JPH09115687A - プラズマ加速管の形成方法 - Google Patents
プラズマ加速管の形成方法Info
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- JPH09115687A JPH09115687A JP7303228A JP30322895A JPH09115687A JP H09115687 A JPH09115687 A JP H09115687A JP 7303228 A JP7303228 A JP 7303228A JP 30322895 A JP30322895 A JP 30322895A JP H09115687 A JPH09115687 A JP H09115687A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 大出力レーザーを利用して高エネルギーに加
速するレーザー航跡波加速器において、航跡波(プラズ
マ波)を励起するためのレーザー光を通しやすくし、大
きなプラズマ波を伝達するためのプラズマ加速管を形成
する。 【構成】 プラズマ加速管は中空状のプラズマパイプで
ある。プラズマ作成用のレーザー光を干渉法により縦横
方向から干渉縞を交叉させて中性原子ガスに当てプラズ
マを作る。さらにプラズマをつくるため共鳴イオン化法
を用いて中性原子ガスに適したレーザー光を用いる。
速するレーザー航跡波加速器において、航跡波(プラズ
マ波)を励起するためのレーザー光を通しやすくし、大
きなプラズマ波を伝達するためのプラズマ加速管を形成
する。 【構成】 プラズマ加速管は中空状のプラズマパイプで
ある。プラズマ作成用のレーザー光を干渉法により縦横
方向から干渉縞を交叉させて中性原子ガスに当てプラズ
マを作る。さらにプラズマをつくるため共鳴イオン化法
を用いて中性原子ガスに適したレーザー光を用いる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はプラズマ加速管の形成方
法及びその応用技術に関する。
法及びその応用技術に関する。
【0002】
【従来の技術】加速器による電子ビームの利用は、それ
によるX線によって非破壊検査或いは医療診断に極めて
多く使われている。これを超小型化することによって得
られる経済的効果には計り知れないものが期待される。
しかしながら、銅製の加速管とSバンド高周波電源によ
って電子ビームを加速しているのが現状で、100Me
Vの電子ビームを得るのに10m程度のスペースを必要
とする。そして、プラズマ加速管の作り方には未だ有効
な方法は開発されていない。
によるX線によって非破壊検査或いは医療診断に極めて
多く使われている。これを超小型化することによって得
られる経済的効果には計り知れないものが期待される。
しかしながら、銅製の加速管とSバンド高周波電源によ
って電子ビームを加速しているのが現状で、100Me
Vの電子ビームを得るのに10m程度のスペースを必要
とする。そして、プラズマ加速管の作り方には未だ有効
な方法は開発されていない。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】大出力レーザーでプラ
ズマを作り同時にプラズマ波を励起する方法があるが、
この方法では、レーザー光が発散するため、長い距離
(1cm程度)の安定したプラズマ波を励起することは
できない。本願発明の目的は、このような問題点を解消
し、有用なプラズマ加速管を形成する方法を提供するこ
とにある。さらに、本発明の目的は、このように形成さ
れたプラズマ加速管の応用技術を提供することにある。
ズマを作り同時にプラズマ波を励起する方法があるが、
この方法では、レーザー光が発散するため、長い距離
(1cm程度)の安定したプラズマ波を励起することは
できない。本願発明の目的は、このような問題点を解消
し、有用なプラズマ加速管を形成する方法を提供するこ
とにある。さらに、本発明の目的は、このように形成さ
れたプラズマ加速管の応用技術を提供することにある。
【0004】
【課題を解決するための手段】本願発明者は,この目的
達成のため鋭意研究の結果、大出力レーザーでプラズマ
を作り同時にプラズマ波を励起する方法において、プラ
ズマ波の発散を防止するために中空状のプラズマ柱を作
って導波路(オプチカルガイド)とすること、及び中空
状のプラズマ柱をつくる方法としてはレーザー干渉法と
共鳴イオン化法を組み合わせて用いることに想到し、こ
の知見に基づいて本願発明のプラズマ加速管の形成方法
を発明するに到った。
達成のため鋭意研究の結果、大出力レーザーでプラズマ
を作り同時にプラズマ波を励起する方法において、プラ
ズマ波の発散を防止するために中空状のプラズマ柱を作
って導波路(オプチカルガイド)とすること、及び中空
状のプラズマ柱をつくる方法としてはレーザー干渉法と
共鳴イオン化法を組み合わせて用いることに想到し、こ
の知見に基づいて本願発明のプラズマ加速管の形成方法
を発明するに到った。
【0005】而して、本願発明のプラズマ加速管は、大
出力レーザーを利用して電子を高エネルギーに加速する
レーザー航跡波加速器において、その航跡波はプラズマ
波であるが、このプラズマ波を励起するためのレーザー
光を通りやすくし、大きなプラズマ波を伝達するための
ものである。プラズマ加速管は、中空のプラズマパイプ
である。これを形成する方法としては、プラズマ作成用
のレーザー光を干渉法により縦横方向から干渉縞を交差
させて、中性原子ガスに当ててプラズマを作る。このプ
ラズマを作るために、共鳴イオン化法を用いて中性原子
ガスに適したレーザー光を用いる。
出力レーザーを利用して電子を高エネルギーに加速する
レーザー航跡波加速器において、その航跡波はプラズマ
波であるが、このプラズマ波を励起するためのレーザー
光を通りやすくし、大きなプラズマ波を伝達するための
ものである。プラズマ加速管は、中空のプラズマパイプ
である。これを形成する方法としては、プラズマ作成用
のレーザー光を干渉法により縦横方向から干渉縞を交差
させて、中性原子ガスに当ててプラズマを作る。このプ
ラズマを作るために、共鳴イオン化法を用いて中性原子
ガスに適したレーザー光を用いる。
【0006】プラズマオプチカルガイドとは、円柱状の
プラズマで軸上周辺はプラズマ密度が低いものである。
プラズマの密度と光の屈折率の間には、次のような関係
のあることを利用して、レーザー光をガイド(導く)す
るものである。
プラズマで軸上周辺はプラズマ密度が低いものである。
プラズマの密度と光の屈折率の間には、次のような関係
のあることを利用して、レーザー光をガイド(導く)す
るものである。
【0007】すなわち、n’を屈折率とすると、
【数1】 ここに、cは真空中の光の速度、λOは波長、εOは誘
電率、μO透磁率、ωPはプラズマ周波数、ωOは光の
周波数である。他のものはプラズマ中のものに対応す
る。このように軸上でプラズマ密度の低い円柱状プラズ
マを作れば、軸近傍では、δn’(r)/δr<0とな
り、光の屈折率を利用して発散を防ぎ光を導くことがで
きる。
電率、μO透磁率、ωPはプラズマ周波数、ωOは光の
周波数である。他のものはプラズマ中のものに対応す
る。このように軸上でプラズマ密度の低い円柱状プラズ
マを作れば、軸近傍では、δn’(r)/δr<0とな
り、光の屈折率を利用して発散を防ぎ光を導くことがで
きる。
【0008】一様な密度のプラズマに強い短パルスレー
ザーを打ち込んだとき、レーザー光はその群速度
ザーを打ち込んだとき、レーザー光はその群速度
【数2】 で伝わり(ここでωP≪ωOとする)、その後に同じ速
度の位相速度で伝わる航跡波ができることが知られてい
る[K.Nakajima:Proc.of 4th
Tamura Sympo.on Acc.Phys.
(AIP,NY.1995)]。
度の位相速度で伝わる航跡波ができることが知られてい
る[K.Nakajima:Proc.of 4th
Tamura Sympo.on Acc.Phys.
(AIP,NY.1995)]。
【0009】レーザー光はガウス分布とし、 ζ=z−vot と座標変換すれば、その波動方程式の解析解が得られ
て、
て、
【数3】 となる。このEZが電子ビームの加速に用いられるが、
10TW程度の大出力レーザーを用いれば30GV/m
という極めて大きな電場を持つ波ができる。
10TW程度の大出力レーザーを用いれば30GV/m
という極めて大きな電場を持つ波ができる。
【0010】ここでは、レーザー光の強度を表すのに規
格化されたベクトル・ポテンシャル
格化されたベクトル・ポテンシャル
【数4】 を導入し、
【数5】 としている。すなわち、σrはビームのスポットサイズ
を、σzはパルス巾を表すことになる。
を、σzはパルス巾を表すことになる。
【0011】また、aOとレーザー出力Iとの間には
【数6】 の関係がある。また、この解析解から、レーザー光のパ
ルス長とプラズマ振動の波長とが、λp=πσzの時に
最大電場は得られ、
ルス長とプラズマ振動の波長とが、λp=πσzの時に
最大電場は得られ、
【数7】 ということがわかる。これはレーザー光のパルス長が短
い方がよく、強い電場が得られることを意味する。
い方がよく、強い電場が得られることを意味する。
【0012】また、低密度プラズマ(ωO≫ωP)に、
ピーク出力Pでガウス分布のレーザー光を打ち込み、ス
ポットサイズROになるように焦点を結んだ場合、この
Pとレーリー長ZR=πRO 2/λOを用いると最大電
場は次のようにも表される。
ピーク出力Pでガウス分布のレーザー光を打ち込み、ス
ポットサイズROになるように焦点を結んだ場合、この
Pとレーリー長ZR=πRO 2/λOを用いると最大電
場は次のようにも表される。
【数8】 ここに、ΩOは真空の抵抗(377Q)であり、λOは
レーザー光の波長、kp=2π/λp=ωP/voであ
る。これは、出力Pに比例して径の2乗に反比例するこ
とから、電場はレーザー光の出力密度に比例する。すな
わち、できるだけ細い光ビームが望ましい。
レーザー光の波長、kp=2π/λp=ωP/voであ
る。これは、出力Pに比例して径の2乗に反比例するこ
とから、電場はレーザー光の出力密度に比例する。すな
わち、できるだけ細い光ビームが望ましい。
【0013】加速距離がレーリー長で決められるのであ
れば、ビームのエネルギーの増加分は、△W=eEz・
πZRとなる。また、最大の加速電場を得るために最適
なプラズマ密度はn=1/πreσz 2で表される。
れば、ビームのエネルギーの増加分は、△W=eEz・
πZRとなる。また、最大の加速電場を得るために最適
なプラズマ密度はn=1/πreσz 2で表される。
【0014】プラズマに打ち込まれた強力なレーザー光
の塊の後にできる航跡波によって、数10GV/mの加
速電場が作られることが知られている[C.E.Cla
yton et al:Phys.Rev.Let
t.,70,37(1993);K.Nakajima
et al:Physica Scripta,T5
2,61(1994)]。しかしながら、レーザー光は
レーリー長の制限のため光はすぐ発散してしまうため、
十分に航跡波が波たたず、したがって加速距離が短く、
実効的には数10MeVの加速に終わっている。本願発
明のプラズマ加速管(オプチカルガイド)においては、
レーザー光の焦点部の距離を延ばすことができるので、
加速部の距離を長くすることができ、したがって大きく
加速することができる。
の塊の後にできる航跡波によって、数10GV/mの加
速電場が作られることが知られている[C.E.Cla
yton et al:Phys.Rev.Let
t.,70,37(1993);K.Nakajima
et al:Physica Scripta,T5
2,61(1994)]。しかしながら、レーザー光は
レーリー長の制限のため光はすぐ発散してしまうため、
十分に航跡波が波たたず、したがって加速距離が短く、
実効的には数10MeVの加速に終わっている。本願発
明のプラズマ加速管(オプチカルガイド)においては、
レーザー光の焦点部の距離を延ばすことができるので、
加速部の距離を長くすることができ、したがって大きく
加速することができる。
【0015】本願発明者等の研究に依れば、レーザー光
の干渉と共鳴イオン化法によって、プラズマ・スラブを
作ることができる(特願平7−210922)。図1に
示すように、レーザー光1を半透明鏡2と全反射鏡3と
によって二つに分離し原子流4に干渉させると干渉縞5
が生じ、プラズマ・スラブ6が任意の間隔で形成され
る。プラズママイクロアンジュレーターの概要を図2に
示すが、このように作られた多数のプラズマ・スラブ列
に電子ビームを斜めに通すことによって電子ビームの進
行方向に直交する交番電場、つまりアンジュレーション
させる電場成分が作られる。
の干渉と共鳴イオン化法によって、プラズマ・スラブを
作ることができる(特願平7−210922)。図1に
示すように、レーザー光1を半透明鏡2と全反射鏡3と
によって二つに分離し原子流4に干渉させると干渉縞5
が生じ、プラズマ・スラブ6が任意の間隔で形成され
る。プラズママイクロアンジュレーターの概要を図2に
示すが、このように作られた多数のプラズマ・スラブ列
に電子ビームを斜めに通すことによって電子ビームの進
行方向に直交する交番電場、つまりアンジュレーション
させる電場成分が作られる。
【0016】本願発明は、同様の方法でプラズマオプチ
カルガイドを作るもので、図3に示すように、レーザー
光を水平、垂直方向から干渉させると、軸の近くで周辺
部よりも密度の低いプラズマオプチカルガイドが形成さ
れる。内径が縦横10μm程度の四角柱で長さ10mm
の中空プラズマ(実際には内側の密度は0ではない)を
作ることができる。プラズマ密度は周辺部で1×10
10/cc、中心部では1×1014/cc程度とする
と、その中に強力なレーザー光をフォーカスさせると、
軸近傍では、δn’(r)/δr<0となり、光の屈折
率を利用して発散を防いで光を導くことができる。その
概要を図4に示す。
カルガイドを作るもので、図3に示すように、レーザー
光を水平、垂直方向から干渉させると、軸の近くで周辺
部よりも密度の低いプラズマオプチカルガイドが形成さ
れる。内径が縦横10μm程度の四角柱で長さ10mm
の中空プラズマ(実際には内側の密度は0ではない)を
作ることができる。プラズマ密度は周辺部で1×10
10/cc、中心部では1×1014/cc程度とする
と、その中に強力なレーザー光をフォーカスさせると、
軸近傍では、δn’(r)/δr<0となり、光の屈折
率を利用して発散を防いで光を導くことができる。その
概要を図4に示す。
【0017】一般に、強い航跡波を作るために、レーザ
ー光を強く収束させると、その収束される長さはレーリ
ー長で制限される。スポットサイズROになるように収
束させた場合ZR=πRO 2/λOをレーリー長と呼
ぶ。ここに、λOはレーザーの波長である。スポットサ
イズROと実効的に見なせる長さはLR=πZRであ
る。例えば、RO=5μm、λO=1μmとすれば、Z
R=79μm、LR=248μmとなり極めて短い。こ
のLRを延ばすためにプラズマオプチカルガイドが利用
される。
ー光を強く収束させると、その収束される長さはレーリ
ー長で制限される。スポットサイズROになるように収
束させた場合ZR=πRO 2/λOをレーリー長と呼
ぶ。ここに、λOはレーザーの波長である。スポットサ
イズROと実効的に見なせる長さはLR=πZRであ
る。例えば、RO=5μm、λO=1μmとすれば、Z
R=79μm、LR=248μmとなり極めて短い。こ
のLRを延ばすためにプラズマオプチカルガイドが利用
される。
【0018】文献[E.Esarey,et al:P
hys.Fluids B5,No.7,2690(1
993)]に依れば、プラズマ密度に分布があり、相対
論的効果を考慮しての屈折率は、
hys.Fluids B5,No.7,2690(1
993)]に依れば、プラズマ密度に分布があり、相対
論的効果を考慮しての屈折率は、
【数9】 と表される。ここに、ρ(r)=n(r)/nOγl、 γl=(1+aO 2/2)1/2 であり、aOは前記の規格化されたベクトルポテンシャ
ルである。そして、中空円柱状プラズマではδn’
(r)/δr<0となり、光の屈折率を利用して発散を
防ぎ光を導くことができる。
ルである。そして、中空円柱状プラズマではδn’
(r)/δr<0となり、光の屈折率を利用して発散を
防ぎ光を導くことができる。
【0019】また、縦磁場を加えたときは、軸と直行す
る方向の屈折率は
る方向の屈折率は
【数10】 と表され、実質的に、屈折率の変化率を高める効果があ
る。ここに、ωCはサイクロトロンの周波数である。
る。ここに、ωCはサイクロトロンの周波数である。
【0020】一様なプラズマ中での航跡波の解析解の特
徴は、レーザー光に乗った系で考えてプラズマ周波数ω
Oの縦波が伝わることで、その関数は波数ベクトルkO
=ωO/VOを用いてcoskoζで表される。したが
って、図5のような密度分布を仮定すると、航跡波は領
域I、領域IIのそれぞれで一定の波長と波数を持つこ
とになる。それぞれλ1、λ2、k01、k02とし、
境界での連続性を考えると全体の領域の解析解として図
6が得られる。すなわち、それぞれの領域での波面は平
行線となり、境界での連続性を考えるとλ2/λ1=s
inθで折れ曲がることとなる。k02Sinθ=k
01の関係からk02≫k01ならばθは0に近く航跡
波は領域Iに閉じ込められることになる。ここでも縦磁
場を加えた場合には、閉じ込めるれる方に働き、悪い影
響は見当たらない。
徴は、レーザー光に乗った系で考えてプラズマ周波数ω
Oの縦波が伝わることで、その関数は波数ベクトルkO
=ωO/VOを用いてcoskoζで表される。したが
って、図5のような密度分布を仮定すると、航跡波は領
域I、領域IIのそれぞれで一定の波長と波数を持つこ
とになる。それぞれλ1、λ2、k01、k02とし、
境界での連続性を考えると全体の領域の解析解として図
6が得られる。すなわち、それぞれの領域での波面は平
行線となり、境界での連続性を考えるとλ2/λ1=s
inθで折れ曲がることとなる。k02Sinθ=k
01の関係からk02≫k01ならばθは0に近く航跡
波は領域Iに閉じ込められることになる。ここでも縦磁
場を加えた場合には、閉じ込めるれる方に働き、悪い影
響は見当たらない。
【0021】電子ビームの安定性は、δEr/δζ=δ
EZ/δrの関係性は保たれるからある1/4周期の位
相では、加速と収束が同時に得られ、このようなきれい
な平面波ではビームの性質の向上が期待できる。
EZ/δrの関係性は保たれるからある1/4周期の位
相では、加速と収束が同時に得られ、このようなきれい
な平面波ではビームの性質の向上が期待できる。
【0022】もし、プラズマ密度分布が、このようにシ
ャープな境界を持たず、 n(r)=n(0)+Δnr2/RO 2 と2次曲線で表される場合については、Δn=1/πr
eRO 2とすれば、レーザー光は一定の径ROで伝わる
ことになる。ここに、reは古典電子半径である。すな
わち、n(0)=1/πreσZ 2すれば、最大の航跡
波が励起し最大の加速電場が得られる。つまり、Δn/
n(0)=(σZ/RO)2とすれば、ROのレーザー
光の径は保たれ、加速によるエネルギーの増加は ΔW=0.6p〔TW〕Δn/n(0) となる。
ャープな境界を持たず、 n(r)=n(0)+Δnr2/RO 2 と2次曲線で表される場合については、Δn=1/πr
eRO 2とすれば、レーザー光は一定の径ROで伝わる
ことになる。ここに、reは古典電子半径である。すな
わち、n(0)=1/πreσZ 2すれば、最大の航跡
波が励起し最大の加速電場が得られる。つまり、Δn/
n(0)=(σZ/RO)2とすれば、ROのレーザー
光の径は保たれ、加速によるエネルギーの増加は ΔW=0.6p〔TW〕Δn/n(0) となる。
【0023】文献[(T.Katsoulea et
al:Proc.1993 IEEE Partic.
Acc.Couf.,IEEE,Piscatawa
y,N.J.,2635(1993)]では、プラズマ
加速管中での航跡波について、中空プラズマチャンネル
の中に安定な航跡波を励起できる可能性をシュミレーシ
ョンによって示し、レーリー長の13倍の距離まで、中
空プラズマ柱の中を極めてきれいに、しかも変形するこ
となしに航跡波が伝わる様子が描かれている。電子ビー
ムの安定性については、航跡波上のある位相では、ビー
ムの加速とビームの収束が同時に作用することは明らか
であるが、プラズマが電子ビームの電荷を中性化するこ
とによる、所謂、プラズマレンズ効果が電子ビームの安
定化に寄与することに留意する必要がある[B.Bor
letta et al:Proc.1993 IEE
E Partic.Acc.Couf.,IEEE,P
iscataway,N.J.,2635(199
3)]。
al:Proc.1993 IEEE Partic.
Acc.Couf.,IEEE,Piscatawa
y,N.J.,2635(1993)]では、プラズマ
加速管中での航跡波について、中空プラズマチャンネル
の中に安定な航跡波を励起できる可能性をシュミレーシ
ョンによって示し、レーリー長の13倍の距離まで、中
空プラズマ柱の中を極めてきれいに、しかも変形するこ
となしに航跡波が伝わる様子が描かれている。電子ビー
ムの安定性については、航跡波上のある位相では、ビー
ムの加速とビームの収束が同時に作用することは明らか
であるが、プラズマが電子ビームの電荷を中性化するこ
とによる、所謂、プラズマレンズ効果が電子ビームの安
定化に寄与することに留意する必要がある[B.Bor
letta et al:Proc.1993 IEE
E Partic.Acc.Couf.,IEEE,P
iscataway,N.J.,2635(199
3)]。
【0024】本願発明に依るプラズマ加速管を本願発明
者の発明に係るプラズママイクロアンジュレーター(特
願平7−210922)と組み合わせて超小型のX線放
射光源(図7)或いはX線FEL(図8)の製作するこ
とができる。
者の発明に係るプラズママイクロアンジュレーター(特
願平7−210922)と組み合わせて超小型のX線放
射光源(図7)或いはX線FEL(図8)の製作するこ
とができる。
【0025】プラズマ加速管の長さを10mmと想定
し、最近のシュミレーション計算のように30GV/m
の加速電場が得られるとすると、300MeVとなる。
実効的な加速距離をその1/3と考えても100MeV
が得られる。
し、最近のシュミレーション計算のように30GV/m
の加速電場が得られるとすると、300MeVとなる。
実効的な加速距離をその1/3と考えても100MeV
が得られる。
【0026】プラズママイクロアンジュレーターとして
はλO×N≡10μm×1000ピッチ=1cm を考
える。ここでKはアンジュレーターパラメーターでプラ
ズマの密度に比例し、Nはピッチ数である。N値が若干
大き過ぎるが、K値が1より小さい場合には、K×Nの
2乗に放射光の発生量が比例するので、プラズマの密度
が十分得られぬときには、Nで稼ぐことができる。
はλO×N≡10μm×1000ピッチ=1cm を考
える。ここでKはアンジュレーターパラメーターでプラ
ズマの密度に比例し、Nはピッチ数である。N値が若干
大き過ぎるが、K値が1より小さい場合には、K×Nの
2乗に放射光の発生量が比例するので、プラズマの密度
が十分得られぬときには、Nで稼ぐことができる。
【0027】このような知見に基づいて、100MeV
の電子ビームと10μmのプラズママイクロアンジュレ
ーターを作ると、発生する光の波長は λ≒λO/2γ
2から0.1nm程度のX線が得られることになる。F
ELか放射光源かは、加速された電子ビームの性能(エ
ミッタンス、エネルギー巾、電流)に依存する。その性
能が十分によい場合には、これによょて、誘導放射の増
幅が可能になりコヒーレント光が発生できることにな
る。
の電子ビームと10μmのプラズママイクロアンジュレ
ーターを作ると、発生する光の波長は λ≒λO/2γ
2から0.1nm程度のX線が得られることになる。F
ELか放射光源かは、加速された電子ビームの性能(エ
ミッタンス、エネルギー巾、電流)に依存する。その性
能が十分によい場合には、これによょて、誘導放射の増
幅が可能になりコヒーレント光が発生できることにな
る。
【0028】まず、十分な電子ビーム性能が得られぬ場
合を考えて、卓上X線放射光源の概要図を図7に示す。
図7において、原子流発生部やビーム輸送用の電磁石な
どは省略してある。電子銃としてはホトカソードを利用
したRF銃が採用される。なお、ホトカソードの代わり
に真空マイクロ素子を用いるとより小型化することがで
きる。RF銃を使用すると光速に近い2MeV以上の電
子ビームを作ることができる。ホトカソードをたたくレ
ーザー光としてはプラズマ加速管とプラズママイクロア
ンジュレーターを作った後のものが使える。プラズマ加
速管とプラズママイクロアンジュレーターとに費やされ
る出力は数十%であり、十分パルス電子の発生に使用で
きる。
合を考えて、卓上X線放射光源の概要図を図7に示す。
図7において、原子流発生部やビーム輸送用の電磁石な
どは省略してある。電子銃としてはホトカソードを利用
したRF銃が採用される。なお、ホトカソードの代わり
に真空マイクロ素子を用いるとより小型化することがで
きる。RF銃を使用すると光速に近い2MeV以上の電
子ビームを作ることができる。ホトカソードをたたくレ
ーザー光としてはプラズマ加速管とプラズママイクロア
ンジュレーターを作った後のものが使える。プラズマ加
速管とプラズママイクロアンジュレーターとに費やされ
る出力は数十%であり、十分パルス電子の発生に使用で
きる。
【0029】電子ビームのエミッタンス、エネルギー
巾、電流値が十分な場合には、いわゆる、自己増幅自然
放射(SASE)の原理に基づき、ワンパスの電子ビー
ムで誘導放射が可能となり、そのままでFELとなり得
る。プラズマ加速管で加速された電子ビームのエミッタ
ンスを十分低くできないときは、何らかのビームクーリ
ングやビームフォーカスなどのシステムを導入する必要
がある。図8に卓上X線FELの概要を示す。
巾、電流値が十分な場合には、いわゆる、自己増幅自然
放射(SASE)の原理に基づき、ワンパスの電子ビー
ムで誘導放射が可能となり、そのままでFELとなり得
る。プラズマ加速管で加速された電子ビームのエミッタ
ンスを十分低くできないときは、何らかのビームクーリ
ングやビームフォーカスなどのシステムを導入する必要
がある。図8に卓上X線FELの概要を示す。
【図1】レーザー干渉・共鳴イオン化法による干渉縞の
作り方の説明図。
作り方の説明図。
【図2】プラズマ・アンジュレーターの概要説明図。A
は上から見た(トップビュー)プラズマ・スラブ列に電
子ビームが通る態様。
は上から見た(トップビュー)プラズマ・スラブ列に電
子ビームが通る態様。
【図3】プラズマ加速管の作り方の説明図。Bは軸方向
から見た干渉縞。
から見た干渉縞。
【図4】プラズマ加速管の概要説明図。
【図5】プラズマ加速管の密度分布。
【図6】レーザー航跡波の概念図。
【図7】卓上X線放射光源概念図。
【図8】卓上X線FEL概念図。
1 レーザー光 13 シート
状レーザー光 2 半透明鏡 14 電子ビ
ーム 3 全反射鏡 15 領域I 4 原子流 16 領域I
I 5 干渉縞 17 伝搬方
向 6 プラズマスラブ 18 電子銃 7 レーザー 19 ホトカ
ソード 8 電子ビーム 20 RF空
洞 9 シート状レーザー光 21 電子ビ
ーム 10 レーザー光 22 (レー
ザー航跡波用)レーザI 11 プラズマ加速管 23 偏向
磁石 12 プラズマ部 24 光学
用鏡 25 (プラズマ加速管・プラズマアンジュレーター
用)レーザーII 26 レーザー光 27 X線放射光 28 プラズママイクロアンジュレーター(ピッチ1
0μm×1000=1cm) 29 プラズマ加速管(巾〜1cm) 30 プラズマ加速管 31 偏向磁石 32 レーザーI 33 RF電子銃 34 レーザーII 35 クリーニング部 36 α−磁石 37 プラズママイクロアンジュレーター(SAS
E) 38 X線FEL光
状レーザー光 2 半透明鏡 14 電子ビ
ーム 3 全反射鏡 15 領域I 4 原子流 16 領域I
I 5 干渉縞 17 伝搬方
向 6 プラズマスラブ 18 電子銃 7 レーザー 19 ホトカ
ソード 8 電子ビーム 20 RF空
洞 9 シート状レーザー光 21 電子ビ
ーム 10 レーザー光 22 (レー
ザー航跡波用)レーザI 11 プラズマ加速管 23 偏向
磁石 12 プラズマ部 24 光学
用鏡 25 (プラズマ加速管・プラズマアンジュレーター
用)レーザーII 26 レーザー光 27 X線放射光 28 プラズママイクロアンジュレーター(ピッチ1
0μm×1000=1cm) 29 プラズマ加速管(巾〜1cm) 30 プラズマ加速管 31 偏向磁石 32 レーザーI 33 RF電子銃 34 レーザーII 35 クリーニング部 36 α−磁石 37 プラズママイクロアンジュレーター(SAS
E) 38 X線FEL光
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年12月21日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項1
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0009
【補正方法】変更
【補正内容】
【0009】レーザー光はガウス分布とし、 ζ=z−−vot と座標変換すれば、その波動方程式の解析解が得られ
て、 eEz=(√π/2)me c2a0 2kp 2 σz exp (−2r2/σr 2−kp 2σz2/4)coskpζ, eEz (r,ζ) =−(2√π)me c2 a0 2kp 2σz exp (−2r2/σr 2−kp 2σz 24)sinkpζ. となる。このEzが電子ビームの加速に用いられるが、
10TW程度の大出力レーザーを用いれば30GV/m
という極めて大きな電場を持つ波ができる。
て、 eEz=(√π/2)me c2a0 2kp 2 σz exp (−2r2/σr 2−kp 2σz2/4)coskpζ, eEz (r,ζ) =−(2√π)me c2 a0 2kp 2σz exp (−2r2/σr 2−kp 2σz 24)sinkpζ. となる。このEzが電子ビームの加速に用いられるが、
10TW程度の大出力レーザーを用いれば30GV/m
という極めて大きな電場を持つ波ができる。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0010
【補正方法】変更
【補正内容】
【0010】ここでは、レーザー光の強度を表すのに規
格化されたベクトル・ポテンシャル a(r,ζ,t)=eA((r,ζ,t)/(m
ec2) を導入し、 a (r,ζ) =a0exp(−r2/σr 2−ζ2
/2σz 2) としている。すなわち、σrはビームのスポットサイズ
を、σzはパルス巾を表すことになる。
格化されたベクトル・ポテンシャル a(r,ζ,t)=eA((r,ζ,t)/(m
ec2) を導入し、 a (r,ζ) =a0exp(−r2/σr 2−ζ2
/2σz 2) としている。すなわち、σrはビームのスポットサイズ
を、σzはパルス巾を表すことになる。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0012
【補正方法】変更
【補正内容】
【0012】また、低密度プラズマ(ω0≫ωp)に、
ピーク出力Pでガウス分布のレーザー光を打ち込み、ス
ポットサイズR0になるように焦点を結んだ場合、この
Pとレーリー長ZR=πR0 2/λ0を用いると最大電
場は次のように表される。 eEz=Ω0Pλ0kp σz exp(−kp 2σz
2/4)/πmec2λpZR ここに、Ω0は真空の抵抗(377Ω)であり、λ0は
レーザー光の波長、kp=2π/λp=ωp/v0であ
る。これは、出力Pに比例して径の2乗に反比例するこ
とから、電場はレーザー光の出力密度に比例する。すな
わち、できるだけ細い光ビームが望ましい。
ピーク出力Pでガウス分布のレーザー光を打ち込み、ス
ポットサイズR0になるように焦点を結んだ場合、この
Pとレーリー長ZR=πR0 2/λ0を用いると最大電
場は次のように表される。 eEz=Ω0Pλ0kp σz exp(−kp 2σz
2/4)/πmec2λpZR ここに、Ω0は真空の抵抗(377Ω)であり、λ0は
レーザー光の波長、kp=2π/λp=ωp/v0であ
る。これは、出力Pに比例して径の2乗に反比例するこ
とから、電場はレーザー光の出力密度に比例する。すな
わち、できるだけ細い光ビームが望ましい。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0019
【補正方法】変更
【補正内容】
【0019】また、縦磁場を加えたときは、軸と直行す
る方向の屈折率は n’(r)=1−ω0 2ρ(r)/2ω0(ω0−
ωc) と表され、実質的に、屈折率の変化率を高める効果があ
る。ここに、ωcはサイクロトン周波数である。
る方向の屈折率は n’(r)=1−ω0 2ρ(r)/2ω0(ω0−
ωc) と表され、実質的に、屈折率の変化率を高める効果があ
る。ここに、ωcはサイクロトン周波数である。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】一様なプラズマ中での航跡波の解析解の特
徴は、レーザー光に乗った系で考えてプラズマ周波数ω
の縦波が伝わることで、その関数は波数ペクトルkp
=ωp/v0を用いてcoskpζで表される。したが
って、図5のような密度分を仮定すると、航跡波は領域
I、領域IIのそれぞれで一定の波長と波数を持つこと
になる。それぞれλ1、λ2、kp1、kp2とし、境
界での連続性を考えると全体の領域の解析解として図6
が得られる。すなわち、それぞれの領域での波面は平行
線となり、境界での連続性を考えるとλ2/λ1=si
nθで折れ曲がることとなる。kp2sinθ=kp1
の関係からkp2≫kp1ならばθは0に近く航跡波は
領域Iに閉じ込められることになる。ここでも縦磁場を
加えた場合には、閉じ込められる方に働き、悪い影響は
見当たらない。
徴は、レーザー光に乗った系で考えてプラズマ周波数ω
の縦波が伝わることで、その関数は波数ペクトルkp
=ωp/v0を用いてcoskpζで表される。したが
って、図5のような密度分を仮定すると、航跡波は領域
I、領域IIのそれぞれで一定の波長と波数を持つこと
になる。それぞれλ1、λ2、kp1、kp2とし、境
界での連続性を考えると全体の領域の解析解として図6
が得られる。すなわち、それぞれの領域での波面は平行
線となり、境界での連続性を考えるとλ2/λ1=si
nθで折れ曲がることとなる。kp2sinθ=kp1
の関係からkp2≫kp1ならばθは0に近く航跡波は
領域Iに閉じ込められることになる。ここでも縦磁場を
加えた場合には、閉じ込められる方に働き、悪い影響は
見当たらない。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】もし、プラズマ密度分布が、このようなシ
ャープな境界を持たず、 n(r)=n(0)+Δnr2/R0 2 と2次曲線で表される場合については、Δn=1/πr
eR0 2とすれば、レーザー光は一定の径R0で伝わる
ことになる。ここに、reは古典電子半径である。すな
わち、n(0)=1/πreσz2とすれば、最大の航
跡波が励起し最大の加速電場が得られる。つまり、Δn
/n(0)=(σz/R0)2とすれば、R0のレーザ
ー光の径は保たれ、加速によるエネルギーの増加は ΔW=0.6p〔TW〕Δn/n(0) となる。
ャープな境界を持たず、 n(r)=n(0)+Δnr2/R0 2 と2次曲線で表される場合については、Δn=1/πr
eR0 2とすれば、レーザー光は一定の径R0で伝わる
ことになる。ここに、reは古典電子半径である。すな
わち、n(0)=1/πreσz2とすれば、最大の航
跡波が励起し最大の加速電場が得られる。つまり、Δn
/n(0)=(σz/R0)2とすれば、R0のレーザ
ー光の径は保たれ、加速によるエネルギーの増加は ΔW=0.6p〔TW〕Δn/n(0) となる。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】まず、十分な電子ビーム性能が得られぬ場
合を考えて、卓上X線放射光源の概要図を図7に示す。
図7において、原子流発生部やビーム輪送用の電磁石な
どは省略してある。電子銃としてはホトカソードを利用
したRF銃が採用される。なお、ホトカソードの代わり
に真空マイクロ素子を用いると、より小型化することが
できる。RF銃を使用すると光速に近い2MeV以上の
電子ビームを作ることができる。ホトカソードを叩くレ
ーザー光としてはプラズマ加速管とプラズママイクロア
ンジュレーターを作った後のものが使える。プラズマ加
速管とプラズママイクロアンジュレーターとに費やされ
る出力は数10%であり、十分短パルス電子の発生に使
用できる。
合を考えて、卓上X線放射光源の概要図を図7に示す。
図7において、原子流発生部やビーム輪送用の電磁石な
どは省略してある。電子銃としてはホトカソードを利用
したRF銃が採用される。なお、ホトカソードの代わり
に真空マイクロ素子を用いると、より小型化することが
できる。RF銃を使用すると光速に近い2MeV以上の
電子ビームを作ることができる。ホトカソードを叩くレ
ーザー光としてはプラズマ加速管とプラズママイクロア
ンジュレーターを作った後のものが使える。プラズマ加
速管とプラズママイクロアンジュレーターとに費やされ
る出力は数10%であり、十分短パルス電子の発生に使
用できる。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】符号の説明
【補正方法】変更
【補正内容】
【符号の説明】 1 レーザー光 13 シート状レ
ーザー光 2 半透明鏡 14 電子ビーム 3 全反射鏡 15 領域I 4 原子流 16 領域II 5 干渉縞 17 伝搬方向 6 プラズマスラブ 18 電子銃 7 レーザー 19 ホトカソー
ド 8 電子ビーム 20 RF空洞 9 シート状レーザー光 21 電子ビーム 10 レーザー光 22 (レーザー
航跡波用)レーザI 11 プラズマ加速管 23 偏向磁石 12 プラズマ部 24 光学用鏡 25 (プラズマ加速管・プラズマアンジュレーター
用)レーザーII 26 レーザー光 27 X線放射光 28 プラズママイクロアンジュレーター(ピッチ1
0μm×1000=1cm) 29 プラズマ加速管(巾〜1cm) 30 プラズマ加速管 31 偏向磁石 32 レーザーI 33 RF電子銃 34 レーザーII 35 クリーニング部 36 α−電磁石 37 プラズママイクロアンジュレーター(SAS
E) 38 X線FEL光
ーザー光 2 半透明鏡 14 電子ビーム 3 全反射鏡 15 領域I 4 原子流 16 領域II 5 干渉縞 17 伝搬方向 6 プラズマスラブ 18 電子銃 7 レーザー 19 ホトカソー
ド 8 電子ビーム 20 RF空洞 9 シート状レーザー光 21 電子ビーム 10 レーザー光 22 (レーザー
航跡波用)レーザI 11 プラズマ加速管 23 偏向磁石 12 プラズマ部 24 光学用鏡 25 (プラズマ加速管・プラズマアンジュレーター
用)レーザーII 26 レーザー光 27 X線放射光 28 プラズママイクロアンジュレーター(ピッチ1
0μm×1000=1cm) 29 プラズマ加速管(巾〜1cm) 30 プラズマ加速管 31 偏向磁石 32 レーザーI 33 RF電子銃 34 レーザーII 35 クリーニング部 36 α−電磁石 37 プラズママイクロアンジュレーター(SAS
E) 38 X線FEL光
Claims (4)
- 【請求項1】中性気体にレーザーを照射して光分離によ
るプラズマを生成し、その際同一波長のレーザー光2本
を水平、垂直方向から干渉させて軸の近くで周辺部より
も密度の低い中空状のプラズマ柱を作ることから成るプ
ラズマ加速管の形成方法。 - 【請求項2】請求項1の方法において、中空状のプラズ
マ中の軸方向に縦磁場を加えることから成るプラズマ加
速管の形成方法。 - 【請求項3】共鳴イオン化法を用いて高密度プラズマを
作ることから成るプラズマ加速管の形成方法。 - 【請求項4】プラズマ加速管を用いて電子を加速し、プ
ラズマアンジュレーターと組み合わせることから成る短
波長高輝度光源を超小型化する方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7303228A JPH09115687A (ja) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | プラズマ加速管の形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7303228A JPH09115687A (ja) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | プラズマ加速管の形成方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH09115687A true JPH09115687A (ja) | 1997-05-02 |
Family
ID=17918427
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7303228A Pending JPH09115687A (ja) | 1995-10-17 | 1995-10-17 | プラズマ加速管の形成方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH09115687A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008533676A (ja) * | 2005-03-16 | 2008-08-21 | ハインリヒ−ハイネ−ウニベルジテート・デュッセルフドルフ | イオンビーム用レンズとしてのレーザ照射される中空シリンダ |
-
1995
- 1995-10-17 JP JP7303228A patent/JPH09115687A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008533676A (ja) * | 2005-03-16 | 2008-08-21 | ハインリヒ−ハイネ−ウニベルジテート・デュッセルフドルフ | イオンビーム用レンズとしてのレーザ照射される中空シリンダ |
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