JPH09102650A - Semiconductor laser device and optical pickup device - Google Patents
Semiconductor laser device and optical pickup deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する利用分野】本発明は、光情報処理、光計
測及び光通信用として利用される半導体レーザ装置及び
光ピックアップ装置の改良に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to improvements in a semiconductor laser device and an optical pickup device used for optical information processing, optical measurement and optical communication.
【0002】[0002]
【従来の技術】図23は従来の半導体レーザ装置の分解
斜視図である。同図において、101は半導体レーザチ
ップ、102はヒートシンク基板、103はレーザ出力
光をモニタする受光素子、104はステム、105は窓
105aを有するキャップ、106は電極端子、107
は絶縁材、108はボンディングワイヤである。23 is an exploded perspective view of a conventional semiconductor laser device. In the figure, 101 is a semiconductor laser chip, 102 is a heat sink substrate, 103 is a light receiving element for monitoring laser output light, 104 is a stem, 105 is a cap having a window 105a, 106 is an electrode terminal, 107
Is an insulating material, and 108 is a bonding wire.
【0003】この図23に示す半導体レーザ装置のパッ
ケージ構造では、パッケージが1個ずつ独立しているた
め、量産時の組立工程において個々のパッケージの取扱
いが難しく、組立工数が多い上にパッケージ自体の価格
が高いために製造コストが非常に高くなってしまうとい
う問題があった。In the package structure of the semiconductor laser device shown in FIG. 23, since the packages are independent one by one, it is difficult to handle each package in the assembly process during mass production, and the number of assembly steps is large and the package itself is large. There is a problem that the manufacturing cost becomes very high because of the high price.
【0004】そこで、10〜20個の半導体レーザチッ
プを一度に実装して組み立てた後、個別に切り分けるこ
とができるようにした従来よりIC等で用いられている
リードフレームの導入が期待されていた。図24にその
リードフレーム109を示す。同図中、110は半導体
レーザチップが搭載されるダイパッド、111は電極端
子である。Therefore, it has been expected to introduce a lead frame used in ICs or the like, which is capable of individually mounting and assembling 10 to 20 semiconductor laser chips at one time and then assembling them. . FIG. 24 shows the lead frame 109. In the figure, 110 is a die pad on which a semiconductor laser chip is mounted, and 111 is an electrode terminal.
【0005】このようなリードフレーム109を用いた
半導体レーザ装置として、特開平3−34387号公報
に開示されているような技術がある。この半導体レーザ
装置では、図25に示すように、透明樹脂からなる絶縁
材112で全体を樹脂封止している。このリードフレー
ム109を用いる実装方法では、通常、実装後に樹脂モ
ールドを行い、半導体レーザチップ101を保護すると
ともに、リードフレーム109から各素子を切り出した
後も電極端子111が固定されるようになっている。I
C等ではそのモールド樹脂として黒色樹脂が用いられて
いるが、黒色樹脂では半導体レーザチップ101の出射
光が取り出せないため、透明な樹脂で樹脂モールドを行
い、半導体レーザチップ101の出射光を確保するよう
にしているものである。なお、図25において図23の
構成要素と同一のものは同一の符号を付した。以下の各
従来例を示す図26及び図27においても同様である。As a semiconductor laser device using such a lead frame 109, there is a technique disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-34387. In this semiconductor laser device, as shown in FIG. 25, the whole is resin-sealed with an insulating material 112 made of a transparent resin. In the mounting method using the lead frame 109, resin molding is usually performed after mounting to protect the semiconductor laser chip 101, and the electrode terminals 111 are fixed even after each element is cut out from the lead frame 109. There is. I
Black resin is used as the mold resin in C and the like, but since the emitted light of the semiconductor laser chip 101 cannot be extracted with the black resin, resin molding is performed with a transparent resin to secure the emitted light of the semiconductor laser chip 101. Is what you are doing. Note that, in FIG. 25, the same components as those of FIG. 23 are denoted by the same reference numerals. The same applies to FIGS. 26 and 27 showing each conventional example below.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記の透明
樹脂で樹脂モールドを行う技術では、半導体レーザチッ
プに直接に透明樹脂からなる絶縁材が接触するため、次
のような問題が発生する。However, in the technique of resin-molding with the above-mentioned transparent resin, since the insulating material made of the transparent resin directly contacts the semiconductor laser chip, the following problems occur.
【0007】まず、半導体レーザチップの発光部には、
直径約10μm以内の範囲に数mW以上の光出力が閉じ
込められているため、その熱や光エネルギー密度の高さ
のために絶縁材を構成する透明樹脂が劣化し、黄変した
り熱変形を起こし、光出射特性を劣化させるという問題
があった。First, in the light emitting portion of the semiconductor laser chip,
Since the optical output of several mW or more is confined within the range of about 10 μm in diameter, the transparent resin that constitutes the insulating material deteriorates due to the heat and high light energy density, causing yellowing or thermal deformation. However, there is a problem in that the light emission characteristics are deteriorated.
【0008】また、前記絶縁材を成形する際には、通
常、高温状態で樹脂を流し込み熱硬化あるいは冷却硬化
させるが、この段階で複雑なチップ構造のエッジ部にお
いて樹脂の流れがよどみやすくなり樹脂自体に応力が発
生し、樹脂自体の屈折率のむらが生じたり、ひどい場合
は樹脂自体に亀裂が入り、出射光の波面が大きく乱れ、
光ピックアップ装置等の光学装置に用いた場合、その特
性を劣化させるという問題があった。Further, when the insulating material is molded, the resin is usually poured at a high temperature to be thermoset or cooled and hardened, but at this stage, the resin flow is apt to be stagnation at the edge portion of the complicated chip structure, Stress is generated in itself, unevenness in the refractive index of the resin itself occurs, in severe cases, the resin itself cracks, the wave front of the emitted light is greatly disturbed,
When used in an optical device such as an optical pickup device, there is a problem that its characteristics are deteriorated.
【0009】そこで、図26に示す特開平2−2097
86号公報の技術のように、半導体レーザチップ101
の周辺に例えばシリコーン等の耐熱性で弾力性のある樹
脂材113で被覆した後、さらにこれを透明樹脂からな
る絶縁材112で樹脂封止する技術も提案されている。Therefore, Japanese Patent Laid-Open No. 2097/1990 shown in FIG.
As in the technique of Japanese Patent No. 86, the semiconductor laser chip 101
A technique has also been proposed in which the periphery of the above is covered with a heat-resistant and elastic resin material 113 such as silicone, and then this is further sealed with an insulating material 112 made of a transparent resin.
【0010】しかし、この方法では、樹脂材113と絶
縁材112との界面がきれいな平面にならず、半導体レ
ーザチップ101からの出射光の波面が乱れてしまうと
いう新たな問題が生ずるとともに、弾力性のある樹脂材
113で半導体レーザチップ101を被覆した場合、樹
脂自体に加わる応力は減少して屈折率むらや亀裂が入る
ことはなくなるが、その反面、引張応力が加わった場合
はすぐに剥離するので、この剥離部分が半導体レーザチ
ップ101の発光部付近に発生すると光出射特性が乱れ
てしまうという問題がある。However, with this method, the interface between the resin material 113 and the insulating material 112 does not become a clean flat surface, and a new problem arises in that the wavefront of the light emitted from the semiconductor laser chip 101 is disturbed, and the elasticity is increased. When the semiconductor laser chip 101 is covered with the resin material 113 having a crack, the stress applied to the resin itself is reduced and unevenness in the refractive index and cracks are eliminated, but on the other hand, when the tensile stress is applied, the resin is peeled off immediately. Therefore, if the peeled portion occurs near the light emitting portion of the semiconductor laser chip 101, the light emission characteristic is disturbed.
【0011】さらに、耐熱性樹脂であってもガラス転移
点は高々200゜C程度であり、長期信頼性を考えた場
合、完全に熱や光密度による光学特性劣化の問題を解決
しているとはいえない。Further, even a heat-resistant resin has a glass transition point of about 200 ° C. at most, and in view of long-term reliability, it completely solves the problem of optical characteristic deterioration due to heat and light density. I can't say.
【0012】また、図27に示す特開平6−53603
号公報の技術のように、透明樹脂からなる絶縁材112
で受光素子103を覆い、その一部が半導体レーザチッ
プ101にかかっている半導体レーザ装置も提案されて
いる。Further, Japanese Patent Laid-Open No. 6-53603 shown in FIG.
Insulating material 112 made of transparent resin as in the technique of Japanese Patent Publication
There is also proposed a semiconductor laser device in which the light receiving element 103 is covered with and a part of it covers the semiconductor laser chip 101.
【0013】この場合、半導体レーザチップ101から
出射される前方光115と後方光116のうち、前方光
115は樹脂に晒されていないが、光量モニタに使用さ
れる後方光116の発光部は樹脂に晒されており、樹脂
劣化が生じて屈折率変化が生ずると、半導体レーザチッ
プ101の後方端面反射率が変化し、半導体レーザチッ
プ101の前方光115と後方光116の光量比が変化
し、光量モニタ機能に支障が生ずるという問題がある。
図27中、114は絶縁枠である。In this case, of the front light 115 and the rear light 116 emitted from the semiconductor laser chip 101, the front light 115 is not exposed to the resin, but the light emitting portion of the rear light 116 used for the light quantity monitor is the resin. When the resin is deteriorated and the refractive index changes, the rear facet reflectance of the semiconductor laser chip 101 changes, and the light amount ratio of the front light 115 and the rear light 116 of the semiconductor laser chip 101 changes. There is a problem that the light quantity monitor function is hindered.
In FIG. 27, 114 is an insulating frame.
【0014】さらにこの構造では、リードフレーム10
9に対して平行な方向に光ビームが出射しており、この
半導体レーザ装置を光ピックアップ装置に採用した場
合、出射方向とほぼ同様の方向から光ディスクで反射さ
れ光ディスクの信号成分を含んだ光ビームが戻ってく
る。この戻ってきた光ビームを受光する光検出回路を集
積する場合に、この構造ではヒートシンク基板を構成す
るシリコン基板の断面で検出する以外になく、この断面
に受光領域を形成することは、ウエハ表面プロセスを主
とする現在のシリコンプロセスでは容易には実現し難い
という問題がある。Further, in this structure, the lead frame 10
A light beam is emitted in a direction parallel to 9 and, when this semiconductor laser device is adopted in an optical pickup device, the light beam is reflected by the optical disc in a direction substantially similar to the emission direction and includes a signal component of the optical disc. Will come back. In the case of integrating the photodetector circuit that receives the returned light beam, in this structure, it is necessary to form the light receiving region on the cross section of the silicon substrate that constitutes the heat sink substrate. There is a problem that it is difficult to realize easily with the current silicon process which is mainly a process.
【0015】また、使用されているパッケージは、半導
体レーザチップ101及びヒートシンク基板102をリ
ードフレーム109に実装する前に絶縁枠114がリー
ドフレーム109に樹脂成形されているもので、いわゆ
るプリモールドパッケージといわれる技術である。この
場合、成形される絶縁枠114は、半導体レーザチップ
101及びヒートシンク基板102のダイスボンド性、
パッケージ端子とチップ間のワイヤボンド性、樹脂成形
自体の強度(中抜けしているため強度が一般に弱い)等
の問題を考慮してチップ−絶縁枠間距離や絶縁枠肉厚を
大きくしなければならず、小型化が難しいという問題が
ある。また、このものは基本的に完全封止されておら
ず、空気中の酸素や湿度によりチップ端面やヒートシン
ク基板露出部が悪影響を受けるという問題もある。The package used is a so-called premolded package in which the insulating frame 114 is resin-molded on the lead frame 109 before the semiconductor laser chip 101 and the heat sink substrate 102 are mounted on the lead frame 109. It is a technology that is used. In this case, the molded insulating frame 114 has a die-bonding property of the semiconductor laser chip 101 and the heat sink substrate 102,
The distance between the chip and the insulating frame and the thickness of the insulating frame must be increased in consideration of problems such as wire bondability between the package terminal and the chip, and the strength of the resin molding itself (the strength is generally weak due to hollow holes). However, there is a problem that miniaturization is difficult. Further, this is basically not completely sealed, and there is a problem that the chip end surface and the exposed portion of the heat sink substrate are adversely affected by oxygen and humidity in the air.
【0016】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、その目的とするところは、半導体レーザチップを
封止する絶縁材が前記半導体レーザチップから発生する
熱によって劣化しないようにすることにある。The present invention has been made in view of the above points, and an object thereof is to prevent an insulating material for sealing a semiconductor laser chip from being deteriorated by heat generated from the semiconductor laser chip. is there.
【0017】[0017]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め、本発明は、半導体レーザチップの発光部を光学部材
で覆ったことを特徴とし、具体的には、次のような解決
手段を講じた。In order to achieve the above object, the present invention is characterized in that a light emitting portion of a semiconductor laser chip is covered with an optical member. Specifically, the following solving means is provided. I took it.
【0018】すなわち、本発明の第1〜14の解決手段
は、半導体レーザ装置に関するものであり、第1の解決
手段は、ダイパッドに直接又はヒートシンク基板を介し
て搭載され、前記ダイパッドの外周りに配置された電極
端子に電気的に接続された半導体レーザチップと、前記
半導体レーザチップの出射光を発する発光部を覆うよう
に設けられた透明な光学部材と、前記半導体レーザチッ
プ、ダイパッド、ヒートシンク基板、電極端子及び光学
部材を前記電極端子のアウター端子部を除いて封止する
透明な絶縁材とを備えたことを特徴とする。That is, the first to fourteenth solving means of the present invention relates to a semiconductor laser device, and the first solving means is mounted on a die pad directly or via a heat sink substrate, and is provided on the outer periphery of the die pad. A semiconductor laser chip electrically connected to the arranged electrode terminals, a transparent optical member provided so as to cover a light emitting portion that emits emitted light of the semiconductor laser chip, the semiconductor laser chip, a die pad, and a heat sink substrate. A transparent insulating material that seals the electrode terminal and the optical member excluding the outer terminal portion of the electrode terminal.
【0019】第2の解決手段は、ダイパッドに直接又は
ヒートシンク基板を介して搭載され、前記ダイパッドの
外周りに配置された電極端子に電気的に接続された半導
体レーザチップと、前記半導体レーザチップの出射光を
発する発光部を覆うように設けられた透明な光学部材
と、前記半導体レーザチップ、ダイパッド、ヒートシン
ク基板、電極端子及び光学部材を前記電極端子のアウタ
ー端子部と前記光学部材のレーザ光通過領域とを除いて
封止する絶縁材とを備えたことを特徴とする。A second solution is to mount the semiconductor laser chip directly on the die pad or via the heat sink substrate and electrically connect to the electrode terminals arranged on the outer periphery of the die pad, and the semiconductor laser chip of the semiconductor laser chip. The transparent optical member provided so as to cover the light emitting portion that emits the emitted light, the semiconductor laser chip, the die pad, the heat sink substrate, the electrode terminal and the optical member through the outer terminal portion of the electrode terminal and the laser light of the optical member. And an insulating material for sealing except the region.
【0020】第3の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、半導体レーザチップを面発光タイプの半導
体レーザチップにしたことを特徴とする。A third solving means is characterized in that, in the first or second solving means, the semiconductor laser chip is a surface emitting type semiconductor laser chip.
【0021】第4の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、半導体レーザチップを端面共振器タイプの
半導体レーザチップにしたことを特徴とする。A fourth solving means is characterized in that, in the first or second solving means, the semiconductor laser chip is an end face cavity type semiconductor laser chip.
【0022】上記の構成により、第1〜4の解決手段で
は、半導体レーザチップ等の各素子が絶縁材で気密封止
されて外気に触れず、前記絶縁材が保護パッケージとし
ての機能を十分に果たしている。しかも、半導体レーザ
チップの発光部が光学部材で覆われて絶縁材に直接に触
れず、半導体レーザチップの発光部の局所的な熱や高い
光エネルギー密度による絶縁材の材質劣化等の光学特性
が劣化しない。また、封止時の応力により半導体レーザ
チップが劣化することもない。さらには、半導体レーザ
チップと絶縁材との間に光学部材を介在させるだけでよ
いことから、装置全体がコンパクトになる。特に、第2
の解決手段では、光学部材のレーザ光通過領域には絶縁
材がなく該部分が外部に露出していることから、半導体
レーザチップから出射される出射光が絶縁材を通過する
ことがなく、よって絶縁材内部に発生する屈折率むらや
亀裂、樹脂材料に混入した気泡やダスト等の影響を全く
受けず、出射光の特性を確保するためには非常に有効と
なる。With the above arrangement, in the first to fourth solving means, each element such as a semiconductor laser chip is hermetically sealed with an insulating material so as not to be exposed to the outside air, and the insulating material sufficiently functions as a protective package. Is playing. Moreover, since the light emitting portion of the semiconductor laser chip is covered with the optical member and does not directly contact the insulating material, the optical characteristics such as deterioration of the material of the insulating material due to local heat of the light emitting portion of the semiconductor laser chip or high light energy density are not exhibited. Does not deteriorate. Further, the semiconductor laser chip does not deteriorate due to the stress at the time of sealing. Furthermore, since it is only necessary to interpose an optical member between the semiconductor laser chip and the insulating material, the entire device becomes compact. In particular, the second
In the solving means, since the laser light passage region of the optical member has no insulating material and the portion is exposed to the outside, the emitted light emitted from the semiconductor laser chip does not pass through the insulating material. It is very effective for ensuring the characteristics of the emitted light without being affected by uneven refractive index or cracks generated inside the insulating material, bubbles and dust mixed in the resin material at all.
【0023】第5の解決手段は、第4の解決手段におい
て、半導体レーザチップの出射光を反射する45゜の反
射ミラーをヒートシンク基板に形成したことを特徴とす
る。A fifth solving means is characterized in that, in the fourth solving means, a 45 ° reflection mirror for reflecting the emitted light of the semiconductor laser chip is formed on the heat sink substrate.
【0024】上記の構成により、第5の解決手段では、
端面共振器タイプの半導体レーザチップでも出射光が4
5゜の反射ミラーで基板垂直方向に出射し、実質的に面
発光レーザとしての扱いが可能となり、ヒートシンク基
板に形成した光検出回路と組み合わせることにより、基
板垂直方向に光の入出力が可能な発光受光デバイスの実
現が可能となる。With the above arrangement, in the fifth solving means,
Even with an edge-cavity type semiconductor laser chip, the emitted light is 4
The 5 ° reflection mirror emits light in the vertical direction of the substrate, and it can be treated as a surface emitting laser substantially. By combining with a photodetector circuit formed on the heat sink substrate, it is possible to input and output light in the vertical direction of the substrate. A light emitting and receiving device can be realized.
【0025】第6の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、外部から侵入してくる光を検出する光検出
回路、前記半導体レーザチップの前方又は後方から出射
される光を検出する光検出回路、これらの光検出回路か
ら検出される信号電流を電圧変換する電流−電圧変換回
路、前記電流−電圧変換回路からの信号を増幅する増幅
回路、前記増幅回路からの信号を演算する演算回路、前
記演算回路からの信号をデジタル−アナログ変換するD
A変換回路及び半導体レーザを駆動する駆動回路の少な
くとも1つを、半導体レーザチップ又はヒートシンク基
板上に形成したことを特徴とする。A sixth solving means is the first or second solving means, wherein a light detecting circuit for detecting light entering from the outside and light emitted from the front or rear of the semiconductor laser chip are detected. Photodetection circuits, current-voltage conversion circuits for converting signal currents detected by these photodetection circuits into voltages, amplification circuits for amplifying signals from the current-voltage conversion circuits, operations for calculating signals from the amplification circuits Circuit, D for digital-analog converting signals from the arithmetic circuit
At least one of the A conversion circuit and the drive circuit for driving the semiconductor laser is formed on the semiconductor laser chip or the heat sink substrate.
【0026】上記の構成により、第6の解決手段では、
より有効な素子が得られる。With the above arrangement, in the sixth means of solution,
A more effective element can be obtained.
【0027】第7の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、半導体レーザチップの発光部と接触しない
ように光学部材に凹部をレーザ光通過領域に対応して形
成したことを特徴とする。A seventh solving means is characterized in that, in the first or second solving means, a recess is formed in the optical member so as not to come into contact with the light emitting portion of the semiconductor laser chip so as to correspond to the laser beam passage region. To do.
【0028】上記の構成により、第7の解決手段では、
光学部材を半導体レーザチップに接着するための接着剤
が発光部に侵入せず、接触が避けられる。With the above arrangement, in the seventh solution means,
The adhesive for adhering the optical member to the semiconductor laser chip does not enter the light emitting portion, and contact is avoided.
【0029】第8の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、光学部材をホログラム光学素子、回折格
子、ビームスプリッタ、ミラー、偏光板、レンズ、光学
フィルタ又は波長板等の光学機能を有するものとしたこ
とを特徴とする。An eighth solving means is the first or second solving means, wherein the optical member is an optical function such as a hologram optical element, a diffraction grating, a beam splitter, a mirror, a polarizing plate, a lens, an optical filter or a wave plate. It is characterized by having it.
【0030】上記の構成により、第8の解決手段では、
ホログラム光学素子等により、出射光が分割したり、入
力信号光が回折して光検出回路方向に偏向が可能とな
る。With the above arrangement, in the eighth solving means,
The hologram optical element or the like allows the emitted light to be split or the input signal light to be diffracted and deflected toward the photodetector circuit.
【0031】第9の解決手段は、第1又は第2の解決手
段において、絶縁材及び光学部材の少なくとも一方に無
反射コーティング、所定の反射率を有するコーティング
又は偏光性コーティングを施したことを特徴とする。A ninth solving means is characterized in that, in the first or second solving means, at least one of the insulating material and the optical member is provided with a non-reflection coating, a coating having a predetermined reflectance or a polarizing coating. And
【0032】上記の構成により、第9の解決手段では、
複雑な光の入出力構造が可能となる。With the above arrangement, the ninth solving means is
A complex light input / output structure is possible.
【0033】第10の解決手段は、第1又は第2の解決
手段において、絶縁材をホログラム光学素子、レンズ又
は反射面等の光学機能を有するものとしたことを特徴と
する。A tenth solving means is characterized in that, in the first or second solving means, the insulating material has an optical function such as a hologram optical element, a lens or a reflecting surface.
【0034】上記の構成により、第10の解決手段で
は、第8の解決手段と同様に出射光が分割したり、入力
信号光が回折して光検出回路方向に偏向が可能となる。With the above arrangement, in the tenth solving means, similarly to the eighth solving means, the emitted light can be split or the input signal light can be diffracted and deflected toward the photodetector circuit.
【0035】第11の解決手段は、第1又は第2の解決
手段において、絶縁材の外面の少なくとも一部を湾曲面
ないし球面にしたことを特徴とする。An eleventh solving means is characterized in that, in the first or second solving means, at least a part of the outer surface of the insulating material is a curved surface or a spherical surface.
【0036】上記の構成により、第11の解決手段で
は、予め湾曲面ないし球面形状に対応して組み付けるべ
き相手部材に形成された係合孔に前記湾曲面ないし球面
形状を挿入することにより、素子の位置合わせが容易に
かつ高精度に行われるとともに出射光軸を軸とする回転
調整が可能となる。With the above arrangement, in the eleventh solving means, the curved surface or the spherical shape is inserted into the engaging hole formed in the mating member to be assembled in advance corresponding to the curved surface or the spherical shape. The position adjustment can be performed easily and with high accuracy, and rotation adjustment around the emission optical axis can be performed.
【0037】第12の解決手段は、第1又は第2の解決
手段において、絶縁材の外面に凹部をレーザ光通過領域
に対応して形成したことを特徴とする。A twelfth solving means is characterized in that, in the first or second solving means, a recess is formed on the outer surface of the insulating material so as to correspond to the laser beam passage region.
【0038】上記の構成により、第12の解決手段で
は、半導体レーザチップから出射される出射光の絶縁材
通過による屈折率むらや亀裂、樹脂材料に混入した気泡
やダスト等の影響が少なくなり、出射光の特性が確保さ
れる。With the above structure, in the twelfth solving means, influences of unevenness in refractive index and cracks due to passage of the emitted light emitted from the semiconductor laser chip through the insulating material, bubbles and dust mixed in the resin material are reduced, The characteristics of the emitted light are secured.
【0039】第13の解決手段は、第1又は第2の解決
手段において、絶縁材の外面にホログラム光学素子、回
折格子、ビームスプリッタ、ミラー、偏光板、レンズ、
光学フィルタ、波長板又は光ファイバ等の光学機能を有
する光学部材をレーザ光通過領域に対応して配置したこ
とを特徴とする。A thirteenth solving means is the same as the first or second solving means, wherein a hologram optical element, a diffraction grating, a beam splitter, a mirror, a polarizing plate, a lens is provided on the outer surface of the insulating material.
It is characterized in that an optical member having an optical function such as an optical filter, a wave plate or an optical fiber is arranged corresponding to the laser light passage region.
【0040】上記の構成により、第13の解決手段で
は、第8の解決手段と同様に出射光が分割したり、入力
信号光が回折して光検出回路方向に偏向が可能となる。With the above arrangement, in the thirteenth solving means, the emitted light can be split or the input signal light can be diffracted and deflected in the direction of the photodetector circuit as in the eighth solving means.
【0041】第14の解決手段は、第1又は第2の解決
手段において、半導体レーザチップから発生する熱を外
部へ逃がす熱伝導経路又は放熱手段をダイパッドに設け
たことを特徴とする。A fourteenth solving means is characterized in that, in the first or second solving means, a heat conduction path or a heat radiating means for releasing heat generated from the semiconductor laser chip to the outside is provided in the die pad.
【0042】上記の構成により、第14の解決手段で
は、空気への放熱が効率良く行われ、信頼性が向上す
る。With the above arrangement, the fourteenth solving means efficiently radiates heat to the air and improves the reliability.
【0043】本発明の第15の解決手段は、光ピックア
ップ装置に関し、第1〜14の解決手段のいずれか1の
解決手段に記載の半導体レーザ装置と、前記半導体レー
ザ装置から出射される光ビームを光学式情報記録媒体上
に集光する集光手段とを備えたことを特徴とする。A fifteenth solving means of the present invention relates to an optical pickup device, and the semiconductor laser device according to any one of the solving means of the first to fourteenth solving means, and a light beam emitted from the semiconductor laser device. Is provided on the optical information recording medium.
【0044】上記の構成により、第15の解決手段で
は、小型軽量の半導体レーザ装置により全体形状が非常
に小さくなり、さらに軽量であるために高速応答可能な
ピックアップが実現可能となる。With the above arrangement, in the fifteenth means for solving the problem, the small and light semiconductor laser device makes the overall shape very small, and since it is light in weight, a pickup capable of high-speed response can be realized.
【0045】[0045]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施例を図面に基
づいて説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0046】(第1実施例)図1(a)〜(c)は本発
明の第1実施例に係る半導体レーザ装置を、図2はその
変形例をそれぞれ示す。(First Embodiment) FIGS. 1A to 1C show a semiconductor laser device according to the first embodiment of the present invention, and FIG. 2 shows a modification thereof.
【0047】図1(a)〜(c)において、1はリード
フレームであって、このリードフレーム1はダイパッド
2を中央付近に備えてなり、ダイパッド2の外周りには
複数本の電極端子3が配置されている。前記ダイパッド
2には面発光タイプの半導体レーザチップ4が直接に搭
載され、この半導体レーザチップ4は前記電極端子3の
インナー端子部にボンディングワイヤ5によって電気的
に接続されている。また、本発明の特徴として、前記半
導体レーザチップ4の上面には、透明ガラスからなる光
学部材6が半導体レーザチップ4の出射光10を発する
発光部9を上方から覆うように搭載され、その周りが接
着剤7によって離脱しないように固定されている。さら
に、前記半導体レーザチップ4、ダイパッド2、電極端
子3、ボンディングワイヤ5及び光学部材6は、前記電
極端子3のアウター端子部を除いて透明樹脂からなる絶
縁材11で気密封止されている。なお、前記半導体レー
ザチップ4上面には、外部から侵入してくる光を検出す
る光検出回路8が前記光学部材6の両側に対向するよう
に形成されている。In FIGS. 1A to 1C, 1 is a lead frame, which is provided with a die pad 2 near the center thereof, and a plurality of electrode terminals 3 are provided around the die pad 2. Are arranged. A surface emitting type semiconductor laser chip 4 is directly mounted on the die pad 2, and the semiconductor laser chip 4 is electrically connected to the inner terminal portion of the electrode terminal 3 by a bonding wire 5. Further, as a feature of the present invention, an optical member 6 made of transparent glass is mounted on the upper surface of the semiconductor laser chip 4 so as to cover a light emitting portion 9 for emitting the emitted light 10 of the semiconductor laser chip 4 from above, and around the light emitting portion 9. Are fixed by an adhesive 7 so as not to come off. Further, the semiconductor laser chip 4, the die pad 2, the electrode terminal 3, the bonding wire 5 and the optical member 6 are hermetically sealed with an insulating material 11 made of a transparent resin except for the outer terminal portion of the electrode terminal 3. A photodetector circuit 8 for detecting light entering from the outside is formed on the upper surface of the semiconductor laser chip 4 so as to face both sides of the optical member 6.
【0048】このように、第1実施例では、半導体レー
ザチップ4等の各素子を絶縁材11で気密封止して外気
に触れないように保護しているため、前記絶縁材11は
保護パッケージとしての機能を十分に果たしている。し
かも、それだけではなく、半導体レーザチップ4の発光
部9を光学部材6で覆って絶縁材11に直接に触れない
ようにしていることから、図25で示す従来例の如き透
明樹脂からなる絶縁材112に晒されるということがな
くなり、半導体レーザチップ4の発光部9の局所的な熱
や高い光エネルギー密度による樹脂の黄変劣化等の出射
光10の特性変化の問題をなくすことができるととも
に、樹脂封止時の応力による半導体レーザチップ4の劣
化の問題もなくすことができる。As described above, in the first embodiment, each element such as the semiconductor laser chip 4 is hermetically sealed with the insulating material 11 so as not to be exposed to the outside air. Therefore, the insulating material 11 is a protective package. Fully fulfills its function as. Moreover, not only that, but the light emitting portion 9 of the semiconductor laser chip 4 is covered with the optical member 6 so as not to directly touch the insulating material 11. Therefore, the insulating material made of a transparent resin as in the conventional example shown in FIG. Since it is not exposed to 112, it is possible to eliminate the problem of characteristic change of the emitted light 10 such as yellowing deterioration of the resin due to local heat of the light emitting portion 9 of the semiconductor laser chip 4 and high light energy density, and It is possible to eliminate the problem of deterioration of the semiconductor laser chip 4 due to the stress during resin sealing.
【0049】なお、第1実施例では、半導体レーザチッ
プ4として面発光タイプの半導体レーザチップを用いて
いるが、出射光10が図1(a)で上方に出射される構
造であれば、垂直共振器タイプでも水平共振器タイプで
も構わない。また、面発光レーザにも限らない。In the first embodiment, a surface-emitting type semiconductor laser chip is used as the semiconductor laser chip 4, but if the emitted light 10 has a structure that is emitted upward in FIG. Either a resonator type or a horizontal resonator type may be used. Further, it is not limited to the surface emitting laser.
【0050】また、第1実施例では、半導体レーザチッ
プ4上面に外部から侵入してくる光を検出する光検出回
路8を形成しているが、この光検出回路8以外に種々の
電気回路、例えば前記半導体レーザチップ4の前方又は
後方から出射される光を検出する光検出回路、これらの
光検出回路から検出される信号電流を電圧変換する電流
−電圧変換回路、前記電流−電圧変換回路からの信号を
増幅する増幅回路、前記増幅回路からの信号を演算する
演算回路、前記演算回路からの信号をデジタル−アナロ
グ変換するDA変換回路及び半導体レーザを駆動する駆
動回路等を形成すれば、より有効な素子を得ることがで
きる。Further, in the first embodiment, the photodetector circuit 8 for detecting the light coming from the outside is formed on the upper surface of the semiconductor laser chip 4, but various electric circuits other than the photodetector circuit 8 are formed. For example, a photodetector circuit that detects light emitted from the front or rear of the semiconductor laser chip 4, a current-voltage converter circuit that converts the signal current detected by these photodetector circuits into a voltage, or a current-voltage converter circuit By forming an amplifier circuit for amplifying the signal of No. 1, an arithmetic circuit for arithmetically operating the signal from the amplifier circuit, a DA conversion circuit for digital-analog converting the signal from the arithmetic circuit, a drive circuit for driving the semiconductor laser, and the like, An effective element can be obtained.
【0051】このように、半導体レーザチップ4に多く
の電気回路が形成されるほど電極端子数が増加するが、
リードフレームタイプではない図23に示すような従来
の半導体レーザ装置のパッケージ技術では、電極端子1
06は絶縁材107を介してステム104に固定されて
いるため、電極端子106を短いピッチで多く配置する
ことは困難であり、パッケージの小型化が困難であっ
た。例えば、現在の9mm径のステム104は絶縁材1
07が約1mm径を占めるため、少なくとも2mm間隔
の電極配置しか実現できず、20本の電極端子106を
必要とする場合には、ステム104の径は13〜15m
mになると考えられる。さらに、電極取り出し方向も図
23に示す従来のパッケージでは垂直方向であったのに
対し第1実施例によれば水平方向になり、パッケージの
薄型化という点でも効果がある。また図27に示すよう
なプリモールドタイプのパッケージを用いればこの点は
解決されるが、絶縁枠114自体はワイヤボンド位置の
外側に配置しなければならず、さらに、ワイヤボンドの
キャピラリの大きさ・ダイスボンドのコレットの大きさ
・パッケージの強度(中空になっているため、充填タイ
プよりは一般的に弱い)ということを考慮すれば、絶縁
枠114の外形は面発光タイプの半導体レーザチップよ
りもはるかに大きくなってしまう。例えば、面発光タイ
プの半導体レーザチップの幅が1mm、ワイヤボンド位
置までが0.7mm、絶縁枠114内側までのマージン
が0.5mm、絶縁枠114自体の厚みが1mmとすれ
ば、全幅は5.4mmになり、リードフレームの技術を
有効に利用しているとはいえない。これに対して本発明
の技術を用いれば、絶縁枠114自体がないため、上記
計算の中の絶縁枠114の厚み1mmがなくなるので両
側合わせて2mm小さくなり3.4mmが実現でき、大
幅な小型化が可能となる。As described above, as more electric circuits are formed on the semiconductor laser chip 4, the number of electrode terminals increases.
In the conventional package technique of the semiconductor laser device as shown in FIG. 23, which is not the lead frame type, the electrode terminal 1
Since 06 is fixed to the stem 104 via the insulating material 107, it is difficult to arrange many electrode terminals 106 at a short pitch, and it is difficult to reduce the size of the package. For example, the current 9 mm diameter stem 104 is an insulating material 1
Since 07 occupies a diameter of about 1 mm, it is possible to realize only an electrode arrangement with an interval of at least 2 mm. When 20 electrode terminals 106 are required, the diameter of the stem 104 is 13 to 15 m.
It is thought to be m. Further, the electrode lead-out direction is also the vertical direction in the conventional package shown in FIG. 23, but is horizontal according to the first embodiment, which is also effective in reducing the thickness of the package. Although this point can be solved by using a pre-mold type package as shown in FIG. 27, the insulating frame 114 itself must be arranged outside the wire bond position, and further, the size of the wire bond capillaries. Considering the size of the collet of the die bond and the strength of the package (which is generally weaker than the filling type because it is hollow), the outer shape of the insulating frame 114 is larger than that of the surface emitting type semiconductor laser chip. Will also be much larger. For example, if the width of the surface emitting type semiconductor laser chip is 1 mm, the wire bond position is 0.7 mm, the margin to the inside of the insulating frame 114 is 0.5 mm, and the thickness of the insulating frame 114 itself is 1 mm, the total width is 5 mm. Since it is 0.4 mm, it cannot be said that the technology of the lead frame is effectively used. On the other hand, when the technique of the present invention is used, since the insulating frame 114 itself does not exist, the thickness of the insulating frame 114 in the above calculation is 1 mm, so that both sides can be reduced by 2 mm to achieve 3.4 mm, which is a significantly small size. Can be realized.
【0052】さらに、第1実施例では、半導体レーザチ
ップ4の発光部9のみを光学部材6で覆っているが、光
検出回路8をも覆うようにすれば、外部から光検出回路
8に入射する光ビームが絶縁材11を構成する透明樹脂
のムラや気泡、ダスト等に影響されることを少なくする
ことができ、有益である。Further, in the first embodiment, only the light emitting portion 9 of the semiconductor laser chip 4 is covered with the optical member 6, but if the light detecting circuit 8 is also covered, the light is incident on the light detecting circuit 8 from the outside. This is advantageous because it is possible to reduce the influence of the generated light beam on the unevenness of the transparent resin forming the insulating material 11, bubbles, dust, and the like.
【0053】なお、第1実施例では、絶縁材11の材料
として樹脂を用いているが、電極端子3間の絶縁及び出
射光特性が確保できる材料であれば、ガラス材料等の他
の材料でも構わない。この内容は以下の各実施例におい
ても同様である。Although resin is used as the material of the insulating material 11 in the first embodiment, any other material such as glass material may be used as long as it can ensure the insulation between the electrode terminals 3 and the emitted light characteristics. I do not care. This content is the same in each of the following embodiments.
【0054】図2に示す変形例は、光学部材6の下面に
凹部6aを形成したものであり、この凹部6aは半導体
レーザチップ4の発光部9と接触しないようにレーザ光
通過領域に対応して形成されている。これにより、光学
部材6を半導体レーザチップ4に接着するための接着剤
7が発光部9に侵入して接触するのを防ぐことができ
る。また、この構造により光学部材6自体が熱と高い光
エネルギー密度を持つ発光部9に接することがなくなる
ので、ガラスからなる光学部材6を樹脂化することも可
能である。この内容も以下の実施例においても同様であ
る。In the modification shown in FIG. 2, a concave portion 6a is formed on the lower surface of the optical member 6, and the concave portion 6a corresponds to the laser beam passage region so as not to contact the light emitting portion 9 of the semiconductor laser chip 4. Is formed. As a result, the adhesive 7 for bonding the optical member 6 to the semiconductor laser chip 4 can be prevented from entering the light emitting section 9 and coming into contact therewith. Further, this structure prevents the optical member 6 itself from coming into contact with the light emitting portion 9 having heat and a high light energy density, so that the optical member 6 made of glass can be made of resin. The contents are the same in the following embodiments.
【0055】(第2実施例)図3(a),(b)は本発
明の第2実施例に係る半導体レーザ装置を、図4
(a),(b)はその変形例をそれぞれ示す。(Second Embodiment) FIGS. 3A and 3B show a semiconductor laser device according to a second embodiment of the present invention.
(A), (b) shows the modification respectively.
【0056】図3(a),(b)は、ダイパッド2上に
シリコン製のヒートシンク基板12を搭載し、半導体レ
ーザチップ4を前記ヒートシンク基板12を介してダイ
パッド2に搭載したものであり、光検出回路8は前記ヒ
ートシンク基板12上に形成している。また、同図中、
13は、ヒートシンク基板12上に形成された面発光レ
ーザ後方光を検出するモニタ用ホトダイオードである。
そのほかは第1実施例と同様であるので、同一の構成部
分については同一の符号を付してその詳細な説明を省略
する。3A and 3B show a silicon heat sink substrate 12 mounted on the die pad 2 and the semiconductor laser chip 4 mounted on the die pad 2 via the heat sink substrate 12. The detection circuit 8 is formed on the heat sink substrate 12. Also, in the figure,
Reference numeral 13 is a monitor photodiode formed on the heat sink substrate 12 for detecting the rear light of the surface emitting laser.
Since the other points are the same as those in the first embodiment, the same components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.
【0057】したがって、この第2実施例では、第1実
施例と同様の作用効果を奏することができるものであ
る。Therefore, in the second embodiment, the same operational effect as that of the first embodiment can be obtained.
【0058】図4(a),(b)に示す変形例は、光学
部材6の下面に第1実施例の変形例の場合よりも大きな
凹部6aを形成し、光学部材6を前記凹部6aで半導体
レーザチップ4を跨ぐようにしかも光検出回路8を被覆
するようにヒートシンク基板12上に搭載しているもの
である。In the modification shown in FIGS. 4A and 4B, a recess 6a larger than that in the modification of the first embodiment is formed on the lower surface of the optical member 6, and the optical member 6 is formed by the recess 6a. It is mounted on the heat sink substrate 12 so as to straddle the semiconductor laser chip 4 and cover the photodetector circuit 8.
【0059】このように、光学部材6でヒートシンク基
板12上の光検出回路8をも被覆することにより、外部
から光検出回路8に入射する光ビームが絶縁材11を構
成する樹脂のムラや気泡、ダスト等に影響されることを
少なくすることができる。In this way, by covering the photodetector circuit 8 on the heat sink substrate 12 with the optical member 6 as well, the light beam incident on the photodetector circuit 8 from the outside causes unevenness and bubbles in the resin forming the insulating material 11. It is possible to reduce the influence of dust and the like.
【0060】(第3実施例)図5(a),(b)は本発
明の第3実施例に係る半導体レーザ装置を示す。(Third Embodiment) FIGS. 5A and 5B show a semiconductor laser device according to a third embodiment of the present invention.
【0061】この第3実施例では、半導体レーザチップ
が端面共振器タイプの半導体レーザチップ14である点
と、光学部材6の凹部6aが大きく前記半導体レーザチ
ップ14との間に空間を形成して半導体レーザチップ1
4が光学部材6に接触しないようにしている点とが第1
実施例と大きく異なるところである。図5(a),
(b)中、15は半導体レーザチップ14の前方光発光
部、16は半導体レーザチップ14の後方光発光部、1
2aはヒートシンク基板12に形成された45゜の反射
ミラー12aであり、前記前方光発光部15から出射し
た出射光10をこの反射ミラー12aで反射して90°
上方に方向変換するようになっている。17は前記後方
光発光部16から出射した出射光16aを検出するモニ
タ用光検出回路である。なお、前記反射ミラー12aを
形成したヒートシンク基板12は、シリコン単結晶基板
の異方性エッチング法((100)基板に対して54゜
をなす(111)結晶面が得られる)をシリコン(10
0)9゜オフアングル基板に施すことにより容易に得る
ことができる。そのほかは第2実施例と同様であるの
で、同一の構成部分については同一の符号を付してその
詳細な説明を省略する。In this third embodiment, a space is formed between the semiconductor laser chip being the edge-cavity type semiconductor laser chip 14 and the recess 6a of the optical member 6 being large and the semiconductor laser chip 14. Semiconductor laser chip 1
The first point is that 4 does not contact the optical member 6.
This is a big difference from the embodiment. FIG. 5 (a),
In (b), 15 is a front light emitting portion of the semiconductor laser chip 14, 16 is a rear light emitting portion of the semiconductor laser chip 14, 1
Reference numeral 2a denotes a 45 [deg.] Reflection mirror 12a formed on the heat sink substrate 12. The emitted light 10 emitted from the front light emitting section 15 is reflected by the reflection mirror 12a to form 90 [deg.].
It is designed to turn upward. Reference numeral 17 denotes a monitor light detection circuit for detecting the emitted light 16a emitted from the rear light emitting section 16. The heat sink substrate 12 on which the reflection mirror 12a is formed is made of silicon (10) by anisotropic etching of a silicon single crystal substrate ((111) crystal plane forming 54 ° with respect to the (100) substrate is obtained).
0) It can be easily obtained by applying it to a 9 ° off-angle substrate. Since the other points are the same as those of the second embodiment, the same components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted.
【0062】したがって、この第3実施例では、第2実
施例と同様の作用効果を奏することができるものであ
る。Therefore, in the third embodiment, the same operational effect as that of the second embodiment can be obtained.
【0063】加えて、この第3実施例では、端面共振器
タイプの半導体レーザチップ14でも出射光10が45
゜の反射ミラー12aで基板垂直方向に出射することが
できることから、実質的に面発光レーザとして扱うこと
ができ、このヒートシンク基板12に形成した光検出回
路8と組み合わせることにより、基板垂直方向に光の入
出力が可能な発光受光デバイスを実現することができ
る。In addition, in the third embodiment, the emitted light 10 is 45 in the end face resonator type semiconductor laser chip 14 as well.
Since the light can be emitted in the vertical direction to the substrate by the reflection mirror 12a of 8 °, it can be substantially treated as a surface emitting laser. By combining with the photodetector circuit 8 formed on the heat sink substrate 12, light can be emitted in the vertical direction to the substrate. It is possible to realize a light emitting and receiving device capable of inputting and outputting.
【0064】なお、この第3実施例では、半導体レーザ
チップ14及び光検出回路8を光学部材6で被覆してい
るが、半導体レーザチップ14のみの被覆でも同様の効
果を得ることができる。但し、前記光検出回路8も被覆
することにより、外部から光検出回路8に入射する光ビ
ームが絶縁材11を構成する樹脂のムラや気泡、ダスト
等に影響されることが少なくなるためより有効であるこ
とは第1実施例で述べた通りである。In the third embodiment, the semiconductor laser chip 14 and the photodetector circuit 8 are covered with the optical member 6, but the same effect can be obtained by covering only the semiconductor laser chip 14. However, by covering the photodetector circuit 8 as well, the light beam entering the photodetector circuit 8 from the outside is less affected by the unevenness of the resin forming the insulating material 11, bubbles, dust, etc., which is more effective. That is as described in the first embodiment.
【0065】また、この第3実施例では、反射ミラー1
2aをヒートシンク基板12に形成した傾斜面で構成し
たが、別途用意した反射ミラーを基板に貼り付けるよう
にしても構わない。さらには、光検出回路8は形成でき
ないが、金属基板にプレスやミラー貼り付け等の方法で
45゜の反射ミラー12aを形成しても同様の効果を得
ることができる。Further, in the third embodiment, the reflecting mirror 1
Although 2a is composed of the inclined surface formed on the heat sink substrate 12, a reflection mirror prepared separately may be attached to the substrate. Further, although the photodetection circuit 8 cannot be formed, the same effect can be obtained by forming the 45 ° reflection mirror 12a on the metal substrate by a method such as pressing or attaching a mirror.
【0066】(第4実施例)図6は本発明の第4実施例
に係る半導体レーザ装置を、図7はその変形例をそれぞ
れ示す。(Fourth Embodiment) FIG. 6 shows a semiconductor laser device according to a fourth embodiment of the present invention, and FIG. 7 shows a modification thereof.
【0067】この第4実施例では、絶縁材11の外面で
ある上面に凹部11aをレーザ光通過領域(前方光発光
部15から出射される出射光10の通過領域)に対応し
て形成し、光学部材6の上面を外部に露出させている。
そのほかは第3実施例と同様であるので、同一の構成部
分については同一の符号を付してその詳細な説明を省略
する。なお、絶縁材11に凹部11aを形成すること
は、絶縁材11を成形する際に用いる金型の形状により
容易に実現することができるものである。In the fourth embodiment, the recess 11a is formed on the upper surface which is the outer surface of the insulating material 11 so as to correspond to the laser light passage region (the passage region of the emitted light 10 emitted from the front light emitting portion 15). The upper surface of the optical member 6 is exposed to the outside.
Since the other points are the same as those in the third embodiment, the same components are designated by the same reference numerals and detailed description thereof will be omitted. The formation of the recess 11a in the insulating material 11 can be easily realized depending on the shape of the mold used for molding the insulating material 11.
【0068】したがって、この第4実施例では、第3実
施例と同様の作用効果を奏することができるものであ
る。Therefore, in the fourth embodiment, the same operational effect as that of the third embodiment can be obtained.
【0069】加えて、この第4実施例では、絶縁材11
に凹部11aを形成して光学部材6の上面を外部に露出
させていることから、半導体レーザチップ14から出射
される出射光10が前記絶縁材11を通過せず、絶縁材
11成形時に絶縁材11内部に発生する屈折率むらや亀
裂、樹脂材料に混入した気泡やダスト等の影響を全く受
けなくすることができ、出射光10の特性を確保するた
めには非常に有効である。In addition, in this fourth embodiment, the insulating material 11
Since the upper surface of the optical member 6 is exposed to the outside by forming the concave portion 11a in the concave portion, the emitted light 10 emitted from the semiconductor laser chip 14 does not pass through the insulating material 11, and the insulating material 11 is molded at the time of molding the insulating material 11. It is possible to completely eliminate the influences of uneven refractive index and cracks generated inside 11 and bubbles and dust mixed in the resin material, and it is very effective for securing the characteristics of the emitted light 10.
【0070】図7に示す変形例は、絶縁材11に形成し
た凹部11aを浅くして光学部材6が外部に露出してい
ない構造になっているものである。The modified example shown in FIG. 7 has a structure in which the recess 11a formed in the insulating material 11 is shallow so that the optical member 6 is not exposed to the outside.
【0071】このように凹部11aを形成することによ
って絶縁材11のレーザ光通過領域の厚みを薄くするこ
とができ、その分だけレーザ光通過領域の気泡やダスト
発生確率が減少し、また薄い分だけ屈折率むらの影響も
小さくなり、光学部材6が露出した場合と同様の効果を
得ることができる。By forming the recess 11a in this manner, the thickness of the laser beam passage region of the insulating material 11 can be reduced, and the probability that bubbles and dust are generated in the laser beam passage region is reduced by that amount, and the thickness is reduced. However, the influence of uneven refractive index is reduced, and the same effect as when the optical member 6 is exposed can be obtained.
【0072】(第5実施例)図8は本発明の第5実施例
に係る半導体レーザ装置を、図9〜12はその変形例1
〜4をそれぞれ示す。(Fifth Embodiment) FIG. 8 shows a semiconductor laser device according to a fifth embodiment of the present invention, and FIGS.
4 respectively.
【0073】この第5実施例では、第4実施例の変形例
と同様に絶縁材11に凹部11aを浅く形成し、さら
に、この凹部11aの外面にホログラムパターン11b
を形成してホログラム光学素子として光学機能を絶縁材
11に持たせたものである。同図中、10a,10b,
10cは、それぞれ出射光10がホログラムパターン1
1bにより回折された−1次、0次、+1次回折光、1
8は外部より戻ってきた入力信号光、18aは入力信号
光18がホログラムパターン11bにより回折された回
折光、19は回折光検出用の光検出回路である。In the fifth embodiment, similar to the modification of the fourth embodiment, the recess 11a is formed shallow in the insulating material 11, and the hologram pattern 11b is formed on the outer surface of the recess 11a.
And the insulating material 11 has an optical function as a hologram optical element. In the figure, 10a, 10b,
In 10c, the emitted light 10 is the hologram pattern 1 respectively.
-1st order, 0th order, + 1st order diffracted light diffracted by 1b, 1
Reference numeral 8 is an input signal light returning from the outside, 18a is a diffracted light obtained by diffracting the input signal light 18 by the hologram pattern 11b, and 19 is a photodetection circuit for detecting the diffracted light.
【0074】したがって、この第5実施例では、第4実
施例の変形例と同様の作用効果を奏することができるも
のである。Therefore, in the fifth embodiment, the same operational effect as the modification of the fourth embodiment can be obtained.
【0075】加えて、この第5実施例では、絶縁材11
の凹部11aに形成したホログラムパターン11bによ
り、出射光10を分割したり、入力信号光18を回折し
て光検出回路19方向に偏向することができるようにな
る。In addition, in this fifth embodiment, the insulating material 11
With the hologram pattern 11b formed in the concave portion 11a, the emitted light 10 can be split or the input signal light 18 can be diffracted and deflected toward the photodetector circuit 19.
【0076】なお、このホログラムパターン11bは、
直線パターンばかりでなく種々の関数パターンが形成可
能であり、例えば同心円関数でレンズ効果を持たせたり
双曲線関数で収差を発生させたりすることも可能であ
る。The hologram pattern 11b is
Not only a linear pattern but also various function patterns can be formed. For example, it is possible to give a lens effect by a concentric circle function or generate an aberration by a hyperbolic function.
【0077】なお、第5実施例では、入力信号光18の
回折光18aとして図面の煩雑を避けるため+1次回折
光しか記載していないが、0次、−1次光も発生してお
りそれらの光を光検出回路で検出することも可能であ
る。In the fifth embodiment, only the + 1st order diffracted light is described as the diffracted light 18a of the input signal light 18 in order to avoid complication of the drawing, but 0th and -1st order lights are also generated. It is also possible to detect light with a light detection circuit.
【0078】図9に示す変形例1は、光学部材6の上面
にホログラムパターン6bを形成してホログラム光学素
子として光学機能を光学部材6に持たせたもので、絶縁
材11の上面には凹部11aはなく第3実施例(図5
(a)参照)のようにフラットになっている。In the first modification shown in FIG. 9, a hologram pattern 6b is formed on the upper surface of the optical member 6 so that the optical member 6 has an optical function as a hologram optical element. There is no 11a, and the third embodiment (FIG.
It is flat as shown in (a).
【0079】図10に示す変形例2は、光学部材6の下
面にホログラムパターン6bを形成してホログラム光学
素子として光学機能を光学部材6に持たせたもので、絶
縁材11の上面には第4実施例の変形例(図7参照)の
ように凹部11aが浅く形成されている。In the second modification shown in FIG. 10, a hologram pattern 6b is formed on the lower surface of the optical member 6 so that the optical member 6 has an optical function as a hologram optical element. As in the modification of the fourth embodiment (see FIG. 7), the recess 11a is shallowly formed.
【0080】これらの変形例1,2においても、第5実
施例と同様の作用効果を奏することができるものであ
る。さらには、図示しないが、絶縁材11と光学部材6
の両方にホログラムパターン11b,6bを形成すれ
ば、より機能的な素子を得ることができる。Also in these modified examples 1 and 2, the same operational effect as the fifth embodiment can be obtained. Further, although not shown, the insulating material 11 and the optical member 6
If the hologram patterns 11b and 6b are formed on both of them, a more functional element can be obtained.
【0081】図11に示す変形例3は、絶縁材11の上
面の外面及び光学部材6の上面の内面に凸部11c,6
cをそれぞれ形成することにより凸レンズ効果を持たせ
たものである。なお、目的に応じて形状を凹部にするこ
とにより凹レンズ効果やその他所望の波面変換効果を持
たせることが可能であり、また半導体レーザチップ14
の非点収差を補正することもできる。また光学部材6と
絶縁材11の材料特性を種々組み合わせたり、さらに光
学部材6の形状や絶縁材11の形状を設計変更すること
により組み合わせレンズとして、より収差の少ないレン
ズ設計も可能となる。In Modification 3 shown in FIG. 11, convex portions 11c and 6 are formed on the outer surface of the upper surface of the insulating material 11 and the inner surface of the upper surface of the optical member 6.
By forming c respectively, a convex lens effect is given. It should be noted that it is possible to provide a concave lens effect and other desired wavefront conversion effects by forming the shape of the concave portion according to the purpose, and further, the semiconductor laser chip 14 can be used.
The astigmatism of can be corrected. Further, by combining various material characteristics of the optical member 6 and the insulating material 11, and further by changing the design of the shape of the optical member 6 and the shape of the insulating material 11, it is possible to design a lens with less aberration as a combined lens.
【0082】図12に示す変形例4は、光学部材として
ビームスプリッタ機能を有するものを採用している。こ
の光学部材20には偏光性反射コーティングが施されて
偏光性反射コーティング膜21が形成されているととも
に、その反対側には所定の反射率を有するコーティング
が施されて反射コーティング膜22が形成されている。
また、絶縁材11にも反射コーティング膜23と無反射
コーティング膜24とが形成されている。10dは偏光
性反射コーティング膜21及び反射コーティング膜22
で反射された反射光、25は反射光10dを検出し半導
体レーザチップ14の前光モニタを行うための光検出回
路である。The modification 4 shown in FIG. 12 employs an optical member having a beam splitter function. The optical member 20 is provided with a polarizing reflective coating to form a polarizing reflective coating film 21, and the opposite side is coated with a coating having a predetermined reflectance to form a reflective coating film 22. ing.
A reflective coating film 23 and a non-reflective coating film 24 are also formed on the insulating material 11. 10d is a polarizing reflective coating film 21 and a reflective coating film 22.
Reference numeral 25 is a light detection circuit for detecting the reflected light 10d and monitoring the front light of the semiconductor laser chip 14.
【0083】このように、前方光発光部15からの出射
光10のレーザ光通過領域に光学部材20と絶縁材11
との傾斜境界を設け、その傾斜境界に偏光反射コーティ
ング膜21や反射コーティング膜22を設けることによ
り、複雑な光の入出力構造が可能となる。In this way, the optical member 20 and the insulating material 11 are provided in the laser beam passage region of the emitted light 10 from the front light emitting section 15.
A complex light input / output structure can be realized by providing an inclined boundary with the polarization reflective coating film 21 and the reflective coating film 22 on the inclined boundary.
【0084】(第6実施例)図13は本発明の第6実施
例に係る半導体レーザ装置を、図14〜17はその変形
例1〜4をそれぞれ示す。(Sixth Embodiment) FIG. 13 shows a semiconductor laser device according to a sixth embodiment of the present invention, and FIGS. 14 to 17 show modifications 1 to 4 thereof.
【0085】この第6実施例では、光学機能としてのホ
ログラムパターン26aを有する透明ガラスからなる光
学部材26を絶縁材11の上部外面に前方光発光部15
からの出射光10が通過するレーザ光通過領域に対応す
るように配置しているほかは、第4実施例の変形例(図
7参照)と同様である。In the sixth embodiment, the optical member 26 made of transparent glass having the hologram pattern 26a as an optical function is provided on the outer surface of the upper portion of the insulating material 11 in the front light emitting portion 15.
The modification is the same as the modification (see FIG. 7) of the fourth embodiment except that the light is emitted from the laser light passing through the laser light passing region.
【0086】図14に示す変形例1は、複合プリズムか
らなる光学部材27を第6実施例の光学部材26に代え
て絶縁材11の上部外面に配置し、さらに、前記絶縁材
11の凹部11a底面にホログラムパターン11bを形
成したものである。同図中、10eは前方光発光部15
からの出射光10のプリズム面反射光である。In a modified example 1 shown in FIG. 14, an optical member 27 composed of a composite prism is arranged on the outer surface of the upper portion of the insulating material 11 instead of the optical member 26 of the sixth embodiment, and further, the concave portion 11a of the insulating material 11 is arranged. The hologram pattern 11b is formed on the bottom surface. In the figure, 10e is the front light emitting portion 15
It is the light reflected from the prism surface of the outgoing light 10 from.
【0087】これにより、複合プリズムからなる光学部
材27により反射して素子内部に入ってきた光18の波
面制御及び分割検出が可能となる。As a result, it becomes possible to perform wavefront control and split detection of the light 18 reflected by the optical member 27 composed of the composite prism and entering the inside of the element.
【0088】図15に示す変形例2は、絶縁材11の上
部外面に凹部11dを2つ形成し、一方の凹部11dに
は出射用光ファイバからなる光学部材28を、他方の凹
部11dには入力用光ファイバからなる光学部材29を
それぞれ上方から挿入して配置したものである。In Modification 2 shown in FIG. 15, two recesses 11d are formed on the upper outer surface of the insulating material 11, one of the recesses 11d is provided with an optical member 28 made of an optical fiber for emission, and the other recess 11d is provided. Optical members 29 made of input optical fibers are inserted and arranged from above.
【0089】これにより、絶縁材11に光学部材28,
29のファイバ径に相当する凹部11dを形成すること
により、光学部材28,29を凹部11dに挿入するだ
けで光学部材28,29、半導体レーザチップ14及び
光検出回路19の位置合わせが容易に高精度に可能とな
る。As a result, the insulating member 11 has the optical member 28,
By forming the recess 11d corresponding to the fiber diameter of 29, the optical members 28, 29, the semiconductor laser chip 14, and the photodetector circuit 19 can be easily aligned by simply inserting the optical members 28, 29 into the recess 11d. It is possible with precision.
【0090】図16に示す変形例3は、絶縁材11の側
部外面に凹部11dを2つ形成し、一方の凹部11dに
は出射用光ファイバからなる光学部材28を、他方の凹
部11dには入力用光ファイバからなる光学部材29を
それぞれ側方から挿入して配置したものである。また、
絶縁材11の上部外面に形成した凹部11aの底寄りに
第5実施例の変形例4(図12参照)のような偏光性反
射コーティング膜21及び反射コーティング膜22を形
成している。In Modification 3 shown in FIG. 16, two recesses 11d are formed on the outer surface of the side of the insulating material 11, one of the recesses 11d is provided with an optical member 28 made of an optical fiber for emission, and the other recess 11d is provided. Is an optical member 29 formed of an input optical fiber and inserted and arranged from the side. Also,
A polarizing reflective coating film 21 and a reflective coating film 22 as in the modified example 4 of the fifth embodiment (see FIG. 12) are formed near the bottom of the recess 11a formed on the upper outer surface of the insulating material 11.
【0091】これにより、変形例2と同様に光学部材2
8,29、半導体レーザチップ14、及び光検出回路1
9の位置合わせが容易に高精度に可能となり、さらに同
一方向に光の入力/出力ができる素子を得ることができ
る。As a result, as in the second modification, the optical member 2
8, 29, semiconductor laser chip 14, and photodetector circuit 1
The position of 9 can be easily adjusted with high accuracy, and an element capable of inputting / outputting light in the same direction can be obtained.
【0092】図17に示す変形例4は、双方向光ファイ
バからなる光学部材30を絶縁材11の上部外面に形成
した凹部11dに上方から挿入して配置したものであ
る。また、絶縁材11で覆われている光学部材6の上部
外面にはホログラムパターン6bを形成している。In the modification 4 shown in FIG. 17, an optical member 30 made of a bidirectional optical fiber is inserted from above into a concave portion 11d formed on the upper outer surface of the insulating material 11. Further, a hologram pattern 6b is formed on the outer surface of the upper portion of the optical member 6 covered with the insulating material 11.
【0093】これにより、変形例2と同様に光学部材2
8,29、半導体レーザチップ14、及び光検出回路1
9の位置合わせが容易に高精度に可能となり、さらに入
力光18がホログラムパターン6bで回折されて光検出
回路19で検出可能になるため、双方向通信が可能な素
子を得ることができる。As a result, like the second modification, the optical member 2 is provided.
8, 29, semiconductor laser chip 14, and photodetector circuit 1
9 can be easily aligned with high accuracy, and the input light 18 is diffracted by the hologram pattern 6b and can be detected by the photodetector circuit 19, so that an element capable of bidirectional communication can be obtained.
【0094】(第7実施例)図18は本発明の第7実施
例に係る半導体レーザ装置を、図19はその変形例をそ
れぞれ示す。(Seventh Embodiment) FIG. 18 shows a semiconductor laser device according to a seventh embodiment of the present invention, and FIG. 19 shows a modification thereof.
【0095】この第7実施例では、一側面が凸状に湾曲
した湾曲面11fを有する略蒲鉾型のブロック11eを
絶縁材11の上部外面に2つ突設したものである。In the seventh embodiment, two substantially kamaboko-shaped blocks 11e each having a curved surface 11f whose one side surface is curved in a convex shape are provided on the upper outer surface of the insulating material 11 so as to project therefrom.
【0096】これにより、予め前記ブロック11eの形
状に対応して組み付けるべき相手部材に形成された係合
孔に前記ブロック11eを挿入することにより、素子を
容易に高精度に位置合わせできるとともに出射光軸を軸
とする回転調整が可能となる。Thus, by inserting the block 11e into the engaging hole formed in the mating member to be assembled in advance corresponding to the shape of the block 11e, the element can be easily aligned with high accuracy and the emitted light It is possible to adjust the rotation around the axis.
【0097】図19に示す変形例は、絶縁材11の上部
外面に球面11hを形成したものであり、頂部に凹部1
1aを形成している。In the modification shown in FIG. 19, a spherical surface 11h is formed on the upper outer surface of the insulating material 11, and the recess 1 is formed on the top.
1a.
【0098】これにより、予め前記球面11hの形状に
対応して組み付けるべき相手部材に形成された係合孔に
前記球面11hを挿入することにより、素子を容易に高
精度に位置合わせできるとともにこの球面11hの原点
を中心とするあおり調整が可能となる。Thus, by inserting the spherical surface 11h into the engaging hole formed in the mating member to be assembled in advance corresponding to the shape of the spherical surface 11h, the element can be easily aligned with high accuracy and the spherical surface can be easily aligned. It is possible to adjust the tilt around the origin of 11h.
【0099】(第8実施例)図20は本発明の第8実施
例に係る半導体レーザ装置を、図21はその変形例をそ
れぞれ示す。(Eighth Embodiment) FIG. 20 shows a semiconductor laser device according to an eighth embodiment of the present invention, and FIG. 21 shows a modification thereof.
【0100】この第8実施例では、ダイパッド2の裏面
に放熱パッド31を設けたものであり、この放熱パッド
31は、ダイパッド2を電極端子3よりも下方に突出し
た厚肉に形成し、この厚肉部でもって構成されている。
そのほかは第3実施例(図5(a)参照)と同様に構成
されている。In the eighth embodiment, the heat radiation pad 31 is provided on the back surface of the die pad 2. The heat radiation pad 31 is formed by forming the die pad 2 into a thick wall projecting downward from the electrode terminal 3. It is composed of a thick part.
Other than that, the configuration is similar to that of the third embodiment (see FIG. 5A).
【0101】これにより、空気への放熱を放熱パッド3
1で効率良く行って熱抵抗を小さくすることが可能であ
るとともに、この素子が使用されるセット側において熱
伝導経路を確保すれば熱抵抗を非常に小さくすることが
でき、半導体レーザ装置の信頼性向上に大いに効果があ
る。As a result, the heat radiation to the air is eliminated by the heat radiation pad 3
1, the thermal resistance can be reduced efficiently, and if the heat conduction path is secured on the set side where this element is used, the thermal resistance can be extremely reduced, and the reliability of the semiconductor laser device can be improved. It is very effective in improving sex.
【0102】図21に示す変形例は、第8実施例におい
て絶縁材11の下部外面に放熱フィン32を放熱パッド
31に接するように配置したものである。In the modification shown in FIG. 21, the heat radiation fins 32 are arranged on the lower outer surface of the insulating material 11 so as to be in contact with the heat radiation pads 31 in the eighth embodiment.
【0103】これにより、さらに空気への放熱を向上さ
せることができ、信頼性を一層向上させることができ
る。As a result, the heat radiation to the air can be further improved, and the reliability can be further improved.
【0104】(第9実施例)図22は本発明の第9実施
例に係る光ピックアップ装置を示す。(Ninth Embodiment) FIG. 22 shows an optical pickup device according to the ninth embodiment of the present invention.
【0105】同図において、33は、本発明によるホロ
グラムパターンを含む半導体レーザ・フォトディテクタ
集積化素子(LD/PD素子)からなる半導体レーザ装
置、34はアクチュエータ可動部、35は反射ミラー、
36は対物レンズ、37はワイヤサスペンション、38
は光学式情報記録媒体としての光ディスク、39は支持
台であり、前記反射ミラー35及び対物レンズ36によ
り、半導体レーザ装置33から出射される光ビームを光
ディスク38上に集光する集光手段が構成されている。In the figure, 33 is a semiconductor laser device comprising a semiconductor laser / photodetector integrated element (LD / PD element) including a hologram pattern according to the present invention, 34 is an actuator movable part, 35 is a reflection mirror,
36 is an objective lens, 37 is a wire suspension, 38
Is an optical disc as an optical information recording medium, 39 is a support, and the reflecting mirror 35 and the objective lens 36 constitute a condensing means for condensing the light beam emitted from the semiconductor laser device 33 onto the optical disc 38. Has been done.
【0106】つまり、LD/PD素子からなる半導体レ
ーザ装置33をアクチュエータ可動部34の側面に固定
し、その出射光をディスク方向に反射させるための反射
ミラー35を配置し、その光路中に対物レンズ36を固
定し、その全体をワイヤサスペンション37等のサスペ
ンションで支持台39に固定することにより、対物レン
ズ36、半導体レーザ装置33及び光検出回路が一体と
なって移動するいわゆる一体駆動ピックアップが構成で
きる。これは、レーザ出射光を光ディスク38に集光
し、さらにその反射光を半導体レーザ装置33の光検出
回路で検出し、フォーカスエラー信号、トラッキングエ
ラー信号、ディスク情報信号を読み出すものである。That is, the semiconductor laser device 33 composed of the LD / PD element is fixed to the side surface of the actuator movable portion 34, the reflection mirror 35 for reflecting the emitted light in the disc direction is arranged, and the objective lens is provided in the optical path. The objective lens 36, the semiconductor laser device 33, and the photodetector circuit can be integrally moved to form a so-called integrated drive pickup by fixing 36 and fixing the whole to a support 39 by a suspension such as a wire suspension 37. . In this, the laser emission light is focused on the optical disc 38, and the reflected light is detected by the photodetection circuit of the semiconductor laser device 33, and the focus error signal, the tracking error signal, and the disc information signal are read out.
【0107】図22に示す構造の光ピックアップ装置で
は、本発明による小型軽量のLD/PD素子により全体
形状が非常に小さな、さらに軽量であるために高速応答
可能なピックアップが実現可能となる。In the optical pickup device having the structure shown in FIG. 22, the compact and lightweight LD / PD element according to the present invention makes it possible to realize a pickup capable of high-speed response because the overall shape is very small and the weight is light.
【0108】なお、光学機能を有する光学部材や絶縁材
としては、各実施例で挙げたものに限らず、ホログラム
光学素子、回折格子、ビームスプリッタ、ミラー、偏光
板、レンズ、光学フィルタ、波長板、反射面、光ファイ
バ等の中から適宜選定すればよい。The optical members and insulating materials having an optical function are not limited to those mentioned in each of the embodiments, and hologram optical elements, diffraction gratings, beam splitters, mirrors, polarizing plates, lenses, optical filters, wave plates. , A reflective surface, an optical fiber, or the like.
【0109】[0109]
【発明の効果】以上説明したように、請求項1〜4に係
る本発明によれば、半導体レーザチップの発光部を光学
部材で覆って絶縁材に触れないようにしたので、絶縁材
の材質劣化等や封止時の応力による半導体レーザチップ
の劣化を防止することができる。しかも、コンパクトな
装置にすることができる。特に、請求項2に係る本発明
によれば、光学部材のレーザ光通過領域が外部に露出し
ているので、半導体レーザチップから出射される出射光
が絶縁材内部に発生する屈折率むらや亀裂等に影響され
ず、出射光特性が確保される。As described above, according to the present invention according to claims 1 to 4, the light emitting portion of the semiconductor laser chip is covered with the optical member so as not to touch the insulating material. It is possible to prevent the semiconductor laser chip from deteriorating due to deterioration or stress during sealing. Moreover, the device can be made compact. In particular, according to the present invention as defined in claim 2, since the laser light passage region of the optical member is exposed to the outside, the emitted light emitted from the semiconductor laser chip is uneven in refractive index or cracked inside the insulating material. The output light characteristics are secured without being affected by the above.
【0110】請求項5に係る本発明によれば、45゜の
反射ミラーをヒートシンク基板に形成したので、端面共
振器タイプの半導体レーザチップを実質的に面発光レー
ザとして扱うことができる。また、ヒートシンク基板に
形成した光検出回路との組み合わにより、基板垂直方向
に光の入出力が可能な発光受光デバイスを実現すること
ができる。According to the fifth aspect of the present invention, since the 45 ° reflection mirror is formed on the heat sink substrate, the edge-cavity type semiconductor laser chip can be substantially treated as a surface emitting laser. Further, by combining with a photodetector circuit formed on the heat sink substrate, it is possible to realize a light emitting and receiving device capable of inputting and outputting light in the substrate vertical direction.
【0111】請求項6に係る本発明によれば、半導体レ
ーザチップ又はヒートシンク基板上に光検出回路等の各
種の回路を形成したので、より有効な素子とすることが
できる。According to the sixth aspect of the present invention, various circuits such as a photodetector circuit are formed on the semiconductor laser chip or the heat sink substrate, so that a more effective element can be obtained.
【0112】請求項7に係る本発明によれば、光学部材
に凹部を形成して半導体レーザチップの発光部と接触し
ないようにしたので、両者を接着するための接着剤の発
光部への侵入を防止することができる。According to the present invention of claim 7, since the concave portion is formed in the optical member so as not to come into contact with the light emitting portion of the semiconductor laser chip, the adhesive for adhering the both enters the light emitting portion. Can be prevented.
【0113】請求項8に係る本発明によれば、光学部材
をホログラム光学素子等の各種の光学機能を有するもの
としたので、出射光の分割や、入力信号光の光検出回路
方向への偏向を可能にすることができる。According to the eighth aspect of the present invention, since the optical member has various optical functions such as a hologram optical element, the outgoing light is split and the input signal light is deflected toward the photodetector circuit. Can be enabled.
【0114】請求項9に係る本発明によれば、絶縁材及
び光学部材の少なくとも一方に無反射コーティングや反
射,偏光性コーティングを施したので、複雑な光の入出
力構造を可能にすることができる。According to the ninth aspect of the present invention, since at least one of the insulating material and the optical member is provided with the antireflection coating, the reflective and polarizing coating, it is possible to realize a complicated light input / output structure. it can.
【0115】請求項10に係る本発明によれば、絶縁材
をホログラム光学素子等の各種の光学機能を有するもの
としたので、出射光の分割や、入力信号光の光検出回路
方向への偏向を可能にすることができる。According to the tenth aspect of the present invention, since the insulating material has various optical functions such as a hologram optical element, the emitted light is split and the input signal light is deflected toward the photodetector circuit. Can be enabled.
【0116】請求項11に係る本発明によれば、絶縁材
の外面の少なくとも一部を湾曲面ないし球面にしたの
で、これに対応する係合孔を有する相手部材に挿入する
だけで素子の位置合わせを容易にかつ高精度に行うこと
ができる。また、出射光軸を軸とする回転調整を可能に
することができる。According to the eleventh aspect of the present invention, since at least a part of the outer surface of the insulating material is formed into a curved surface or a spherical surface, the position of the element can be adjusted only by inserting it into a mating member having an engaging hole corresponding thereto. The alignment can be performed easily and with high accuracy. In addition, it is possible to enable rotation adjustment around the outgoing optical axis.
【0117】請求項12に係る本発明によれば、絶縁材
の外面に凹部を形成したので、半導体レーザチップから
出射される出射光の絶縁材通過による屈折率むらや亀裂
等の影響を少なくして出射光の特性を確保することがで
きる。According to the twelfth aspect of the present invention, since the concave portion is formed on the outer surface of the insulating material, the influence of the unevenness of the refractive index and cracks due to the passing of the emitted light emitted from the semiconductor laser chip through the insulating material is reduced. Therefore, the characteristics of the emitted light can be secured.
【0118】請求項13に係る本発明によれば、絶縁材
の外面にホログラム光学素子等の各種の光学機能を有す
る光学部材を配置したので、出射光の分割や、入力信号
光の光検出回路方向への偏向を可能にすることができ
る。According to the thirteenth aspect of the present invention, since the optical member having various optical functions such as the hologram optical element is arranged on the outer surface of the insulating material, the outgoing light is split and the input signal light is detected by the photodetector circuit. Deflection in a direction can be possible.
【0119】請求項14に係る本発明によれば、半導体
レーザチップから発生する熱を外部へ逃がす熱伝導経路
又は放熱手段をダイパッドに設けたので、空気への放熱
を効率良く行って信頼性を向上させることができる。According to the fourteenth aspect of the present invention, since the die pad is provided with the heat conduction path or the heat radiating means for radiating the heat generated from the semiconductor laser chip to the outside, the heat is efficiently radiated to the air to improve reliability. Can be improved.
【0120】請求項15に係る本発明によれば、請求項
1〜14のいずれか1項に記載の半導体レーザ装置を光
ピックアップ装置に用いたので、装置全体を小型にで
き、しかも軽量で高速応答可能なピックアップを実現す
ることができる。According to the fifteenth aspect of the present invention, since the semiconductor laser device according to any one of the first to fourteenth aspects is used for the optical pickup device, the entire device can be made compact, and the weight and the speed are high. A responsive pickup can be realized.
【図1】第1実施例の半導体レーザ装置の概略構成図で
ある。FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a first embodiment.
【図2】第1実施の変形例を示す半導体レーザ装置の概
略構成図である。FIG. 2 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modification of the first embodiment.
【図3】第2実施例の半導体レーザ装置の概略構成図で
ある。FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a second embodiment.
【図4】第2実施例の変形例を示す半導体レーザ装置の
概略構成図である。FIG. 4 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modification of the second embodiment.
【図5】第3実施例の半導体レーザ装置の概略構成図で
ある。FIG. 5 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a third embodiment.
【図6】第4実施例の半導体レーザ装置の概略構成図で
ある。FIG. 6 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a fourth embodiment.
【図7】第4実施例の変形例1を示す半導体レーザ装置
の概略構成図である。FIG. 7 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a first modification of the fourth embodiment.
【図8】第5実施例の半導体レーザ装置の概略構成図で
ある。FIG. 8 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a fifth embodiment.
【図9】第5実施例の変形例1を示す半導体レーザ装置
の概略構成図である。FIG. 9 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a first modification of the fifth embodiment.
【図10】第5実施例の変形例2を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 10 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a second modification of the fifth embodiment.
【図11】第5実施例の変形例3を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 11 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a third modification of the fifth embodiment.
【図12】第5実施例の変形例4を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 12 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modified example 4 of the fifth example.
【図13】第6実施例の半導体レーザ装置の概略構成図
である。FIG. 13 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a sixth embodiment.
【図14】第6実施例の変形例1を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 14 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a first modification of the sixth embodiment.
【図15】第6実施例の変形例2を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 15 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a second modification of the sixth embodiment.
【図16】第6実施例の変形例3を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 16 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modified example 3 of the sixth embodiment.
【図17】第6実施例の変形例4を示す半導体レーザ装
置の概略構成図である。FIG. 17 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modified example 4 of the sixth embodiment.
【図18】第7実施例の半導体レーザ装置の概略構成図
である。FIG. 18 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of a seventh embodiment.
【図19】第7実施例の変形例を示す半導体レーザ装置
の概略構成図である。FIG. 19 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modification of the seventh embodiment.
【図20】第8実施例の半導体レーザ装置の概略構成図
である。FIG. 20 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device of an eighth embodiment.
【図21】第8実施例の変形例を示す半導体レーザ装置
の概略構成図である。FIG. 21 is a schematic configuration diagram of a semiconductor laser device showing a modification of the eighth embodiment.
【図22】第9実施例の光ピックアップ装置の概略構成
図である。FIG. 22 is a schematic configuration diagram of an optical pickup device of a ninth embodiment.
【図23】従来例の半導体レーザ装置の分解斜視図であ
る。FIG. 23 is an exploded perspective view of a conventional semiconductor laser device.
【図24】IC等で実装に用いられるリードフレームの
概略構成図である。FIG. 24 is a schematic configuration diagram of a lead frame used for mounting on an IC or the like.
【図25】リードフレームを用いた従来例の半導体レー
ザ装置の概略構成図である。FIG. 25 is a schematic configuration diagram of a conventional semiconductor laser device using a lead frame.
【図26】リードフレームを用いた従来例の他の半導体
レーザ装置の概略構成図である。FIG. 26 is a schematic configuration diagram of another conventional semiconductor laser device using a lead frame.
【図27】リードフレームを用いた従来例の別の半導体
レーザ装置の概略構成図である。FIG. 27 is a schematic configuration diagram of another conventional semiconductor laser device using a lead frame.
1 リードフレーム 2 ダイパッド 3 電極端子 4,14 半導体レーザチップ 6,20,26〜30 光学部材 6a,11a 凹部 6b,11b,26a ホログラムパターン 8,17,19,25 光検出回路 9,15,16 発光部 10 出射光 12 ヒートシンク基板 21 偏光性反射コーティング
膜 22,23 反射コーティング膜 24 無反射コーティング膜 31 放熱パッド(放熱手段) 32 放熱フィン(放熱手段) 33 半導体レーザ装置 35 反射ミラー(集光手段) 36 対物レンズ(集光手段) 38 光ディスク(光学式情報
記録媒体)1 Lead frame 2 Die pad 3 Electrode terminal 4,14 Semiconductor laser chip 6,20,26-30 Optical member 6a, 11a Recess 6b, 11b, 26a Hologram pattern 8,17,19,25 Photodetector circuit 9,15,16 Light emission Part 10 Emitted light 12 Heat sink substrate 21 Polarizing reflective coating film 22, 23 Reflective coating film 24 Non-reflective coating film 31 Radiating pad (radiating means) 32 Radiating fin (radiating means) 33 Semiconductor laser device 35 Reflecting mirror (focusing means) 36 Objective Lens (Condensing Means) 38 Optical Disk (Optical Information Recording Medium)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 23/48 (72)発明者 吉川 昭男 大阪府高槻市幸町1番1号 松下電子工業 株式会社内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Reference number within the agency FI Technical indication location H01L 23/48 (72) Inventor Akio Yoshikawa 1-1 Sachimachi, Takatsuki-shi, Osaka Matsushita Electronics Industrial Co., Ltd. In the company
Claims (15)
を介して搭載され、前記ダイパッドの外周りに配置され
た電極端子に電気的に接続された半導体レーザチップ
と、 前記半導体レーザチップの出射光を発する発光部を覆う
ように設けられた透明な光学部材と、 前記半導体レーザチップ、ダイパッド、ヒートシンク基
板、電極端子及び光学部材を前記電極端子のアウター端
子部を除いて封止する透明な絶縁材とを備えたことを特
徴とする半導体レーザ装置。1. A semiconductor laser chip mounted directly on a die pad or via a heat sink substrate and electrically connected to electrode terminals arranged on the outer periphery of the die pad, and light emission for emitting light from the semiconductor laser chip. A transparent optical member provided so as to cover the semiconductor laser chip, the die pad, the heat sink substrate, the electrode terminal and the optical member except for the outer terminal portion of the electrode terminal. A semiconductor laser device characterized by the above.
を介して搭載され、前記ダイパッドの外周りに配置され
た電極端子に電気的に接続された半導体レーザチップ
と、 前記半導体レーザチップの出射光を発する発光部を覆う
ように設けられた透明な光学部材と、 前記半導体レーザチップ、ダイパッド、ヒートシンク基
板、電極端子及び光学部材を前記電極端子のアウター端
子部と前記光学部材のレーザ光通過領域とを除いて封止
する絶縁材とを備えたことを特徴とする半導体レーザ装
置。2. A semiconductor laser chip mounted directly on a die pad or via a heat sink substrate and electrically connected to electrode terminals arranged on the outer periphery of the die pad, and light emission for emitting light from the semiconductor laser chip. A transparent optical member provided so as to cover the portion, the semiconductor laser chip, the die pad, the heat sink substrate, the electrode terminal and the optical member except the outer terminal portion of the electrode terminal and the laser beam passage region of the optical member. A semiconductor laser device comprising: an insulating material for sealing.
半導体レーザチップであることを特徴とする請求項1又
は2記載の半導体レーザ装置。3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser chip is a surface emitting type semiconductor laser chip.
プの半導体レーザチップであることを特徴とする請求項
1又は2記載の半導体レーザ装置。4. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser chip is an edge-cavity type semiconductor laser chip.
ップの出射光を反射する45゜の反射ミラーが形成され
ていることを特徴とする請求項4記載の半導体レーザ装
置。5. The semiconductor laser device according to claim 4, wherein the heat sink substrate is formed with a reflection mirror of 45 ° for reflecting the light emitted from the semiconductor laser chip.
板上には、外部から侵入してくる光を検出する光検出回
路、前記半導体レーザチップの前方又は後方から出射さ
れる光を検出する光検出回路、これらの光検出回路から
検出される信号電流を電圧変換する電流−電圧変換回
路、前記電流−電圧変換回路からの信号を増幅する増幅
回路、前記増幅回路からの信号を演算する演算回路、前
記演算回路からの信号をデジタル−アナログ変換するD
A変換回路及び半導体レーザを駆動する駆動回路の少な
くとも1つが形成されていることを特徴とする請求項1
又は2記載の半導体レーザ装置。6. A semiconductor laser chip or a heat sink substrate, a photodetector circuit for detecting light entering from the outside, a photodetector circuit for detecting light emitted from the front or rear of the semiconductor laser chip, and these. Current-voltage conversion circuit for converting the signal current detected by the photodetection circuit into a voltage, an amplification circuit for amplifying a signal from the current-voltage conversion circuit, an arithmetic circuit for calculating a signal from the amplification circuit, and the arithmetic circuit D-to-analog convert the signal from the
2. At least one of an A conversion circuit and a drive circuit for driving a semiconductor laser is formed.
Alternatively, the semiconductor laser device according to item 2.
光部と接触しないように凹部がレーザ光通過領域に対応
して形成されていることを特徴とする請求項1又は2記
載の半導体レーザ装置。7. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a recess is formed in the optical member so as not to come into contact with the light emitting portion of the semiconductor laser chip so as to correspond to the laser beam passage region. .
格子、ビームスプリッタ、ミラー、偏光板、レンズ、光
学フィルタ又は波長板等の光学機能を有することを特徴
とする請求項1又は2記載の半導体レーザ装置。8. The semiconductor according to claim 1, wherein the optical member has an optical function such as a hologram optical element, a diffraction grating, a beam splitter, a mirror, a polarizing plate, a lens, an optical filter or a wave plate. Laser device.
は、無反射コーティング、所定の反射率を有するコーテ
ィング又は偏光性コーティングが施されていることを特
徴とする請求項1又は2記載の半導体レーザ装置。9. The semiconductor laser according to claim 1, wherein at least one of the insulating material and the optical member is provided with a non-reflection coating, a coating having a predetermined reflectance or a polarizing coating. apparatus.
ズ又は反射面等の光学機能を有することを特徴とする請
求項1又は2記載の半導体レーザ装置。10. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the insulating material has an optical function such as a hologram optical element, a lens or a reflecting surface.
曲面ないし球面を呈していることを特徴とする請求項1
又は2記載の半導体レーザ装置。11. The at least part of the outer surface of the insulating material has a curved surface or a spherical surface.
Alternatively, the semiconductor laser device according to item 2.
過領域に対応して形成されていることを特徴とする請求
項1又は2記載の半導体レーザ装置。12. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein a concave portion is formed on the outer surface of the insulating material so as to correspond to the laser light passage region.
子、回折格子、ビームスプリッタ、ミラー、偏光板、レ
ンズ、光学フィルタ、波長板又は光ファイバ等の光学機
能を有する光学部材がレーザ光通過領域に対応して配置
されていることを特徴とする請求項1又は2記載の半導
体レーザ装置。13. An optical member having an optical function such as a hologram optical element, a diffraction grating, a beam splitter, a mirror, a polarizing plate, a lens, an optical filter, a wavelength plate or an optical fiber is provided on the outer surface of the insulating material in the laser beam passage region. 3. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the semiconductor laser device is arranged in correspondence with.
から発生する熱を外部へ逃がす熱伝導経路又は放熱手段
が設けられていることを特徴とする請求項1又は2項記
載の半導体レーザ装置。14. The semiconductor laser device according to claim 1, wherein the die pad is provided with a heat conducting path or a heat radiating means for allowing heat generated from the semiconductor laser chip to escape to the outside.
の半導体レーザ装置と、前記半導体レーザ装置から出射
される光ビームを光学式情報記録媒体上に集光する集光
手段とを備えたことを特徴とする光ピックアップ装置。15. A semiconductor laser device according to claim 1, and a condensing means for condensing a light beam emitted from the semiconductor laser device onto an optical information recording medium. An optical pickup device characterized in that
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