JPH0897673A - Surface acoustic wave element and its manufacture - Google Patents
Surface acoustic wave element and its manufactureInfo
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- JPH0897673A JPH0897673A JP23287694A JP23287694A JPH0897673A JP H0897673 A JPH0897673 A JP H0897673A JP 23287694 A JP23287694 A JP 23287694A JP 23287694 A JP23287694 A JP 23287694A JP H0897673 A JPH0897673 A JP H0897673A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、携帯電話やテレビジョ
ン等の電子回路に使用されるフィルターや移動通信分野
の通信機に使用されるたたき込み積分回路(以下、コン
ボルバと称する。)等に用いられる弾性表面波素子及び
その製造方法に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a filter used in electronic circuits such as mobile phones and televisions, and a built-in integrator circuit (hereinafter referred to as a convolver) used in a communication device in the field of mobile communication. The present invention relates to a surface acoustic wave element used and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、弾性表面波素子は構造が比較的単
純であるので、素子を小型かつ軽量化することができる
点で注目を集めている。特に、電子装置の小型、軽量化
に対応できるノイズフィルターあるいはコンボルバとし
ての使用が期待されている。2. Description of the Related Art In recent years, a surface acoustic wave device has attracted attention because it has a relatively simple structure and can be made compact and lightweight. In particular, it is expected to be used as a noise filter or a convolver capable of responding to downsizing and weight saving of electronic devices.
【0003】以下に従来の弾性表面波素子について、図
面を用いて説明する。図7は従来の弾性表面波素子の平
面図である。図7において、1は圧電性基板、2は圧電
性基板1の上面に櫛状に形成された一対の入力電極、3
は圧電性基板1の上面に入力電極2と所定の間隔をおい
て櫛状に形成された一対の出力電極、4は入力電極2及
び出力電極3と相対する圧電性基板1の端部に設けられ
た吸音部である。A conventional surface acoustic wave device will be described below with reference to the drawings. FIG. 7 is a plan view of a conventional surface acoustic wave device. In FIG. 7, 1 is a piezoelectric substrate, 2 is a pair of input electrodes formed in a comb shape on the upper surface of the piezoelectric substrate 1, 3
Is a pair of output electrodes formed in a comb shape on the upper surface of the piezoelectric substrate 1 at a predetermined interval from the input electrode 2, and 4 is provided at the end of the piezoelectric substrate 1 facing the input electrode 2 and the output electrode 3. It is the sound absorption part.
【0004】以上のように構成された弾性表面波素子に
ついて、以下その製造方法を説明する。始めに、圧電性
単結晶を所定の結晶方位に切り出して、圧電性基板1を
形成する。次に、圧電性基板1の上面をラッピング加工
により鏡面加工を行う。次に、圧電性基板1の上面に蒸
着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等を
用いて金属膜を形成する。この金属膜を成膜後レジスト
等を用いて所定形状に電極膜にエッチングする方法や最
初にレジスト等で所定形状を形成しその後電極膜を成膜
してリフトオフする方法等により入力電極2及び出力電
極3を形成する。次に、圧電性基板1の入力電極2及び
出力電極3に対する端部に有機高分子樹脂からなる吸音
部4を形成する。A method of manufacturing the surface acoustic wave device having the above structure will be described below. First, the piezoelectric single crystal is cut out in a predetermined crystal orientation to form the piezoelectric substrate 1. Next, the upper surface of the piezoelectric substrate 1 is mirror-finished by lapping. Next, a metal film is formed on the upper surface of the piezoelectric substrate 1 by using a vapor deposition method, a sputtering method, an ion plating method, or the like. The input electrode 2 and the output are formed by a method of etching the electrode film into a predetermined shape using a resist or the like after forming this metal film, or a method of first forming the predetermined shape with a resist or the like and then forming an electrode film and lifting off. The electrode 3 is formed. Next, the sound absorbing portion 4 made of an organic polymer resin is formed at the end of the piezoelectric substrate 1 for the input electrode 2 and the output electrode 3.
【0005】以上のように製造された弾性表面波素子に
ついて、以下その動作について説明する。まず、入力電
極2に電気信号を印加する。入力電極2に印加された電
気信号は圧電性基板1の圧電効果により弾性表面波に変
換され圧電性基板1の上面を伝搬していく。出力電極3
において、この弾性表面波を電気信号に再度変換する。
この際、弾性表面波は圧電性基板1の両側に伝搬するが
出力電極3と反対側に伝搬した弾性表面波はノイズの原
因となるので、圧電性基板1の端部に形成された吸音部
4により吸収することにより出力電極3にはノイズの含
まれない電気信号が発生することになる。The operation of the surface acoustic wave device manufactured as described above will be described below. First, an electric signal is applied to the input electrode 2. The electric signal applied to the input electrode 2 is converted into a surface acoustic wave by the piezoelectric effect of the piezoelectric substrate 1 and propagates on the upper surface of the piezoelectric substrate 1. Output electrode 3
At, the surface acoustic wave is converted into an electric signal again.
At this time, the surface acoustic wave propagates to both sides of the piezoelectric substrate 1, but the surface acoustic wave propagating to the side opposite to the output electrode 3 causes noise. Therefore, the sound absorbing portion formed at the end of the piezoelectric substrate 1 By being absorbed by 4, an electric signal containing no noise is generated at the output electrode 3.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の弾性表面波素子では、圧電性基板の結晶方向が設計と
微小に異なっていたり、入力電極及び出力電極の設置角
度が設計と微小に異なっている場合がある。この場合は
出力電極以外の方向へ弾性表面波が伝搬していき圧電性
基板の端部で弾性表面波が反射して出力電極に入射し、
ノイズの原因となるという問題点を有していた。また反
射波によるノイズを除去するために電極から圧電性基板
の端部までの領域を減衰領域として設けていたので、弾
性表面波素子のサイズを大きくしなければならないとい
う問題点を有していた。さらに外部からの振動が圧電性
基板に伝わると、出力電極においてノイズとなる弾性表
面波が圧電性基板に生じるという問題点を有していた。However, in the above-mentioned conventional surface acoustic wave device, the crystal orientation of the piezoelectric substrate is slightly different from the design, or the installation angle of the input electrode and the output electrode is slightly different from the design. There are cases. In this case, the surface acoustic wave propagates in a direction other than the output electrode, and the surface acoustic wave is reflected at the end of the piezoelectric substrate and enters the output electrode,
It has a problem that it causes noise. Further, since the area from the electrode to the end of the piezoelectric substrate is provided as the attenuation area in order to remove the noise caused by the reflected wave, there is a problem that the size of the surface acoustic wave element must be increased. . Further, when vibration from the outside is transmitted to the piezoelectric substrate, there is a problem that surface acoustic waves, which become noise in the output electrode, are generated in the piezoelectric substrate.
【0007】また従来の弾性表面波素子の製造方法で
は、圧電性基板、入力電極、及び出力電極の配置角度の
微小変位により生じる弾性表面波の反射波によるノイズ
を除去することはできないという問題点を有していた。
さらに外部からの振動に起因するノイズは除去すること
ができないという問題点を有していた。Further, in the conventional method of manufacturing a surface acoustic wave element, it is not possible to remove the noise due to the reflected wave of the surface acoustic wave caused by the minute displacement of the arrangement angle of the piezoelectric substrate, the input electrode and the output electrode. Had.
Further, there is a problem that noise caused by external vibration cannot be removed.
【0008】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、弾性表面波の反射波及び外部からの振動に起因する
ノイズを除去することのできる弾性表面波素子の提供及
び弾性表面波を十分に吸収することのできる吸音部を容
易に歩留り良く高い生産性で製造できる弾性表面波素子
の製造方法を提供することを目的とする。The present invention solves the above-mentioned conventional problems, and provides a surface acoustic wave device capable of removing a reflected wave of a surface acoustic wave and noise caused by vibration from the outside, and a surface acoustic wave It is an object of the present invention to provide a method of manufacturing a surface acoustic wave device, which can easily manufacture a sound absorbing portion that can be absorbed into a high yield with high productivity.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
に本発明の請求項1に記載の弾性表面波素子は、入力さ
れた電気信号を弾性表面波に変換する圧電性基板と、電
気信号を入力する圧電性基板上に設けられた一対の入力
電極と、弾性表面波を電気信号に変換する圧電性基板上
に設けられた一対の出力電極と、入力電極の弾性表面波
を吸収する吸音部と、を備えた弾性表面波素子であっ
て、吸音部が圧電性基板の外側部に形成されている構成
をしている。To achieve this object, a surface acoustic wave device according to a first aspect of the present invention comprises a piezoelectric substrate for converting an input electric signal into a surface acoustic wave, and an electric signal. A pair of input electrodes provided on the piezoelectric substrate for inputting, a pair of output electrodes provided on the piezoelectric substrate for converting surface acoustic waves into electric signals, and sound absorption for absorbing the surface acoustic waves of the input electrodes. A surface acoustic wave element including a portion, and the sound absorbing portion is formed on an outer portion of the piezoelectric substrate.
【0010】請求項2に記載の弾性表面波素子は、請求
項1において、吸音部が感光性ポリイミド樹脂からなる
構成をしている。According to a second aspect of the surface acoustic wave device of the first aspect, the sound absorbing portion is made of a photosensitive polyimide resin.
【0011】請求項3に記載の弾性表面波素子の製造方
法は、請求項1または2の内いずれか1に記載の弾性表
面波素子の製造方法であって、吸音部をフォトリソグラ
フィ法により圧電性基板の外側部に形成する構成をして
いる。A method of manufacturing a surface acoustic wave element according to a third aspect is the method of manufacturing a surface acoustic wave element according to any one of the first aspect and the second aspect, wherein the sound absorbing portion is piezoelectrically formed by photolithography. It is formed on the outer side of the flexible substrate.
【0012】ここで、圧電性基板としては、LiNbO
3、LiTaO3、B12GeO20、SiO2、Pb(Z
r、Ti)O3、ZnO等が用いられる。入力電極及び
出力電極としては、Al、Au、Cu、Ag、Ni、P
d、Pt等が用いられる。吸音部としては、ポリイミド
樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリス
チレン樹脂、ポリテトラフルオロエチレン樹脂、ポリア
クリルニトリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ酢酸ビ
ニル樹脂、ポリメタクリル酸メチル樹脂、ポリオキシメ
チレン樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、ポリア
ミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、
ポリウレタン樹脂、等の有機高分子樹脂あるいはシリコ
ン樹脂等の無機高分子樹脂あるいはこれらの複合物が用
いられる。Here, as the piezoelectric substrate, LiNbO is used.
3 , LiTaO 3 , B 12 GeO 20 , SiO 2 , Pb (Z
r, Ti) O 3 , ZnO or the like is used. The input and output electrodes are Al, Au, Cu, Ag, Ni, P
d, Pt, or the like is used. As the sound absorbing part, polyimide resin, polyethylene resin, polypropylene resin, polystyrene resin, polytetrafluoroethylene resin, polyacrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetate resin, polymethylmethacrylate resin, polyoxymethylene resin, polyethylene Terephthalate resin, polyamide resin, polycarbonate resin, polyester resin,
An organic polymer resin such as polyurethane resin, an inorganic polymer resin such as silicon resin, or a composite thereof is used.
【0013】フォトリソグラフィ法とは、フォトレジス
トを塗布した後に形成したいパターンだけに紫外線等の
光を照射させ、形成したい部分だけを硬化させ他の部分
は除去してパターンを形成する薄膜形成方法である。フ
ォトレジストにはポジ型とネガ型の2種類があるが、ネ
ガ型のフォトレジストの場合はパターンを形成させたマ
スクを反転させれば良い。フォトレジストとしては、水
溶性コロイド系、ポリけい皮酸系、環化ゴム系、キノン
ジアザイド系材料等が用いられる。特に、感光性ポリイ
ミド樹脂が直接パターンを形成することができるのでパ
ターン形成が容易であり、形成された吸音部のヤング率
が弾性表面波を吸収するのに適当であるとともに耐久性
に優れているので好んで用いられる。The photolithography method is a thin film forming method in which after applying a photoresist, only a pattern to be formed is irradiated with light such as ultraviolet rays and only a portion to be formed is cured and other portions are removed to form a pattern. is there. There are two types of photoresist, positive type and negative type. In the case of negative type photoresist, the mask on which the pattern is formed may be inverted. As the photoresist, water-soluble colloid-based, polycinnamic acid-based, cyclized rubber-based, quinonediazide-based materials and the like are used. In particular, since the photosensitive polyimide resin can directly form a pattern, pattern formation is easy, and the Young's modulus of the formed sound absorbing portion is suitable for absorbing surface acoustic waves and has excellent durability. Because it is preferred.
【0014】[0014]
【作用】この本発明の弾性表面波素子によって、吸音部
が圧電性基板の外側部に設けられており、また吸音部が
適当な硬度を有しているので、出力電極に向かう弾性表
面波以外の全ての弾性表面波を吸音部において吸収する
ことができ、出力電極でのノイズの発生を防止すること
ができる。また外部からの振動も吸音部により吸収する
ことができ、ノイズの発生を防止することができる。According to the surface acoustic wave element of the present invention, since the sound absorbing portion is provided on the outer side portion of the piezoelectric substrate and the sound absorbing portion has an appropriate hardness, other than the surface acoustic wave directed to the output electrode. It is possible to absorb all the surface acoustic waves in the sound absorbing section, and it is possible to prevent generation of noise in the output electrode. In addition, vibrations from the outside can be absorbed by the sound absorbing portion, and noise can be prevented from occurring.
【0015】また、フォトリソグラフィ法によって、圧
電性基板の外側部に設けられた吸音部を位置精度を極め
て高く製造することができるので、入力電極及び出力電
極の近傍に吸音部を設けることができるので、弾性表面
波素子のサイズを小型化することができる。また吸音部
を製造歩留りを高く、製造原価を安く製造することがで
きる。Further, since the sound absorbing portion provided on the outer side of the piezoelectric substrate can be manufactured with extremely high positional accuracy by the photolithography method, the sound absorbing portion can be provided in the vicinity of the input electrode and the output electrode. Therefore, the size of the surface acoustic wave element can be reduced. Further, it is possible to manufacture the sound absorbing section with a high manufacturing yield and a low manufacturing cost.
【0016】[0016]
(実施例1、比較例)図1は本発明の第1実施例におけ
る弾性表面波素子の平面図である。Example 1 and Comparative Example FIG. 1 is a plan view of a surface acoustic wave device according to Example 1 of the present invention.
【0017】図1において、1は圧電性基板、2は一対
の入力電極、3は一対の出力電極である。これらは従来
例と同様のものであり、同一の符号を付けて説明を省略
する。5は圧電性基板1の外側部に設けられた吸音部で
ある。In FIG. 1, 1 is a piezoelectric substrate, 2 is a pair of input electrodes, and 3 is a pair of output electrodes. These are the same as in the conventional example, and the same reference numerals are given and the description thereof is omitted. Reference numeral 5 is a sound absorbing portion provided on the outer side of the piezoelectric substrate 1.
【0018】以上のように構成された弾性表面波素子に
ついて、図面を用いて以下その製造方法を説明する。図
2(a)は本発明のAl膜を形成した圧電性基板の斜視
図であり、図2(b)は本発明の入力電極及び出力電極
を形成した圧電性基板の斜視図である。図3(a)は本
発明の感光性ポリイミド樹脂膜を形成した圧電性基板の
斜視図であり、図3(b)は本発明の吸音部を形成した
圧電性基板の斜視図である。ここで、6はAl膜、7は
感光性ポリイミド樹脂膜である。A method of manufacturing the surface acoustic wave device having the above structure will be described below with reference to the drawings. 2A is a perspective view of a piezoelectric substrate having an Al film according to the present invention, and FIG. 2B is a perspective view of a piezoelectric substrate having an input electrode and an output electrode according to the present invention. FIG. 3A is a perspective view of a piezoelectric substrate on which the photosensitive polyimide resin film of the present invention is formed, and FIG. 3B is a perspective view of a piezoelectric substrate on which the sound absorbing portion of the present invention is formed. Here, 6 is an Al film, and 7 is a photosensitive polyimide resin film.
【0019】まず、圧電性基板1として厚さ0.5mm
のY方向カットZ伝搬のLiNbO 3の単結晶を用い、
圧電性基板1の上面をラッピング機により、平均表面粗
さ12Åの鏡面とした。次に、図2(a)に示すよう
に、圧電性基板1上に厚さ5000ÅのAl膜6を形成
した。Al膜6は到達真空度5×10-6Torrとした
後、電子ビーム蒸着法により30Å/sの成膜レートで
形成した。次に、Al膜6の上にフォトレジストを塗布
した後フォトマスクを介して紫外線を照射エネルギー1
8mJ/cm2で5時間照射した後、現像を行い所定の電
極形状のフォトレジストパターンを得た。その後酸素の
エッチング液によりAlのエッチングを行い不要のフォ
トレジストを除去することにより入出力用の電極を得
た。図2(b)に示すように、入力電極2と出力電極3
をラインアンドスペースが4μm、入力電極2と出力電
極3の間隔を1.6mmで櫛状に形成した。次に、図3
(a)に示すように、感光性ポリイミド樹脂を圧電性基
板1上に2μmの厚さに塗布し、感光性ポリイミド樹脂
膜7を形成した。感光性ポリイミド樹脂膜7に所定形状
のフォトマスクを介して18mJ/cm2の紫外線を20
秒照射し、感光性ポリイミド樹脂膜7を硬化した後、N
−メチル−2−ピロリドンにより感光性ポリイミド樹脂
膜7の除去する部分を取り除いた。次に、図3(b)に
示すように、400℃で1時間熱処理することにより感
光性ポリイミド樹脂膜7中の不要溶媒を除去して、ヤン
グ率350kg/mm2の硬度の吸音部5を得た。First, the piezoelectric substrate 1 has a thickness of 0.5 mm.
Y-direction cut Z-propagation LiNbO 3Using a single crystal of
The average surface roughness of the upper surface of the piezoelectric substrate 1 is measured by a lapping machine.
It is a 12Å mirror surface. Next, as shown in FIG.
Then, a 5000 Å thick Al film 6 is formed on the piezoelectric substrate 1.
did. Al film 6 has an ultimate vacuum of 5 × 10-6Torr
After that, at a film-forming rate of 30Å / s by electron beam evaporation method
Formed. Next, apply a photoresist on the Al film 6.
After that, irradiate UV light through the photomask 1
8 mJ / cm2After irradiation for 5 hours at
A polar photoresist pattern was obtained. Then oxygen
Al is etched with an etchant and unnecessary
I / O electrodes are obtained by removing the photoresist.
It was As shown in FIG. 2B, the input electrode 2 and the output electrode 3
Line and space is 4μm, input electrode 2 and output power
The electrodes 3 were formed in a comb shape with a gap of 1.6 mm. Next, FIG.
As shown in (a), a photosensitive polyimide resin is used as a piezoelectric group.
It is coated on the plate 1 to a thickness of 2 μm and is made of a photosensitive polyimide resin.
The film 7 was formed. Predetermined shape on the photosensitive polyimide resin film 7
18mJ / cm through the photo mask of220 of ultraviolet rays
After irradiating for 2 seconds to cure the photosensitive polyimide resin film 7,
-Methyl-2-pyrrolidone photosensitive polyimide resin
The removed portion of the membrane 7 was removed. Next, in FIG.
As shown, heat treatment at 400 ℃ for 1 hour
The unnecessary solvent in the light-sensitive polyimide resin film 7 is removed,
Rate 350kg / mm2The sound absorbing part 5 having the hardness of was obtained.
【0020】次に、第1実施例における弾性表面波素子
と入力電極2及び出力電極3に対向する圧電性基板1の
端部に吸音部4を設けた比較例のフィルター特性を計測
した。フィルター特性は中心周波数215MHzスパン
100MHz信号レベル0dBmの信号を入力し、計測
した。図4(a)は本発明の第1実施例における弾性表
面波素子のフィルター特性を示す図であり、図4(b)
は本発明の比較例における弾性表面波素子のフィルター
特性を示す図である。Next, the filter characteristics of the comparative example in which the sound absorbing portion 4 was provided at the end of the piezoelectric substrate 1 facing the surface acoustic wave element and the input electrode 2 and the output electrode 3 in the first embodiment were measured. The filter characteristic was measured by inputting a signal having a center frequency of 215 MHz and a span of 100 MHz and a signal level of 0 dBm. FIG. 4A is a diagram showing the filter characteristics of the surface acoustic wave element according to the first embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 4 is a diagram showing filter characteristics of a surface acoustic wave device according to a comparative example of the present invention.
【0021】この図4(a)及び図4(b)から明らか
なように、本実施例による弾性表面波素子は、出力電気
信号にノイズが少ないという点で優れた効果が得られる
ことがわかった。As is apparent from FIGS. 4 (a) and 4 (b), the surface acoustic wave device according to the present embodiment has an excellent effect in that the output electric signal has little noise. It was
【0022】以上のように本実施例によれば、圧電性基
板1の外側部に感光性ポリイミド樹脂からなる吸音部5
を設けたので、ノイズの原因となる弾性表面波を吸音部
5において吸収することができ、また外部からの振動を
吸音部5において吸収することができるので、出力電気
信号に含まれるノイズを極めて少なくすることができる
ことがわかった。As described above, according to this embodiment, the sound absorbing portion 5 made of the photosensitive polyimide resin is provided on the outer portion of the piezoelectric substrate 1.
Since the surface acoustic wave that causes noise can be absorbed in the sound absorbing portion 5 and the vibration from the outside can be absorbed in the sound absorbing portion 5, the noise included in the output electric signal can be extremely reduced. It turns out that it can be reduced.
【0023】また本実施例の製造方法によれば、圧電性
基板1の外側部にフォトリソグラフィ法により感光性ポ
リイミド樹脂からなる吸音部5を設けたので、入力電極
2及び出力電極3の近傍に吸音部5を設けることがで
き、弾性表面波素子のサイズを小さくすることができ
た。また弾性表面波の吸収能の高いヤング率を有する吸
音部を高い歩留りで、生産性良く製造できたので、製造
原価を低くすることができることがわかった。Further, according to the manufacturing method of this embodiment, since the sound absorbing portion 5 made of the photosensitive polyimide resin is provided on the outer portion of the piezoelectric substrate 1 by the photolithography method, the sound absorbing portion 5 is provided near the input electrode 2 and the output electrode 3. The sound absorbing part 5 can be provided, and the size of the surface acoustic wave element can be reduced. Further, it has been found that the sound absorbing portion having a high Young's modulus capable of absorbing surface acoustic waves can be manufactured with high yield and high productivity, so that the manufacturing cost can be reduced.
【0024】(実施例2)図5は第2実施例におけるコ
ンボルバである弾性表面波素子の平面図である。(Embodiment 2) FIG. 5 is a plan view of a surface acoustic wave device which is a convolver in the second embodiment.
【0025】図5において、1は圧電性基板、5は圧電
性基板1の外側部に設けられた吸音部、8及び9は圧電
性基板1の両側部近傍に設けられた一対の入力電極、1
0は圧電性基板1の略中央部に設けられた出力電極であ
り、圧電性基板1の裏面側にグランド用の電極(図示せ
ず)を設けている。In FIG. 5, reference numeral 1 is a piezoelectric substrate, 5 is a sound absorbing portion provided on the outer side of the piezoelectric substrate 1, 8 and 9 are a pair of input electrodes provided in the vicinity of both sides of the piezoelectric substrate 1, 1
Reference numeral 0 denotes an output electrode provided in a substantially central portion of the piezoelectric substrate 1, and a ground electrode (not shown) is provided on the back surface side of the piezoelectric substrate 1.
【0026】以上のように構成された弾性表面波素子に
ついて、以下その動作を説明する。まず、入力電極8及
び9にそれぞれ入力電気信号を印加する。それぞれの入
力電気信号は圧電性基板1中に弾性表面波を発生させ
る。それぞれの入力電気信号により発生された2つの弾
性表面波は圧電性基板1中を伝搬され、出力電極10下
で重ね合わされる。この時2つの入力信号が十分大きけ
れば2つの入力信号の畳み込み積分が行われ電気信号と
して出力信号10から取り出される。The operation of the surface acoustic wave device constructed as above will be described below. First, an input electric signal is applied to each of the input electrodes 8 and 9. Each input electric signal generates a surface acoustic wave in the piezoelectric substrate 1. The two surface acoustic waves generated by the respective input electric signals propagate through the piezoelectric substrate 1 and are superposed below the output electrode 10. At this time, if the two input signals are sufficiently large, the convolution integration of the two input signals is performed and the electric signals are extracted from the output signal 10.
【0027】以上のように本実施例によれば、圧電性基
板1の外側部に吸音部5を設けたので、圧電性基板1の
端部において反射される弾性表面波を吸音部5において
吸収することができ、また外部からの振動を吸音部5に
おいて吸収することができるので、ノイズの極めて少な
い出力電気信号を得ることができることがわかった。As described above, according to this embodiment, since the sound absorbing portion 5 is provided on the outer side of the piezoelectric substrate 1, the surface acoustic wave reflected at the end portion of the piezoelectric substrate 1 is absorbed by the sound absorbing portion 5. It has been found that since the vibrations from the outside can be absorbed by the sound absorbing portion 5, an output electric signal with extremely little noise can be obtained.
【0028】(実施例3)図6は第3実施例における導
波路型のコンボルバである弾性表面波素子の平面図であ
る。(Embodiment 3) FIG. 6 is a plan view of a surface acoustic wave element which is a waveguide type convolver in the third embodiment.
【0029】図6において、1は圧電性基板、5は圧電
性基板1の外側部に設けられた吸音部、8及び9は圧電
性基板1の両側部近傍に設けられた一対の入力電極、1
0及び11は圧電性基板1の略中央部の上部及び下部に
設けられた一対の出力電極、12は圧電性基板1の略中
央部に複数設けられた導波路である。In FIG. 6, reference numeral 1 is a piezoelectric substrate, 5 is a sound absorbing portion provided on the outer side of the piezoelectric substrate 1, 8 and 9 are a pair of input electrodes provided in the vicinity of both sides of the piezoelectric substrate 1, 1
Reference numerals 0 and 11 denote a pair of output electrodes provided above and below the substantially central portion of the piezoelectric substrate 1, and 12 denotes a plurality of waveguides provided at the substantially central portion of the piezoelectric substrate 1.
【0030】以上のように構成された弾性表面波素子に
ついて、以下その動作を説明する。まず、入力電極8及
び9にそれぞれ入力電気信号を印加する。それぞれの入
力電気信号は圧電性基板1中に弾性表面波を発生させ
る。それぞれの入力電気信号により発生された2つの弾
性表面波は圧電性基板1中を導波路12に導かれて伝搬
される間に畳み込み積分が行われることにより、導波路
12と垂直な方向に伝搬する弾性表面波が発生する。こ
の弾性表面波を出力電極10により電気信号に変換す
る。The operation of the surface acoustic wave device having the above structure will be described below. First, an input electric signal is applied to each of the input electrodes 8 and 9. Each input electric signal generates a surface acoustic wave in the piezoelectric substrate 1. The two surface acoustic waves generated by the respective input electric signals propagate in the direction perpendicular to the waveguide 12 by being subjected to convolution integration while being guided to the waveguide 12 in the piezoelectric substrate 1 and propagated. A surface acoustic wave is generated. The surface acoustic wave is converted into an electric signal by the output electrode 10.
【0031】以上のように本実施例によれば、圧電性基
板1の外側部に吸音部5を設けたので、圧電性基板1中
を伝搬するノイズの原因となる弾性表面波を吸音するこ
とができる。また外部からの振動を吸音部5において吸
収することができるので、畳み込み積分された出力電気
信号中のノイズ成分を減少させることができることがわ
かった。As described above, according to this embodiment, since the sound absorbing portion 5 is provided on the outer side of the piezoelectric substrate 1, it is possible to absorb the surface acoustic wave that causes noise propagating in the piezoelectric substrate 1. You can Further, it has been found that since the vibration from the outside can be absorbed by the sound absorbing unit 5, it is possible to reduce the noise component in the convolution-integrated output electric signal.
【0032】[0032]
【発明の効果】以上のように本発明は、圧電性基板の外
側部に弾性表面波を吸収できるヤング率を有する吸音部
を設けたので、圧電性基板の端部において弾性表面波を
吸収することができる。従って、圧電性基板の端部で反
射して出力電極において電気信号のノイズ成分となる弾
性表面波を吸収することができるので、電気信号のノイ
ズ成分を著しく減少させることができる。また外部から
弾性表面波素子に侵入する振動を圧電性基板の外側部に
設けられた吸音部により吸収することができるので、外
部の振動に起因する電気信号のノイズを防止することが
できる優れた弾性表面波素子を実現できるものである。As described above, according to the present invention, since the sound absorbing portion having the Young's modulus capable of absorbing the surface acoustic wave is provided on the outer side portion of the piezoelectric substrate, the surface acoustic wave is absorbed at the end portion of the piezoelectric substrate. be able to. Therefore, since it is possible to absorb the surface acoustic wave which is reflected at the end portion of the piezoelectric substrate and becomes the noise component of the electric signal at the output electrode, the noise component of the electric signal can be remarkably reduced. In addition, since vibration that enters the surface acoustic wave element from the outside can be absorbed by the sound absorbing portion provided on the outer side of the piezoelectric substrate, it is possible to prevent the noise of the electric signal due to the external vibration. The surface acoustic wave element can be realized.
【0033】また本発明は、圧電性基板の外側部に設け
られた吸音部をフォトリソグラフィ法により形成するの
で、入力電極及び出力電極近傍に正確に吸音部を設ける
ことができるので、弾性表面波素子のサイズを小型化す
ることができる。また弾性表面波を十分に吸収すること
のできる吸音部を、容易に歩留り良く、高い生産性で製
造できるので製造原価の低い優れた弾性表面波素子の製
造方法を実現できるものである。Further, according to the present invention, since the sound absorbing portion provided on the outer side portion of the piezoelectric substrate is formed by the photolithography method, the sound absorbing portion can be accurately provided in the vicinity of the input electrode and the output electrode. The size of the element can be reduced. Further, since the sound absorbing portion capable of sufficiently absorbing the surface acoustic wave can be easily manufactured with high yield and high productivity, it is possible to realize the excellent manufacturing method of the surface acoustic wave element with low manufacturing cost.
【図1】本発明の第1実施例における弾性表面波素子の
平面図FIG. 1 is a plan view of a surface acoustic wave device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】(a)本発明のAl膜を形成した圧電性基板の
斜視図 (b)本発明の入力電極及び出力電極を形成した圧電性
基板の斜視図2A is a perspective view of a piezoelectric substrate on which an Al film of the present invention is formed. FIG. 2B is a perspective view of a piezoelectric substrate on which an input electrode and an output electrode of the present invention are formed.
【図3】(a)本発明の感光性ポリイミド樹脂膜を形成
した圧電性基板の斜視図 (b)本発明の吸音部を形成した圧電性基板の斜視図3A is a perspective view of a piezoelectric substrate on which a photosensitive polyimide resin film of the present invention is formed. FIG. 3B is a perspective view of a piezoelectric substrate on which a sound absorbing portion of the present invention is formed.
【図4】(a)本発明の第1実施例における弾性表面波
素子のフィルター特性を示す図 (b)本発明の比較例における弾性表面波素子のフィル
ター特性を示す図FIG. 4A is a diagram showing a filter characteristic of a surface acoustic wave element according to a first embodiment of the present invention. FIG. 4B is a diagram showing a filter characteristic of a surface acoustic wave element according to a comparative example of the present invention.
【図5】本発明の第2実施例におけるコンボルバである
弾性表面波素子の平面図FIG. 5 is a plan view of a surface acoustic wave device that is a convolver according to a second embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第3実施例における導波路型のコンボ
ルバである弾性表面波素子の平面図FIG. 6 is a plan view of a surface acoustic wave element that is a waveguide type convolver according to a third embodiment of the present invention.
【図7】従来の弾性表面波素子の平面図FIG. 7 is a plan view of a conventional surface acoustic wave device.
1 圧電性基板 2 入力電極 3 出力電極 4 吸音部 5 吸音部 6 Al膜 7 感光性ポリイミド樹脂膜 8、9 入力電極 10、11 出力電極 12 導波路 1 Piezoelectric Substrate 2 Input Electrode 3 Output Electrode 4 Sound Absorption Part 5 Sound Absorption Part 6 Al Film 7 Photosensitive Polyimide Resin Film 8, 9 Input Electrode 10, 11 Output Electrode 12 Waveguide
Claims (3)
る圧電性基板と、電気信号を入力する前記圧電性基板上
に設けられた一対の入力電極と、前記弾性表面波を電気
信号に変換する前記圧電性基板上に設けられた一対の出
力電極と、前記入力電極の弾性表面波を吸収する吸音部
と、を備えた弾性表面波素子であって、前記吸音部が前
記圧電性基板の外側部に形成されていることを特徴とす
る弾性表面波素子。1. A piezoelectric substrate for converting an input electric signal into a surface acoustic wave, a pair of input electrodes provided on the piezoelectric substrate for inputting an electric signal, and the surface acoustic wave as an electric signal. A surface acoustic wave device comprising: a pair of output electrodes provided on the piezoelectric substrate for conversion; and a sound absorbing portion that absorbs a surface acoustic wave of the input electrode, wherein the sound absorbing portion is the piezoelectric substrate. A surface acoustic wave element formed on the outer side of the.
ることを特徴とする請求項1に記載の弾性表面波素子。2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the sound absorbing portion is made of a photosensitive polyimide resin.
性表面波素子の製造方法であって、前記吸音部をフォト
リソグラフィ法により前記圧電性基板の外側部に形成す
ることを特徴とする弾性表面波素子の製造方法。3. The method of manufacturing a surface acoustic wave device according to claim 1, wherein the sound absorbing portion is formed on an outer portion of the piezoelectric substrate by photolithography. And a method for manufacturing a surface acoustic wave device.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23287694A JPH0897673A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Surface acoustic wave element and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP23287694A JPH0897673A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Surface acoustic wave element and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0897673A true JPH0897673A (en) | 1996-04-12 |
Family
ID=16946226
Family Applications (1)
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JP23287694A Pending JPH0897673A (en) | 1994-09-28 | 1994-09-28 | Surface acoustic wave element and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0897673A (en) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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-
1994
- 1994-09-28 JP JP23287694A patent/JPH0897673A/en active Pending
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