JPH09134650A - Vacuum valve - Google Patents

Vacuum valve

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JPH09134650A
JPH09134650A JP23285796A JP23285796A JPH09134650A JP H09134650 A JPH09134650 A JP H09134650A JP 23285796 A JP23285796 A JP 23285796A JP 23285796 A JP23285796 A JP 23285796A JP H09134650 A JPH09134650 A JP H09134650A
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vacuum valve
coil
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Kenji Watanabe
憲治 渡辺
Yoshimasa Kagenaga
宜賢 影長
Yoshimi Uchiyama
工美 内山
Junichi Sato
純一 佐藤
Eiji Kaneko
英治 金子
Mitsutaka Honma
三孝 本間
Hiromichi Somei
宏通 染井
Keisei Seki
経世 関
Takashi Kusano
貴史 草野
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  • High-Tension Arc-Extinguishing Switches Without Spraying Means (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance breaking performance by preventing the concentration of an arc on an electrode central part by a longitudinal magnetic field. SOLUTION: An annular coil support ring 5 is brazed to the tips of a movable side current carrying shaft 6 and a fixed side current-carrying shaft through a coil electrode 14 and a reinforcing member 18. In a central part of this coil support ring 5, a central coil 7 is housed in the axial direction inside the support ring 5. Outer peripheral part coils 3 manufactured by a copper material are arranged at intervals of 60 deg. around this central coil 7. An electrode plate 2 is superposed on the further tips of these outer peripheral part coils 3. A contact 1 is superposed on the outside surface side of this electrode plate 2, and these contact 1 and electrode plate 2 and outer peripheral part coils 3 and coil support ring 5 are brazed to each other. A carried current of the central coil 7 is restrained to about 1/4 of an electric current flowing to the outer peripheral part coils 3, and a synthetic magnetic filed by the coil electrode 14 is gradually increased to an outer peripheral part from the axis, and is almost doubled in the outer peripheral part.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、真空バルブに関す
る。
[0001] The present invention relates to a vacuum valve.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から真空バルブの遮断性能を向上さ
せるために、電極間に発生した真空アークと平行に磁界
を印加してアークを消弧する方法が採用されている。こ
のような真空バルブとしては、縦磁界形真空バルブがあ
り、その電極構造には、いくつかの種類のものが実施さ
れ提案されているが、ここでは、図7に示した縦磁界電
極の構造のものを基に説明する。なお、図7は、一例と
して可動側の電極の場合を示すが、固定側の電極も同一
構造である。
2. Description of the Related Art Conventionally, in order to improve the breaking performance of a vacuum valve, a method of applying a magnetic field in parallel with a vacuum arc generated between electrodes to extinguish the arc has been adopted. As such a vacuum valve, there is a vertical magnetic field type vacuum valve, and several types of electrode structures have been implemented and proposed, but here, the structure of the vertical magnetic field electrode shown in FIG. 7 is used. The explanation will be based on Although FIG. 7 shows the case of the movable side electrode as an example, the fixed side electrode has the same structure.

【0003】図7において、銅棒で製作された可動側通
電軸6Bの先端には、円形の座ぐり部6aが形成され、
この座ぐり部6aには、縦断面が略T字状で図示しない
平面図では環状のステンレス鋼製の補強部材18の下部に
突設された軸部18aが嵌合し、ろう付けされている。
In FIG. 7, a circular counterbore 6a is formed at the tip of a movable side current-carrying shaft 6B made of a copper rod.
A shaft portion 18a protruding from the lower portion of a reinforcing member 18 made of stainless steel in a plan view (not shown) having a substantially T-shaped vertical section is fitted and brazed to the spot facing portion 6a. .

【0004】この軸部18aの外周には、銅材で製作され
以下説明するコイル電極14の中心部に突設された環状の
軸部14aが挿入され、軸部18aと可動側通電軸6Bにろ
う付されている。
On the outer periphery of the shaft portion 18a, an annular shaft portion 14a which is made of a copper material and which projects from the center of the coil electrode 14 described below is inserted, and the shaft portion 18a and the movable side energizing shaft 6B are connected to each other. It is brazed.

【0005】このコイル電極14は、軸部14aの外周から
図示しない4本の腕部が図示しない平面図において放射
状に90゜間隔に、且つ、軸方向と直交方向に突設され、
これらの腕部の先端には、図示しない平面図では弧状の
コイル部14cの基端がろう付されている。これらのコイ
ル部14cの先端には、貫通穴14dが図7に示すように軸
方向に形成されている。
The coil electrode 14 has four arm portions (not shown) radially projecting from the outer periphery of the shaft portion 14a at 90 ° intervals in a plan view, and in a direction orthogonal to the axial direction.
The base ends of the arc-shaped coil portions 14c in the plan view (not shown) are brazed to the tips of these arms. Through holes 14d are axially formed at the tips of these coil portions 14c as shown in FIG.

【0006】これらの貫通穴14dには、図7においては
略T字状で、図示しない平面図では円形の銅材製の接続
子13の軸部が挿入され、コイル部14cの先端にろう付さ
れている。
In these through holes 14d, a shaft portion of a connector 13 made of a copper material, which is substantially T-shaped in FIG. 7 and which is circular in a plan view (not shown), is inserted and brazed to the tip of the coil portion 14c. Has been done.

【0007】補強部材18の上端面には、銅板から円板状
に形成され中心部から外周方向に放射状に溝が形成され
た電極板2Bが載置されている。この電極板2Bは、補
強部材18と接続子13の表面にろう付されている。
On the upper end surface of the reinforcing member 18, there is placed an electrode plate 2B which is formed of a copper plate in a disk shape and has grooves radially formed from the central portion toward the outer circumference. The electrode plate 2B is brazed to the surfaces of the reinforcing member 18 and the connector 13.

【0008】電極板2Bの上面には、銅・クロム合金か
ら円板状に形成され電極板2Bと同様に中心部から外周
方向に放射状に溝が形成され外周が弧状に面取りされた
接点1Aがろう付で接合されている。
On the upper surface of the electrode plate 2B, there is provided a contact 1A which is formed in a disk shape from a copper / chromium alloy, and like the electrode plate 2B, has grooves radially formed from the central portion toward the outer circumference and the outer circumference is chamfered in an arc shape. It is joined by brazing.

【0009】このように構成された真空バルブの電極に
おいて、例えば、可動側通電軸6Bから接点1Aに流れ
る電流の大部分は、コイル電極14の軸部14aから複数本
の腕部14bを経て、この腕部14bの先端のコイル部14c
に流れる。なお、一部の電流は、補強部材18を経て、電
極板2Bに流入する。
In the electrode of the vacuum valve thus constructed, for example, most of the current flowing from the movable side current-carrying shaft 6B to the contact 1A passes from the shaft portion 14a of the coil electrode 14 to the plural arm portions 14b, Coil portion 14c at the tip of this arm portion 14b
Flows to Note that a part of the current flows into the electrode plate 2B via the reinforcing member 18.

【0010】このうち、コイル部14cに流入した電流
は、各コイル部14cの先端の接続子13から電極板2Bの
外周の裏面を経て電極板2Bに流入し、この電極板2B
の表面から接点1Aに流出する。
Of these, the current flowing into the coil portion 14c flows into the electrode plate 2B from the connector 13 at the tip of each coil portion 14c through the back surface of the outer periphery of the electrode plate 2B, and the electrode plate 2B.
Flows from the surface of the contact to the contact 1A.

【0011】この接点1Aに流出した電流は、この接点
1Aからこの接点1Aの表面と接触した固定側電極の接
点に流入し、以下、この固定側電極の電極板と接続子及
びコイル電極を経て、固定側通電軸に流出する。
The current flowing out to the contact 1A flows from the contact 1A into the contact of the fixed side electrode which is in contact with the surface of the contact 1A, and thereafter passes through the electrode plate of the fixed side electrode, the connector and the coil electrode. , Flows out to the fixed side energizing shaft.

【0012】図8は、このように構成された可動側電極
と固定側電極において、各コイル電極に流れる電流によ
って発生する軸方向の磁界、すなわち、縦磁界の磁束密
度Bzの分布状態を示すグラフである。なお、可動側電
極が固定側電極から開離して、両電極間にアークが発生
し、このアーク電流で発生した磁束も傾向は同様であ
る。
FIG. 8 is a graph showing the distribution of the magnetic flux density Bz of the longitudinal magnetic field, that is, the magnetic field in the axial direction generated by the current flowing through each coil electrode in the movable side electrode and the fixed side electrode thus configured. Is. The movable side electrode is separated from the fixed side electrode, an arc is generated between both electrodes, and the magnetic flux generated by this arc current has the same tendency.

【0013】図8に示すように、縦磁界の磁束密度Bz
は、電極の軸心において最大で、電極の外周に向かうほ
ど低くなり、ほぼ正弦波の曲線となっている。
As shown in FIG. 8, the magnetic flux density Bz of the longitudinal magnetic field
Is maximum at the axial center of the electrode, becomes lower toward the outer periphery of the electrode, and is a substantially sinusoidal curve.

【0014】このような縦磁界を発生させる電極間に発
生したアークは、縦磁界を発生させない電極と比べて、
両電極の表面に局部的に集中せず、全体に且つ均一に広
がって、局部的集中による接点表面の溶融を防ぎ、この
溶融で生じた金属蒸気圧の上昇を防ぎ、アークの増加を
抑えることができ、遮断性能を上げることができる。
The arc generated between the electrodes which generate such a longitudinal magnetic field is larger than that of an electrode which does not generate a longitudinal magnetic field.
Do not locally concentrate on the surface of both electrodes, spread uniformly over the whole area, prevent melting of the contact surface due to local concentration, prevent the rise of metal vapor pressure caused by this melting, and suppress the increase of arc It is possible to improve the blocking performance.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】ところが、このように
構成された真空バルブにおいても、遮断電流が更に増え
ると、磁束密度の高い接点の中央部分にアークが集中
し、遮断性能の更なる向上を図るうえで障害となる。
However, even in the vacuum valve having such a structure, when the breaking current further increases, the arc concentrates on the central portion of the contact having a high magnetic flux density, and the breaking performance is further improved. It will be an obstacle in trying.

【0016】このアークが接点の中央部分に集中する原
因は、アークに作用する自己電流によるピンチ力による
効果と、アーク電流が強い磁界の領域に集中する特性の
ためと考えられており、このうち、前者のピンチ力によ
る効果よりも、後者の強い磁界に集中する効果の方が大
きいことが、実験でも確認されている。
The reason why the arc is concentrated in the central portion of the contact is considered to be due to the effect of the pinch force by the self-current acting on the arc and the characteristic that the arc current is concentrated in the region of the strong magnetic field. Experiments have confirmed that the latter effect of concentrating on a strong magnetic field is greater than the former effect of pinch force.

【0017】そのため、図8で示した磁束密度を更に高
くしてアークの局部的集中を防いで、遮断性能を上げる
方法も考えられるが、発明者らの実験結果では、遮断電
流が増えると前述した効果のために中央部分にアークが
集中する。さらに、図7に示した電極板2Bに流れる渦
電流によって、電極中心に発生する縦磁界の強度を低下
させる方法も試みられているが、この方法も、電極中心
部へのアークの集中を大幅に防ぐことはできない。
Therefore, a method may be considered in which the magnetic flux density shown in FIG. 8 is further increased to prevent the local concentration of the arc to improve the breaking performance. The arc is concentrated in the central part due to the effect. Further, a method of reducing the strength of the longitudinal magnetic field generated in the electrode center by the eddy current flowing in the electrode plate 2B shown in FIG. 7 has been attempted, but this method also significantly concentrates the arc on the electrode center. Can't prevent it.

【0018】図9は、本願出願人が報告した論文(IEEE
Tranns. on Power Delivery,Vol.PWRD-1,No.4,Oct.198
6 )から引用した、電極の半径方向の位置に対する電極
間の磁束密度の分布の一例を示すグラフである。図9で
示すように、電極間のギャップ長によって磁束密度の分
布が異なるが、いずれも、電極の外周方向に磁束密度の
極大値が存在する。
FIG. 9 shows a paper (IEEE
Tranns. On Power Delivery, Vol.PWRD-1, No.4, Oct.198
6 is a graph showing an example of the distribution of magnetic flux density between electrodes with respect to the radial position of the electrode, which is cited from 6). As shown in FIG. 9, the distribution of the magnetic flux density varies depending on the gap length between the electrodes, but in each case, the maximum value of the magnetic flux density exists in the outer peripheral direction of the electrodes.

【0019】しかし、磁束密度が極大となる位置は、電
極半径(28.5mm)の約55%の位置であり、極大値が更に
外周方向に形成される後述する本発明の真空バルブとは
異なる。
However, the position where the magnetic flux density is maximum is a position of about 55% of the electrode radius (28.5 mm), which is different from the vacuum valve of the present invention which will be described later in which the maximum value is further formed in the outer peripheral direction.

【0020】電極中心付近の磁束密度を下げる方法に
は、以下の方法が考えられる。 (1) 電極板及び接触子にスリットを形成せず、電極板や
接点に流れる渦電流によって、逆方向の磁界を発生させ
る方法。 (2) 逆方向の磁界を発生するための第2のコイル電極
を、電極の中心部に備える方法。 (3) 可動側と固定側の磁界発生コイルの間の距離をでき
る限り接近させる方法。 このうち、(1) の方法によるものの一例として、特開昭
57−212719号公報で示す電極がある。この電極の磁束密
度分布を図10(a)に示し、構造を図10(b)に示す。
The following method can be considered as a method of reducing the magnetic flux density near the center of the electrode. (1) A method of generating a magnetic field in the opposite direction by an eddy current flowing through the electrode plate or the contact without forming a slit in the electrode plate and the contact. (2) A method in which a second coil electrode for generating a reverse magnetic field is provided at the center of the electrode. (3) A method of making the distance between the movable side and fixed side magnetic field generating coils as close as possible. Among these, as an example of the method of (1), Japanese Patent Laid-Open No.
There is an electrode disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 57-212719. The magnetic flux density distribution of this electrode is shown in FIG. 10 (a), and the structure is shown in FIG. 10 (b).

【0021】電極12の表面22には、純銅材の磁界制御板
24が埋設されており、この磁界制御板24に発生する渦電
流によって逆方向の磁界を発生させて、曲線F2で示す
分布特性となっている。図10(a)中の点線は、磁界制
御板24がない場合の磁束密度分布曲線である。
A magnetic field control plate made of pure copper is provided on the surface 22 of the electrode 12.
24 is buried, and a magnetic field in the opposite direction is generated by the eddy current generated in the magnetic field control plate 24, and has a distribution characteristic shown by a curve F2. The dotted line in FIG. 10A is a magnetic flux density distribution curve when the magnetic field control plate 24 is not provided.

【0022】なお、図10(b)において、可動側通電軸
6Cの先端に接合されたコイル電極11の右端には、接続
部15が示され、中心部には、スペーサ18が接合されてい
る。また、磁界制御板24の前面には、接触板23が接合さ
れている。
In FIG. 10 (b), a connecting portion 15 is shown at the right end of the coil electrode 11 joined to the tip of the movable side current-carrying shaft 6C, and a spacer 18 is joined at the center thereof. . The contact plate 23 is joined to the front surface of the magnetic field control plate 24.

【0023】このような電極においても、磁界制御板24
で発生する逆方向の磁束によって、電極外周部に磁束密
度の極大値が存在するが、極大となる位置が電極半径の
40%程度であり、これまた、後述する本発明の真空バル
ブとは異っている。
Even in such an electrode, the magnetic field control plate 24
There is a maximum value of the magnetic flux density on the outer circumference of the electrode due to the reverse magnetic flux generated at
It is about 40%, which is also different from the vacuum valve of the present invention described later.

【0024】また、磁束密度分布に対する電極ではない
が、類似の磁束密度分布を開示している一例として、特
公平4−3611号公報がある。図11にその磁束密度の分布
の例を示す。この電極では、接触子1Bによって発生す
る渦電流により、曲線G2に示すように電極外周部に磁
束密度の極大値が存在する。ただし、一点鎖線で示す曲
線G1は、磁界発生コイル31のみによる磁束密度分布で
ある。極大値となる半径位置は、本発明の電極の極大値
範囲に含まれている。
Japanese Patent Publication No. Hei 4-3611 discloses an example which discloses a similar magnetic flux density distribution, though not an electrode for the magnetic flux density distribution. Figure 11 shows an example of the distribution of the magnetic flux density. In this electrode, due to the eddy current generated by the contact 1B, the maximum value of the magnetic flux density exists in the outer peripheral portion of the electrode as shown by the curve G2. However, a curved line G1 shown by a one-dot chain line is a magnetic flux density distribution only by the magnetic field generating coil 31. The radial position having the maximum value is included in the maximum value range of the electrode of the present invention.

【0025】しかし、後述する本発明の真空バルブで詳
細な説明では、この磁束密度分布では、縦磁界の効果が
十分発揮されないと述べているように、磁束密度の強度
が不足している。また、この図11のグラフでは、電極最
外径位置での磁束密度が殆ど零になっており、このよう
な磁束密度分布では、電極最外周領域をアークを分散さ
せる上で有効に利用することができない。
However, in the detailed description of the vacuum valve of the present invention described later, the strength of the magnetic flux density is insufficient as described in the magnetic flux density distribution in which the effect of the longitudinal magnetic field is not sufficiently exerted. Further, in the graph of FIG. 11, the magnetic flux density at the electrode outermost diameter position is almost zero, and in such a magnetic flux density distribution, it is possible to effectively use the outermost electrode region for dispersing the arc. I can't.

【0026】(2) の方法によるものの一例として、特開
昭57− 20206号公報がある。この方法による電極間の磁
束密度分布を図12に示す。磁束密度が極大となる位置
は、後述する本発明の範囲内にあるものと考えられる
が、電極32の中心部に配置した磁界発生コイルにより、
電極中心部での磁束密度は逆向きとなっている。
As an example of the method (2), there is JP-A-57-20206. Fig. 12 shows the magnetic flux density distribution between the electrodes by this method. The position where the magnetic flux density is maximum is considered to be within the scope of the present invention described later, but due to the magnetic field generating coil arranged in the center of the electrode 32,
The magnetic flux density at the center of the electrode is opposite.

【0027】なお、電極中心部に逆向きの磁界を発生さ
せる電極構造については、これ以外にもいくつか提案さ
れているが、すべてのものが電極中心で磁界の向きが逆
方向となっている。
Several other electrode structures for generating a reverse magnetic field at the center of the electrode have been proposed, but all of them have the magnetic field oriented in the opposite direction at the center of the electrode. .

【0028】(3) の方法によるものの一例として、特公
平2− 30132号公報がある。この方法による電極間の磁
束密度分布を図13に示す。この場合には(2) の方法に比
べて、電極中心部での磁界はマイナスにはなっていな
い。また、磁束密度が極大となる半径位置は、本発明の
範囲内にあるものと考えられるが、磁束密度の極大値
が、電極半径の40%位置での磁束密度に対して、 1.6倍
を超えている。
Japanese Patent Publication No. 2-30132 discloses an example of the method (3). Fig. 13 shows the magnetic flux density distribution between the electrodes by this method. In this case, the magnetic field at the center of the electrode is not negative compared to the method (2). Also, the radial position where the magnetic flux density reaches its maximum is considered to be within the scope of the present invention, but the maximum value of the magnetic flux density exceeds 1.6 times the magnetic flux density at the 40% position of the electrode radius. ing.

【0029】このように、従来の真空バルブにおいて
は、電極の中心部の磁束密度が高いか、逆に低すぎて、
アークが陽極側電極の中心部に集中する。また、集中す
る箇所が1箇所となるため、陽極側電極表面に流入する
エネルギー密度が高くなり、そのため、陽極側電極表面
の温度が高温状態となって遮断性能が低下する。
As described above, in the conventional vacuum valve, the magnetic flux density at the center of the electrode is high or, on the contrary, too low,
The arc concentrates on the center of the anode electrode. Further, since the number of concentrated areas is one, the energy density flowing into the surface of the anode side electrode becomes high, and therefore, the temperature of the surface of the anode side electrode becomes high and the blocking performance deteriorates.

【0030】そこで、まず第一に、アークが集中し始め
る臨界電流値を上げるために、電極面における電流密度
を均一にすることが考えられる。また、この臨界電流値
以上になり、電流が集中しても、電極外周部の何点かに
分散して集中させることも考えられる。このような方法
により、同一遮断電流値に対して、アークが集中し始め
る臨界電流値を上げ、集中した領域の電流密度を従来の
真空バルブに比べ減らすことが課題となる。そこで、本
発明の目的は、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮
断性能を上げることのできる真空バルブを得ることであ
る。
Therefore, first of all, in order to increase the critical current value at which the arc is concentrated, it is conceivable to make the current density uniform on the electrode surface. Further, even if the current exceeds the critical current value and the current is concentrated, it is possible to disperse and concentrate the current at some points on the outer peripheral portion of the electrode. With such a method, it becomes a problem to increase the critical current value at which the arc begins to concentrate for the same breaking current value and reduce the current density in the concentrated region as compared with the conventional vacuum valve. Therefore, an object of the present invention is to obtain a vacuum valve capable of preventing the concentration of the arc in the central portion of the electrode and improving the breaking performance.

【0031】[0031]

【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明の
真空バルブは、外部と電気的に接続する一対の導電軸を
介して接離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空
バルブにおいて、一対の電極における軸方向の磁束密度
が電極中心側から外側に向けて増加し電極半径の70%の
位置の外側で極大値としたことを特徴とする。
A vacuum valve according to a first aspect of the present invention is a vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be contactable and separable via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside. The valve is characterized in that the magnetic flux density in the axial direction of the pair of electrodes increases from the electrode center side to the outside and has a maximum value outside the position of 70% of the electrode radius.

【0032】また、請求項2に記載の発明の真空バルブ
は、軸方向磁束密度の極大値を、所定の電極径の遮断電
流に対する最低アーク電圧を与える磁束密度の 1.2〜
1.6倍としたことを特徴とする。
Further, in the vacuum valve of the invention described in claim 2, the maximum value of the magnetic flux density in the axial direction is set to a magnetic flux density of 1.2 to 1.2 which gives a minimum arc voltage for a breaking current of a predetermined electrode diameter.
It is characterized by being 1.6 times.

【0033】また、請求項3に記載の発明の真空バルブ
は、電極の外周端での磁束密度を、2mT/kA以上とした
ことを特徴とする。
Further, the vacuum valve of the invention described in claim 3 is characterized in that the magnetic flux density at the outer peripheral end of the electrode is 2 mT / kA or more.

【0034】また、請求項4に記載の発明の真空バルブ
は、電極中心の磁束密度(Bct)を電極径の遮断電流
に対応するアーク電圧と軸方向磁束密度との関係から得
られるアーク電圧が最低となる磁束密度(Bcr)の0.
75〜0.90倍としたことを特徴とする。
Further, in the vacuum valve of the invention described in claim 4, the arc voltage obtained from the relationship between the magnetic flux density (Bct) at the center of the electrode and the arc voltage corresponding to the breaking current of the electrode diameter and the axial magnetic flux density is The minimum magnetic flux density (Bcr) is 0.
It is characterized in that it is 75 to 0.90 times.

【0035】また、請求項5に記載の発明の真空バルブ
は、軸方向磁束密度の極大値を、電極の外周に少なくと
も2箇所分布させたことを特徴とする。
Further, the vacuum valve of the invention described in claim 5 is characterized in that the maximum values of the magnetic flux density in the axial direction are distributed at least at two positions on the outer circumference of the electrode.

【0036】また、請求項6に記載の発明の真空バルブ
は、軸方向磁束密度が最大値(Bmax)となる電極半
径位置における円周方向に対する軸方向磁束密度の最低
値をBminとしたとき、円周方向の軸方向磁束密度が
(Bmax+Bmin)/2以上となる領域が、全周長
に対して50%以上としたことを特徴とする。
According to the sixth aspect of the vacuum valve of the present invention, when the minimum value of the axial magnetic flux density in the circumferential direction at the electrode radial position where the axial magnetic flux density has the maximum value (Bmax) is Bmin, The region where the axial magnetic flux density in the circumferential direction is (Bmax + Bmin) / 2 or more is 50% or more with respect to the entire circumference.

【0037】また、請求項7に記載の発明の真空バルブ
は、外部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離
可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにお
いて、電極の中心部の軸方向磁束密度を、所定の電極径
の遮断電流に対する最低アーク電圧よりも2〜5V高く
なる範囲の磁束密度のうちの最低の磁束密度としたこと
を特徴とする。
Further, in the vacuum valve of the invention described in claim 7, in the vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in the vacuum container so as to be contactable and separable via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside, The axial magnetic flux density at the center of the magnetic field is set to the lowest magnetic flux density of the magnetic flux densities in the range of 2 to 5 V higher than the lowest arc voltage for the breaking current of the predetermined electrode diameter.

【0038】また、請求項8に記載の発明の真空バルブ
は、アーク電圧が最低となる磁束密度が印加される半径
方向位置を、電極半径の中心から20〜40%の範囲とした
ことを特徴とする。
Further, the vacuum valve of the invention according to claim 8 is characterized in that the radial position where the magnetic flux density at which the arc voltage becomes the minimum is applied is within the range of 20 to 40% from the center of the electrode radius. And

【0039】また、請求項9に記載の発明の真空バルブ
は、外部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離
可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにお
いて、電極の外周部に複数の通電コイルを形成したこと
を特徴とする。
According to the ninth aspect of the vacuum valve of the present invention, in the vacuum valve, a pair of electrodes are provided in the vacuum container so that they can be contacted and separated via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside. It is characterized in that a plurality of energizing coils are formed on the outer peripheral portion of.

【0040】さらに、請求項10に記載の発明の真空バル
ブは、外部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接
離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブに
おいて、電極の対向する面に、中心部から外周に向かっ
て接点材料の陰極降下電圧が減少する傾斜特性を有する
接点を備えたことを特徴とする。
Further, the vacuum valve of the invention according to claim 10 is a vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be contactable and separable via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside. The contact surfaces having the inclination characteristics that the cathode drop voltage of the contact material decreases from the central portion toward the outer periphery are provided on the opposing surfaces of the contact points.

【0041】このような手段によって、コイル電極で発
生させた軸方向の磁束と、通電コイルで発生させた軸方
向の磁束を重畳させて、接点の中心部から外周部に磁束
密度を次第に高くするとともに、外周部における磁束密
度の分布を脈動させる。
By such means, the magnetic flux in the axial direction generated by the coil electrode and the magnetic flux in the axial direction generated by the energizing coil are superposed to gradually increase the magnetic flux density from the central portion to the outer peripheral portion of the contact. At the same time, the distribution of the magnetic flux density in the outer peripheral portion is pulsated.

【0042】一般にアークコラム内の電圧降下Vcolm
は、軸方向磁束密度Bz及び電流密度Jzと以下のよう
な関係がある。
Generally, the voltage drop Vcolm in the arc column
Has the following relationship with the axial magnetic flux density Bz and the current density Jz.

【0043】[0043]

【数1】 (Equation 1)

【0044】そのため、電極の中心で磁束密度が高い場
合には、同一電流密度の電流が流れても、Vcolmの値が
小さくなってしまう。電極間のVcolmの値は、電極面全
体に対して一定となるので、電極外周部領域でのVcolm
の値と釣り合うために、磁束密度の高い電極中心部では
電流密度Jzが高くなってしまう。
Therefore, when the magnetic flux density is high at the center of the electrode, the value of Vcolm becomes small even if currents of the same current density flow. The value of Vcolm between the electrodes is constant over the entire electrode surface, so Vcolm in the electrode outer peripheral region
The current density Jz becomes high at the center of the electrode where the magnetic flux density is high.

【0045】電極面の電流密度を均一化するためには、
電極中心部の電流密度を抑え電極外周部の電流密度を増
やす必要がある。そこで、電極中心部の電流密度を抑え
るため、中心部の軸方向磁束密度を減らし、電極中心部
のアークコラム内の電圧降下を増やし、電流を流れ難く
する。
In order to make the current density on the electrode surface uniform,
It is necessary to suppress the current density in the central part of the electrode and increase the current density in the outer peripheral part of the electrode. Therefore, in order to suppress the current density in the central part of the electrode, the axial magnetic flux density in the central part is reduced, the voltage drop in the arc column in the central part of the electrode is increased, and it becomes difficult for the current to flow.

【0046】したがって、電極の外周部は磁束密度を強
くし、アークコラム内の電圧降下が小さくなるようにし
て電流が流れ易い状態にする。真空アークはその殆どの
電流が電子電流によって運ばれ、磁束密度が強い領域で
は、電子のラーマー半径は小さく、磁力線に強く捕捉さ
れる。
Therefore, the magnetic flux density is increased in the outer peripheral portion of the electrode so that the voltage drop in the arc column is reduced so that the current easily flows. In the vacuum arc, most of the current is carried by the electron current, and in the region where the magnetic flux density is high, the Larmor radius of the electron is small, and it is strongly trapped by the magnetic field lines.

【0047】そのため、磁界の強い電極外周部領域に安
定に電流が流れる。このようなことから、従来の真空バ
ルブに比べて電極間の電流密度の均一化が図られる。
Therefore, a current flows stably in the electrode outer peripheral region where the magnetic field is strong. As a result, the current density between the electrodes can be made uniform as compared with the conventional vacuum valve.

【0048】[0048]

【発明の実施の形態】以下、本発明の一実施形態を図面
を参照して説明する。図1は、本発明の一実施形態の特
性を示すグラフで、電極が中間位置まで開離したとき
の、電極の半径方向の位置に対する電極間の軸方向の磁
束密度の分布を示す図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a graph showing the characteristics of one embodiment of the present invention, and is a diagram showing the distribution of the magnetic flux density in the axial direction between the electrodes with respect to the radial position of the electrodes when the electrodes are separated to the intermediate position. .

【0049】本発明の真空バルブにおいては、図5で後
述する電極構造を採用することで、電極の中心部におけ
る軸方向の低い磁束密度Bctに対し、電極の外周方向
に移動するに従って、軸方向の磁束密度を増やし、電極
の外周の僅かに内側においては、後述する高い磁束密度
Bmとなっている。
In the vacuum valve of the present invention, by adopting the electrode structure described later with reference to FIG. 5, with respect to the low axial magnetic flux density Bct in the central portion of the electrode, the axial direction is increased as the axial magnetic flux is moved. The magnetic flux density is increased, and a high magnetic flux density Bm described later is provided slightly inside the outer circumference of the electrode.

【0050】また、図2は、本発明の真空バルブの電極
外周部の円周方向の軸方向の磁束密度の分布を示すグラ
フで、遮断可能な最低のアーク電圧となる図3で示す磁
束密度Bcrが存在し、この値は遮断電流や電極径及び
接点材料によって変える。
FIG. 2 is a graph showing the distribution of the magnetic flux density in the axial direction in the circumferential direction of the electrode outer periphery of the vacuum valve of the present invention. The magnetic flux density shown in FIG. Bcr exists, and its value changes depending on the breaking current, the electrode diameter, and the contact material.

【0051】図1において、電極の中心では、各遮断電
流に対して電極間のアーク電圧が最低となる図3で示し
た軸方向磁束密度Bcrの0.75〜0.9 倍の範囲の磁束密
度が印加される。軸方向磁束密度は、電極中心から電極
の外周部に向かって、ゆるやかに増えている。ここで、
最低アーク電圧を与える軸方向磁束密度Bcrが印加さ
れる半径方向の位置は、電極半径の20〜40%の範囲にあ
る。
In FIG. 1, a magnetic flux density in the range of 0.75 to 0.9 times the axial magnetic flux density Bcr shown in FIG. 3 where the arc voltage between the electrodes is the lowest for each breaking current is applied to the center of the electrode. It The axial magnetic flux density gradually increases from the center of the electrode toward the outer peripheral portion of the electrode. here,
The radial position where the axial magnetic flux density Bcr giving the lowest arc voltage is applied is in the range of 20 to 40% of the electrode radius.

【0052】軸方向の磁束密度は、この領域から外部に
ゆるやかに増え、電極半径の70%以上の領域の約80%の
位置において極大値Bmとなる。この極大値Bmは、電
極中心の磁束密度に対して 1.4〜 2.4倍の範囲にあるこ
とが望ましい。
The magnetic flux density in the axial direction gradually increases from this area to the outside, and reaches the maximum value Bm at a position of about 80% of the area of 70% or more of the electrode radius. It is desirable that the maximum value Bm be 1.4 to 2.4 times the magnetic flux density at the center of the electrode.

【0053】また、図2に示すように、円周方向におけ
る軸方向磁束密度は、少なくとも 360°内に3箇所以上
のピークが現れるように分布している。BmaxとBm
inの値は、電極中心での磁束密度の 1.4〜 2.4倍の範
囲にある。また、(Bmax+Bmin)/2以上の値
をとる範囲は、全体の50%以上であることが望ましい。
Further, as shown in FIG. 2, the axial magnetic flux density in the circumferential direction is distributed so that three or more peaks appear within at least 360 °. Bmax and Bm
The value of in is in the range of 1.4 to 2.4 times the magnetic flux density at the center of the electrode. The range of (Bmax + Bmin) / 2 or more is preferably 50% or more of the whole.

【0054】次に、このような軸方向磁束密度分布の真
空バルブの作用を説明する。電極中心部では、最低アー
ク電圧を与える磁束密度よりも低い磁束密度が印加され
ているため、中心部に点弧しているアークコラム内の電
圧降下は、電極外周領域よりも高くなる。
Next, the operation of the vacuum valve having such an axial magnetic flux density distribution will be described. Since a magnetic flux density lower than the magnetic flux density that gives the lowest arc voltage is applied to the electrode central portion, the voltage drop in the arc column ignited to the central portion is higher than that in the electrode outer peripheral region.

【0055】そのため、アークコラム内の電圧降下を低
くし、電極外周部の領域のアーク電圧降下と等しくなろ
うとする。したがって、式(1) の関係から、電極中心部
に流れる電流密度は低く抑えられることになり、従来の
ように電極の中心部の電流密度が外周部に対して高くな
るアーク特性が抑制される。電極中心から外周部に向か
って、軸方向磁束密度が増えていくので、アークは電極
の外周部にも点弧しやすくなる。
Therefore, the voltage drop in the arc column is made to be low, and it is attempted to become equal to the arc voltage drop in the region of the electrode outer peripheral portion. Therefore, from the relationship of equation (1), the current density flowing in the central part of the electrode can be kept low, and the arc characteristic that the current density in the central part of the electrode becomes higher than the outer peripheral part as in the conventional case is suppressed. . Since the magnetic flux density in the axial direction increases from the center of the electrode toward the outer peripheral portion, the arc easily ignites on the outer peripheral portion of the electrode.

【0056】例えば、接点材料にCuCrを用いた場合
には、軸方向磁束密度がBcrより高くなっても、アー
ク電圧はさほど上昇しないので、電極の最外周までアー
クが広がる。
For example, when CuCr is used as the contact material, the arc voltage does not rise so much even if the magnetic flux density in the axial direction becomes higher than Bcr, so that the arc spreads to the outermost circumference of the electrode.

【0057】しかし、遮断電流が更に増えると、図3に
示しアーク電圧と磁束密度の関係を示すグラフのよう
に、磁束密度の高い領域でアーク電圧が高くなるおそれ
がある。
However, if the breaking current further increases, the arc voltage may increase in a high magnetic flux density region as shown in the graph of FIG. 3 showing the relationship between the arc voltage and the magnetic flux density.

【0058】そのため、電極中心部から電極外周部に向
かって、陰極降下電圧が低下する特性の傾斜特性接触子
を組み合わせることにより、電極外周部にアークを更に
容易に点弧させることができる。
Therefore, an arc can be more easily ignited on the outer peripheral portion of the electrode by combining the inclined characteristic contactor having the characteristic that the cathode drop voltage decreases from the central portion of the electrode toward the outer peripheral portion of the electrode.

【0059】したがって、電極中心部の電流密度の増加
が抑えられ、電極外周部の電流密度が増えるので、電流
密度分布の均一化を図ることができる。ところで、遮断
電流が増えるに従い、陽極側電極の電極中心部に向かっ
てアークコラムが収縮しようとする力、すなわち、自己
電流により発生するアークコラムの円周方向の磁力線と
アーク電流の相互作用によって発生するピンチ力が働
く。
Therefore, the increase in the current density at the center of the electrode is suppressed and the current density at the outer periphery of the electrode is increased, so that the current density distribution can be made uniform. By the way, as the breaking current increases, the force of the arc column shrinking toward the center of the electrode on the anode side, that is, the interaction between the magnetic flux in the circumferential direction of the arc column and the arc current generated by the self current. The pinch force to work works.

【0060】しかし、電極外周部には、従来の真空バル
ブの磁束密度よりも高い密度となっているので、電子は
この磁力線に強く捕捉される。そのため、中心部に収縮
する力を効果的に抑えることができる。
However, since the magnetic flux density on the outer peripheral portion of the electrode is higher than the magnetic flux density of the conventional vacuum valve, the electrons are strongly trapped by the lines of magnetic force. Therefore, it is possible to effectively suppress the force of contracting to the central portion.

【0061】また、円周方向の磁束密度は、図2に示す
ように波状に分布しているので、遮断電流が増えると磁
束密度の低い領域の電流は磁束密度の高い領域に集中す
る。もし、電極外周部の磁束密度の円周方向分布が従来
の真空バルブのように一定の場合には、電極面のある一
部でアークが集中し始めると、その箇所だけに集中す
る。そのため、図2で示したように、軸方向磁束密度に
強弱をつけておくことが重要である。
Further, since the magnetic flux density in the circumferential direction is distributed in a wave shape as shown in FIG. 2, when the cutoff current increases, the current in the low magnetic flux density area concentrates in the high magnetic flux density area. If the circumferential distribution of the magnetic flux density at the electrode outer peripheral portion is constant as in the conventional vacuum valve, when the arc begins to concentrate on a certain part of the electrode surface, the arc concentrates only on that part. Therefore, as shown in FIG. 2, it is important to make the axial magnetic flux density strong and weak.

【0062】さらに、電流が増えると、アークが磁束密
度の高い電極外周部の数箇所で集中し始める。しかし、
集中する点が従来のように1箇所でなく、数箇所に分離
するので、集中した領域の電流密度は低くなり、集中が
激しくなる臨界電流値が上昇する。
Further, as the current increases, the arc begins to concentrate at several points on the outer periphery of the electrode where the magnetic flux density is high. But,
Since the point of concentration is not a single point as in the conventional case but is separated into several points, the current density in the concentrated region is low and the critical current value at which the concentration is high rises.

【0063】また、たとえ、集中が激しくなっても、集
中した位置が電極の外周部となることから、集中する面
積が増えるので、陽極電極表面に与えるアークによる溶
融などを抑えることができる。
Further, even if the concentration is intense, since the concentrated position becomes the outer peripheral portion of the electrode, the concentrated area increases, so that melting due to an arc applied to the surface of the anode electrode can be suppressed.

【0064】発明者らは、図7で示した従来の電極と、
図4で示したモデル電極について、遮断性能の比較試験
を行った。このうち、図4で示した電極は、コイル電極
などが組み込まれていない従来の平板電極の通電軸の周
りに、縦磁界を発生させるための励磁コイル9を遊嵌さ
せた。モデル電極の詳細図の一例は、図5の縦断面図で
後述する。
The inventors of the present invention have used the conventional electrode shown in FIG.
For the model electrode shown in FIG. 4, a comparative test of breaking performance was performed. Of these, the electrodes shown in FIG. 4 were obtained by loosely fitting an exciting coil 9 for generating a longitudinal magnetic field around the current-carrying axis of a conventional plate electrode in which coil electrodes and the like were not incorporated. An example of a detailed view of the model electrode will be described later in the vertical cross-sectional view of FIG.

【0065】図4及び図5で示したモデル電極の通電軸
6の周りに、励磁コイル9を遊嵌させて試験したのは、
モデル電極だけでは、軸方向の磁界を微少に制御するこ
とができないためである。発明者らは、励磁コイル9に
通電する励磁電流を調整してこの励磁コイル9で発生し
た磁束を図5で示すモデル電極自体から発生する磁束に
重畳させて試験を行った。
The test was conducted by loosely fitting the exciting coil 9 around the current-carrying shaft 6 of the model electrode shown in FIGS. 4 and 5.
This is because the magnetic field in the axial direction cannot be minutely controlled only by the model electrode. The inventors conducted an experiment by adjusting the exciting current applied to the exciting coil 9 and superimposing the magnetic flux generated in the exciting coil 9 on the magnetic flux generated from the model electrode itself shown in FIG.

【0066】この遮断試験結果を図6のグラフに示す。
図6において、従来の縦磁界形電極Aで行った遮断試験
による遮断電流の限度D1を1とすると、図5で示した
モデル電極では、遮断電流の限度D2は従来の縦磁界形
電極の1.15倍であった。
The results of this interruption test are shown in the graph of FIG.
In FIG. 6, assuming that the limit D1 of the breaking current in the breaking test performed with the conventional longitudinal magnetic field type electrode A is 1, the limit D2 of the breaking current is 1.15 of the conventional longitudinal magnetic field type electrode in the model electrode shown in FIG. It was double.

【0067】また、図4及び図5で示した励磁コイル9
によって、図1及び図2の条件で行った遮断試験では、
遮断電流の限度の平均値D3は 1.4倍となった。なお、
上記実施例においては、接点間に発生するアークによる
アーク電圧を、接点間の軸方向の磁束密度だけで変え
て、アークを接点の外周方向に移動・分散させた例で説
明したが、接点の中心部と外周部において材料を変え、
中央部と外周部における最低アーク電圧の異なる接点と
併用した請求項10に記載の発明としてもよい。
The exciting coil 9 shown in FIGS. 4 and 5 is also used.
Therefore, in the interruption test conducted under the conditions of FIG. 1 and FIG.
The average value D3 of the breaking current limit was 1.4 times. In addition,
In the above embodiment, the arc voltage generated by the arc between the contacts is changed only by the magnetic flux density in the axial direction between the contacts, and the arc is moved and dispersed in the outer peripheral direction of the contacts. Change the material in the center and the outer periphery,
The invention according to claim 10 may be combined with contacts having different minimum arc voltages in the central portion and the outer peripheral portion.

【0068】図5において、図7で示した電極と大きく
異なるところは、接点と可動側通電軸を結ぶ電路が、コ
イル状に製作された銅線で形成されていることで、他
は、図7で示した電極と同一である。
In FIG. 5, what is largely different from the electrode shown in FIG. 7 is that the electric path connecting the contact point and the movable side energization shaft is formed of a copper wire formed in a coil shape. It is the same as the electrode shown by 7.

【0069】図5において、可動側通電軸6の上端に軸
部18aがろう付された補強部材18の上端には、銅材から
環状に製作されたコイル支持環5が、このコイル支持環
5の中心に形成された位置決め穴5aを介して載置さ
れ、補強部材18の上端にろう付されている。
In FIG. 5, at the upper end of the reinforcing member 18 to which the shaft portion 18a is brazed at the upper end of the movable side current-carrying shaft 6, there is provided a coil support ring 5 annularly made of copper material. It is placed through a positioning hole 5a formed at the center of the and is brazed to the upper end of the reinforcing member 18.

【0070】このコイル支持環5の上面には、位置決め
穴5aの外側に対して、幅の狭い環状の溝が形成され、
この溝の更に外側には、円形の座ぐり部5bが、図示し
ない横断面図において60゜間隔に合計6箇所形成されて
いる。このうち、補強部材18の上端面には、無酸素銅の
線材からコイル状に形成された中心コイル7が載置さ
れ、補強部材18の上端にろう付されている。
An annular groove having a narrow width is formed on the upper surface of the coil support ring 5 with respect to the outside of the positioning hole 5a.
On the outer side of this groove, circular counterbore portions 5b are formed at a total of 6 positions at 60 ° intervals in a cross-sectional view not shown. Of these, the central coil 7 formed in a coil shape from an oxygen-free copper wire is placed on the upper end surface of the reinforcing member 18, and brazed to the upper end of the reinforcing member 18.

【0071】また、コイル支持環5の上面に形成された
位置決め用の各座ぐり部5bにも、中心コイル7と同一
品の外周部コイル3が載置され、各座ぐり部5bにろう
付されている。さらに、コイル支持環5の位置決め穴5
aの外側に形成された幅の狭い環状の溝には、薄肉のス
テンレス鋼管から製作された支持管8の下端が挿入され
ろう付されている。
The outer peripheral coil 3 which is the same as the central coil 7 is also mounted on each of the counterbore portions 5b for positioning formed on the upper surface of the coil support ring 5, and each of the counterbore portions 5b is brazed. Has been done. Furthermore, the positioning hole 5 of the coil support ring 5
The lower end of a support pipe 8 made of a thin stainless steel pipe is inserted and brazed into a narrow annular groove formed on the outer side of a.

【0072】これらの支持管8及び外周部コイル3の上
端面には、円板状の電極板2が載置されている。この電
極板2の中心部には、貫通穴2aが形成され、この貫通
穴2aの外側の下面には、支持管8の上端が嵌合する位
置決め用の幅の狭い環状の溝が同軸に形成されている。
この溝に上端が挿入された支持管8も、電極板2にろう
付されている。
A disk-shaped electrode plate 2 is mounted on the upper end surfaces of the support tube 8 and the outer peripheral coil 3. A through hole 2a is formed in the center of the electrode plate 2, and a narrow annular groove for positioning into which the upper end of the support tube 8 is fitted is coaxially formed on the lower surface outside the through hole 2a. Has been done.
The support tube 8 whose upper end is inserted into this groove is also brazed to the electrode plate 2.

【0073】この電極板2の内面側にも、コイル支持環
5の上面に形成された座ぐり部5bと同一外径で浅い座
ぐり部2bが、座ぐり部5bと対称的に6箇所、図示し
ない平面図では60゜間隔に形成されている。コイル支持
環5の座ぐり部5bに下端がろう付された外周部コイル
3の上端は、電極板2に形成された座ぐり部2bにそれ
ぞれろう付されている。
On the inner surface of the electrode plate 2, shallow counterbore portions 2b having the same outer diameter as the counterbore portion 5b formed on the upper surface of the coil support ring 5 are provided at six positions symmetrical to the counterbore portion 5b. In a plan view not shown, they are formed at 60 ° intervals. The upper end of the outer peripheral coil 3 whose lower end is brazed to the counterbore 5b of the coil support ring 5 is brazed to the counterbore 2b formed on the electrode plate 2.

【0074】一方、電極板2の中心に形成された貫通穴
2aには、略凸字状で図示しない平面図では円板状のス
テンレス鋼製の座4の上端が挿入され、電極板2にろう
付されている。中心コイル7の上端は、座4の下面に当
接し、この座4にろう付されている。
On the other hand, in the through hole 2a formed in the center of the electrode plate 2, the upper end of a substantially convex and disk-shaped stainless steel seat 4 in a plan view (not shown) is inserted to attach to the electrode plate 2. It is brazed. The upper end of the center coil 7 contacts the lower surface of the seat 4 and is brazed to the seat 4.

【0075】接点1は、外形は、図7で示した接点1A
と同一であるが、上端面の中心部に対して、逆円錐台状
の浅い凹部1aが形成されている。この凹部1aの上端
の外周は、弧状に面取りされている。
The outer shape of the contact 1 is the contact 1A shown in FIG.
However, a shallow truncated conical recess 1a is formed in the center of the upper end surface. The outer periphery of the upper end of the recess 1a is chamfered in an arc shape.

【0076】次に、このように構成された真空バルブの
作用を説明する。図5において、図示しない固定側電極
の接点と可動側電極の図1で示す接点1の間に発生した
アーク電流の大部分は、接点1から、電極板2と支持環
5の間に挿入された各外周部コイル3を流れる。
Next, the operation of the vacuum valve thus constructed will be described. In FIG. 5, most of the arc current generated between the contact of the fixed side electrode (not shown) and the contact 1 of the movable side electrode shown in FIG. 1 is inserted from the contact 1 between the electrode plate 2 and the support ring 5. And flows through each outer peripheral coil 3.

【0077】中心コイル7に流れる電流は、この中心コ
イル7と電極板2との間に介在する座4の抵抗値によっ
て、各外周部コイル3に流れる電流値の4分の1程度と
することができる。
The current flowing through the central coil 7 should be set to about a quarter of the value of the current flowing through each outer peripheral coil 3 due to the resistance value of the seat 4 interposed between the central coil 7 and the electrode plate 2. You can

【0078】これらの中心コイル7と各外周部コイル3
に流れる電流によって、発生する縦磁界の磁束密度の分
布とこれらの中心コイル3及び外周部コイル3の可動側
通電軸側に接続されたコイル電極14の合成磁界は、図1
で示す分布となる。
These center coil 7 and each outer peripheral coil 3
The distribution of the magnetic flux density of the longitudinal magnetic field generated by the current flowing in the coil and the composite magnetic field of the coil electrode 14 connected to the movable side energizing shaft side of the central coil 3 and the outer peripheral coil 3 are as shown in FIG.
The distribution is shown by.

【0079】なお、上記実施例において、中心コイル7
の内部と外周部コイル8の内部に対して、円筒状の磁性
管9を遊嵌してもよい。この場合には、中心コイル7と
外周部コイル8の巻数を減らすことができるので、中心
コイル7と外周部コイル8の線径を太くすることがで
き、電極の通電容量と機械的強度を増やすことができる
利点がある。
In the above embodiment, the central coil 7
The cylindrical magnetic tube 9 may be loosely fitted in the inside of the coil and the inside of the outer peripheral coil 8. In this case, since the number of turns of the central coil 7 and the outer peripheral coil 8 can be reduced, the wire diameter of the central coil 7 and the outer peripheral coil 8 can be increased, and the current-carrying capacity and mechanical strength of the electrodes can be increased. There is an advantage that can be.

【0080】[0080]

【発明の効果】以上、請求項1に記載の発明によれば、
外部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離可能
に一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにおい
て、一対の電極における軸方向の磁束密度を電極中心側
から外側に向けて増やし電極半径の70%の位置の外側で
極大値とすることで、コイル電極で発生させた軸方向の
磁束と、通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重畳さ
せて、接点の中心部から外周部に磁束密度を次第に高め
たので、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断性能
を上げることのできる真空バルブを得ることができる。
As described above, according to the first aspect of the present invention,
In a vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so that they can be connected to and separated from each other via a pair of conductive shafts that are electrically connected to the outside, the axial magnetic flux density of the pair of electrodes is directed from the electrode center side to the outside. By setting the maximum value outside the position of 70% of the increased electrode radius, the axial magnetic flux generated by the coil electrode and the axial magnetic flux generated by the energizing coil are superposed, and from the center of the contact point. Since the magnetic flux density is gradually increased in the outer peripheral portion, it is possible to obtain the vacuum valve capable of preventing the concentration of the arc in the central portion of the electrode and improving the breaking performance.

【0081】また、請求項2に記載の発明によれば、軸
方向磁束密度の極大値を、所定の電極径の遮断電流に対
する最低アーク電圧を与える磁束密度の 1.2〜 1.6倍と
することで、コイル電極で発生させた軸方向の磁束と、
通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重畳させて、接
点の中心部における軸方向の磁束密度を抑えてアーク電
圧を上げ、接点の中心部から外周部に磁束密度を次第に
高めたので、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断
性能を上げることのできる真空バルブを得ることができ
る。
According to the second aspect of the present invention, the maximum value of the magnetic flux density in the axial direction is set to 1.2 to 1.6 times the magnetic flux density that gives the minimum arc voltage for the breaking current of the predetermined electrode diameter. Axial magnetic flux generated by the coil electrode,
The magnetic flux in the axial direction generated by the energizing coil is superimposed to suppress the magnetic flux density in the axial direction at the center of the contact to raise the arc voltage and gradually increase the magnetic flux density from the center to the outer periphery of the contact. It is possible to obtain a vacuum valve that can prevent the concentration of the arc in the central portion and improve the breaking performance.

【0082】また、請求項3に記載の発明によれば、電
極の外周端での磁束密度を、2mT/KA以上とすること
で、コイル電極で発生させた軸方向の磁束と、通電コイ
ルで発生させた軸方向の磁束を重畳させて、接点の中心
部における磁束密度を抑え、接点の中心部から外周部に
磁束密度を次第に高めたので、電極中央部へのアークの
集中を防ぎ、遮断性能を上げることのできる真空バルブ
を得ることができる。
According to the third aspect of the invention, the magnetic flux density at the outer peripheral end of the electrode is set to 2 mT / KA or more, whereby the axial magnetic flux generated by the coil electrode and the energizing coil are generated. By superimposing the generated magnetic flux in the axial direction to suppress the magnetic flux density at the center of the contact and gradually increasing the magnetic flux density from the center of the contact to the outer periphery, it is possible to prevent the arc from concentrating at the center of the electrode and shut it off. It is possible to obtain a vacuum valve whose performance can be improved.

【0083】また、請求項4に記載の発明によれば、電
極径の遮断電流に対応するアーク電圧と軸方向磁束密度
を、アーク電圧が最低となる磁束密度の0.75〜0.90倍と
することで、コイル電極で発生させた軸方向の磁束と、
通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重畳させて、接
点の中心部における磁束密度を抑え、接点の中心部から
外周部に磁束密度を次第に高めたので、電極中央部への
アークの集中を防ぎ、遮断性能を上げることのできる真
空バルブを得ることができる。
According to the invention described in claim 4, the arc voltage and the axial magnetic flux density corresponding to the breaking current of the electrode diameter are set to 0.75 to 0.90 times the magnetic flux density at which the arc voltage becomes the minimum. , The axial magnetic flux generated by the coil electrode,
The axial magnetic flux generated by the energizing coil is superimposed to suppress the magnetic flux density in the center of the contact and gradually increase the magnetic flux density from the center to the outer periphery of the contact, so that the arc is concentrated in the center of the electrode. It is possible to obtain a vacuum valve that can prevent and improve the shutoff performance.

【0084】また、請求項5に記載の発明によれば、軸
方向磁束密度の極大値を、電極の外周に少なくとも3箇
所分布させることで、コイル電極で発生させた軸方向の
磁束と、通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重畳さ
せて、接点の中心部から外周部に磁束密度を次第に高め
るとともに、外周部における磁束密度の分布を脈動させ
たので、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断性能
を上げることのできる真空バルブを得ることができる。
According to the invention described in claim 5, the maximum values of the magnetic flux density in the axial direction are distributed at least at three positions on the outer circumference of the electrode, so that the magnetic flux in the axial direction generated by the coil electrode and the energization are conducted. The axial magnetic flux generated by the coil is superimposed to gradually increase the magnetic flux density from the center of the contact to the outer periphery, and the distribution of the magnetic flux density in the outer periphery is pulsated, so the arc is concentrated at the center of the electrode. It is possible to obtain a vacuum valve capable of preventing the above and improving the shutoff performance.

【0085】また、請求項6に記載の発明によれば、軸
方向磁束密度が最大値(Bmax)となる電極半径位置
における円周方向に対する軸方向磁束密度の最低値をB
minとしたとき、円周方向の軸方向磁束密度が(Bm
ax+Bmin)/2以上となる領域が、全周長に対し
て50%以上とすることで、コイル電極で発生させた軸方
向の磁束と、通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重
畳させて、接点の中心部から外周部に磁束密度を次第に
高めるとともに、外周部における磁束密度の分布を脈動
させたので、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断
性能を上げることのできる真空バルブを得ることができ
る。
According to the sixth aspect of the invention, the minimum value of the axial magnetic flux density in the circumferential direction at the electrode radial position where the axial magnetic flux density has the maximum value (Bmax) is B.
When min, the axial magnetic flux density in the circumferential direction is (Bm
Ax + Bmin) / 2 or more is set to 50% or more of the total circumference so that the axial magnetic flux generated by the coil electrode and the axial magnetic flux generated by the energizing coil are superimposed. , The magnetic flux density was gradually increased from the central part of the contact to the outer peripheral part, and the distribution of the magnetic flux density in the outer peripheral part was pulsated, so it was possible to prevent the concentration of the arc in the central part of the electrode and improve the breaking performance. Obtainable.

【0086】また、請求項7に記載の発明によれば、外
部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離可能に
一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにおいて、
電極の中心部の軸方向磁束密度を、所定の電極径の遮断
電流に対する最低アーク電圧よりも2〜5V高くなる範
囲の磁束密度のうちの最低の磁束密度とすることで、コ
イル電極で発生させた軸方向の磁束と、通電コイルで発
生させた軸方向の磁束を重畳させて、接点の中心部から
外周部に磁束密度を次第に高めるとともに、外周部にお
ける磁束密度の分布を3箇所以上脈動させたので、電極
中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断性能を上げること
のできる真空バルブを得ることができる。
Further, according to the invention described in claim 7, in a vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be contactable and separable via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside,
The axial magnetic flux density at the center of the electrode is set to be the lowest magnetic flux density in the range of 2 to 5 V higher than the lowest arc voltage for the breaking current of a predetermined electrode diameter, so that it is generated at the coil electrode. The axial magnetic flux and the axial magnetic flux generated by the energizing coil are superposed to gradually increase the magnetic flux density from the center of the contact point to the outer peripheral portion, and pulsate the magnetic flux density distribution in the outer peripheral portion at three or more locations. Therefore, it is possible to obtain a vacuum valve that can prevent the arc from concentrating on the central portion of the electrode and improve the breaking performance.

【0087】また、請求項8に記載の発明によれば、ア
ーク電圧が最低となる磁束密度が印加される半径方向位
置を、電極半径の中心から20〜40%の範囲とすること
で、コイル電極で発生させた軸方向の磁束と、通電コイ
ルで発生させた軸方向の磁束を重畳させて、接点の中心
部から外周部に磁束密度を次第に高め、外周部のアーク
電圧を接点材料からも低下させたので、電極中央部への
アークの集中を防ぎ、遮断性能を上げることのできる真
空バルブを得ることができる。
According to the eighth aspect of the invention, the radial position to which the magnetic flux density that minimizes the arc voltage is applied is within the range of 20 to 40% from the center of the electrode radius. The magnetic flux in the axial direction generated by the electrodes and the magnetic flux in the axial direction generated by the energizing coil are superposed to gradually increase the magnetic flux density from the central part of the contact to the outer peripheral part, and the arc voltage of the outer peripheral part also from the contact material. Since it is lowered, it is possible to obtain a vacuum valve capable of preventing the arc from concentrating on the central portion of the electrode and improving the breaking performance.

【0088】また、請求項9に記載の発明によれば、外
部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離可能に
一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにおいて、
電極の外周部に複数の通電コイルを形成することで、コ
イル電極で発生させた軸方向の磁束と、通電コイルで発
生させた軸方向の磁束を重畳させて、接点の中心部から
外周部に磁束密度を次第に高めるとともに、外周部にお
ける磁束密度の分布を脈動させ、外周部のアーク電圧を
接点材料からも低下させたので、電極中央部へのアーク
の集中を防ぎ、遮断性能を上げることのできる真空バル
ブを得ることができる。
Further, according to the invention described in claim 9, in the vacuum valve in which the pair of electrodes are provided in the vacuum container so as to be contactable and separable via the pair of conductive shafts electrically connected to the outside,
By forming multiple energizing coils on the outer periphery of the electrode, the axial magnetic flux generated by the coil electrode and the axial magnetic flux generated by the energizing coil are superposed to move from the center of the contact to the outer periphery. While gradually increasing the magnetic flux density and pulsating the distribution of the magnetic flux density in the outer peripheral part and lowering the arc voltage in the outer peripheral part from the contact material as well, it is possible to prevent the concentration of the arc in the central part of the electrode and improve the breaking performance. A vacuum valve that can be obtained can be obtained.

【0089】さらに、請求項10に記載の発明によれば、
外部と電気的に接続する一対の導電軸を介して接離可能
に一対の電極を真空容器内に設けた真空バルブにおい
て、電極の対向する面に対して、中心部から外周に向か
って接点材料の陰極降下電圧が減少する傾斜特性を有す
る接点を備えることで、コイル電極で発生させた軸方向
の磁束と、通電コイルで発生させた軸方向の磁束を重畳
させて、接点の中心部から外周部に磁束密度を次第に高
めるとともに、外周部における磁束密度の分布を脈動さ
せ、外周部のアーク電圧を接点材料からも低下させたの
で、電極中央部へのアークの集中を防ぎ、遮断性能を上
げることのできる真空バルブを得ることができる。
Further, according to the invention of claim 10,
In a vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so that they can be connected to and separated from each other via a pair of conductive shafts that are electrically connected to the outside, a contact material from the center toward the outer periphery with respect to the facing surfaces of the electrodes. By providing a contact having a gradient characteristic that the cathode drop voltage of the contact is reduced, the axial magnetic flux generated by the coil electrode and the axial magnetic flux generated by the energizing coil are superposed so that the outer circumference is from the center of the contact. While gradually increasing the magnetic flux density in the part, pulsating the distribution of the magnetic flux density in the outer peripheral part and lowering the arc voltage in the outer peripheral part from the contact material, the concentration of the arc in the central part of the electrode is prevented and the interruption performance is improved. It is possible to obtain a vacuum valve that can be used.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の真空バルブの一実施形態を示すグラ
フ。
FIG. 1 is a graph showing an embodiment of a vacuum valve of the present invention.

【図2】本発明の真空バルブの図1と異なる一実施形態
を示すグラフ。
FIG. 2 is a graph showing an embodiment of the vacuum valve of the present invention different from FIG.

【図3】本発明の真空バルブの作用を説明するための軸
方向の磁束密度と電極間のアーク電圧との関係を示すグ
ラフ。
FIG. 3 is a graph showing the relationship between the magnetic flux density in the axial direction and the arc voltage between electrodes for explaining the operation of the vacuum valve of the present invention.

【図4】本発明の真空バルブの一実施形態を示す部分拡
大図。
FIG. 4 is a partially enlarged view showing an embodiment of the vacuum valve of the present invention.

【図5】本発明の真空バルブの一実施形態の詳細を示す
部分拡大断面図。
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing details of an embodiment of a vacuum valve of the present invention.

【図6】本発明の真空バルブの作用を示すグラフ。FIG. 6 is a graph showing the operation of the vacuum valve of the present invention.

【図7】従来の真空バルブの一例を示す部分拡大縦断面
図。
FIG. 7 is a partially enlarged vertical sectional view showing an example of a conventional vacuum valve.

【図8】従来の真空バルブの縦磁界の磁束密度の分布の
一例を示すグラフ。
FIG. 8 is a graph showing an example of the distribution of the magnetic flux density of the vertical magnetic field of the conventional vacuum valve.

【図9】従来の真空バルブの縦磁界の磁束密度の分布の
図8と異なる分布の一例を示すグラフ。
FIG. 9 is a graph showing an example of the distribution of the magnetic flux density of the vertical magnetic field of the conventional vacuum valve, which is different from FIG. 8.

【図10】(a)は、従来の真空バルブの縦磁界電極の
磁束密度の分布の図8及び図9と異なる分布の一例を示
すグラフ。(b)は、従来の真空バルブに組み込まれた
縦磁界電極の一例を示す図。
FIG. 10A is a graph showing an example of the distribution of the magnetic flux density of the vertical magnetic field electrode of the conventional vacuum valve, which is different from FIGS. 8 and 9. FIG. 6B is a diagram showing an example of a vertical magnetic field electrode incorporated in a conventional vacuum valve.

【図11】従来の真空バルブに組み込まれた縦磁界電極
の縦断面図とその磁束分布の一例を示す図。
FIG. 11 is a vertical cross-sectional view of a vertical magnetic field electrode incorporated in a conventional vacuum valve and a diagram showing an example of its magnetic flux distribution.

【図12】従来の真空バルブの縦磁界電極の図8,図
9,図10(a)及び図11と異なる磁束密度分布曲線の一
例を示すグラフ。
FIG. 12 is a graph showing an example of a magnetic flux density distribution curve of a vertical magnetic field electrode of a conventional vacuum valve, which is different from FIGS. 8, 9, 10 (a) and 11.

【図13】従来の真空バルブの縦磁界電極の図8,図
9,図10(a),図11及び図12と異なる磁束密度分布曲
線の一例を示すグラフ。
FIG. 13 is a graph showing an example of a magnetic flux density distribution curve different from those of FIGS. 8, 9, 10 (a), 11 and 12 of a vertical magnetic field electrode of a conventional vacuum valve.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…接点、2…電極板、3…外周部コイル、4…座、5
…コイル支持環、6…可動側通電軸、7…中心コイル、
8…支持管、9…励磁コイル。
1 ... contact point, 2 ... electrode plate, 3 ... outer peripheral coil, 4 ... seat, 5
... Coil support ring, 6 ... Movable side energizing shaft, 7 ... Central coil,
8 ... Support tube, 9 ... Excitation coil.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 佐藤 純一 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 金子 英治 東京都港区芝浦一丁目1番1号 株式会社 東芝本社事務所内 (72)発明者 本間 三孝 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 染井 宏通 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 関 経世 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 (72)発明者 草野 貴史 東京都府中市東芝町1番地 株式会社東芝 府中工場内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Junichi Sato 1 Toshiba Town, Fuchu City, Tokyo Inside the Toshiba Fuchu Factory (72) Inventor Eiji Kaneko 1-1-1, Shibaura, Minato-ku, Tokyo Toshiba Headquarters Co., Ltd. In the office (72) Inventor Mitaka Honma 1 in Toshiba Fuchu factory, Fuchu, Tokyo (72) Inventor Hiromichi Somei 1 in Toshiba Fuchu, Tokyo, Fuchu factory (72) Inventor The 1st place in Toshiba Fuchu factory, Fuchu city, Tokyo (72) Inventor Takashi Kusano 1st Toshiba town, Fuchu city, Tokyo Inside Fuchu factory, Toshiba

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 外部と電気的に接続する一対の導電軸を
介して接離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空
バルブにおいて、前記一対の電極における軸方向の磁束
密度が電極中心側から外側に向けて増加し前記電極半径
の70%の位置の外側で極大値としたことを特徴とする真
空バルブ。
1. A vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be capable of contacting and separating via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside, wherein the magnetic flux density in the axial direction of the pair of electrodes is at the electrode center. A vacuum valve characterized by increasing from the side to the outside and having a maximum value outside the position of 70% of the electrode radius.
【請求項2】 前記軸方向磁束密度の極大値を、所定の
電極径の遮断電流に対する最低アーク電圧を与える磁束
密度の 1.2〜 1.6倍としたことを特徴とする請求項1に
記載の真空バルブ。
2. The vacuum valve according to claim 1, wherein the maximum value of the magnetic flux density in the axial direction is 1.2 to 1.6 times the magnetic flux density that gives the minimum arc voltage to the breaking current of a predetermined electrode diameter. .
【請求項3】 前記電極の外周端での磁束密度を、2mT
/kA以上とし、前記電極中心から前記電極外側方向の放
射線上の少なくとも一つの線上において、前記極大値が
前記電極中心の磁束密度の 1.4〜 2.4倍としたことを特
徴とする請求項1又は請求項2に記載の真空バルブ。
3. The magnetic flux density at the outer peripheral edge of the electrode is 2 mT
/ KA or more, and the maximum value is 1.4 to 2.4 times the magnetic flux density of the electrode center on at least one line on the radiation from the electrode center in the direction outside the electrode. The vacuum valve according to item 2.
【請求項4】 前記電極中心の磁束密度(Bct)を前
記電極径の遮断電流に対応するアーク電圧と前記軸方向
磁束密度との関係から得られる前記アーク電圧が最低と
なる磁束密度(Bcr)の0.75〜0.90倍としたことを特
徴とする請求項1乃至請求項3のいずれかに記載の真空
バルブ。
4. The magnetic flux density (Bcr) at which the arc voltage is the minimum obtained from the relationship between the magnetic flux density (Bct) at the electrode center and the arc voltage corresponding to the breaking current of the electrode diameter and the axial magnetic flux density. The vacuum valve according to any one of claims 1 to 3, wherein the vacuum valve is 0.75 to 0.90 times as large.
【請求項5】 前記軸方向磁束密度の極大値を、前記電
極の外周に少なくとも2箇所分布させたことを特徴とす
る請求項1乃至請求項5のいずれかに記載の真空バル
ブ。
5. The vacuum valve according to claim 1, wherein the maximum values of the magnetic flux density in the axial direction are distributed at least at two positions on the outer circumference of the electrode.
【請求項6】 前記軸方向磁束密度が最大値(Bma
x)となる電極半径位置における円周方向に対する前記
軸方向磁束密度の最低値をBminとしたとき、円周方
向の軸方向磁束密度が(Bmax+Bmin)/2以上
となる領域が、全周長に対して50%以上としたことを特
徴とする請求項1乃至請求項4のいずれかに記載の真空
バルブ。
6. The maximum value of the magnetic flux density in the axial direction (Bma)
x), where Bmin is the minimum value of the axial magnetic flux density in the circumferential direction at the radial position of the electrode, the region where the axial magnetic flux density in the circumferential direction is (Bmax + Bmin) / 2 or more is the entire circumference. The vacuum valve according to any one of claims 1 to 4, wherein the vacuum valve is 50% or more.
【請求項7】 外部と電気的に接続する一対の導電軸を
介して接離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空
バルブにおいて、前記電極の中心部の軸方向磁束密度
を、所定の電極径の遮断電流に対する最低アーク電圧よ
りも2〜5V高くなる範囲の磁束密度のうちの最低の磁
束密度としたことを特徴とする真空バルブ。
7. A vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be able to come into contact with and separate from each other via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside, and a magnetic flux density in the axial direction at a central portion of the electrodes is set to a predetermined value. The vacuum valve is characterized in that it has the lowest magnetic flux density of the magnetic flux densities in the range of 2 to 5 V higher than the lowest arc voltage with respect to the breaking current of the electrode diameter.
【請求項8】 前記アーク電圧が最低となる磁束密度が
印加される半径方向位置を、前記電極半径の中心から20
〜40%の範囲としたことを特徴とする請求項4乃至請求
項6のいずれかに記載の真空バルブ。
8. The radial position to which the magnetic flux density that minimizes the arc voltage is applied is 20 from the center of the electrode radius.
The vacuum valve according to any one of claims 4 to 6, wherein the vacuum valve has a range of -40%.
【請求項9】 外部と電気的に接続する一対の導電軸を
介して接離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真空
バルブにおいて、前記電極の外周部に複数の通電コイル
を形成したことを特徴とする真空バルブ。
9. A vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be able to come into contact with and separate from each other via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside, and a plurality of energizing coils are formed on an outer peripheral portion of the electrodes. A vacuum valve characterized by that.
【請求項10】 外部と電気的に接続する一対の導電軸
を介して接離可能に一対の電極を真空容器内に設けた真
空バルブにおいて、前記電極の対向する面に、中心部か
ら外周に向かって接点材料の陰極降下電圧が減少する傾
斜特性を有する接点を備えたことを特徴とする請求項1
乃至請求項9のいずれかに記載の真空バルブ。
10. A vacuum valve in which a pair of electrodes are provided in a vacuum container so as to be able to come into contact with and separate from each other via a pair of conductive shafts electrically connected to the outside. 2. A contact having a slope characteristic that the cathode drop voltage of the contact material decreases toward the contact.
The vacuum valve according to claim 9.
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