JPH0912673A - Novel epoxy resin and its production, and epoxy resin composition and its cured item - Google Patents

Novel epoxy resin and its production, and epoxy resin composition and its cured item

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JPH0912673A
JPH0912673A JP15816995A JP15816995A JPH0912673A JP H0912673 A JPH0912673 A JP H0912673A JP 15816995 A JP15816995 A JP 15816995A JP 15816995 A JP15816995 A JP 15816995A JP H0912673 A JPH0912673 A JP H0912673A
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JP
Japan
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epoxy resin
resin composition
bisphenol
present
general formula
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Withdrawn
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JP15816995A
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Japanese (ja)
Inventor
Masashi Kaji
正史 梶
Koichiro Ogami
浩一郎 大神
Kazuyoshi Jimi
和芳 自見
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Nippon Steel Chemical and Materials Co Ltd
Original Assignee
Nippon Steel Chemical Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To obtain a novel epoxy resin which gives an epoxy resin compsn. with a low viscosity and gives a cured item excellent in resistances to moisture and heat. CONSTITUTION: This epoxy resin is represented by the formula (wherein R is H or methyl; and (n) is 0-15).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、低粘度性に優れたエポ
キシ樹脂組成物を与え、かつ、耐湿性及び耐熱性に優れ
た硬化物を与えることから、半導体素子に代表される電
気・電子部品等の封止材料、粉体塗料、積層材料、複合
材料等に有用な新規なエポキシ樹脂及びその製造法並び
にエポキシ樹脂組成物及びその硬化物に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention provides an epoxy resin composition excellent in low viscosity and a cured product excellent in moisture resistance and heat resistance. The present invention relates to a novel epoxy resin useful as a sealing material for parts and the like, a powder coating material, a laminated material, a composite material, a method for producing the same, an epoxy resin composition and a cured product thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、エポキシ樹脂は工業的に幅広
い用途で使用されてきているが、その要求性能は近年ま
すます高度化している。例えば、エポキシ樹脂を主剤と
する樹脂組成物の代表的な分野に半導体封止材料がある
が、近年、半導体素子の集積度の向上に伴い、パッケー
ジサイズが大面積化、薄型化に向かうと共に、実装方式
も表面実装化への移行が進展しており、より半田耐熱性
に優れた材料の開発が望まれている。
2. Description of the Related Art Conventionally, epoxy resins have been industrially used in a wide variety of applications, but the required performance thereof has become more sophisticated in recent years. For example, there is a semiconductor encapsulating material in a typical field of a resin composition containing an epoxy resin as a main component, but in recent years, with an increase in the degree of integration of semiconductor elements, the package size has become larger and thinner, As for the mounting method, the transition to surface mounting is progressing, and the development of materials with more excellent solder heat resistance is desired.

【0003】また、最近では低コスト、高集積化の動向
により、従来の金型を利用したトランスファー成形によ
るデュラルインラインパッケージに変わり、ハイブリッ
ドIC、チップオンボード、テープキャリアパッケー
ジ、プラスチックピングリッドアレイ等の金型を使用し
ないで、液状材料を用いてスポット封止によりベアチッ
プを実装する方式が増えてきている。しかしながら、一
般に、液状材料にはトランスファー成形に用いる固形材
料に比べて信頼性が低いという欠点がある。これは、液
状材料に粘度の上で限界があり、用いる樹脂、硬化剤、
充填剤等に制約があるからである。
Also, due to the recent trend of low cost and high integration, it has been replaced with a conventional dural inline package by transfer molding using a mold, such as a hybrid IC, a chip on board, a tape carrier package, a plastic pin grid array. There is an increasing number of methods of mounting bare chips by spot sealing using a liquid material without using a mold. However, liquid materials generally have the drawback of being less reliable than solid materials used for transfer molding. This is because the liquid material has a limit in viscosity, and the resin, curing agent,
This is because there are restrictions on the filler and the like.

【0004】これらの問題点を克服するため、主剤とな
るエポキシ樹脂に対しては、低吸湿性に優れ、かつ、硬
化剤や充填剤等にバリエーションを持たせるために、そ
の低粘度化が望まれている。低粘度エポキシ樹脂として
はビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF
型エポキシ樹脂等が一般に広く知られているが、これら
のエポキシ樹脂には耐湿性、耐熱性の点で問題がある。
In order to overcome these problems, it is desired to lower the viscosity of the epoxy resin, which is the main ingredient, in order to have excellent low hygroscopicity and to provide variations in curing agents, fillers and the like. It is rare. As low-viscosity epoxy resin, bisphenol A type epoxy resin, bisphenol F
Type epoxy resins and the like are generally widely known, but these epoxy resins have problems in terms of moisture resistance and heat resistance.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、低粘度性に優れたエポキシ樹脂組成物を与え、か
つ、耐湿性及び耐熱性に優れた硬化物を与える新規なエ
ポキシ樹脂及びその製造法を提供することにある。ま
た、本発明の他の目的は、低粘度性に優れており、耐湿
性及び耐熱性に優れた硬化物を与える新規なエポキシ樹
脂組成物を提供することにある。更に、本発明の他の目
的は、このような新規なエポキシ樹脂組成物を硬化させ
て得られる耐湿性及び耐熱性に優れた硬化物を提供する
ことにある。
Accordingly, an object of the present invention is to provide an epoxy resin composition excellent in low viscosity and a novel epoxy resin which gives a cured product excellent in moisture resistance and heat resistance. To provide a manufacturing method. Another object of the present invention is to provide a novel epoxy resin composition which is excellent in low viscosity and gives a cured product excellent in moisture resistance and heat resistance. Further, another object of the present invention is to provide a cured product having excellent moisture resistance and heat resistance, which is obtained by curing such a novel epoxy resin composition.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は、下
記一般式(1)
That is, the present invention provides a compound represented by the following general formula (1):

【化3】 (但し、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは0〜1
5の数である)で表されるエポキシ樹脂である。
Embedded image (However, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n is 0 to 1
It is an epoxy resin represented by 5).

【0007】また、本発明は、下記一般式(2)The present invention also provides the following general formula (2)

【化4】 (但し、Rは水素原子又はメチル基を示す)で表される
ビスフェノール化合物を金属水酸化物の存在下にエピク
ロルヒドリンと反応させる上記一般式(1)のエポキシ
樹脂を製造する方法である。
Embedded image (Wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) is a method for producing an epoxy resin of the above general formula (1), which comprises reacting bisphenol compound with epichlorohydrin in the presence of a metal hydroxide.

【0008】更に、本発明は、エポキシ樹脂及び硬化剤
よりなるエポキシ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成
分の一部又は全部として一般式(1)で表されるエポキ
シ樹脂を用いたエポキシ樹脂組成物であり、また、本発
明は、このようなエポキシ樹脂組成物を硬化させてなる
硬化物である。
Furthermore, the present invention is an epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the epoxy resin represented by the general formula (1) is used as a part or all of the epoxy resin component. In addition, the present invention is a cured product obtained by curing such an epoxy resin composition.

【0009】上記一般式(1)で表される本発明のエポ
キシ樹脂は、その分子量に応じて常温で液体状から固体
状の形態をとる。一般式(1)において、平均の繰り返
し数を表すnの値は0〜15であり、Rは水素原子又は
メチル基である。1分子のエポキシ樹脂に着目すればn
は整数であるが、エポキシ樹脂全体としては、通常は分
子量分布を有する混合物として実用に供される。このエ
ポキシ樹脂の低粘度性を活かして液状エポキシ樹脂とし
て利用する場合には、n=0のものの含有量が好ましく
は50重量%以上、より好ましくは80重量%以上であ
る。この際のエポキシ樹脂の粘度としては、好ましくは
25℃で800ポイズ以下、より好ましくは450ポイ
ズ以下である。また、本発明のエポキシ樹脂は電子部品
の封止材料として好適に使用され、高純度のものが好ま
しく、加水分解性塩素は1,500ppm以下であるこ
とが好ましい。
The epoxy resin of the present invention represented by the above general formula (1) takes a liquid form to a solid form at room temperature depending on its molecular weight. In the general formula (1), the value of n representing the average number of repetitions is 0 to 15, and R is a hydrogen atom or a methyl group. If you focus on one molecule of epoxy resin, n
Is an integer, but the epoxy resin as a whole is usually put to practical use as a mixture having a molecular weight distribution. When the liquid epoxy resin is used by taking advantage of the low viscosity of the epoxy resin, the content of n = 0 is preferably 50% by weight or more, more preferably 80% by weight or more. The viscosity of the epoxy resin at this time is preferably 800 poises or less at 25 ° C., and more preferably 450 poises or less. Further, the epoxy resin of the present invention is preferably used as a sealing material for electronic parts, preferably of high purity, and the content of hydrolyzable chlorine is preferably 1,500 ppm or less.

【0010】本発明の上記一般式(1)で表されるエポ
キシ樹脂は、上記一般式(2)で表されるビスフェノー
ル化合物のエポキシ化反応により合成されるが、本発明
に用いるエポキシ樹脂の原料として用いるビスフェノー
ル化合物は、具体的には4,4’−(1,3−ジメチル
ブチリデン)ビスフェノール又は4,4’−(1,3−
ジメチルブチリデン)ビス(2−メチルフェノール)で
あり、例えば、フェノール又はo−クレゾールとメチル
イソブチルケトンとの反応により製造される。そして、
この方法に従って合成した場合、通常、得られるビスフ
ェノール化合物には、4,4’−置換体以外に2,4’
−置換体や2,2’−置換体が含まれた混合物として得
られる。
The epoxy resin represented by the above general formula (1) of the present invention is synthesized by the epoxidation reaction of the bisphenol compound represented by the above general formula (2). The raw material of the epoxy resin used in the present invention The bisphenol compound used as is specifically 4,4 ′-(1,3-dimethylbutylidene) bisphenol or 4,4 ′-(1,3-
Dimethylbutylidene) bis (2-methylphenol), which is produced, for example, by reacting phenol or o-cresol with methyl isobutyl ketone. And
When synthesized according to this method, the obtained bisphenol compound usually contains 2,4 ′ in addition to 4,4′-substituted compound.
It is obtained as a mixture containing a -substituted product and a 2,2'-substituted product.

【0011】本発明に用いるエポキシ樹脂の原料として
は、4,4’−置換体の純度が高いものほど好ましい
が、本発明の目的を阻害しない範囲で、2,4’−置換
体や2,2’−置換体を含む混合物もその使用が可能で
あるが、通常は、4,4’−置換体の純度が80重量%
以上のビスフェノール化合物を原料とすることが好まし
く、より好ましくは4,4’−置換体の純度が90重量
%以上のものが使用される。4,4’−置換体の純度が
これより低いと、エポキシ樹脂の反応性、耐熱性が低下
する。
As the raw material of the epoxy resin used in the present invention, the higher the purity of the 4,4'-substituted product is, the more preferable. However, the raw material of the epoxy resin is 2,4'-substituted product or 2,4'-substituted product as long as the object of the present invention is not impaired. A mixture containing the 2'-substituted product can be used, but usually the purity of the 4,4'-substituted product is 80% by weight.
It is preferable to use the above bisphenol compound as a raw material, and more preferably, a 4,4′-substituted compound having a purity of 90% by weight or more is used. If the purity of the 4,4′-substituted product is lower than this, the reactivity and heat resistance of the epoxy resin are lowered.

【0012】本発明のエポキシ樹脂は、上記ビスフェノ
ール化合物を金属水酸化物の存在下にエピクロルヒドリ
ンと反応させることにより得られる。製造方法として
は、特に制限されるものではないが、例えば、ビスフェ
ノール化合物を過剰のエピクロルヒドリンに溶解した
後、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金
属水酸化物の存在下に、50〜150℃、好ましくは6
0〜120℃の温度で1〜10時間反応させる方法が挙
げられる。
The epoxy resin of the present invention is obtained by reacting the above bisphenol compound with epichlorohydrin in the presence of a metal hydroxide. Although the production method is not particularly limited, for example, after dissolving the bisphenol compound in excess epichlorohydrin, in the presence of an alkali metal hydroxide such as sodium hydroxide or potassium hydroxide, at 50 to 150 ° C. , Preferably 6
A method of reacting at a temperature of 0 to 120 ° C. for 1 to 10 hours can be mentioned.

【0013】そして、一般式(1)においてnが1以上
の多量体の生成量を少なく抑えるためには、反応の際に
エピクロルヒドリンの使用量をビスフェノール化合物の
フェノール性水酸基量より過剰に用いる必要があり、通
常、フェノール性水酸基1モルに対して1.5モル以
上、好ましくは3モル以上である。これより少ないとエ
ポキシ樹脂の多量体の生成量が多くなり粘度が高くなる
と共に、エポキシ当量が大きくなり耐熱性も低下する。
また、アルカリ金属水酸化物の使用量は、ビスフェノー
ル化合物の水酸基1モルに対して、0.8〜2モル、好
ましくは0.9〜1.2モルの範囲である。
In the general formula (1), in order to suppress the production of the multimers in which n is 1 or more, it is necessary to use the epichlorohydrin in the reaction in excess of the phenolic hydroxyl group of the bisphenol compound. It is usually 1.5 mol or more, preferably 3 mol or more, relative to 1 mol of the phenolic hydroxyl group. If it is less than the above range, the amount of the epoxy resin multimer produced increases, the viscosity increases, and the epoxy equivalent increases and the heat resistance decreases.
The amount of the alkali metal hydroxide used is in the range of 0.8 to 2 mol, preferably 0.9 to 1.2 mol, per 1 mol of the hydroxyl group of the bisphenol compound.

【0014】反応終了後、過剰のエピクロルヒドリンを
留去し、残留物をトルエン、メチルイソブチルケトン等
の溶剤に溶解し、濾過し、水洗して無機塩を除去し、次
いで溶剤を留去することにより、エポキシ樹脂を得るこ
とができる。合成後の多量体の含有量が高い場合には、
分子蒸留等の方法により一般式(1)においてn=0の
単量体の含有量を高めることができる。
After completion of the reaction, excess epichlorohydrin was distilled off, the residue was dissolved in a solvent such as toluene and methyl isobutyl ketone, filtered, washed with water to remove inorganic salts, and then the solvent was distilled off. , An epoxy resin can be obtained. If the content of multimers after synthesis is high,
The content of the monomer of n = 0 in the general formula (1) can be increased by a method such as molecular distillation.

【0015】また、本発明のエポキシ樹脂組成物に使用
する硬化剤としては、一般にエポキシ樹脂の硬化剤とし
て知られているものは全て使用できるが、本発明のエポ
キシ樹脂の低粘度性を活かした液状エポキシ樹脂組成物
として利用する場合には、酸無水物硬化剤を使用するの
が好ましい。このような酸無水物硬化剤の具体例として
は、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチル
テトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル
酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、メチル無水ハイ
ミック酸、無水ドデシニルコハク酸、無水ナジック酸、
無水トリメリット酸等がある。
As the curing agent used in the epoxy resin composition of the present invention, any of those generally known as curing agents for epoxy resins can be used, but the low viscosity of the epoxy resin of the present invention is utilized. When used as a liquid epoxy resin composition, it is preferable to use an acid anhydride curing agent. Specific examples of such an acid anhydride curing agent include phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylhexahydrophthalic anhydride, methylhymic anhydride, dodecynylsuccinic anhydride, Nadic acid anhydride,
Examples include trimellitic anhydride.

【0016】更に、その他の硬化剤としては、例えば、
ジシアンジアミド、多価フェノール類、芳香族及び脂肪
族アミン類等が挙げられる。具体的に例示すれば、多価
フェノール類としては、例えば、ビスフェノールA、ビ
スフェノールF、ビスフェノールS、フルオレンビスフ
ェノール、4,4’−ビフェノール、2,2’−ビフェ
ノール、ハイドロキノン、レゾルシン、ナフタレンジオ
ール等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4
−ヒドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テト
ラキス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノール
ノボラック、o−クレゾールノボラック、ナフトールノ
ボラック、ポリビニルフェノール等に代表される3価以
上のフェノール類、更にはフェノール類、ナフトール類
又は、ビスフェノールA、ビスフェノールF、ビスフェ
ノールS、フルオレンビスフェノール、4,4’−ビフ
ェノール、2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、
レゾルシン、ナフタレンジオール等の2価のフェノール
類のホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、ベンズアル
デヒド、p−ヒドロキシベンズアルデヒド、p−キシリ
レングリコール等の縮合剤により合成される多価フェノ
ール性化合物、等があり、アミン類としては、4,4’
−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−ジアミノジフ
ェニルプロパン、4,4’−ジアミノジフェニルスルホ
ン、m−フェニレンジアミン、p−キシリレンジアミン
等の芳香族アミン類、エチレンジアミン、ヘキサメチレ
ンジアミン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテト
ラミン等の脂肪族アミン類がある。本発明のエポキシ樹
脂組成物には、上で例示した硬化剤の1種のみを単独で
又は2種以上の混合物として配合することができる。
Further, as other curing agents, for example,
Examples include dicyandiamide, polyhydric phenols, aromatic and aliphatic amines. Specifically, examples of the polyphenols include bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4′-biphenol, 2,2′-biphenol, hydroquinone, resorcin, naphthalenediol and the like. Divalent phenols or Tris- (4
-Hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, o-cresol novolac, naphthol novolac, trivalent or higher phenols represented by polyvinylphenol, and Phenols, naphthols or bisphenol A, bisphenol F, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol, 2,2'-biphenol, hydroquinone,
There are polyhydric phenolic compounds synthesized with a condensing agent such as formaldehyde, acetaldehyde, benzaldehyde, p-hydroxybenzaldehyde, p-xylylene glycol of divalent phenols such as resorcinol and naphthalenediol. , 4, 4 '
-Aromatic amines such as diaminodiphenylmethane, 4,4'-diaminodiphenylpropane, 4,4'-diaminodiphenylsulfone, m-phenylenediamine, p-xylylenediamine, ethylenediamine, hexamethylenediamine, diethylenetriamine, triethylenetetramine And other aliphatic amines. In the epoxy resin composition of the present invention, only one kind of the curing agents exemplified above can be blended alone or as a mixture of two or more kinds.

【0017】また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、
本発明のエポキシ樹脂以外に、分子中にエポキシ基を2
個以上有する通常のエポキシ樹脂を併用してもよい。例
を挙げれば、ビスフェノールA、ビスフェノールS、フ
ルオレンビスフェノール、4,4’−ビフェノール、
2,2’−ビフェノール、ハイドロキノン、レゾルシン
等の2価のフェノール類、あるいは、トリス−(4−ヒ
ドロキシフェニル)メタン、1,1,2,2−テトラキ
ス(4−ヒドロキシフェニル)エタン、フェノールノボ
ラック、o−クレゾールノボラック等の3価以上のフェ
ノール類、又は、テトラブロモビスフェノールA等のハ
ロゲン化ビスフェノール類から誘導されるグルシジルエ
ーテル化物等がある。これらのエポキシ樹脂はその1種
のみを単独で又は2種以上の混合物として用いることが
できるが、本発明のエポキシ樹脂の配合量は、エポキシ
樹脂全体の5〜100重量%の範囲である必要がある。
The epoxy resin composition of the present invention also comprises
In addition to the epoxy resin of the present invention, there are 2 epoxy groups in the molecule.
You may use together the normal epoxy resin which has more than one piece. For example, bisphenol A, bisphenol S, fluorene bisphenol, 4,4'-biphenol,
Divalent phenols such as 2,2′-biphenol, hydroquinone and resorcin, or tris- (4-hydroxyphenyl) methane, 1,1,2,2-tetrakis (4-hydroxyphenyl) ethane, phenol novolac, Examples include glycidyl ether compounds derived from trivalent or higher phenols such as o-cresol novolac, or halogenated bisphenols such as tetrabromobisphenol A. These epoxy resins can be used alone or as a mixture of two or more kinds, but the compounding amount of the epoxy resin of the present invention needs to be in the range of 5 to 100% by weight based on the whole epoxy resin. is there.

【0018】更に、本発明のエポキシ樹脂組成物中に
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエー
テル、ポリウレタン、石油樹脂、インデンクマロン樹
脂、フェノキシ樹脂等のオリゴマーや高分子化合物を適
宜配合してもよい。
Further, in the epoxy resin composition of the present invention, an oligomer or a polymer compound such as polyester, polyamide, polyimide, polyether, polyurethane, petroleum resin, indene coumarone resin and phenoxy resin may be appropriately blended. Good.

【0019】また、本発明のエポキシ樹脂組成物には、
無機充填剤、顔料、難然剤、揺変性付与剤、カップリン
グ剤、流動性向上剤等の添加剤を配合することができ
る。無機充填剤としては、例えば、球状あるいは破砕状
の溶融シリカ、結晶シリカ等のシリカ粉末、アルミナ粉
末、ガラス粉末、又はマイカ、タルク、炭酸カルシウ
ム、アルミナ、水和アルミナ等が挙げられ、顔料として
は、有機系又は無機系の体質顔料、鱗片状顔料等があ
る。また、揺変性付与剤としては、シリコン系、ヒマシ
油系、脂肪族アマイドワックス、酸化ポリエチレンワッ
クス、有機ベントナイト系等のものが挙げられる。
The epoxy resin composition of the present invention also comprises
Additives such as an inorganic filler, a pigment, a retardant, a thixotropic agent, a coupling agent, and a fluidity improver can be added. Examples of the inorganic filler include spherical or crushed fused silica, silica powder such as crystalline silica, alumina powder, glass powder, mica, talc, calcium carbonate, alumina, hydrated alumina, and the like. , Organic or inorganic extender pigments, scaly pigments, and the like. Examples of the thixotropic agent include silicone type, castor oil type, aliphatic amide wax, oxidized polyethylene wax, organic bentonite type and the like.

【0020】また更に、本発明の樹脂組成物には必要に
応じて、従来より公知の硬化促進剤を用いることができ
る。例を挙げれば、アミン類、イミダゾール類、有機ホ
スフィン類、ルイス酸等がある。その添加量としては、
通常、エポキシ樹脂100重量部に対して0.2〜5重
量部の範囲である。
Furthermore, if necessary, a conventionally known curing accelerator can be used in the resin composition of the present invention. Examples include amines, imidazoles, organic phosphines, Lewis acids and the like. As the addition amount,
Usually, it is in the range of 0.2 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the epoxy resin.

【0021】更に必要に応じて、本発明の樹脂組成物に
は、カルナバワックス、OPワックス等の離型剤、γ−
グリシドキシプロピルトリメトキシシラン等のカップリ
ング剤、カーボンブラック等の着色剤、三酸化アンチモ
ン等の難燃剤、シリコンオイル等の低応力化剤、ステア
リン酸カルシウム等の滑剤等を使用できる。
Further, if necessary, the resin composition of the present invention contains a release agent such as carnauba wax and OP wax, γ-
Coupling agents such as glycidoxypropyltrimethoxysilane, coloring agents such as carbon black, flame retardants such as antimony trioxide, low-stress agents such as silicone oil, and lubricants such as calcium stearate can be used.

【0022】本発明のエポキシ樹脂硬化物は、上記のエ
ポキシ樹脂組成物を加熱することにより得ることがで
き、これは低吸湿性、高半田耐熱性等に優れている。こ
の硬化物を得るための方法としては、注型、注入、ポッ
ティング、ディッピング、ドリップコーティング、トラ
ンスファー成形、圧縮成形等が好適に用いられ、その際
の温度としては通常100〜220℃の範囲である。
The epoxy resin cured product of the present invention can be obtained by heating the above epoxy resin composition, which is excellent in low hygroscopicity, high solder heat resistance and the like. As a method for obtaining this cured product, casting, pouring, potting, dipping, drip coating, transfer molding, compression molding and the like are preferably used, and the temperature at that time is usually in the range of 100 to 220 ° C. .

【0023】[0023]

【実施例】以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明
を更に具体的に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail below based on examples and comparative examples.

【0024】実施例1(エポキシ樹脂の合成例) 4,4’−体の純度が99.5重量%である4,4’−
(1,3−ジメチルブチリデン)ビスフェノールを原料
に用いた。このものの純度の測定は、使用カラム:6m
mφ×150mm(商品名:Shim-pack CLC-ODS )、移
動相:アセトニトリル/水=60/40、流量:1ml
/分、温度:40℃及び検出:UV(254nm)の条
件で行った。
Example 1 (Synthesis Example of Epoxy Resin) 4,4'-Purity of 4,4'-body is 99.5% by Weight
(1,3-Dimethylbutylidene) bisphenol was used as a raw material. The purity of this product is measured using a column: 6 m
mφ × 150mm (Product name: Shim-pack CLC-ODS), mobile phase: acetonitrile / water = 60/40, flow rate: 1 ml
/ Min, temperature: 40 ° C. and detection: UV (254 nm).

【0025】上記4,4’−(1,3−ジメチルブチリ
デン)ビスフェノール200gをエピクロルヒドリン6
85.2gに溶解し、減圧下(約140mmHg)に6
5℃で48%水酸化ナトリウム水溶液116.8gを4
時間かけて滴下した。この間、生成する水はエピクロル
ヒドリンとの共沸により系外に除去し、溜出したエピク
ロルヒドリンは系内に戻した。滴下終了後、更に30分
間反応を継続した。
200 g of the above 4,4 '-(1,3-dimethylbutylidene) bisphenol was added to epichlorohydrin 6
Dissolve in 85.2g and add 6 under reduced pressure (about 140mmHg)
4) 116.8 g of 48% sodium hydroxide aqueous solution at 5 ° C
It was dropped over time. During this time, the water produced was removed from the system by azeotropic distillation with epichlorohydrin, and the distilled epichlorohydrin was returned to the system. After the dropping was completed, the reaction was continued for another 30 minutes.

【0026】反応終了後、濾過して生成した塩を除去
し、更に水洗したのちエピクロルヒドリンを留去し、無
色透明液状の粗製エポキシ樹脂285gを得た。エポキ
シ当量は223であり、加水分解性塩素は5,000p
pmであった。なお、加水分解性塩素の測定は以下の方
法に従った。すなわち、樹脂試料0.5gを100ml
共栓付三角フラスコに秤量し、これにジオキサン30m
lを加えて溶解する。更に、これに1N−KOH水溶液
5mlを加え、煮沸還流する。その後室温まで冷却した
後、還流冷却管を10mlのメタノールで洗浄し、全量
を200mlのビーカーに移す。更に80%アセトン水
溶液100mlでフラスコを洗浄し、ビーカーに移す。
次に、濃硝酸2mlを加えて、1/500N−AgNO
3 水溶液で電位差滴定を行なうと共にブランク試験も行
なう。
After the reaction was completed, the salt formed was removed by filtration, and the product was washed with water and then epichlorohydrin was distilled off to obtain 285 g of a colorless transparent liquid crude epoxy resin. Epoxy equivalent is 223, hydrolyzable chlorine is 5,000 p
pm. The measurement of hydrolyzable chlorine was according to the following method. That is, 0.5 g of resin sample is 100 ml
Weigh it into an Erlenmeyer flask with a stopper, and add 30 m of dioxane to it.
Add 1 to dissolve. Further, 5 ml of a 1N-KOH aqueous solution is added to this, and the mixture is boiled under reflux. Then, after cooling to room temperature, the reflux condenser is washed with 10 ml of methanol, and the whole amount is transferred to a 200 ml beaker. Further, the flask is washed with 100 ml of 80% acetone aqueous solution and transferred to a beaker.
Next, add 2 ml of concentrated nitric acid, and add 1/500 N-AgNO.
3 Perform a potentiometric titration with an aqueous solution and perform a blank test.

【0027】得られたエポキシ樹脂をメチルイソブチル
ケトン660gに溶解し、75℃にて10%−NaOH
水溶液48.1gを加えて2時間反応させた。反応終了
後、濾過し、水洗してメチルイソブチルケトンを留去す
ることにより、単黄色液状のエポキシ樹脂269.4g
を得た。
The obtained epoxy resin was dissolved in 660 g of methyl isobutyl ketone, and 10% NaOH was added at 75 ° C.
An aqueous solution of 48.1 g was added and reacted for 2 hours. After the reaction was completed, the product was filtered, washed with water, and the methyl isobutyl ketone was distilled off to obtain 269.4 g of a single yellow liquid epoxy resin.
I got

【0028】得られたエポキシ樹脂の加水分解性塩素は
320ppmであり、エポキシ当量は200であり、E
型粘度計により測定したエポキシ樹脂の25℃における
粘度は343ポイズであった。また、樹脂中におけるn
=0に相当する4,4’−(1,3−ジメチルブチリデ
ン)ビスフェノールのジグリシジルエーテルの純度は9
2.5重量%であり、n=1の二量体に相当する化合物
の含有量は6.0重量%であって、n=2以上の多量体
は検出されなかった。エポキシ樹脂の純度分析はGPC
測定により行った。測定は、装置として東ソー(株)製
HLC−82Aを用い、カラム:東ソー(株)製のTS
K−GEL2000×3本及びTSK−GEL4000
×1本、溶媒:THF、流量:1 ml/分、温度:38
℃及び検出器:RIの条件で行った。
The resulting epoxy resin had a hydrolyzable chlorine content of 320 ppm, an epoxy equivalent of 200, and E
The viscosity of the epoxy resin at 25 ° C. measured with a Brookfield viscometer was 343 poise. In addition, n in the resin
The purity of the diglycidyl ether of 4,4 ′-(1,3-dimethylbutylidene) bisphenol corresponding to = 0 is 9
It was 2.5% by weight, the content of the compound corresponding to the dimer with n = 1 was 6.0% by weight, and no multimer with n = 2 or more was detected. GPC for epoxy resin purity analysis
The measurement was performed. The measurement was performed using Tosoh Corp. HLC-82A as a device, and the column: Tosoh Corp. TS.
K-GEL2000 x 3 and TSK-GEL4000
× 1, solvent: THF, flow rate: 1 ml / min, temperature: 38
C. and detector: RI was used.

【0029】また、得られたエポキシ樹脂について、そ
のH−NMR測定を行った。結果を表1に示す。なお、
このH−NMRの測定は、日本電子(株)製JNM−G
X400型を用い、溶媒として重クロロホルムを用い、
400MHzで行った。また、赤外吸収スペクトルを測
定した。結果を図1に示す。
Further, the obtained epoxy resin was subjected to H-NMR measurement. Table 1 shows the results. In addition,
This H-NMR measurement is performed by JNM-G manufactured by JEOL Ltd.
X400 type, using heavy chloroform as a solvent,
It was performed at 400 MHz. In addition, the infrared absorption spectrum was measured. The results are shown in FIG.

【0030】[0030]

【表1】 [Table 1]

【0031】実施例2、3 実施例1で得られたエポキシ樹脂を用い、表2に示す割
合で各成分を配合し、均一に混合して液状のエポキシ樹
脂組成物を得た。このエポキシ樹脂組成物を用いて12
0℃で1時間、更に150℃で2時間、加熱硬化を行
い、硬化物を得た。得られた各硬化物について、25℃
及び150℃における体積固有抵抗、ガラス転移点及び
133℃、3気圧、96時間の条件下での吸水率を測定
した。結果を表2に示す。
Examples 2 and 3 Using the epoxy resin obtained in Example 1, the components were blended in the proportions shown in Table 2 and mixed uniformly to obtain a liquid epoxy resin composition. 12 using this epoxy resin composition
Heat curing was carried out at 0 ° C. for 1 hour and further at 150 ° C. for 2 hours to obtain a cured product. About each of the obtained cured products, 25 ℃
Further, the volume resistivity at 150 ° C., the glass transition point, and the water absorption rate under the conditions of 133 ° C., 3 atmospheres, and 96 hours were measured. Table 2 shows the results.

【0032】比較例1 エポキシ樹脂成分としてビスフェノールF型エポキシ樹
脂を用い、実施例2と同様に配合、混合、加熱硬化を行
い、硬化物を得た。この硬化物について、上記実施例
2、3と同様に各種の物性測定を行った。結果を表2に
示す。
Comparative Example 1 Using a bisphenol F type epoxy resin as an epoxy resin component, compounding, mixing and heat curing were carried out in the same manner as in Example 2 to obtain a cured product. Various physical properties of this cured product were measured in the same manner as in Examples 2 and 3 above. Table 2 shows the results.

【0033】[0033]

【表2】 [Table 2]

【0034】[0034]

【発明の効果】本発明のエポキシ樹脂は、低粘度性に優
れた液状のエポキシ樹脂組成物を調製するのに好適であ
り、また、このエポキシ樹脂を用いて調製したエポキシ
樹脂組成物は耐湿性及び耐熱性に優れた硬化物を与え
る。このため、本発明のエポキシ樹脂及びこれを用いた
エポキシ樹脂組成物は、半導体素子に代表される電気・
電子部品等の封止材料、粉体塗料、積層材料、複合材料
等の用途に有用である。
INDUSTRIAL APPLICABILITY The epoxy resin of the present invention is suitable for preparing a liquid epoxy resin composition having excellent low viscosity, and the epoxy resin composition prepared using this epoxy resin has a moisture resistance. And gives a cured product having excellent heat resistance. For this reason, the epoxy resin of the present invention and the epoxy resin composition using the same are suitable for use in electrical components such as semiconductor devices.
It is useful for applications such as sealing materials for electronic parts, powder coatings, laminated materials, and composite materials.

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 下記一般式(1) 【化1】 (但し、Rは水素原子又はメチル基を示し、nは0〜1
5の数である)で表されるエポキシ樹脂。
[Claim 1] The following general formula (1) (However, R represents a hydrogen atom or a methyl group, and n is 0 to 1
An epoxy resin represented by the number 5).
【請求項2】 下記一般式(2) 【化2】 (但し、Rは水素原子又はメチル基を示す)で表される
ビスフェノール化合物を金属水酸化物の存在下にエピク
ロルヒドリンと反応させることを特徴とする請求項1記
載のエポキシ樹脂の製造法。
2. The following general formula (2): The method for producing an epoxy resin according to claim 1, wherein a bisphenol compound represented by the formula (wherein R represents a hydrogen atom or a methyl group) is reacted with epichlorohydrin in the presence of a metal hydroxide.
【請求項3】 エポキシ樹脂及び硬化剤よりなるエポキ
シ樹脂組成物において、エポキシ樹脂成分の一部又は全
部として請求項1記載のエポキシ樹脂を用いたことを特
徴とするエポキシ樹脂組成物。
3. An epoxy resin composition comprising an epoxy resin and a curing agent, wherein the epoxy resin according to claim 1 is used as part or all of the epoxy resin component.
【請求項4】 請求項3記載のエポキシ樹脂組成物を硬
化させてなる硬化物。
4. A cured product obtained by curing the epoxy resin composition according to claim 3.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008222908A (en) * 2007-03-14 2008-09-25 Dic Corp Epoxy resin composition, its cured product, composition for coating, and novel epoxy resin
JP2011178816A (en) * 2009-07-01 2011-09-15 Sakamoto Yakuhin Kogyo Co Ltd Specific trimethylolpropane polyglycidyl ether and epoxy resin composition containing the compound

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