECTRIC LIGHT SOURCES, IN GENERAL
- H05B6/00—Heating by electric, magnetic or electromagnetic fields
- H05B6/02—Induction heating
- H05B6/22—Furnaces without an endless core
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B37/00—Manufacture or treatment of flakes, fibres, or filaments from softened glass, minerals, or slags
- C03B37/01—Manufacture of glass fibres or filaments
- C03B37/02—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor
- C03B37/025—Manufacture of glass fibres or filaments by drawing or extruding, e.g. direct drawing of molten glass from nozzles; Cooling fins therefor from reheated softened tubes, rods, fibres or filaments, e.g. drawing fibres from preforms
- C03B37/029—Furnaces therefor
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/62—Heating means for drawing
- C03B2205/64—Induction furnaces, i.e. HF/RF coil, e.g. of the graphite or zirconia susceptor type
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B2205/00—Fibre drawing or extruding details
- C03B2205/60—Optical fibre draw furnaces
- C03B2205/70—Draw furnace insulation
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- General Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Geochemistry & Mineralogy (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Manufacture, Treatment Of Glass Fibers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明は、マグネシア・ファイバ引張り炉を
提供する。 【解決手段】 改善されたファイバ引張り炉を有するフ
ァイバ引張り装置が実現される。その場合、内部ジルコ
ニア管はシリカビーカ内の半径方向に分離されたマグネ
シアの環状絶縁領域により、囲まれている。マグネシア
はジルコニアとほぼ同じ融点をもつが、マグネシアの導
電率は本質的に低く、より高いＲＦパワーに耐えられ
る。更に、マグネシアはジルコニアより、シリカ中に溶
解し、粒がファイバを汚染する可能性が減少する。
提供する。 【解決手段】 改善されたファイバ引張り炉を有するフ
ァイバ引張り装置が実現される。その場合、内部ジルコ
ニア管はシリカビーカ内の半径方向に分離されたマグネ
シアの環状絶縁領域により、囲まれている。マグネシア
はジルコニアとほぼ同じ融点をもつが、マグネシアの導
電率は本質的に低く、より高いＲＦパワーに耐えられ
る。更に、マグネシアはジルコニアより、シリカ中に溶
解し、粒がファイバを汚染する可能性が減少する。
Description
【０００１】
【本発明の分野】本発明はガラスプリフォームから、光
ファイバを引く装置、具体的には改善された誘導加熱炉
を用いたファイバ引張り装置に係る。
ファイバを引く装置、具体的には改善された誘導加熱炉
を用いたファイバ引張り装置に係る。
【０００２】
【本発明の背景】低損失の溶融シリカ光ファイバの開発
により、ガラスプリフォームから高強度ファイバを引張
るための高温（たとえば約２０００℃）加熱源の研究が
始まった。可能な加熱源の中で、酸−水素トーチ、ＣＯ
2 レーザ、誘導炉及び抵抗炉が、高シリカファイバを引
張るために、一般に用いられてきた。トーチ法は高価で
はないが、ファイバの長距離に渡って、均一な直径を保
つことができない。ＣＯ2レーザは最も清浄な引張り雰
囲気を作るが、レーザは引張りのためエネルギーを半径
方向に分布させるのに、特別な光学設計を必要とし、パ
ワーが限られる。誘導炉は最も有用な高温源の１つであ
る。
により、ガラスプリフォームから高強度ファイバを引張
るための高温（たとえば約２０００℃）加熱源の研究が
始まった。可能な加熱源の中で、酸−水素トーチ、ＣＯ
2 レーザ、誘導炉及び抵抗炉が、高シリカファイバを引
張るために、一般に用いられてきた。トーチ法は高価で
はないが、ファイバの長距離に渡って、均一な直径を保
つことができない。ＣＯ2レーザは最も清浄な引張り雰
囲気を作るが、レーザは引張りのためエネルギーを半径
方向に分布させるのに、特別な光学設計を必要とし、パ
ワーが限られる。誘導炉は最も有用な高温源の１つであ
る。
【０００３】シリカファイバを引張るための誘導炉につ
いては、アール・ビー・ランク（Ｒ．Ｂ．Ｒｕｎｋ）
“精密シリカ導波路を引張るためのジルコニア誘導
炉”、オプティカル・ファイバ・トランスミッションＩ
Ｉテクニカル・ダイジェスト（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂ
ｅｒ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ ＩＩ Ｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｄｉｇｅｓｔ）（ＴｕＢ５−１）（１９７７、
２月２２−２４日）に述べられている。典型的な場合、
ファイバ誘導炉はラジオ周波コイル（“ＲＦコイル”）
内に配置された管状のジルコニアサセプタを用いる。ジ
ルコニアサセプタを約２１００℃の所望の温度に加熱し
た後、ガラスプリフォームロッドを高温領域として知ら
れるサセプタの中央に導入する。プリフォームの一部は
再流動化し、光ファイバは再流動化した部分から引張ら
れる。
いては、アール・ビー・ランク（Ｒ．Ｂ．Ｒｕｎｋ）
“精密シリカ導波路を引張るためのジルコニア誘導
炉”、オプティカル・ファイバ・トランスミッションＩ
Ｉテクニカル・ダイジェスト（Ｏｐｔｉｃａｌ Ｆｉｂ
ｅｒ Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏｎ ＩＩ Ｔｅｃｈｎｉ
ｃａｌ Ｄｉｇｅｓｔ）（ＴｕＢ５−１）（１９７７、
２月２２−２４日）に述べられている。典型的な場合、
ファイバ誘導炉はラジオ周波コイル（“ＲＦコイル”）
内に配置された管状のジルコニアサセプタを用いる。ジ
ルコニアサセプタを約２１００℃の所望の温度に加熱し
た後、ガラスプリフォームロッドを高温領域として知ら
れるサセプタの中央に導入する。プリフォームの一部は
再流動化し、光ファイバは再流動化した部分から引張ら
れる。
【０００４】従来のジルコニアファイバ引張り炉は、溶
融石英の外部円筒ビーカ、ジルコニアの内部管及びジル
コニア細粒で満たしたその間の絶縁領域を含む。サセプ
タの軸領域を調べられるよう、炉を貫いて半径方向の測
温管が入れられている。
融石英の外部円筒ビーカ、ジルコニアの内部管及びジル
コニア細粒で満たしたその間の絶縁領域を含む。サセプ
タの軸領域を調べられるよう、炉を貫いて半径方向の測
温管が入れられている。
【０００５】これらの従来の炉は長年ファイバを生成し
てきたが、多くの問題がある。絶縁領域から、時ととも
にジルコニア粒子がファイバを汚染し、損傷させる。ま
た、ジルコニア細粒を貫く測温管は、時間とともに、た
るむ傾向にあり、温度の読みを誤り、炉の損傷を早め
る。
てきたが、多くの問題がある。絶縁領域から、時ととも
にジルコニア粒子がファイバを汚染し、損傷させる。ま
た、ジルコニア細粒を貫く測温管は、時間とともに、た
るむ傾向にあり、温度の読みを誤り、炉の損傷を早め
る。
【０００６】より大きなプリフォームを用い、引張り速
度を増し、より高い炉温度を用いるという最近の傾向に
より、従来の炉設計の弱点が明らかになった。ジルコニ
ア絶縁細粒が互いにシンタし、溶融して、ジルコニア管
の最高温部を完全に囲むドーナツ状の塊を形成する多く
の事件があった。ジルコニア細粒が溶融を始めると、Ｒ
Ｆ電界が溶融した塊中に結合し、更にシンタ及び溶融を
起こす。この現象により、システムにかかるパワーを増
加させ、最後に炉を破損させる。従って、高温動作にお
いて、安定性の増した新しい炉を設計する必要がある。
度を増し、より高い炉温度を用いるという最近の傾向に
より、従来の炉設計の弱点が明らかになった。ジルコニ
ア絶縁細粒が互いにシンタし、溶融して、ジルコニア管
の最高温部を完全に囲むドーナツ状の塊を形成する多く
の事件があった。ジルコニア細粒が溶融を始めると、Ｒ
Ｆ電界が溶融した塊中に結合し、更にシンタ及び溶融を
起こす。この現象により、システムにかかるパワーを増
加させ、最後に炉を破損させる。従って、高温動作にお
いて、安定性の増した新しい炉を設計する必要がある。
【０００７】
【本発明の要約】改善されたファイバ引張り炉を有する
ファイバ引張り炉が、実現される。その場合、内部ジル
コニア管はシリカビーカ内のマグネシアの半径方向に分
離された環状絶縁領域により、囲まれている。マグネシ
アはジルコニアとほぼ同じ融点をもつが、マグネシアの
導電率は本質的に低いため、より高いＲＦパワーに耐え
ることができる。更に、マグネシアはジルコニアよりシ
リカ中により溶融し、ファイバを特に汚染する可能性は
下がる。
ファイバ引張り炉が、実現される。その場合、内部ジル
コニア管はシリカビーカ内のマグネシアの半径方向に分
離された環状絶縁領域により、囲まれている。マグネシ
アはジルコニアとほぼ同じ融点をもつが、マグネシアの
導電率は本質的に低いため、より高いＲＦパワーに耐え
ることができる。更に、マグネシアはジルコニアよりシ
リカ中により溶融し、ファイバを特に汚染する可能性は
下がる。
【０００８】
【詳細な記述】図面を参照すると、図１は外部シリカビ
ーカ１１、内部ジルコニアサセプタ管１２及びビーカと
管の間に配置されたマグネシア（ＭｇＯ）耐熱剤
（“粒”）の絶縁層１３を含む炉のコア１０の断面図で
ある。マグネシア粒は粒をその位置に保つため、高密度
マグネシア管１４により囲むと、有利である。コアの中
心に、光学的に接近するため、配置管９を設けると、有
利である。
ーカ１１、内部ジルコニアサセプタ管１２及びビーカと
管の間に配置されたマグネシア（ＭｇＯ）耐熱剤
（“粒”）の絶縁層１３を含む炉のコア１０の断面図で
ある。マグネシア粒は粒をその位置に保つため、高密度
マグネシア管１４により囲むと、有利である。コアの中
心に、光学的に接近するため、配置管９を設けると、有
利である。
【０００９】ビーカ１１は側壁及び中心開孔１６を有す
る底面１５を有する最上部開孔シリカ容器が好ましい。
底面にフレームで封じるのが好ましい側壁は、アルミノ
ケイ酸塩絶縁層１７で絶縁すると、有利である。
る底面１５を有する最上部開孔シリカ容器が好ましい。
底面にフレームで封じるのが好ましい側壁は、アルミノ
ケイ酸塩絶縁層１７で絶縁すると、有利である。
【００１０】ジルコニアサセプタ管１２は絶縁層１３内
に、半径方向に配置され、ビーカ１１内で中心に置くこ
とが好ましい。高温での好ましくない化学反応を避ける
ため、サセプタはマグネシア絶縁体（たとえば管１４）
から離すのが好ましい。サセプタの内部表面１８は、炉
開口を作る。
に、半径方向に配置され、ビーカ１１内で中心に置くこ
とが好ましい。高温での好ましくない化学反応を避ける
ため、サセプタはマグネシア絶縁体（たとえば管１４）
から離すのが好ましい。サセプタの内部表面１８は、炉
開口を作る。
【００１１】耐熱性粒子のサセプタ１２内部への移動を
防止するため、シリカビーカの最上部及び底面に、環状
耐熱性フェルト円盤１９を設けると、有利である。粒子
はサセプタ内でプリフォーム又はファイバを汚染する可
能性がある。耐熱性フェルト円盤については、ここに参
照文献として含まれている１９８５年１０月１５日に、
ベア（Ｂａｉｒ）らに承認された米国特許第４，５４
７，６４４号に述べられている。
防止するため、シリカビーカの最上部及び底面に、環状
耐熱性フェルト円盤１９を設けると、有利である。粒子
はサセプタ内でプリフォーム又はファイバを汚染する可
能性がある。耐熱性フェルト円盤については、ここに参
照文献として含まれている１９８５年１０月１５日に、
ベア（Ｂａｉｒ）らに承認された米国特許第４，５４
７，６４４号に述べられている。
【００１２】典型的な実施例において、シリカビーカは
直径６インチ、長さ１２インチの円筒状ビーカである。
ジルコニアサセプタ管１２はスタネルコ・プロダクツ
（Ｓｔａｎｅｌｃｏ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）社により製造
されたイフトリア安定化ジルコニアである。サセプタは
直径約３インチで、ビーカよりやや長いことが望ましい
円筒管でよい。絶縁粒子１３はマーチン−マリエッタ・
マグネシア・スペシアルティーズ（Ｍａｒｔｉｎ−Ｍａ
ｒｉｅｔｔａ Ｍａｇｎｅｓｉａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉ
ｅｓ）社製のＭａｇ Ｃｈｅｍ Ｐ−９８マグネシア
で、高密度マグネシア管１４はオザーク・テクニカル・
セラミックス（Ｏｚａｒｋ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｅ
ｒａｍｉｃｓ）社製の、高密度マグネシアの３ｍｍ厚の
管である。
直径６インチ、長さ１２インチの円筒状ビーカである。
ジルコニアサセプタ管１２はスタネルコ・プロダクツ
（Ｓｔａｎｅｌｃｏ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ）社により製造
されたイフトリア安定化ジルコニアである。サセプタは
直径約３インチで、ビーカよりやや長いことが望ましい
円筒管でよい。絶縁粒子１３はマーチン−マリエッタ・
マグネシア・スペシアルティーズ（Ｍａｒｔｉｎ−Ｍａ
ｒｉｅｔｔａ Ｍａｇｎｅｓｉａ Ｓｐｅｃｉａｌｔｉ
ｅｓ）社製のＭａｇ Ｃｈｅｍ Ｐ−９８マグネシア
で、高密度マグネシア管１４はオザーク・テクニカル・
セラミックス（Ｏｚａｒｋ Ｔｅｃｈｎｉｃａｌ Ｃｅ
ｒａｍｉｃｓ）社製の、高密度マグネシアの３ｍｍ厚の
管である。
【００１３】図２は図１のコアを用いた誘導炉２０を示
す。炉２０はＲＦ誘導コイル２１内に配置されたシリカ
ビーカ１１（及びその内容物）を含む。ビーカ及びコイ
ルは、円筒状銅シェルのような金属ケース２２により、
囲まれている。ケースはコイル２１からのラジオ周波浮
遊放射を減らすための遮蔽として働き、水のような冷却
剤の循環のため、冷却コイル２３を含むのが望ましい。
典型的な実施においては、４〜８巻数の誘導コイル及び
３〜５ＭＨｚラジオ周波電力源が、サセプタとの結合に
効果的である。
す。炉２０はＲＦ誘導コイル２１内に配置されたシリカ
ビーカ１１（及びその内容物）を含む。ビーカ及びコイ
ルは、円筒状銅シェルのような金属ケース２２により、
囲まれている。ケースはコイル２１からのラジオ周波浮
遊放射を減らすための遮蔽として働き、水のような冷却
剤の循環のため、冷却コイル２３を含むのが望ましい。
典型的な実施においては、４〜８巻数の誘導コイル及び
３〜５ＭＨｚラジオ周波電力源が、サセプタとの結合に
効果的である。
【００１４】このファイバ引張り炉の利点は、多種多様
である。マグネシアはジルコニアより本質的に低い導電
性を有し、より高いＲＦパワーの使用に耐える。更に、
マグネシアはジルコニアよりシリカ中に溶融し、ファイ
バの粒子による汚染の可能性を下げる。加えて、マグネ
シア絶縁粒を、ジルコニアサセプタから絶縁するために
用いられるマグネシア管は、測温配置管に対する適当な
内部支持となる。更に、従来の設計に対するこの設計の
低重量及び価格により、現在の技術のプリフォームに適
合するよう、炉が大きくなるにつれ、明らかに利点とな
る。マグネシウム酸化物はジルコニウム酸化物のバルク
密度の約２分の１であるから、炉はかなり軽く、製作雰
囲気中で扱いやすくなる。また、マグネシウム酸化物粒
は化学プロセス及び耐熱剤に用いるため、大量に作製さ
れるから、現在用いられている特別に作られるジルコニ
アより、低価格である。加えて、この炉の設計により、
引張り塔からシリカビーカを移動することなく、ジルコ
ニアサセプタのとりはずしと交換が可能になる。
である。マグネシアはジルコニアより本質的に低い導電
性を有し、より高いＲＦパワーの使用に耐える。更に、
マグネシアはジルコニアよりシリカ中に溶融し、ファイ
バの粒子による汚染の可能性を下げる。加えて、マグネ
シア絶縁粒を、ジルコニアサセプタから絶縁するために
用いられるマグネシア管は、測温配置管に対する適当な
内部支持となる。更に、従来の設計に対するこの設計の
低重量及び価格により、現在の技術のプリフォームに適
合するよう、炉が大きくなるにつれ、明らかに利点とな
る。マグネシウム酸化物はジルコニウム酸化物のバルク
密度の約２分の１であるから、炉はかなり軽く、製作雰
囲気中で扱いやすくなる。また、マグネシウム酸化物粒
は化学プロセス及び耐熱剤に用いるため、大量に作製さ
れるから、現在用いられている特別に作られるジルコニ
アより、低価格である。加えて、この炉の設計により、
引張り塔からシリカビーカを移動することなく、ジルコ
ニアサセプタのとりはずしと交換が可能になる。
【００１５】図３は図１及び図２の改善されたファイバ
引張り装置を、模式的に示す。要するに、炉２０は従来
のプリフォーム供給機構３１から、ガラスプリフォーム
３０を受けるようマウントされる。プリフォームは炉コ
アに供給され、光ファイバ３２はプリフォームの加熱端
から引張られる。引かれたファイバは次に、直径モニタ
ー３３及び冷却領域３４を通して移動させる。部分的に
冷却されたファイバは、被覆形成機３５を通り、そこで
保護用ポリマ被覆が形成される。被覆はモニター３６に
より、中心があっていることをモニターし、被覆された
ファイバは焼きなまし位置３７で焼きなまし、モニター
３８で焼きなまされた直径を検査し、リール（図示され
ていない）に巻きとるため、巻き上げ機３９を通過させ
る。
引張り装置を、模式的に示す。要するに、炉２０は従来
のプリフォーム供給機構３１から、ガラスプリフォーム
３０を受けるようマウントされる。プリフォームは炉コ
アに供給され、光ファイバ３２はプリフォームの加熱端
から引張られる。引かれたファイバは次に、直径モニタ
ー３３及び冷却領域３４を通して移動させる。部分的に
冷却されたファイバは、被覆形成機３５を通り、そこで
保護用ポリマ被覆が形成される。被覆はモニター３６に
より、中心があっていることをモニターし、被覆された
ファイバは焼きなまし位置３７で焼きなまし、モニター
３８で焼きなまされた直径を検査し、リール（図示され
ていない）に巻きとるため、巻き上げ機３９を通過させ
る。
【図１】誘導炉のコアの断面図である。
【図２】図１のコアを用いた誘導炉の垂直断面図であ
る。
る。
【図３】図２の誘導炉を用いたファイバ引張り装置の概
略図である。
略図である。
９ 配置管 １０ コア １１ 外部シリカビーカ、ビーカ １２ サセプタ管、サセプタ １３ 絶縁層、絶縁粒子、 １４ 管 １５ 底面 １６ 中心開孔 １７ 絶縁層 １８ 内部表面 １９ フェルト円盤 ２０ 誘導炉、炉 ２１ ＲＦ誘導コイル、コイル ２２ 金属ケース ２３ 冷却コイル ３０ プリフォーム ３１ プリフォーム供給機構 ３２ 光ファイバ ３３ 直径モニター ３４ 冷却領域 ３５ 被覆形成機 ３６ モニター ３７ 焼きなまし位置 ３８ モニター ３９ 巻き上げ機
フロントページの続き (72)発明者 ジェームス ウィリアム フレミング ジ ュニヤ アメリカ合衆国 07090 ニュージャーシ ィ，ウエストフィールド，タットル パー クウェイ 245 (72)発明者 アーサー クリフォード ハート ジュニ ヤ アメリカ合衆国 07930 ニュージャーシ ィ，チェスター，ノース ロード 396 (72)発明者 リチャード ガーナー ハフ アメリカ合衆国 07920 ニュージャーシ ィ，バスキング リッジ，ハイランド ア ヴェニュー 83 (72)発明者 カレン エス．クランツ アメリカ合衆国 08846 ニュージャーシ ィ，ミドルセックス，パーク プレイス ７
Claims (7)
- 【請求項１】 ガラスロッドを受けるための内部領域を
有するジルコニアサセプタ；前記ジルコニアサセプタを
囲む円筒状シリカビーカ；前記サセプタ及び前記ビーカ
間の、マグネシア粒を含む絶縁領域を含むガラスロッド
加熱用の炉。 - 【請求項２】 前記マグネシア粒と前記サセプタ間に配
置された前記粒をその位置に保つためのマグネシア管を
更に含む請求項１記載の炉。 - 【請求項３】 前記マグネシア管は前記サセプタから分
離されている請求項２記載の炉。 - 【請求項４】 前記ビーカ及び前記マグネシア粒間に配
置されたアルミノケイ酸塩絶縁体の層を更に含む請求項
１記載の炉。 - 【請求項５】 前記炉を加熱するためのＲＦ誘導コイル
を更に含む請求項１記載の炉。 - 【請求項６】 前記コイルからの放射が、前記炉から逃
げないように、前記ＲＦ誘導コイルを本質的に囲む金属
シェルを更に含む請求項５記載の炉。 - 【請求項７】 ガラスプリフォームを炉中に供給するた
めのプリフォーム供給機構；前記プリフォームから光フ
ァイバを引くための装置；及び前記プリフォームを受
け、プリフォームの少なくとも一部を、再流動化温度ま
で加熱するための開孔を有し、ジルコニアサセプタ管を
含み、前記サセプタを囲む円筒状シリカビーカ及び前記
サセプタ及び前記ビーカ間のマグネシアを含む絶縁領域
を含むガラスファイバを引張るための装置。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US08/551240 | 1995-10-31 | ||
| US08/551,240 US5698124A (en) | 1995-05-18 | 1995-10-31 | Magnesia fiber draw furnace |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09142869A true JPH09142869A (ja) | 1997-06-03 |
Family
ID=24200435
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8289683A Pending JPH09142869A (ja) | 1995-10-31 | 1996-10-31 | マグネシア・ファイバ引張り炉 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5698124A (ja) |
| EP (1) | EP0771764A1 (ja) |
| JP (1) | JPH09142869A (ja) |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0899243A1 (en) * | 1997-08-28 | 1999-03-03 | Lucent Technologies Inc. | Process for drawing an optical fiber from a large diameter preform |
| CA2402638A1 (en) * | 2000-03-10 | 2001-09-20 | Flow Focusing, Inc. | Methods for producing optical fiber by focusing high viscosity liquid |
| US6304590B1 (en) * | 2000-07-11 | 2001-10-16 | Consarc Corporation | Formation of metal wire |
| US7148456B2 (en) * | 2004-09-15 | 2006-12-12 | The Penn State Research Foundation | Method and apparatus for microwave phosphor synthesis |
| NZ561375A (en) | 2005-06-27 | 2011-06-30 | Biovail Lab Int Srl | Bupropion hydrobromide, and crystalline forms, compositions, and uses of this compound |
| US8330081B2 (en) * | 2009-08-21 | 2012-12-11 | Harris Corporation | Filament heating device for an optical fiber and related methods |
| AT519235B1 (de) * | 2017-03-21 | 2018-05-15 | Destra Gmbh | Schmelzofen |
| EP3804461B1 (en) * | 2018-05-25 | 2022-07-06 | Philip Morris Products S.A. | Susceptor assembly for aerosol generation comprising a susceptor tube |
| DE102018219213A1 (de) * | 2018-11-12 | 2020-05-14 | Robert Bosch Gmbh | Induktor und Vorrichtung zum induktiven Erwärmen von Bauteilen und Verfahren dafür |
Family Cites Families (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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1995
- 1995-10-31 US US08/551,240 patent/US5698124A/en not_active Expired - Fee Related
-
1996
- 1996-10-22 EP EP96307636A patent/EP0771764A1/en not_active Withdrawn
- 1996-10-31 JP JP8289683A patent/JPH09142869A/ja active Pending
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP0771764A1 (en) | 1997-05-07 |
| US5698124A (en) | 1997-12-16 |
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