JPH09129838A - Master slice semiconductor integrated circuit device - Google Patents

Master slice semiconductor integrated circuit device

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Publication number
JPH09129838A
JPH09129838A JP7287704A JP28770495A JPH09129838A JP H09129838 A JPH09129838 A JP H09129838A JP 7287704 A JP7287704 A JP 7287704A JP 28770495 A JP28770495 A JP 28770495A JP H09129838 A JPH09129838 A JP H09129838A
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JP
Japan
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transistor
electrically connected
diffusion region
gate electrode
wiring layer
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Application number
JP7287704A
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Japanese (ja)
Inventor
Yasuhiro Oguchi
泰弘 小口
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enable the writing of data in a read-only storage circuit after a wiring process is finished, by applying a voltage across terminals of a wiring layer electrically connected with a gate electrode, and controlling electrical connection and disconnection of programmable elements. SOLUTION: Programmable elements 111, 112 are arranged on a diffusion region of a transistor 103 for word selection, or on wiring layers 109, 110 electrically connected with the diffusion region, and on gate electrodes 107, 108 of transistor rows 113, 114, or between wiring layers 105, 106 electrically connected with the gate electrodes. Electrical conduction and disconnection of the programmable elements is controlled by applying a programming voltage Vp which is a voltage capable of controlling electrical conduction and disconnection of the programmable elements to voltage applying terminals 119, 120, 121, 122. The programming voltage Vp is a voltage exceeding a circuit operation voltage in order not to control unnecessarily electrical connection and disconnection of the programmable elements at the time of circuit operation.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明はマスタスライス型半
導体集積回路装置に係わり前記装置に於けるプログラミ
ング可能な記憶回路を構成する場合の読み出しデータの
書き込み及び読み出し回路構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a master slice type semiconductor integrated circuit device and relates to a read data write and read circuit structure in the case of configuring a programmable memory circuit in the device.

【0002】[0002]

【従来の技術】現在、前記トランジスタを先に製造し配
線工程を変更することにより専用の論理を実現するマス
タスライス型半導体集積回路装置に於いて読み出し専用
記憶回路を含んだ論理を構成する場合、配線工程に於い
て、前記トランジスタと電源配線層、もしくは読み出し
専用記憶回路用トランジスタと電源配線層を金属配線に
より電気的に接続することでデータを書き込み、読み出
し専用記憶回路を構成する方法が主流である。
2. Description of the Related Art Currently, when a logic including a read-only memory circuit is constructed in a master slice type semiconductor integrated circuit device which realizes a dedicated logic by manufacturing the transistor first and changing a wiring process, In the wiring process, a method of writing data by electrically connecting the transistor and the power supply wiring layer or the transistor for the read-only storage circuit and the power supply wiring layer by a metal wiring to configure a read-only storage circuit is the mainstream is there.

【0003】図5に従来のマスタスライス型半導体集積
回路装置に於けるデータ列単位のデータ書き込み方法に
よる5ワードx2ビットの読み出し専用記憶回路の回路
例を示す。図5に於いて501、502、503は読み
出し専用回路装置のワード線、522、523は読み出
し専用記憶回路のビット線である。各々ゲート電極を共
有し前記トランジスタ列を構成する前記第1導電型トラ
ンジスタ、もしくは前記第2導電型トランジスタ、51
6と517、518と519、520と521は、1方
の拡散領域を前記ビット線に電気的に接続され、ビット
線に接続しない拡散領域は電気的にVDD、もしくはV
SSの電位に接続されている。そして、2ビット構成の
読み出し専用記憶回路の場合では、2ビットのデータ列
(0、0)、(1、0)、(0、1)、(1、1)の4
パターンのデータの出力が可能な前記トランジスタ列が
存在し、データの読み出しでは、ワード線501が選択
された場合、選択されたワード線のワード選択用トラン
ジスタ504の接続しているトランジスタ列によりビッ
ト線522、523には(0、0)のデータが出力され
る。図5の従来例では、ワード選択用トランジスタ50
4、505、506の拡散領域は、各々、金属配線、及
びヴィア510、511、512を介して電気的に前記
トランジスタ列のゲート電極に接続されており、配線工
程に於いて製造される。
FIG. 5 shows a circuit example of a read-only memory circuit of 5 words × 2 bits by a data writing method in a data string unit in a conventional master slice type semiconductor integrated circuit device. In FIG. 5, 501, 502, and 503 are word lines of the read-only circuit device, and 522 and 523 are bit lines of the read-only memory circuit. The first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor, each of which shares the gate electrode and constitutes the transistor array, 51
6 and 517, 518 and 519, 520 and 521, one diffusion region is electrically connected to the bit line, and the diffusion region not connected to the bit line is electrically VDD or V.
It is connected to the potential of SS. In the case of a read-only memory circuit having a 2-bit configuration, 4 bits of a 2-bit data string (0,0), (1,0), (0,1), (1,1) are used.
When the word line 501 is selected for data reading when the transistor array capable of outputting the pattern data exists, the bit line is selected by the transistor array connected to the word selection transistor 504 of the selected word line. The data (0, 0) is output to 522 and 523. In the conventional example of FIG. 5, the word selection transistor 50 is used.
The diffusion regions 4, 505 and 506 are electrically connected to the gate electrodes of the transistor columns through metal wirings and vias 510, 511 and 512, respectively, and are manufactured in the wiring process.

【0004】図6に従来のマスタスライス型半導体集積
回路装置に於けるビット単位のデータ書き込み方法によ
る読み出し専用記憶回路の回路例を示す。図6に於いて
605、606、・・・608は前記第1導電型トラン
ジスタ、もしくは前記第2導電型トランジスタであり、
データ書き込み用トランジスタとして機能する。そし
て、601、602は読み出し専用記憶回路装置のワー
ド線、603、604は読み出し専用記憶回路装置のビ
ット線である。ワード線601が選択されると605、
606の前記第1(第2)導電型トランジスタがオン、
ワード線602に接続している607、608の前記第
1(第2)導電型トランジスタがオフし、ビット線60
3にVSS、ビット線604にVDDの電位が出力され
る。図6の従来例も図5の従来例と同様に、ワード線、
データ書き込み用トランジスタ、ビット線は、各々、金
属配線、及びヴィアを介して接続されており、配線工程
に於いて製造される。
FIG. 6 shows a circuit example of a read-only memory circuit in a conventional master slice type semiconductor integrated circuit device by a bit-by-bit data writing method. In FIG. 6, reference numerals 605, 606, ... 608 denote the first conductivity type transistors or the second conductivity type transistors,
Functions as a data writing transistor. 601 and 602 are word lines of the read-only memory circuit device, and 603 and 604 are bit lines of the read-only memory circuit device. When the word line 601 is selected 605,
The first (second) conductivity type transistor of 606 is turned on,
The first (second) conductivity type transistors 607 and 608 connected to the word line 602 are turned off, and the bit line 60
The potential of VSS is output to 3 and the potential of VDD is output to the bit line 604. The conventional example of FIG. 6 is similar to the conventional example of FIG.
The data writing transistor and the bit line are connected to each other through a metal wiring and a via, and are manufactured in the wiring process.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来の方式で
は、配線工程で製造された金属配線、及びヴィアを介し
て、前記電源配線、前記トランジスタ、及び前記ワード
選択用トランジスタの拡散領域を接続することによりデ
ータの書き込み行うために、書き込みデータの修正をす
る場合、マスク修正、及び再製造を行う必要がある。従
って、従来の方法では、書き込みデータの修正は、短納
期を特徴とするマスタスライス型半導体集積回路装置に
於いて其の特徴である短納期の障害になると同時に、書
き込みデータの修正に於けるコストの増加となる。ま
た、配線工程でデータが書き込まれるため、チップ単位
で異なる個別データを書き込むことも不可能である。
However, in the conventional method, the power supply wiring, the transistor, and the diffusion region of the word selection transistor are connected through the metal wiring manufactured in the wiring process and the via. Therefore, in order to write the data, when the write data is corrected, it is necessary to perform mask correction and remanufacturing. Therefore, in the conventional method, the correction of the write data is an obstacle to the short delivery time which is the characteristic of the master slice type semiconductor integrated circuit device characterized by the short delivery time, and at the same time, the cost for the correction of the write data is high. Will increase. Further, since the data is written in the wiring process, it is impossible to write different individual data for each chip.

【0006】本発明は、前記の問題点を解決するもの
で、マスタスライス型半導体集積回路装置に於いて、配
線工程で製造可能で、かつ製造終了後プログラム可能な
プログラマブル素子を使用し、効率的なデータ書き込み
構造を提供することが目的である。
The present invention solves the above-mentioned problems, and in a master slice type semiconductor integrated circuit device, a programmable element which can be manufactured in a wiring step and which can be programmed after the manufacturing is completed is used. The purpose is to provide a secure data writing structure.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】半導体基板上に論理を構
成する1個以上の第1導電型トランジスタと1個以上の
第2導電型トランジスタ、金属配線層及び電気的に導
通、非導通の制御可能な1個以上のプログラマブル素子
を有するマスタスライス型半導体集積回路装置に於い
て、前記第1導電型トランジスタ、もしくは前記第2導
電型トランジスタのゲート電極を1個以上電気的に接続
することにより構成されるトランジスタ列と、データを
選択するワード選択用トランジスタと、前記ワード選択
用トランジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の
拡散領域と電気的に接続された配線層と、前記トランジ
スタ列のゲート電極、もしくは前記ゲート電極と電気的
に接続された配線層の層間に前記プログラマブル素子が
存在し、前記ワード選択用トランジスタの1方の拡散領
域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に接続された
配線層と、前記トランジスタ列のゲート電極、もしくは
前記ゲート電極と電気的に接続された配線層に存在する
端子間に電圧を印加することによりプログラマブル素子
の導通、非導通を制御し記憶回路を構成し、1個の前記
ワード選択用トランジスタの1方の拡散領域、もしくは
前記1方の拡散領域と電気的に接続された配線層が1個
の前記トランジスタ列のゲート電極と電気的に接続する
ことを特徴とする、もしくは1個の前記ワード選択用ト
ランジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散
領域と電気的に接続された配線層が複数個の前記トラン
ジスタ列のゲート電極と電気的に接続することを特徴と
する。
Means for Solving the Problems One or more first conductivity type transistors and one or more second conductivity type transistors forming a logic on a semiconductor substrate, a metal wiring layer, and electrically conductive / non-conductive control. In a master slice type semiconductor integrated circuit device having one or more programmable elements capable of being configured, one or more gate electrodes of the first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor are electrically connected. Of the transistor row, a word selecting transistor for selecting data, one diffusion region of the word selecting transistor, or a wiring layer electrically connected to the one diffusion region, and The programmable element is present between the gate electrode or the wiring layer electrically connected to the gate electrode, and the word selection is performed. Existing in one diffusion region of the transistor for use, or a wiring layer electrically connected to the one diffusion region, a gate electrode of the transistor row, or a wiring layer electrically connected to the gate electrode. A memory circuit is configured by controlling conduction and non-conduction of a programmable element by applying a voltage between terminals, and electrically connects with one diffusion region of one word selection transistor or one diffusion region of the word selection transistor. Is electrically connected to the gate electrode of one transistor row, or one diffusion region of one word selection transistor, or one diffusion region of the word selection transistor. The wiring layer electrically connected to the region is electrically connected to the gate electrodes of the plurality of transistor columns.

【0008】半導体基板上に論理を構成する1個以上の
第1導電型トランジスタと1個以上の第2導電型トラン
ジスタ、金属配線層及び電気的に導通、非導通の制御可
能な1個以上のプログラマブル素子を有するマスタスラ
イス型半導体集積回路装置に於いて、前記第1導電型ト
ランジスタ、もしくは前記第2導電型トランジスタのゲ
ート電極を1個以上電気的に接続することにより構成さ
れるトランジスタ列と、データを選択するワード選択用
トランジスタと、前記ワード選択用トランジスタの1方
の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に接
続された配線層と、前記トランジスタ列のゲート電極、
もしくは前記ゲート電極と電気的に接続された配線層の
層間に配置された前記プログラマブル素子と、前記プロ
グラマブル素子と前記トランジスタ列のゲート電極の電
気的な接続を制御するための制御用トランジスタが存在
し、前記制御用トランジスタにより前記プログラマブル
素子と前記トランジスタ列のゲート電極の接続を電気的
に分離して、前記ワード選択用トランジスタの1方の拡
散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に接続さ
れた配線層と、前記トランジスタ列のゲート電極、もし
くは前記ゲート電極と電気的に接続された配線層に存在
する端子間に電圧を印加することによりプログラマブル
素子の導通、非導通を制御し記憶回路を構成し、1個の
前記ワード選択用トランジスタの1方の拡散領域、もし
くは前記1方の拡散領域と電気的に接続された配線層が
1個の前記トランジスタ列のゲート電極と電気的に接続
する、もしくは1個の前記ワード選択用トランジスタの
1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的
に接続された配線層が複数個の前記トランジスタ列のゲ
ート電極と電気的に接続することを特徴とする。
One or more first conductivity type transistors and one or more second conductivity type transistors forming logic on a semiconductor substrate, a metal wiring layer, and one or more electrically conductive / non-conductive controllable elements. In a master slice type semiconductor integrated circuit device having a programmable element, a transistor array configured by electrically connecting at least one gate electrode of the first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor, A word selecting transistor for selecting data, one diffusion region of the word selecting transistor, or a wiring layer electrically connected to the one diffusion region, and a gate electrode of the transistor array,
Alternatively, there is the programmable element arranged between layers of a wiring layer electrically connected to the gate electrode, and a control transistor for controlling electrical connection between the programmable element and the gate electrode of the transistor array. , The control transistor electrically separates the connection between the programmable element and the gate electrode of the transistor row to electrically connect to one diffusion region of the word selection transistor or to one diffusion region of the word selection transistor. A conductive layer and a gate electrode of the transistor array or a terminal existing in a wiring layer electrically connected to the gate electrode by applying a voltage to control conduction and non-conduction of the programmable element to control the memory circuit. And a diffusion region of one of the word selection transistors or an expansion of the one of the word selection transistors. A wiring layer electrically connected to the region is electrically connected to a gate electrode of one transistor row, or one diffusion region of one word selection transistor, or one diffusion region of the word selection transistor. And a wiring layer electrically connected to the gate electrodes of the plurality of transistor columns.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】図1に本発明に於けるプログラマ
ブル素子を有するデータ列単位でのデータプログラミン
グ可能な記憶回路の第1の基本構成回路例を示す。図1
に於いて、101、102は読み出し専用回路装置のワ
ード線、103、104はワード選択用トランジスタ、
117、118は読み出し専用記憶回路のビット線であ
る。各々ゲート電極を共有し前記トランジスタ列11
3、114を構成する前記第1導電型トランジスタ、も
しくは前記第2導電型トランジスタ、115、116
は、1方の拡散領域を前記ビット線に電気的に接続さ
れ、ビット線に接続しない拡散領域は電気的にVDD、
もしくはVSSの電位に接続される。そして、3ビット
構成の読み出し専用記憶回路の場合では、3ビットのデ
ータ列(0、0、0)、(1、0、0)、(0、1、
0)、・・・(1、1、1)の8パターンのデータを出
力することが可能な前記トランジスタ列が存在する。図
1に於ける111、112は本発明のプログラマブル素
子、119、120、121、122は本発明のプログ
ラマブル素子への電圧印加端子である。前記プログラマ
ブル素子111、112は、前記ワード選択用トランジ
スタ103の拡散領域、もしくは拡散領域と電気的に接
続された配線層109、110と、前記トランジスタ列
113、114のゲート電極107、108、もしくは
ゲート電極と電気的に接続された配線層105、106
の層間に配置されている。そして、前記電圧印加端子1
19、120、121、122にプログラミング素子の
プログラミング素子の導通、非道通を制御可能な電圧で
あるプログラミング電圧VPを印加することによりプロ
グラマブル素子の導通、非道通が制御する。また、回路
動作時にプログラミング素子が不必要に導通、非道通の
制御がされないように、プログラミング電圧VPは回路
動作電圧を越える電圧である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a first basic configuration circuit example of a memory circuit having programmable elements according to the present invention and capable of data programming in data string units. FIG.
, 101 and 102 are word lines of a read-only circuit device, 103 and 104 are word selection transistors,
Reference numerals 117 and 118 denote bit lines of the read-only memory circuit. Each of the transistor arrays 11 shares a gate electrode.
3, 114, the first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor, 115, 116.
One of the diffusion regions is electrically connected to the bit line, and the diffusion region not connected to the bit line is electrically VDD,
Alternatively, it is connected to the potential of VSS. In the case of a read-only memory circuit having a 3-bit structure, 3-bit data strings (0, 0, 0), (1, 0, 0), (0, 1,
0), ... (1, 1, 1) There are the above-mentioned transistor arrays capable of outputting eight patterns of data. In FIG. 1, 111 and 112 are programmable elements according to the present invention, and 119, 120, 121 and 122 are voltage application terminals to the programmable elements according to the present invention. The programmable elements 111 and 112 include a diffusion region of the word selection transistor 103, or wiring layers 109 and 110 electrically connected to the diffusion region, and gate electrodes 107 and 108 or gates of the transistor rows 113 and 114. Wiring layers 105 and 106 electrically connected to the electrodes
Are located between the layers. Then, the voltage applying terminal 1
Application of a programming voltage VP, which is a voltage capable of controlling conduction / non-conduction of the programming element of the programming element, to 19, 120, 121, 122 controls conduction / non-conduction of the programmable element. Further, the programming voltage VP is a voltage exceeding the circuit operation voltage so that the programming element is not unnecessarily turned on or off during the circuit operation.

【0010】図2に本発明に於けるプログラマブル素子
を有するデータ列単位でのデータプログラミング可能な
記憶回路のプログラミング回路例を示す。図2に於い
て、201、202、203はワード選択用トランジス
タ、221、222、223はワード選択用トランジス
タを制御するゲート端子、そして、204、227はす
べてのワード選択用トランジスタの拡散領域に接続し、
データ書き込み時、及びデータ読み出し時に電位を供給
する電源端子、及び配線である。そして、218、21
9、220はトランジスタ列選択用トランジスタ、22
4、225、226はトランジスタ列選択用トランジス
タを制御するゲート端子、そして、205、228はす
べてのトランジスタ列選択用トランジスタの拡散領域に
接続し、少なくともデータ書き込み時に電位を供給する
電源端子、及び配線である。また、209、210、・
・・217は本発明のプログラマブル素子である。図2
に示した回路では、電圧印加端子204にVSS(また
はプログラミング電圧VP)、電圧印加端子205にプ
ログラミング電圧VP(またはVSS)を印加した状態
に於いて、ワード選択用トランジスタ201が選択され
た時に、トランジスタ列1のデータを出力するようにデ
ータを書き込む場合、トランジスタ列1を選択するトラ
ンジスタ220をオン、トランジスタ列2、Nを選択す
るトランジスタ218、219をオフし、かつワード選
択用トランジスタ201をオン、ワード選択用トランジ
スタ202、203をオフすることにより前記プログラ
マブル素子209にプログラミング電圧VPが印加され
非導通状態から導通状態になり、データの書き込みが行
われる。前記プログラマブル素子209を除いて、プロ
グラマブル素子210、・・・217にプログラミング
電圧VPは印加されないためプログラマブル素子21
0、・・・217は非導通状態である。従って、データ
読み出し時に、ワード選択用トランジスタ201が選択
された場合、トランジスタ列1のトランジスタのみが有
効になり、前記トランジスタ列1のデータが出力され
る。また、プログラマブル素子が最初導通状態にあるプ
ログラマブル素子の場合、選択しないすべての前記トラ
ンジスタ列のゲート電極、もしくは前記ゲート電極と電
気的に接続された配線層と、前記ワード選択用トランジ
スタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と
電気的に接続された配線層の層間に配置されたプログラ
マブル素子に電圧を印加し、プログラマブル素子を導通
状態から非道通状態にすることによりデータの書き込み
が可能である。
FIG. 2 shows an example of a programming circuit of a memory circuit having programmable elements according to the present invention and capable of data programming in data string units. In FIG. 2, 201, 202 and 203 are word selection transistors, 221, 222 and 223 are gate terminals for controlling the word selection transistors, and 204 and 227 are connected to diffusion regions of all word selection transistors. Then
A power supply terminal that supplies a potential when writing data and reading data, and a wiring. And 218, 21
Reference numerals 9 and 220 denote transistor row selection transistors, 22
4, 225 and 226 are gate terminals for controlling the transistor row selecting transistors, and 205 and 228 are connected to the diffusion regions of all the transistor row selecting transistors, and at least power supply terminals for supplying a potential at the time of data writing, and wiring. Is. Also, 209, 210, ...
.. 217 are programmable elements of the present invention. FIG.
In the circuit shown in FIG. 5, when the word selection transistor 201 is selected in a state where VSS (or programming voltage VP) is applied to the voltage application terminal 204 and programming voltage VP (or VSS) is applied to the voltage application terminal 205, When writing data to output the data of the transistor row 1, the transistor 220 that selects the transistor row 1 is turned on, the transistors 218 and 219 that select the transistor row 2, N are turned off, and the word selection transistor 201 is turned on. By turning off the word selection transistors 202 and 203, the programming voltage VP is applied to the programmable element 209 to change from the non-conducting state to the conducting state, and data writing is performed. Except for the programmable element 209, the programmable element 210, ...
0, ..., 217 are in a non-conductive state. Therefore, when the word selection transistor 201 is selected at the time of reading data, only the transistor of the transistor row 1 is enabled and the data of the transistor row 1 is output. In the case where the programmable element is the first conductive element, the gate electrodes of all the transistor rows that are not selected, or the wiring layer electrically connected to the gate electrodes, and one of the word selecting transistors are selected. Data can be written by applying a voltage to a diffusion region or a programmable element arranged between layers of a wiring layer electrically connected to the one diffusion region to change the programmable element from a conductive state to a non-conductive state. It is possible.

【0011】図3に本発明に於けるプログラマブル素子
を有するデータ列単位でのデータプログラミング可能な
記憶回路の第2の基本構成回路例を示す図である。図3
に於いて、304、305、306はワード選択用トラ
ンジスタ、301、302、303はワード選択用トラ
ンジスタを制御するゲート端子、そして、307、30
8はすべてのワード選択用トランジスタの拡散領域に接
続し、データ書き込み時、及びデータ読み出し時に電位
を供給する電源端子、及び配線である。そして、32
3、324、325はトランジスタ列選択用トランジス
タ、326、327、328はトランジスタ列選択用ト
ランジスタを制御するゲート端子、そして、329、3
30はすべてのトランジスタ列選択用トランジスタの拡
散領域に接続し、少なくとも、データ書き込み時に電位
を供給する電源端子、及び配線である。また、309、
310、・・・314は本発明のプログラマブル素子で
ある。そして、318、319、320は本発明のプロ
グラマブル素子とトランジスタ列の接続制御用トランジ
スタ、321は本発明のプログラマブル素子とトランジ
スタ列の接続制御用トランジスタを制御するゲート端子
である。図3に示した回路でのデータ書き込みは、電圧
印加端子307にVSS(またはプログラミング電圧V
P)、電圧印加端子329にプログラミング電圧VP
(またはVSS)を印加し、かつ前記プログラマブル素
子とトランジスタ列の接続制御用トランジスタを制御す
るゲート端子321に電圧を印加し前記接続制御用トラ
ンジスタをオフした状態に於いて、ワード選択用トラン
ジスタ304が選択された時に、トランジスタ列1のデ
ータを出力するようにデータを書き込む場合、トランジ
スタ列1を選択するトランジスタ323をオン、トラン
ジスタ列2、Nを選択するトランジスタ324、325
をオフし、かつワード選択用トランジスタ304をオ
ン、ワード選択用トランジスタ305、306をオフす
ることにより前記プログラマブル素子309にプログラ
ミング電圧VPが印加され非導通状態から導通状態にな
り、データの書き込みが行われる。本実施例に於いて、
前記接続制御用トランジスタ318、319、320を
配置し、データの書き込み時に前記接続制御用トランジ
スタをオフすることにより、前記電源端子307、もし
くは前記電源端子329に印加されるプログラミング電
圧は前記トランジスタ列を構成するトランジスタのゲー
ト端子に印加されない。前記の如く、プログラミング電
圧は回路動作電圧以上の電圧であるため、本発明の接続
制御用トランジスタが存在しない場合、前記トランジス
タ列を構成するトランジスタはプログラミング電圧以上
のゲート・ソース間耐圧を有する必要があり、高速動作
を行う微細プロセスを使用したトランジスタを前記トラ
ンジスタ列に使用することは困難である。しかし、本発
明の接続制御用トランジスタにより、プログラミング素
子の書き込み回路と前記トランジスタ列が分離できるた
め、前記トランジスタ列を構成するトランジスタに高速
動作を行う微細プロセスを使用したトランジスタを使用
することが可能である。
FIG. 3 is a diagram showing a second basic configuration circuit example of a memory circuit having programmable elements according to the present invention and capable of data programming in data string units. FIG.
, 304, 305, 306 are word selection transistors, 301, 302, 303 are gate terminals for controlling the word selection transistors, and 307, 30
Reference numeral 8 denotes a power supply terminal connected to the diffusion regions of all the word selection transistors and supplying a potential during data writing and data reading, and wiring. And 32
3, 324, 325 are transistor row selecting transistors, 326, 327, 328 are gate terminals for controlling the transistor row selecting transistors, and 329, 3
Reference numeral 30 is a power supply terminal that is connected to the diffusion regions of all the transistor column selection transistors and supplies a potential at the time of writing data, and a wiring. Also, 309,
Reference numerals 310, ..., 314 are programmable elements of the present invention. Reference numerals 318, 319 and 320 denote transistors for controlling the connection between the programmable element and the transistor row of the present invention, and 321 denotes a gate terminal for controlling the connection control transistor between the programmable element and the transistor row of the present invention. To write data in the circuit shown in FIG. 3, VSS (or programming voltage V
P), programming voltage VP at voltage application terminal 329
(Or VSS) is applied and a voltage is applied to the gate terminal 321 for controlling the connection control transistor of the programmable element and the transistor array to turn off the connection control transistor. When data is written so as to output the data of the transistor array 1 when selected, the transistor 323 that selects the transistor array 1 is turned on, and the transistors 324 and 325 that select the transistor array 2 and N.
Is turned off, the word selection transistor 304 is turned on, and the word selection transistors 305 and 306 are turned off, the programming voltage VP is applied to the programmable element 309 to change from the non-conducting state to the conducting state, and data writing is performed. Be seen. In this embodiment,
By arranging the connection control transistors 318, 319 and 320 and turning off the connection control transistor at the time of writing data, the programming voltage applied to the power supply terminal 307 or the power supply terminal 329 is set to the transistor row. It is not applied to the gate terminals of the constituent transistors. As described above, the programming voltage is equal to or higher than the circuit operating voltage. Therefore, if the connection control transistor of the present invention is not present, the transistors forming the transistor array need to have a gate-source breakdown voltage equal to or higher than the programming voltage. Therefore, it is difficult to use a transistor using a fine process that operates at high speed for the transistor array. However, since the writing circuit of the programming element and the transistor row can be separated by the connection control transistor of the present invention, it is possible to use a transistor that uses a fine process for high-speed operation as a transistor forming the transistor row. is there.

【0012】図4に本発明に於けるプログラマブル素子
を有するデータ列単位でのデータプログラミング可能な
記憶回路の第3の基本構成回路例を示す図である。図4
に於いて、404、405、406はワード選択用トラ
ンジスタ、401、402、403はワード選択用トラ
ンジスタを制御するゲート端子、そして、407、40
8はすべてのワード選択用トランジスタの拡散領域に接
続し、データ書き込み時、もしくはデータ読み出し時に
電位を供給する電源端子、及び配線である。そして、4
27、428、429、430はトランジスタ列選択用
トランジスタ、431、432、433、434はトラ
ンジスタ列選択用トランジスタを制御するゲート端子、
そして、435、436はすべてのトランジスタ列選択
用トランジスタの拡散領域に接続し、データ書き込み
時、もしくはデータ読み出し時に電位を供給する電源端
子、及び配線である。また、409、410、・・・4
16は本発明のプログラマブル素子である。そして、4
37、438は本発明の異なるトランジスタ列により構
成され、かつ電気的に分離されているビット線である。
8ビットの読み出し専用記憶回路の場合、8ビットのデ
ータ列は(0、0、0、0、0、0、0、0)、(1、
0、0、0、0、0、0、0)、・・・(1、1、1、
1、1、1、1、1)の256パターンであり、8ビッ
トの読み出し専用回路を作成する場合、前記256パタ
ーンのデータを出力することが可能な前記トランジスタ
列が必要である。しかし、8ビットを4ビットの2ブロ
ックに分割した場合、4ビットのデータ列16パターン
の2倍である32パターンのトランジスタ列で8ビット
の回路を構成することが可能である。すなわち、図4に
示した回路では、電圧印加端子407にVSS(または
プログラミング電圧VP)、電圧印加端子435にプロ
グラミング電圧VP(またはVSS)を印加した状態に
於いて、ワード選択用トランジスタ404が選択された
時に、トランジスタ列1とトランジスタ列Aのデータを
出力するようにデータを書き込む場合、トランジスタ列
1を選択するトランジスタ427、及びトランジスタ列
Aを選択するトランジスタ430をオン、トランジスタ
列2を選択するトランジスタ428、及びトランジスタ
列Bを選択するトランジスタ429をオフし、かつワー
ド選択用トランジスタ404をオン、ワード選択用トラ
ンジスタ405、406をオフすることにより前記プロ
グラマブル素子409、420にプログラミング電圧V
Pが印加され非導通状態から導通状態になり、データの
書き込みが行われる。そして、データ読み出し時に、ワ
ード選択用トランジスタ404が選択された場合、トラ
ンジスタ列1のトランジスタ、及びトランジスタ列Aの
トランジスタが有効になり、前記トランジスタ列1、及
び前記トランジスタ列Aのデータが出力される。そし
て、トランジスタ列1の前記データを上位ビット(下位
ビット)、及びトランジスタ列Aの前記データを下位ビ
ット(上位ビット)として組み合わせることによりトラ
ンジスタ列1のビット数とトランジスタ列Aのビット数
の合算のビット数相当のデータを表すことが可能であ
る。従って、本実施例に於いて、トランジスタ列1を4
ビット、トランジスタ列Aを4ビットとした場合、8ビ
ットのトランジスタ列を使用して、256パターン作成
する場合に比較して、金属配線、トランジスタ列、プロ
グラマブル素子の数を減らすことが可能である。
FIG. 4 is a diagram showing a third basic configuration circuit example of a memory circuit having programmable elements according to the present invention and capable of data programming in data string units. FIG.
, 404, 405, 406 are word selection transistors, 401, 402, 403 are gate terminals for controlling the word selection transistors, and 407, 40.
Reference numeral 8 denotes a power supply terminal, which is connected to the diffusion regions of all word selection transistors, supplies a potential when writing data or reading data, and wiring. And 4
27, 428, 429 and 430 are transistor row selecting transistors, 431, 432, 433 and 434 are gate terminals for controlling the transistor row selecting transistors,
435 and 436 are power supply terminals and wirings connected to the diffusion regions of all the transistor column selecting transistors and supplying a potential at the time of data writing or data reading. Also, 409, 410, ... 4
16 is a programmable element of the present invention. And 4
Reference numerals 37 and 438 are bit lines which are composed of different transistor arrays of the present invention and which are electrically isolated.
In the case of the 8-bit read-only memory circuit, the 8-bit data string is (0, 0, 0, 0, 0, 0, 0, 0), (1,
(0, 0, 0, 0, 0, 0, 0), ... (1, 1, 1,
256 patterns of 1, 1, 1, 1, 1), and when forming an 8-bit read-only circuit, the transistor array capable of outputting the 256-pattern data is required. However, when 8 bits are divided into two blocks of 4 bits, it is possible to configure an 8-bit circuit with 32 patterns of transistor arrays, which is twice as many as 16 patterns of 4-bit data arrays. That is, in the circuit shown in FIG. 4, the word selection transistor 404 is selected in the state where VSS (or programming voltage VP) is applied to the voltage application terminal 407 and programming voltage VP (or VSS) is applied to the voltage application terminal 435. When writing data so as to output the data of the transistor row 1 and the transistor row A at the time, the transistor 427 selecting the transistor row 1 and the transistor 430 selecting the transistor row A are turned on and the transistor row 2 is selected. The programming voltage V is applied to the programmable elements 409 and 420 by turning off the transistor 428 and the transistor 429 that selects the transistor array B, turning on the word selecting transistor 404 and turning off the word selecting transistors 405 and 406.
P is applied to change from the non-conducting state to the conducting state, and data writing is performed. Then, when the word selection transistor 404 is selected at the time of data reading, the transistors of the transistor array 1 and the transistors of the transistor array A are enabled, and the data of the transistor array 1 and the transistor array A are output. . Then, the data of the transistor row 1 is combined with the upper bit (lower bit) and the data of the transistor row A is combined with the lower bit (upper bit) to obtain the sum of the bit number of the transistor row 1 and the bit number of the transistor row A. It is possible to represent data corresponding to the number of bits. Therefore, in this embodiment, the transistor row 1 is set to 4
When the number of bits and the transistor array A is 4 bits, the number of metal wirings, transistor arrays, and programmable elements can be reduced as compared with the case where an 8-bit transistor array is used and 256 patterns are formed.

【0013】[0013]

【発明の効果】以上記したように本発明によれば、マス
タスライス型半導体集積回路装置に於いて、配線工程終
了後、読み出し専用記憶回路内のデータの書き込みが実
現可能であり、データの修正を低コスト、短時間で実現
することができ、かつ配線工程終了後、読み出し専用記
憶回路内のデータの書き込みが実現可能であるため、チ
ップ専用データの書き込みができるという効果を有す
る。
As described above, according to the present invention, in the master slice type semiconductor integrated circuit device, it is possible to write the data in the read-only memory circuit after the wiring process is completed, and the data is corrected. Can be realized at low cost in a short time, and data can be written in the read-only memory circuit after the wiring process is completed. Therefore, there is an effect that data dedicated to the chip can be written.

【0014】また、本発明の接続制御用トランジスタに
より回路動作電圧を越えるプログラミング電圧の印加さ
れる書き込み回路のトランジスタとトランジスタ列のト
ランジスタを分離することができるという効果を有す
る。
Further, the connection control transistor of the present invention has the effect that the transistor of the write circuit to which the programming voltage exceeding the circuit operating voltage is applied and the transistor of the transistor array can be separated.

【0015】また、読み出し専用回路のビット構成を変
更しブロック化することにより、読み出し専用回路の回
路を構成する金属配線数、トランジスタ数、プログラマ
ブル素子数を減少させ、効率的にプログラミング可能な
読み出し専用回路を構成することができるという効果を
有する。
Further, by changing the bit configuration of the read-only circuit to form blocks, the number of metal wirings, transistors, and programmable elements forming the circuit of the read-only circuit can be reduced, and read-only can be efficiently programmed. It has an effect that a circuit can be configured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に於けるプログラマブル素子を有するデ
ータ列単位でのデータプログラミング可能な記憶回路の
第1の基本構成回路例を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a first basic configuration circuit example of a memory circuit capable of data programming in a data string unit having a programmable element in the present invention.

【図2】本発明に於けるプログラマブル素子を有するデ
ータ列単位でのデータプログラミング可能な記憶回路の
プログラミング回路例を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing an example of a programming circuit of a memory circuit capable of data programming in data string units having programmable elements according to the present invention.

【図3】本発明に於けるプログラマブル素子を有するデ
ータ列単位でのデータプログラミング可能な記憶回路の
第2の基本構成回路例を示す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a second basic configuration circuit example of a memory circuit capable of data programming in data string units having programmable elements according to the present invention.

【図4】本発明に於けるプログラマブル素子を有するデ
ータ列単位でのデータプログラミング可能な記憶回路の
第3の基本構成回路例を示す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a third basic configuration circuit example of a memory circuit capable of data programming in data string units having programmable elements according to the present invention.

【図5】従来のマスタスライス型半導体集積回路装置に
於けるデータ列単位のデータ書き込み方法による読み出
し専用記憶回路の5ワードx2ビット回路例を示す図で
ある。
FIG. 5 is a diagram showing an example of a 5-word × 2-bit circuit of a read-only memory circuit by a data writing method in data string units in a conventional master slice type semiconductor integrated circuit device.

【図6】従来のマスタスライス型半導体集積回路装置に
於けるビット単位のデータ書き込み方法による読み出し
専用記憶回路の4ワードx2ビット回路例を示す図であ
る。
FIG. 6 is a diagram showing a 4-word × 2-bit circuit example of a read-only memory circuit by a bit-wise data writing method in a conventional master slice type semiconductor integrated circuit device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

101、102、501、502、503、601、6
02 ・・・ ワード選択用トランジスタのゲート電極 103、104、201、202、203、304、3
05、306、404、405、406、504、50
5、506 ・・・ ワード選択用トランジスタ 105、106、107、108、206、207、2
08、315、316、317、417、418、41
9、420、423、424、425、426、50
7、508、509、513、514、515 ・・・
トランジスタ列のゲート電極、もしくはトランジスタ
列のゲート電極と電気回路的に接続された領域 109、110、229、230、331、332、4
21、422 ・・・ワード選択用トランジスタのドレ
イン領域、もしくはワード選択用トランジスタのドレイ
ン領域と電気回路的に接続された領域 111、112、209、210、211、212、2
13、214、215、216、217、309、31
0、311、312、313、314、409、41
0、411、412、413、414、415、416
・・・ プログラマブル素子 113、114 ・・・ ゲート電極を共有するトラン
ジスタ列 115、116、516、517、518、519、5
20、521 ・・・ゲート電極を共有するトランジス
タ列を構成するトランジスタ 117、118、437、438、522、523、6
03、604 ・・・ビット線 119、120 ・・・ トランジスタ列のゲート電
極、もしくはゲート選択トランジスタのゲート電極と電
気回路的に接続された領域への信号接続端子 121、122、204、307、407 ・・・ ワ
ード選択用トランジスタの拡散領域、もしくはワード選
択用トランジスタの拡散領域と電気回路的に接続された
領域への信号接続端子 205、329、435 ・・・ トランジスタ列選択
用トランジスタの拡散領域、もしくはトランジスタ列選
択用トランジスタの拡散領域と電気回路的に接続された
領域への信号接続端子 218、219、220、323、324、325、4
27、428、429、430 ・・・ トランジスタ
列選択用トランジスタ 221、222、223、301、302、303、4
01、402、403・・・ ワード選択用トランジス
タのゲート端子への信号接続端子 224、225、226、326、327、328、4
31、432、433、434 ・・・ トランジスタ
列選択用トランジスタのゲート端子への信号接続端子 227、308、408 ・・・ ワード選択用トラン
ジスタの拡散領域、もしくはワード選択用トランジスタ
の拡散領域と電気回路的に接続された領域への信号配線 228、330、436 ・・・ トランジスタ列選択
用トランジスタの拡散領域、もしくはトランジスタ列選
択用トランジスタの拡散領域と電気回路的に接続された
領域への信号配線 318、319、320 ・・・ プログラマブル素子
とトランジスタ列の接続制御用トランジスタ 321 ・・・ 接続制御用トランジスタの制御端子へ
の信号接続端子 322 ・・・ 接続制御用トランジスタの制御端子へ
の信号配線 510、511、512 ・・・ ヴィア 605、606、607、608 ・・・ データ書き
込み用トランジスタ
101, 102, 501, 502, 503, 601, 6
02 ... Gate electrodes of word selection transistors 103, 104, 201, 202, 203, 304, 3
05, 306, 404, 405, 406, 504, 50
5, 506 ... Word selection transistors 105, 106, 107, 108, 206, 207, 2
08, 315, 316, 317, 417, 418, 41
9, 420, 423, 424, 425, 426, 50
7, 508, 509, 513, 514, 515 ...
Gate electrodes of transistor rows or regions 109, 110, 229, 230, 331, 332, 4 electrically connected to gate electrodes of transistor rows in an electric circuit
21, 422 ... Drain region of word selection transistor, or region 111, 112, 209, 210, 211, 212, 2 electrically connected to the drain region of word selection transistor
13, 214, 215, 216, 217, 309, 31
0, 311, 312, 313, 314, 409, 41
0, 411, 412, 413, 414, 415, 416
... Programmable elements 113, 114 ... Transistor rows 115, 116, 516, 517, 518, 519, 5 sharing a gate electrode
20, 521 ... Transistors 117, 118, 437, 438, 522, 523, 6 forming a transistor array sharing a gate electrode
03, 604 ... Bit lines 119, 120 ... Signal connection terminals 121, 122, 204, 307, 407 to regions electrically connected to the gate electrodes of the transistor columns or the gate electrodes of the gate selection transistors ... Signal connection terminals 205, 329, 435 to diffusion regions of word selection transistors or regions electrically connected to diffusion regions of word selection transistors 205, 329, 435 ... Diffusion regions of transistor row selection transistors, Alternatively, signal connection terminals 218, 219, 220, 323, 324, 325, 4 to regions electrically connected to the diffusion regions of the transistor row selection transistors in an electric circuit manner.
27, 428, 429, 430 ... Transistor column selection transistors 221, 222, 223, 301, 302, 303, 4
01, 402, 403 ... Signal connection terminals 224, 225, 226, 326, 327, 328, 4 to the gate terminals of the word selection transistors
31, 432, 433, 434 ... Signal connection terminals 227, 308, 408 to gate terminals of transistor row selecting transistors 227, 308, 408 ... Diffusion regions of word selecting transistors, or diffusion regions of word selecting transistors and electric circuits Wiring 228, 330, 436 to the region electrically connected to each other ... Signal wiring to the diffusion region of the transistor for transistor row selection or to the region electrically connected to the diffusion region of the transistor for transistor row selection 318 319, 320 ... Transistor for controlling connection between programmable element and transistor array 321 ... Signal connecting terminal to control terminal of connection controlling transistor 322 ... Signal wiring to control terminal of connection controlling transistor 510, 511, 512 ... Via 605, 606 607, 608 ... data write transistor

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体基板上に論理を構成する1個以上
の第1導電型トランジスタと1個以上の第2導電型トラ
ンジスタ、金属配線層及び電気的に導通、非導通の制御
可能な1個以上のプログラマブル素子を有するマスタス
ライス型半導体集積回路装置に於いて、前記第1導電型
トランジスタ、もしくは前記第2導電型トランジスタの
ゲート電極を1個以上電気的に接続することにより構成
されるトランジスタ列と、データを選択するワード選択
用トランジスタと、前記ワード選択用トランジスタの1
方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に
接続された配線層と、前記トランジスタ列のゲート電
極、もしくは前記ゲート電極と電気的に接続された配線
層の層間に前記プログラマブル素子が存在し、前記ワー
ド選択用トランジスタの1方の拡散領域、もしくは前記
1方の拡散領域と電気的に接続された配線層と、前記ト
ランジスタ列のゲート電極、もしくは前記ゲート電極と
電気的に接続された配線層に存在する端子間に電圧を印
加することによりプログラマブル素子の導通、非導通を
制御し記憶回路を構成することを特徴とするマスタスラ
イス型半導体集積回路装置。
1. One or more first-conductivity type transistors and one or more second-conductivity type transistors forming a logic on a semiconductor substrate, a metal wiring layer, and one controllable electrically conducting / non-conducting state. In the master slice type semiconductor integrated circuit device having the above programmable element, a transistor array formed by electrically connecting at least one gate electrode of the first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor. And a word selecting transistor for selecting data, and one of the word selecting transistors
The programmable element between one of the diffusion regions or the wiring layer electrically connected to the one diffusion region, and the gate electrode of the transistor row or the wiring layer electrically connected to the gate electrode. One of the diffusion regions of the word selection transistor that is present and is electrically connected to the wiring layer electrically connected to the one diffusion region is electrically connected to the gate electrode of the transistor row or the gate electrode. A master slice type semiconductor integrated circuit device, characterized in that a memory circuit is configured by controlling conduction / non-conduction of a programmable element by applying a voltage between terminals existing in a wiring layer.
【請求項2】 請求項1記載のマスタスライス型半導体
集積回路装置に於いて、1個の前記ワード選択用トラン
ジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域
と電気的に接続された配線層が1個の前記トランジスタ
列のゲート電極と電気的に接続することを特徴とするマ
スタスライス型半導体集積回路装置。
2. The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein the diffusion region is electrically connected to one diffusion region of one of the word selecting transistors or to one diffusion region of the word selection transistor. A master slice type semiconductor integrated circuit device, wherein a wiring layer is electrically connected to a gate electrode of one transistor array.
【請求項3】 請求項1記載のマスタスライス型半導体
集積回路装置に於いて、1個の前記ワード選択用トラン
ジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域
と電気的に接続された配線層が複数個の前記トランジス
タ列のゲート電極と電気的に接続することを特徴とする
マスタスライス型半導体集積回路装置。
3. The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 1, wherein one diffusion region of one of the word selecting transistors is electrically connected to the one diffusion region. A master slice type semiconductor integrated circuit device, wherein a wiring layer is electrically connected to gate electrodes of the plurality of transistor columns.
【請求項4】 半導体基板上に論理を構成する1個以上
の第1導電型トランジスタと1個以上の第2導電型トラ
ンジスタ、金属配線層及び電気的に導通、非導通の制御
可能な1個以上のプログラマブル素子を有するマスタス
ライス型半導体集積回路装置に於いて、前記第1導電型
トランジスタ、もしくは前記第2導電型トランジスタの
ゲート電極を1個以上電気的に接続することにより構成
されるトランジスタ列と、データを選択するワード選択
用トランジスタと、前記ワード選択用トランジスタの1
方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に
接続された配線層と、前記トランジスタ列のゲート電
極、もしくは前記ゲート電極と電気的に接続された配線
層の層間に配置された前記プログラマブル素子と、前記
プログラマブル素子と前記トランジスタ列のゲート電極
の電気的な接続を制御するための制御用トランジスタが
存在し、前記制御用トランジスタにより前記プログラマ
ブル素子と前記トランジスタ列のゲート電極の接続を電
気的に分離して、前記ワード選択用トランジスタの1方
の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域と電気的に接
続された配線層と、前記トランジスタ列のゲート電極、
もしくは前記ゲート電極と電気的に接続された配線層に
存在する端子間に電圧を印加することによりプログラマ
ブル素子の導通、非導通を制御し記憶回路を構成するこ
とを特徴とするマスタスライス型半導体集積回路装置。
4. One or more first conductivity type transistors and one or more second conductivity type transistors forming a logic on a semiconductor substrate, a metal wiring layer, and one electrically controllable one that is electrically conductive or non-conductive. In the master slice type semiconductor integrated circuit device having the above programmable element, a transistor array formed by electrically connecting at least one gate electrode of the first conductivity type transistor or the second conductivity type transistor. And a word selecting transistor for selecting data, and one of the word selecting transistors
One of the diffusion regions, or a wiring layer electrically connected to the one diffusion region, and the gate electrode of the transistor row, or the wiring layer electrically connected to the gate electrode. There is a programmable element and a control transistor for controlling electrical connection between the programmable element and the gate electrode of the transistor array, and the control transistor electrically connects the programmable element and the gate electrode of the transistor array. Electrically separated from each other, one diffusion region of the word selection transistor, or a wiring layer electrically connected to the one diffusion region, and a gate electrode of the transistor row,
Alternatively, a master slice semiconductor integrated circuit characterized in that a memory circuit is configured by controlling conduction / non-conduction of a programmable element by applying a voltage between terminals existing in a wiring layer electrically connected to the gate electrode. Circuit device.
【請求項5】 請求項4記載のマスタスライス型半導体
集積回路装置に於いて、1個の前記ワード選択用トラン
ジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域
と電気的に接続された配線層が1個の前記トランジスタ
列のゲート電極と電気的に接続することを特徴とするマ
スタスライス型半導体集積回路装置。
5. The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein one of the word selection transistors is electrically connected to one diffusion region or electrically connected to the one diffusion region. A master slice type semiconductor integrated circuit device, wherein a wiring layer is electrically connected to a gate electrode of one transistor array.
【請求項6】 請求項4記載のマスタスライス型半導体
集積回路装置に於いて、1個の前記ワード選択用トラン
ジスタの1方の拡散領域、もしくは前記1方の拡散領域
と電気的に接続された配線層が複数個の前記トランジス
タ列のゲート電極と電気的に接続することを特徴とする
マスタスライス型半導体集積回路装置。
6. The master slice type semiconductor integrated circuit device according to claim 4, wherein the diffusion region is electrically connected to one diffusion region of one of the word selection transistors or to one diffusion region of the word selection transistor. A master slice type semiconductor integrated circuit device, wherein a wiring layer is electrically connected to gate electrodes of the plurality of transistor columns.
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