JPH09120993A - Wiring of integrated circuit - Google Patents

Wiring of integrated circuit

Info

Publication number
JPH09120993A
JPH09120993A JP7277319A JP27731995A JPH09120993A JP H09120993 A JPH09120993 A JP H09120993A JP 7277319 A JP7277319 A JP 7277319A JP 27731995 A JP27731995 A JP 27731995A JP H09120993 A JPH09120993 A JP H09120993A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wiring
wirings
area
schematic
grid pattern
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP7277319A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2921454B2 (en
Inventor
Hiroshi Katsuta
浩史 勝田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP7277319A priority Critical patent/JP2921454B2/en
Publication of JPH09120993A publication Critical patent/JPH09120993A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2921454B2 publication Critical patent/JP2921454B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
  • Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To conduct a plurality of wirings specified at a time in a desired wiring region in a short time by setting a schematic wiring lattice pattern and a schematic wiring region and specifying a selective wiring forbidden region and checking all the selective wirings for the possiblity of execution of wiring and then conducting a schematic wiring. SOLUTION: A pattern of a schematic wiring lattice 20 and a schematic wiring region 23 are set and displayed. Nextly, a plurality of wirings 26 which will be targets of execution of wiring are selected as selective wirings. And, macro cells 19 which are a silective wiring forbidden region are specified. Then, all the selective wirings 26 are checked for a possiblity of execution of wiring. After that, a schematic wiring 28 is conducted. Thus, a wiring region and a wiring forbidden region are set for a plurality of specified wirings and then the schematic wiring 28 which is constituted of a plurality of the specified wirings is executed. By this method, wiring can be done with such a region that may exist on the way through a wiring path and be difficult to wire being kept away and the time required for correcting the wiring can be shortened accordingly as the number of the specified wirings increases.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は集積回路の配線方法
に関し、特にCADによる自動配線設計を行う集積回路
の配線方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an integrated circuit wiring method, and more particularly to an integrated circuit wiring method for performing automatic wiring design by CAD.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路(以下LSI)の自動配
線設計では、予めレイアウト設計されたスタンダードセ
ルあるいはマクロセルを用いて予め設定した配線ルール
にしたがい半導体基板へのセルの配置並びにセルの端子
間の配線等を行う。
2. Description of the Related Art In automatic wiring design of a semiconductor integrated circuit (hereinafter referred to as LSI), a standard cell or a macro cell whose layout is designed in advance is used to arrange a cell on a semiconductor substrate and between terminals of the cell according to a preset wiring rule. Wiring etc.

【0003】ここでスタンダードセルとは、ANDゲー
ト,ORゲート,フリップフロップ(FF)等の機能ブ
ロックを予め設計し、ライブラリに登録しておき、これ
を列状に並べ、列間のチャネルを使って配線するスタン
ダードセル方式のカスタムLSIの単位機能セルであ
り、基本的には高さをほぼそろえてある。また、マクロ
セルとは、ANDゲート,ORゲート,フリップフロッ
プ(FF)等の機能ブロックを組合せて配線パターンを
付加することにより、さらに高度の論理機能ブロック等
を実現したものであり、内部配線パターンは予め設計さ
れ、論理機能や電気的特性データと共にライブラリに登
録する。レイアウト設計では、これらのマクロセルの配
置を最適に決め、相互配線を許された領域内で行う。
Here, a standard cell is a functional block such as an AND gate, an OR gate, and a flip-flop (FF) designed in advance, registered in a library, arranged in rows, and channels between the rows are used. It is a unit function cell of a standard cell type custom LSI that is wired in the same manner, and basically has almost the same height. A macro cell is a combination of functional blocks such as an AND gate, an OR gate, and a flip-flop (FF) to which a wiring pattern is added to realize a higher-level logical function block. It is designed in advance and registered in the library together with logic function and electrical characteristic data. In the layout design, the arrangement of these macro cells is optimally determined and mutual wiring is performed within the allowed area.

【0004】しかし、実際の回路では、ブロックやマク
ロセルの形状,端子位置,配線領域等の全ての配線条件
を上記配線ルールに適合するように設定することが困難
であり、自動配線の実行において上記配線ルールに不適
合の理由で配線不能と判定される未配線が発生する。上
記自動配線の終了後発生した上記未配線は、設計者が既
配線情報,配線禁止情報等を参照しながらインタラクテ
ィブに修正する必要がある。
However, in an actual circuit, it is difficult to set all the wiring conditions such as the shapes of blocks and macro cells, the terminal positions, and the wiring areas so as to meet the above wiring rules. There is unwiring that is determined to be unwiring due to non-compliance with the wiring rules. It is necessary for the designer to interactively correct the non-wiring generated after the completion of the automatic wiring while referring to the existing wiring information, the wiring prohibition information and the like.

【0005】この種のインタラクティブな配線修正方法
の一例である特開平4−148551号公報記載の従来
の集積回路の配線方法は、配線情報の記憶手段、配線情
報の表示手段、配線禁止情報の表示手段、未配線情報の
表示手段、配線可能チャネルの表示手段、配線修正実行
手段、修正結果の表示手段を有している。
A conventional integrated circuit wiring method disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 4-148551, which is an example of this kind of interactive wiring correction method, is a wiring information storage means, wiring information display means, and wiring prohibition information display. It has a means, an unwired information display means, a wireable channel display means, a wiring correction execution means, and a correction result display means.

【0006】次に、従来の配線方法の配線レイアウトを
表示するCRT画像の例を示す説明図である図3を参照
して従来の集積回路の配線方法の動作について説明する
と、まず、(A)に示す自動配線後の修正前の表示画面
上に、既配線情報1と、配線禁止情報2と、未配線情報
3と、配置禁止情報9とを表示する。
Next, the operation of the conventional integrated circuit wiring method will be described with reference to FIG. 3, which is an explanatory view showing an example of a CRT image displaying the wiring layout of the conventional wiring method. First, (A) The existing wiring information 1, the wiring prohibition information 2, the non-wiring information 3, and the placement prohibition information 9 are displayed on the display screen after the automatic wiring and before the correction shown in FIG.

【0007】設計者はこれらの表示情報より、回路中の
機能ブロック4と機能ブロック5の端子7とを結ぶ配線
経路を見つけ出しマウスなどの座標入力装置を使用して
予め決められた縦と横の配線格子6の上を通過するよう
に位置決めおよび配線層の設定を行う。上記位置決めを
行う時に縦と横の配線格子6上に配線の通過位置が定ま
らない時は一番近い配線格子に配線の通過位置を定め
る。また、位置決めを行う時に配置禁止9上に配線の通
過座標が存在する時は、この座標は配線通過座標として
認めないようにする。図3(B)に示すように入力装置
より座標を入力後、もしブロック間の配線8が完結して
いればこの配線修正を終了していることになる。
The designer finds a wiring path connecting the function block 4 in the circuit and the terminal 7 of the function block 5 from the display information, and uses a coordinate input device such as a mouse to determine a predetermined vertical and horizontal directions. The positioning and the wiring layer are set so as to pass over the wiring grid 6. When the wiring passage positions are not determined on the vertical and horizontal wiring lattices 6 during the above positioning, the wiring passage positions are determined on the closest wiring lattice. Also, if the passing coordinates of the wiring exist on the placement prohibition 9 at the time of positioning, these coordinates are not recognized as the wiring passing coordinates. After the coordinates are input from the input device as shown in FIG. 3B, if the wiring 8 between the blocks is completed, this wiring correction is completed.

【0008】この従来の配線方法では、1回の配線修正
で、取り扱うことの出来る配線は1本のみであり、修正
後は配線経路と配線の層はユーザーの指定する一意に決
定される。しかし、自動配線した領域ではこの自動配線
の実行に配線領域を優先的に使用してしまうので、残さ
れた上記修正のための配線可能領域は非常に小さく限定
されてしまう。
In this conventional wiring method, only one wiring can be handled by one wiring modification, and after the modification, the wiring route and the wiring layer are uniquely determined by the user. However, since the wiring area is preferentially used for execution of this automatic wiring in the area where automatic wiring is performed, the remaining wirable area for the above correction is limited to a very small area.

【0009】自動配線後のCRT画像の例を示す説明図
である図4を参照を参照すると、図4(A)に示すよう
に、修正用の配線可能領域のみを経由する修正後の端子
11,12間の配線経路13は配線不能の最短経路の配
線14に比較して極めて長大となり、最悪の場合には配
線不可能となる。また、図4(B)に示すように、内部
の配線密度が高いマクロセル15ではこのマクロセル内
の配線領域は殆んど消費されているため、通過可能性の
高い外部配線を回避する必要がある。この場合、マクロ
セル15を避けて、マクロセル16,17間の接続配線
を行おうとしても迂回経路がないので、未配線18を生
じてしまう。
Referring to FIG. 4, which is an explanatory diagram showing an example of a CRT image after automatic wiring, as shown in FIG. 4A, the corrected terminal 11 passing only through the wirable area for correction. , 12 is extremely long as compared with the shortest wiring 14 which cannot be wired, and in the worst case, wiring is impossible. Further, as shown in FIG. 4B, in the macro cell 15 having a high internal wiring density, since the wiring area in the macro cell is almost consumed, it is necessary to avoid external wiring having a high possibility of passage. . In this case, even if an attempt is made to avoid the macro cell 15 and make a connection wiring between the macro cells 16 and 17, there is no detour path, so that an unwiring 18 is generated.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】上述した従来の集積回
路の配線方法は、自動配線実行領域ではこの自動配線の
実行に配線領域を優先的に使用してしまうので、残され
た修正のための配線可能領域は非常に小さく限定され、
上記修正用の配線可能領域のみを経由する配線経路は極
めて長大となり、最悪の場合は配線不可能となるという
欠点があった。
In the conventional wiring method for the integrated circuit described above, since the wiring area is preferentially used for the execution of this automatic wiring in the automatic wiring execution area, it is necessary to correct the remaining correction. The wirable area is very small and limited,
There is a drawback that the wiring path passing only through the correction writable area becomes extremely long, and in the worst case, wiring is impossible.

【0011】また、通過可能性の高い外部配線を回避す
る必要がある高配線密度のマクロセルを挟んで配置され
た複数のマクロセル間の接続配線が、適当な迂回経路が
ないため未配線部分を生じてしまうという欠点があっ
た。
Further, the connection wiring between a plurality of macro cells arranged to sandwich macro cells having a high wiring density, which needs to avoid an external wiring having a high possibility of passing, has an unrouted portion because there is no appropriate detour path. There was a drawback that it would end up.

【0012】さらに、自動配線終了後の配線修正を一括
して行う方法が無いため配線の1本ずつをインタラクテ
ィブに修正を行う必要があり、多くの時間がかかるとい
う欠点があった。
Further, since there is no method for collectively correcting the wiring after the completion of the automatic wiring, it is necessary to interactively correct each wiring, which takes a lot of time.

【0013】[0013]

【課題を解決するための手段】本発明の集積回路の配線
方法は、半導体チップ上に予め形成した複数の回路素子
または機能回路ブロックの集合から成るマクロセルを予
め定めた領域内に配列し予め定めた第1の配線ピッチで
設定した縦および横方向の配線経路候補である配線格子
パターン上に設計対象回路の設計情報にしたがって自動
配線を行ない所定の配線パターンを生成する集積回路の
配線方法において、前記マクロセルを全て配置した状態
でこのマクロセルを表示する第1のステップと、前記第
1のピッチの予め定めた複数配線分の第2のピッチの概
略配線格子パターンおよびこの概略配線格子パターンで
示す概略配線領域を設定し表示する第2のステップと、
配線実行の制御対象の複数の配線を選択配線として選択
する第3のステップと、前記選択配線の配線実行を禁止
する領域である選択配線禁止領域を指定する第4のステ
ップと、前記選択配線の全ての配線の配線実行が可能か
否かをチエックする第5のステップと、前記選択配線の
全配線を1単位として前記概略配線格子パターン上に配
線実行する概略配線を行う第6のステップと、前記選択
配線禁止領域を記憶する第7のステップと、前記選択配
線以外の全ての配線を前記概略配線する第8のステップ
と、前記選択配線を含む全ての配線を前記配線格子パタ
ーン上に配線実行する詳細配線を行う第9のステップと
を含むことを特徴とするものである。
According to an integrated circuit wiring method of the present invention, a macro cell composed of a set of a plurality of circuit elements or functional circuit blocks previously formed on a semiconductor chip is arranged in a predetermined area and is predetermined. In the wiring method of the integrated circuit, the automatic wiring is performed according to the design information of the design target circuit on the wiring grid pattern which is the wiring route candidate in the vertical and horizontal directions set at the first wiring pitch, and the predetermined wiring pattern is generated. A first step of displaying the macro cells in a state where all the macro cells are arranged, a schematic wiring grid pattern of a second pitch for a plurality of predetermined wirings of the first pitch, and a schematic shown by the general wiring grid pattern The second step of setting and displaying the wiring area,
A third step of selecting a plurality of wirings to be controlled for wiring execution as selected wirings, a fourth step of designating a selected wiring prohibited area which is an area in which the wiring execution of the selected wirings is prohibited, A fifth step of checking whether or not it is possible to execute wiring of all wirings, and a sixth step of performing rough wiring to perform wiring on the rough wiring grid pattern with all wirings of the selected wiring as one unit, A seventh step of storing the selected wiring prohibited area, an eighth step of roughly wiring all wirings other than the selected wiring, and a wiring execution of all wirings including the selected wirings on the wiring grid pattern. And the ninth step of performing detailed wiring.

【0014】[0014]

【発明の実施の形態】次に、本発明の実施の形態をフロ
ーチャートで示す図1を参照すると、この図に示す本実
施の形態の集積回路の配線方法は、ブロックとマクロセ
ルを全て配置した状態でマクロセルを表示するステップ
S1と、ブロックを表示するステップS2と、概略配線
格子およびこの概略の配線格子上を配線する概略の配線
領域を表示するステップS3と、修正制御対象の複数の
配線を選択するステップS4と、選択配線に対して配線
禁止領域を指定するステップS5と、選択配線の配線禁
止領域をチェックするステップS6と、配線禁止領域を
記憶するステップS7と、特定の配線について概略の配
線を行うステップS8と、回路全体の配線について概略
の配線を行うステップS9と、回路全体についての全て
の詳細な配線を行うステップS10とを含む。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Next, referring to FIG. 1 which is a flow chart showing an embodiment of the present invention, a wiring method of an integrated circuit of the present embodiment shown in this drawing shows a state in which all blocks and macro cells are arranged. In step S1 of displaying a macro cell, step S2 of displaying a block, step S3 of displaying a schematic wiring grid and a schematic wiring area for wiring on this schematic wiring grid, and selecting a plurality of wirings to be modified and controlled. Step S4, step S5 of designating a wiring prohibited area for the selected wiring, step S6 of checking the wiring prohibited area of the selected wiring, step S7 of storing the wiring prohibited area, and a schematic wiring for a specific wiring. Step S8 for performing the wiring, step S9 for performing the general wiring for the wiring of the entire circuit, and all the detailed wiring for the entire circuit are performed. And a step S10.

【0015】次に、図1を参照して本実施の形態の動作
について説明すると、まず、ステップS1〜S2によっ
てマクロセルおよびブロックを複数本の格子を1単位と
して一括した格子である概略配線格子とともにCRT等
の表示装置に表示する。設計者はCRT上に表示された
情報を見てマウスなどの入力装置で座標情報などの情報
を入力することができる。
Next, the operation of the present embodiment will be described with reference to FIG. 1. First, in steps S1 and S2, together with a schematic wiring grid, which is a grid in which a plurality of grids of macrocells and blocks are set as one unit. It is displayed on a display device such as a CRT. The designer can see the information displayed on the CRT and input information such as coordinate information using an input device such as a mouse.

【0016】本実施の形態は、配線の混雑化により配線
不可能となる予測領域の配線を禁止する。ここで指定さ
れる配線禁止領域は特定の配線すなわち選択配線のみに
対して有効になる。
In the present embodiment, the wiring in the prediction area where the wiring becomes impossible due to the congestion of the wiring is prohibited. The wiring prohibited area specified here is valid only for a specific wiring, that is, a selected wiring.

【0017】最初に設計者は、ステップS4により複数
のマクロセル間、マクロセルとブロック間、または複数
のブロック間の複数の配線を選択配線として選択する。
次にステップS5で、設計者はマウスなどの入力装置よ
り複数の上記選択配線に対してのみ配線を禁止する領域
すなわち選択配線禁止領域を概略配線格子単位で作成す
る。この配線禁止領域内においてはステップS4で指定
した全ての上記選択配線について配線実行を禁止する。
First, the designer selects a plurality of wirings between a plurality of macro cells, between a macro cell and a block, or between a plurality of blocks as selection wirings in step S4.
Next, in step S5, the designer creates an area in which wiring is prohibited only for a plurality of the selected wirings, that is, a selected wiring prohibited area, by using an input device such as a mouse, in units of rough wiring grids. In this wiring prohibited area, wiring execution is prohibited for all the selected wirings specified in step S4.

【0018】ここで、既指定の選択配線が詳細な配線情
報を有する場合にはその詳細配線情報の削除ステップ
(図示省略)によってこれを削除する。
Here, if the already-specified selected wiring has detailed wiring information, it is deleted in a step of deleting the detailed wiring information (not shown).

【0019】配線禁止領域と同一領域内に選択配線が所
属するマクロセルやブロックの端子が存在したり、マク
ロセルやブロック間の配線可能領域が全て使用済の状態
では配線不可能となってしまう。このため、ステップS
6で選択配線禁止領域が選択配線の配線予定領域を占拠
していないことをチェックし、全ての選択配線が配線可
能であること確認する。ステップS6で、配線不可能と
判定した場合は、最初のステップS1〜S3に戻り概略
格子のピッチすなわち複数配線数を低減するなどの処理
をして再度CRT表示装置に表示させ、処理を再実行す
る。配線可能と判定すると、ステップS7でこの配線禁
止領域をICメモリや磁気ディスク等の記憶装置に選択
配線に対してのみの配線禁止情報ファイルF1として保
存する。さらに、別の複数の選択配線に対して配線禁止
情報を作成する場合には、再度ステップS1〜S3に戻
り、同様に処理を行う。数回にわたって設定した特定の
複数の選択配線に対する配線禁止情報の設定を終了する
と、ステップS7で全てを配線禁止情報ファイルF1に
追加する。
If the terminals of the macro cell or block to which the selected wiring belongs are present in the same area as the wiring prohibited area, or if the wirable areas between the macro cells or blocks are all used, the wiring becomes impossible. Therefore, step S
It is checked in 6 that the selected wiring prohibited area does not occupy the wiring planned area of the selected wiring, and it is confirmed that all the selected wirings can be wired. If it is determined in step S6 that wiring is not possible, the process returns to the first steps S1 to S3 to perform processing such as reducing the pitch of the rough grid, that is, the number of wirings, and displaying again on the CRT display device, and re-executing the processing To do. When it is determined that wiring is possible, this wiring prohibited area is saved as a wiring prohibition information file F1 only for the selected wiring in a storage device such as an IC memory or a magnetic disk in step S7. Further, when wiring prohibition information is created for another plurality of selected wirings, the process returns to steps S1 to S3 again, and the same processing is performed. When the setting of the wiring prohibition information for the specific plurality of selected wirings set several times is completed, all are added to the wiring prohibition information file F1 in step S7.

【0020】ステップS8で、今まで設定した選択配線
に対する配線禁止情報ファイルF1の内容を読み込み、
設定回数分だけ選択配線に対する概略の配線を実行す
る。最後に、回路全体の残りの配線についての概略配線
をステップS9で実行し、回路全体についての全ての詳
細な配線をステップS10で行い、最終配線情報ファイ
ルF2を作成する。
In step S8, the contents of the wiring prohibition information file F1 for the selected wiring set up to now are read,
Approximate wiring for the selected wiring is executed for the set number of times. Finally, the rough wiring for the remaining wiring of the entire circuit is executed in step S9, and all the detailed wiring for the entire circuit is performed in step S10 to create the final wiring information file F2.

【0021】次に、本実施の形態の配線方法による配線
レイアウトを表示するCRT画像の例を示す説明図であ
る図2を参照すると、まず、ステップS1〜S3実行後
の概略の配線領域を示す図2(A)では、表示画面上に
高配線密度のマクロセル19と、概略配線格子20と、
マクロセルの両側にそれぞれ位置し相互間の配線を予定
しているマクロセル21,22と、設計者の設定した概
略配線領域23と、端子24,25と、配線の接続表示
27とを表示する。また、詳細な配線(ステップS1
1)後の配線領域を示す図2(B)では、表示画面上に
マクロセル19,21,22と、端子24,25とに加
えて実際に実行した詳細な配線後の配線26を表示す
る。
Next, referring to FIG. 2 which is an explanatory view showing an example of a CRT image displaying a wiring layout according to the wiring method of the present embodiment, first, a schematic wiring area after steps S1 to S3 is executed is shown. In FIG. 2 (A), a macro cell 19 having a high wiring density, a schematic wiring grid 20, and
Macro cells 21 and 22 which are located on both sides of the macro cell and are planned to be interconnected with each other, a schematic wiring area 23 set by a designer, terminals 24 and 25, and a wiring connection display 27 are displayed. In addition, detailed wiring (step S1
In FIG. 2B showing the wiring area after 1), in addition to the macrocells 19, 21 and 22 and the terminals 24 and 25, the wiring 26 after the detailed wiring actually executed is displayed on the display screen.

【0022】高配線密度のマクロセル19上には内部配
線が低配線密度のマクロセルと比較して多いため、修正
用に使用可能な配線格子が非常に少なくなっている。そ
のため、マクロセル19の上を通過するような他の配線
は配線不可能となってしまう。マクロセル19の両側の
マクロセル21,22間の相互間配線は、設計者が配線
に対して何も操作を行なわなければ、自動配線プログラ
ムが最短経路で配線を実行しようとするので、マクロセ
ル19上で配線不可能となってしまう。
Since there are more internal wirings on the macro cell 19 having a high wiring density as compared with the macro cells having a low wiring density, the wiring grid that can be used for correction is very small. Therefore, it becomes impossible to wire other wires that pass over the macro cell 19. The interconnection between the macro cells 21 and 22 on both sides of the macro cell 19 is performed on the macro cell 19 because the automatic interconnection program tries to execute the interconnection on the shortest path unless the designer performs any operation on the interconnection. Wiring becomes impossible.

【0023】本実施の形態では、ステップS3により設
定した概略配線格子20を使用して配線実行を制御す
る。概略配線格子20は一般的に配線の前段階で複数の
選択配線の概略の配線位置を自動的に決定するために使
用され、配線格子を数本単位で指定する。概略配線領域
23の指定のために概略配線格子20で囲まれる領域を
制御の単位とする。
In the present embodiment, the wiring execution is controlled using the general wiring grid 20 set in step S3. The general wiring grid 20 is generally used in order to automatically determine the general wiring positions of a plurality of selected wirings before the wiring, and specifies the wiring grid in units of several lines. An area surrounded by the rough wiring grid 20 for designating the rough wiring area 23 is used as a control unit.

【0024】設計者は、概略配線経路を決定するための
マクロセルを選択するためにマウスなどの入力装置(以
下マウス)より相互間配線予定のマクロ21,22を指
定する。また高密度内部配線のマクロセル19を配線禁
止領域として指定する(ステップS5)。指定したマク
ロセル21,22において相互接続関係がある端子2
4,25の間には接続関係を示す複数の配線(選択配
線)の接続表示27をCRT上に表示する。設計者は端
子24,25の位置と配線の接続表示27とから概略配
線格子20で囲まれる概略配線領域23をマウスにより
入力する。入力後、指定した概略配線領域23に存在す
る配線格子の数が上記選択配線の数の総和よりも少ない
場合、領域23の幅Wを太くして再度、概略配線領域2
3を設定する(ステップS6,S7)。
The designer designates macros 21 and 22 to be interconnected by an input device such as a mouse (hereinafter referred to as a mouse) in order to select a macro cell for determining a rough interconnect route. Further, the macro cell 19 of the high-density internal wiring is designated as the wiring prohibited area (step S5). Terminal 2 that has a mutual connection relationship in the specified macro cells 21, 22
A connection display 27 of a plurality of wirings (selection wirings) showing a connection relationship is displayed on the CRT between 4 and 25. The designer inputs the general wiring area 23 surrounded by the general wiring grid 20 from the positions of the terminals 24 and 25 and the wiring connection display 27 with a mouse. After the input, when the number of wiring grids existing in the designated general wiring area 23 is smaller than the total number of the selected wirings, the width W of the area 23 is increased and the general wiring area 2
3 is set (steps S6 and S7).

【0025】次に、マクロ21,22相互間の概略配線
領域23の決定後、マクロ21,22間に対してのみ概
略配線領域23内で概略の配線位置28を優先して決定
する。次にマクロ21,22の概略配線位置28を固定
して回路全体の概略の配線位置と詳細な配線位置26を
決定する(ステップS8)。
Next, after determining the general wiring area 23 between the macros 21 and 22, the general wiring position 28 is preferentially determined within the general wiring area 23 only between the macros 21 and 22. Next, the general wiring positions 28 of the macros 21 and 22 are fixed and the general wiring positions and the detailed wiring positions 26 of the entire circuit are determined (step S8).

【0026】本実施の形態では、従来の配線方法と異な
り、設計者は接続対象の複数の配線すなわち選択配線の
概略位置の指定後、概略配線領域23の中で自動配線を
行う。そのため、従来の方法よりも指定した選択配線を
構成する複数分だけ修正時間を短縮できる。また、自動
配線実行前に、この配線修正を使用すると事前に混雑す
ると予測される配線領域を避けて指定した配線を実行で
きる。
In the present embodiment, unlike the conventional wiring method, the designer performs automatic wiring in the rough wiring area 23 after designating the rough positions of a plurality of wirings to be connected, that is, selected wirings. Therefore, the correction time can be shortened as compared with the conventional method by a plurality of parts constituting the specified selection wiring. Further, before executing the automatic wiring, if this wiring correction is used, it is possible to execute the designated wiring while avoiding the wiring area which is predicted to be crowded in advance.

【0027】従来の方法と比較すると、本実施の形態は
複数の配線についての修正が一度に可能であり、配線自
体も特定な配線に対しての概略の配線をするステップと
詳細の配線をするステップとにより自動配線を行うので
時間的に比較的短時間で修正可能である点が優れてい
る。
Compared with the conventional method, in the present embodiment, it is possible to modify a plurality of wirings at once, and the wiring itself also has a step of performing a rough wiring and a detailed wiring for a specific wiring. Since the automatic wiring is performed by the steps, it is excellent in that it can be corrected in a relatively short time.

【0028】また、従来の方法は自動配線後の高密度の
配線パターンの間に経路を見つけて修正対象の配線を結
合させていたが、本実施の形態では、全ての配線の完了
前でもマクロセルやブロックが全て配置されていれば配
線可能であり、かつ配線が混雑しそうな領域を避けて先
だって配線を行うことが可能である点が優れている。
Further, in the conventional method, a route is found between the high-density wiring patterns after the automatic wiring and the wirings to be corrected are combined, but in the present embodiment, the macro cell is completed even before the completion of all the wirings. It is excellent in that wiring can be performed if all blocks and blocks are arranged, and that wiring can be performed ahead of time in a region where wiring is likely to be crowded.

【0029】[0029]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の集積回路
の配線方法は、概略配線格子パターンおよび概略配線領
域を設定し表示するのステップと、配線実行の制御対象
の複数の配線を選択配線として選択するステップと、選
択配線禁止領域を指定するステップと、選択配線の全て
の配線の配線実行の可能性をチエックするステップと、
概略配線を行うステップとを含むことにより、複数の指
定配線に対して配線対象領域もしくは配線禁止領域を設
定し、上記複数の指定配線から成る概略配線を実行させ
ることができるため、配線経路の途中に存在する配線の
困難な領域を回避して配線したり、指定配線の複数本数
分だけ配線修正時間を短縮できるという効果がある。
As described above, the integrated circuit wiring method of the present invention includes the steps of setting and displaying a rough wiring grid pattern and a rough wiring area, and selecting a plurality of wirings to be controlled for wiring execution. , A step of designating a selected wiring prohibited area, a step of checking the possibility of executing wiring of all the wirings of the selected wiring,
By including the step of performing rough wiring, it is possible to set a wiring target area or a wiring prohibited area for a plurality of designated wirings and execute rough wiring consisting of the plurality of designated wirings. There is an effect that it is possible to avoid the difficult area of the wiring existing in the wiring, and to shorten the wiring correction time by the number of the designated wirings.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の集積回路の配線方法の一実施の形態を
示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing an embodiment of an integrated circuit wiring method of the present invention.

【図2】本実施の形態の集積回路の配線方法における表
示装置の表示画面の一例を示す説明図である。
FIG. 2 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of a display device in the integrated circuit wiring method of the present embodiment.

【図3】従来の集積回路の配線方法における表示装置の
表示画面の一例を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory diagram showing an example of a display screen of a display device in a conventional integrated circuit wiring method.

【図4】従来の集積回路の配線方法における配線不可能
の事例を示す説明図である。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a case where wiring is not possible in a conventional wiring method for an integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 既配線情報 2 配線禁止情報 3 未配線情報 4,5 機能ブロック 6 配線格子 7,11,12,24,25 端子 8,10,26 配線 9 配置禁止情報 13,14 配線経路 15〜17,19,21,22 マクロセル 18 未配線 20 概略配線格子 23 概略配線領域 27 配線接続表示 28 概略配線位置 1 Wiring information 2 Wiring prohibition information 3 Unwiring information 4, 5 Functional block 6 Wiring grid 7, 11, 12, 24, 25 Terminals 8, 10, 26 Wiring 9 Placement prohibition information 13, 14 Wiring route 15-17, 19 , 21,22 Macrocell 18 Unwired 20 General wiring grid 23 General wiring area 27 Wiring connection display 28 General wiring position

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 半導体チップ上に予め形成した複数の回
路素子または機能回路ブロックの集合から成るマクロセ
ルを予め定めた領域内に配列し予め定めた第1の配線ピ
ッチで設定した縦および横方向の配線経路候補である配
線格子パターン上に設計対象回路の設計情報にしたがっ
て自動配線を行ない所定の配線パターンを生成する集積
回路の配線方法において、 前記マクロセルを全て配置した状態でこのマクロセルを
表示する第1のステップと、 前記第1のピッチの予め定めた複数配線分の第2のピッ
チの概略配線格子パターンおよびこの概略配線格子パタ
ーンで示す概略配線領域を設定し表示する第2のステッ
プと、 配線実行の制御対象の複数の配線を選択配線として選択
する第3のステップと、 前記選択配線の配線実行を禁止する領域である選択配線
禁止領域を指定する第4のステップと、 前記選択配線の全ての配線の配線実行が可能か否かをチ
エックする第5のステップと、 前記選択配線の全配線を1単位として前記概略配線格子
パターン上に配線実行する概略配線を行う第6のステッ
プと、 前記選択配線禁止領域を記憶する第7のステップと、 前記選択配線以外の全ての配線を前記概略配線する第8
のステップと、 前記選択配線を含む全ての配線を前記配線格子パターン
上に配線実行する詳細配線を行う第9のステップとを含
むことを特徴とする集積回路の配線方法。
1. A vertical and horizontal direction in which macrocells each consisting of a set of a plurality of circuit elements or functional circuit blocks formed in advance on a semiconductor chip are arranged in a predetermined region and set at a predetermined first wiring pitch. In a wiring method of an integrated circuit, which automatically performs wiring according to design information of a circuit to be designed on a wiring grid pattern which is a wiring route candidate to generate a predetermined wiring pattern, displaying the macro cell in a state where all the macro cells are arranged. A first step, a second step of setting and displaying a schematic wiring grid pattern of a second pitch for a plurality of predetermined wirings of the first pitch, and a schematic wiring area shown by the general wiring grid pattern; A third step of selecting a plurality of wirings to be controlled as executions as a selection wiring, and an area for prohibiting the wiring execution of the selection wirings. A fourth step of designating a certain selected wiring prohibited area, a fifth step of checking whether or not it is possible to execute the wiring of all the selected wirings, and the above-mentioned outline with all the wirings of the selected wiring as one unit. A sixth step of performing rough wiring for performing wiring on a wiring grid pattern, a seventh step of storing the selected wiring prohibited area, and an eighth step of roughly wiring all wirings other than the selected wiring.
And a ninth step of performing detailed wiring for executing all wiring including the selected wiring on the wiring grid pattern.
【請求項2】 特定の領域内で前記選択配線の配線実行
の優先性を付与することを特徴とする請求項1記載の集
積回路の配線方法。
2. The wiring method for an integrated circuit according to claim 1, wherein the wiring execution priority of the selected wiring is given in a specific area.
JP7277319A 1995-10-25 1995-10-25 Wiring method of integrated circuit Expired - Lifetime JP2921454B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7277319A JP2921454B2 (en) 1995-10-25 1995-10-25 Wiring method of integrated circuit

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP7277319A JP2921454B2 (en) 1995-10-25 1995-10-25 Wiring method of integrated circuit

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH09120993A true JPH09120993A (en) 1997-05-06
JP2921454B2 JP2921454B2 (en) 1999-07-19

Family

ID=17581882

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP7277319A Expired - Lifetime JP2921454B2 (en) 1995-10-25 1995-10-25 Wiring method of integrated circuit

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2921454B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7859023B2 (en) 2007-04-05 2010-12-28 Panasonic Corporation Standard cell and semiconductor device including the same

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7859023B2 (en) 2007-04-05 2010-12-28 Panasonic Corporation Standard cell and semiconductor device including the same
US8022549B2 (en) 2007-04-05 2011-09-20 Panasonic Corporation Standard cell and semiconductor device including the same
US8143724B2 (en) 2007-04-05 2012-03-27 Panasonic Corporation Standard cell and semiconductor device including the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2921454B2 (en) 1999-07-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8239803B2 (en) Layout method and layout apparatus for semiconductor integrated circuit
US6378115B1 (en) LSI manufacturing method and recording medium for storing layout software
US20060118967A1 (en) Semiconductor integrated circuit device having diagonal direction wiring and layout method therefor
JPH05109890A (en) Circuit-arrangement incorporating method
US7185303B2 (en) Method and apparatus for laying out cells in a semiconductor device
US20120131534A1 (en) Automatically Creating Vias in a Circuit Design
JP4274814B2 (en) Semiconductor integrated circuit design method, design apparatus, cell library data structure, and automatic layout program
JP4141322B2 (en) Semiconductor integrated circuit automatic wiring method and semiconductor integrated circuit design program
JP2001306641A (en) Automatic arranging and wiring method for semiconductor integrated circuit
JPH0714927A (en) Method and device for automatic arrangement design
US7073142B2 (en) Wiring diagram verifying method, program, and apparatus
JPWO2006137119A1 (en) Floor plan apparatus, floor plan program, and computer-readable recording medium recording the program
US7010770B2 (en) Method of wide wire identification
JP2921454B2 (en) Wiring method of integrated circuit
JP2004104039A (en) Automatic layout and wiring design method for integrated circuit, automatic layout and wiring design apparatus therefor, automatic layout and wiring design system therefor, control program and readable recording medium
US20030014722A1 (en) Automatic layout design method of wirings in semiconductor integrated circuit
US6523160B2 (en) Method for dividing a terminal in automatic interconnect routing processing, a computer program for implementing same, and an automatic interconnect routing processor using the method
JP2000057175A (en) Automatic wiring system of semi-conductor integrated circuit device
JP2967174B2 (en) Design equipment
JPH06349947A (en) Mask pattern designing method and device of semiconductor integrated circuit device
US6957401B2 (en) Integrated circuit (IC) having IC floorplan silhouette-like power supply net, and sea of supply (SoS) electronic design automation (EDA) tool for designing same
JP2753001B2 (en) Method of changing design of semiconductor integrated circuit device
JP4071546B2 (en) Circuit design support apparatus and layout change method for semiconductor device
JP2003208454A (en) Method, device and program for automatic arrangement wiring for layout design in semiconductor integrated circuit
JP2001210717A (en) Automatic layout/wiring method of large-scale integrated circuit device

Legal Events

Date Code Title Description
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 19990330