JPH0896582A - Semiconductor device - Google Patents

Semiconductor device

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Publication number
JPH0896582A
JPH0896582A JP23137494A JP23137494A JPH0896582A JP H0896582 A JPH0896582 A JP H0896582A JP 23137494 A JP23137494 A JP 23137494A JP 23137494 A JP23137494 A JP 23137494A JP H0896582 A JPH0896582 A JP H0896582A
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JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor device
output
field effect
type field
memory cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP23137494A
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Japanese (ja)
Inventor
Masaaki Mihara
雅章 三原
Yoshikazu Miyawaki
好和 宮脇
Yasuhiko Tatewaki
恭彦 帶刀
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Mitsubishi Electric Corp filed Critical Mitsubishi Electric Corp
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Publication of JPH0896582A publication Critical patent/JPH0896582A/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain a high speed sense-amplifier. CONSTITUTION: In this device, a sense-amplifier is constituted so that a bit line is charged to a certain precharge potential by applying a negative feedback while inputting the potential of the bit line to an inverter at the time of precharging a memory cell connected to the bit line and while impressing the output of the inverter to an N type field effect transistor M1 for precharge. The difference between achieved potentials of the bit line of the ON time and the OFF time of the memory cell is amplified by an inverter INV1 consisting of an N type field effect transistor M3 and a resistor element R1 and applying the negative feedback to be outputted to an output node SOUT1. A sense operation is finished in conjunction with the completion of the precharge by making this output the output of the sense-amplifier.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は半導体装置に関し、特
に、センスアンプに用いられる半導体装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device, and more particularly to a semiconductor device used for a sense amplifier.

【0002】[0002]

【従来の技術】図7は、従来の一般的に知られているセ
ンスアンプに用いられる半導体装置の回路図である。
2. Description of the Related Art FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor device used for a conventional and generally known sense amplifier.

【0003】図7において、センスアンプに用いられる
半導体装置は、インバータINV7と、N型電界効果ト
ランジスタM1、M2と、抵抗素子R2とを含む。イン
バータINV7は、さらに、N型電界効果トランジスタ
M3と、抵抗素子R1とを含む。
In FIG. 7, the semiconductor device used for the sense amplifier includes an inverter INV7, N-type field effect transistors M1 and M2, and a resistance element R2. Inverter INV7 further includes an N-type field effect transistor M3 and a resistance element R1.

【0004】抵抗素子R1の一方端子と、N型電界効果
トランジスタM1のソースと、抵抗素子R2の一方端子
は電源電圧Vccに接続され、N型電界効果トランジス
タM3のドレインは接地されている。
One terminal of the resistance element R1, the source of the N-type field effect transistor M1 and one terminal of the resistance element R2 are connected to the power supply voltage Vcc, and the drain of the N-type field effect transistor M3 is grounded.

【0005】ノード79で、N型電界効果トランジスタ
M1およびM2のゲートと、N型電界効果トランジスタ
M3のソースと、抵抗素子R1とが接続され、ノード8
1でN型電界効果トランジスタM1およびM2のドレイ
ンと、N型電界効果トランジスタM3のゲートと、端子
BLとが接続されている。ここで、端子BLは、ビット
線を介して図7に図示されていないメモリセルに接続さ
れている。出力ノードSOUT7で、N型電界効果トラ
ンジスタM2のソースと、抵抗素子R2とが接続されて
いる。
At node 79, the gates of N-type field effect transistors M1 and M2, the source of N-type field effect transistor M3, and resistance element R1 are connected, and node 8 is connected.
1, the drains of the N-type field effect transistors M1 and M2, the gate of the N-type field effect transistor M3, and the terminal BL are connected. Here, the terminal BL is connected to a memory cell not shown in FIG. 7 via a bit line. At the output node SOUT7, the source of the N-type field effect transistor M2 and the resistance element R2 are connected.

【0006】次に動作を説明する。まず、電源電圧Vc
cによりN型電界効果トランジスタM1、M2を通して
ビット線をプリチャージする。この際、インバータIN
V7によって負帰還をかけることにより、ビット線は電
源電圧よりも低いある電位で一定となる。電位が一定と
なった後、ビット線に接続されたメモリセルを介して電
流が流れていれば、その電流の一部が抵抗素子R2を通
り、その際に引起こす電圧降下によって出力ノードSO
UT7の電位が低下する。メモリセルを介して電流が流
れなければ出力ノードSOUT7の電位は高いままであ
る。したがって、メモリセルから情報を読出すことがで
きる。
Next, the operation will be described. First, the power supply voltage Vc
The bit line is precharged through the N-type field effect transistors M1 and M2 by c. At this time, the inverter IN
By applying negative feedback with V7, the bit line becomes constant at a certain potential lower than the power supply voltage. If a current is flowing through the memory cell connected to the bit line after the potential becomes constant, a part of the current passes through the resistance element R2 and the voltage drop caused at that time causes the output node SO
The potential of UT7 drops. If no current flows through the memory cell, the potential of the output node SOUT7 remains high. Therefore, information can be read from the memory cell.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図7の
センスアンプに用いられる半導体装置においては、セン
ス動作はビット線をプリチャージして、しかる後にメモ
リセルを介して流れる微小な電流の、さらにその一部を
もって抵抗素子R2と図7に図示されていない外部負荷
容量からなる負荷を駆動して始めてメモリセルのオン・
オフが検知されるため、センスに時間がかかるという問
題点があった。
However, in the semiconductor device used for the sense amplifier of FIG. 7, the sense operation precharges the bit line, and then the minute current flowing through the memory cell is further reduced. The memory cell is turned on for the first time by driving a load consisting of a resistance element R2 and an external load capacitance not shown in FIG.
Since the off state is detected, there is a problem that it takes time to sense.

【0008】本発明は以上のような問題点を解決するた
めになされたもので、高速なセンスアンプを得ることを
目的とする。
The present invention has been made to solve the above problems, and an object thereof is to obtain a high-speed sense amplifier.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1の半導
体装置は、ビット線に接続されたメモリセルの電位をビ
ット線電位により検出する半導体装置であって、ビット
線に所定のメモリセルのプリチャージ用電位を印加する
印加手段と、印加された電位に応じた検出信号を入力
し、その反転信号を半導体の出力として出力する出力手
段と、反転信号によりメモリセルの電位を制御する制御
手段とを設けたものである。
A semiconductor device according to claim 1 of the present invention is a semiconductor device for detecting a potential of a memory cell connected to a bit line by a potential of the bit line, wherein a predetermined memory cell is provided on the bit line. Applying means for applying the precharge potential, output means for inputting a detection signal corresponding to the applied potential and outputting an inverted signal thereof as the output of the semiconductor, and control for controlling the potential of the memory cell by the inverted signal And means are provided.

【0010】本発明の請求項2の半導体装置は、請求項
1の半導体装置において、上記印加手段に、所定のメモ
リセルのプリチャージ用電位を継続的に供給する供給手
段をさらに設けたものである。
A semiconductor device according to a second aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first aspect, further comprising a supplying means for continuously supplying a precharge potential of a predetermined memory cell to the applying means. is there.

【0011】本発明の請求項3の半導体装置は、請求項
1の半導体装置において、反転信号を増幅する手段をさ
らに設けたものである。
A semiconductor device according to a third aspect of the present invention is the semiconductor device according to the first aspect, further comprising means for amplifying the inverted signal.

【0012】本発明の請求項4の半導体装置は、請求項
3の半導体装置において、半導体装置は対を構成し、対
の一方はメモリセルに接続され、対の他方はダミーセル
に接続され、上記対の半導体装置それぞれに接続され、
それぞれの出力の差を増幅する差動増幅手段をさらに設
けたものである。
A semiconductor device according to a fourth aspect of the present invention is the semiconductor device according to the third aspect, wherein the semiconductor devices form a pair, one of the pair is connected to the memory cell, and the other of the pair is connected to the dummy cell. Connected to each pair of semiconductor devices,
Differential amplification means for amplifying the difference between the outputs is further provided.

【0013】[0013]

【作用】本発明の請求項1の半導体装置においては、ビ
ット線に所定のメモリセルのプリチャージ用電位が印加
され、その印加された電位に応じた検出信号が入力さ
れ、その反転信号は上記半導体装置の出力として出力さ
れ、また、反転信号によりメモリセルの電位を制御する
ので、負帰還をかけるインバータが構成され、そのイン
バータから出力された反転信号は、プリチャージ終了時
のメモリセルのオン時とオフ時のビット線の到達電位の
差が増幅されたものとなる。
In the semiconductor device according to the first aspect of the present invention, the precharge potential of a predetermined memory cell is applied to the bit line, the detection signal corresponding to the applied potential is input, and the inverted signal thereof is the above-mentioned. Since it is output as the output of the semiconductor device and the potential of the memory cell is controlled by the inversion signal, an inverter for negative feedback is configured, and the inversion signal output from the inverter is used to turn on the memory cell at the end of precharge. The difference between the reaching potential of the bit line at the time of turning off and that at turning off is amplified.

【0014】本発明の請求項2の半導体装置において
は、請求項1の半導体装置において、メモリセルのプリ
チャージ用電位が継続的に供給されて印加されるので、
プリチャージ終了時のメモリセルのオン時とオフ時のビ
ット線の到達電位の差をより大きくすることができる。
According to a second aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, the precharge potential of the memory cell is continuously supplied and applied.
It is possible to further increase the difference in the reaching potential of the bit line when the memory cell is turned on and when it is turned off at the end of precharge.

【0015】本発明の請求項3の半導体装置において
は、請求項1の半導体装置において、反転信号が増幅さ
れるので、プリチャージ終了時のメモリセルのオン時と
オフ時のビット線の到達電位の差がさらに増幅されたも
のとなる。
According to a third aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the first aspect, since the inverted signal is amplified, the reaching potential of the bit line at the time of turning on and off the memory cell at the end of precharge. The difference is further amplified.

【0016】本発明の請求項4の半導体装置において
は、請求項3の半導体装置において、半導体装置が対を
構成し、対の一方はメモリセルに接続され、対の他方は
ダミーセルに接続され、上記対の半導体装置それぞれに
接続され、それぞれの出力の差が増幅されるので、プリ
チャージ終了時のメモリセルのオン時とオフ時のビット
線の到達電位の差がさらに増幅されたものとなり、ま
た、パラメータ変動の影響が相殺される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the semiconductor device according to the third aspect, the semiconductor devices form a pair, one of the pair is connected to the memory cell, and the other of the pair is connected to the dummy cell. Since the difference between the outputs of the semiconductor devices connected to the pair of semiconductor devices is amplified, the difference between the reaching potentials of the bit lines at the time of turning on and off the memory cells at the end of precharge is further amplified, In addition, the effect of parameter variation is offset.

【0017】[0017]

【実施例】【Example】

(1)第1実施例 図1は、本発明のセンスアンプに用いられる半導体装置
の第1実施例を示した回路図である。
(1) First Embodiment FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【0018】図1において、センスアンプに用いられる
半導体装置1は、インバータINV1と、N型電界効果
トランジスタM1とを含む。インバータINV1は、さ
らに、N型電界効果トランジスタM3と抵抗素子R1と
を含む。
In FIG. 1, the semiconductor device 1 used for the sense amplifier includes an inverter INV1 and an N-type field effect transistor M1. Inverter INV1 further includes an N-type field effect transistor M3 and a resistance element R1.

【0019】N型電界効果トランジスタM1のソース
と、抵抗素子R1の一方端子は電源電圧Vccに接続さ
れ、N型電界効果トランジスタM3のドレインは接地さ
れている。
The source of the N-type field effect transistor M1 and one terminal of the resistance element R1 are connected to the power supply voltage Vcc, and the drain of the N-type field effect transistor M3 is grounded.

【0020】ノード107でN型電界効果トランジスタ
M1のドレインとN型電界効果トランジスタM3のゲー
トと端子BLが接続されている。ここで、端子BLは、
ビット線を介してメモリセルに接続されている。出力ノ
ードSOUT1で、N型電界効果トランジスタM1のゲ
ートと抵抗素子R1が接続されている。
At the node 107, the drain of the N-type field effect transistor M1 and the gate of the N-type field effect transistor M3 are connected to the terminal BL. Here, the terminal BL is
It is connected to the memory cell via a bit line. At the output node SOUT1, the gate of the N-type field effect transistor M1 and the resistance element R1 are connected.

【0021】次に動作を説明する。N型電界効果トラン
ジスタM1を通して、端子101から電源電圧がメモリ
セルのプリチャージ用電圧としてビット線に印加され
る。そして、プリチャージ終了時のメモリセルのオン時
とオフ時のビット線の到達電位の差が負帰還をかけるた
めのインバータINV1により増幅され、インバータI
NV1の出力として出力ノードSOUT1から出力され
る。
Next, the operation will be described. A power supply voltage is applied from the terminal 101 to the bit line as a precharge voltage for the memory cell through the N-type field effect transistor M1. Then, the difference in the reaching potential of the bit line when the memory cell is turned on and when it is turned off at the end of the precharge is amplified by the inverter INV1 for applying the negative feedback, and the inverter IV1.
It is output from the output node SOUT1 as the output of NV1.

【0022】したがって、その出力をセンスアンプの出
力とすれば、メモリセルのプリチャージの終了とともに
センス動作が完了する高速なセンスアンプを得ることが
できる。
Therefore, by using the output of the sense amplifier as the output of the sense amplifier, it is possible to obtain a high-speed sense amplifier in which the sensing operation is completed when the precharge of the memory cell is completed.

【0023】ここで、上記抵抗素子R1には、トランジ
スタ負荷を用いることもできる。 (2)第2実施例 図2は、本発明のセンスアンプに用いられる半導体装置
の第2実施例を示した回路図である。
Here, a transistor load may be used for the resistance element R1. (2) Second Embodiment FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【0024】図2において、半導体装置2は、インバー
タINV2とN型電界効果トランジスタM1、M2とを
含む。インバータINV2は、さらに、N型電界効果ト
ランジスタM3と抵抗素子R1、R3とを含む。
In FIG. 2, the semiconductor device 2 includes an inverter INV2 and N-type field effect transistors M1 and M2. The inverter INV2 further includes an N-type field effect transistor M3 and resistance elements R1 and R3.

【0025】N型電界効果トランジスタM1のソース
と、N型電界効果トランジスタM2のソースと、抵抗素
子R1の一方端子は電源電圧Vccに接続され、N型電
界効果トランジスタM3のドレインは接地されている。
The source of the N-type field effect transistor M1, the source of the N-type field effect transistor M2, and one terminal of the resistance element R1 are connected to the power supply voltage Vcc, and the drain of the N-type field effect transistor M3 is grounded. .

【0026】ノード119で、N型電界効果トランジス
タM1のゲート抵抗素子R1とR3とが接続され、ノー
ド121で、N型電界効果トランジスタM1およびM2
のドレインとN型電界効果トランジスタM3のゲートと
端子BLとが接続されている。ここで、端子BLはビッ
ト線を介してメモリセルに接続されている。出力ノード
SOUT2で、N型電界効果トランジスタM2のゲート
とN型電界効果トランジスタM3のソースと抵抗素子R
3とが接続されている。
At node 119, gate resistance elements R1 and R3 of N-type field effect transistor M1 are connected, and at node 121, N-type field effect transistors M1 and M2.
Of the N-type field effect transistor M3 is connected to the terminal BL. Here, the terminal BL is connected to the memory cell via a bit line. At the output node SOUT2, the gate of the N-type field effect transistor M2, the source of the N-type field effect transistor M3, and the resistance element R
3 and 3 are connected.

【0027】次に動作を説明する。N型電界効果トラン
ジスタM1、M2を通して、第1実施例の場合と同様に
してビット線をプリチャージする。しかし、このとき、
N型電界効果トランジスタM2がオフしてからもN型電
界効果トランジスタM1を通してさらにプルアップする
ことにより、メモリセルのオン時とオフ時のビット線の
到達電位の差を大きくすることができる。その到達電位
の差が負帰還をかけるインバータINV2によって増幅
され、出力ノードSOUT2から出力される。
Next, the operation will be described. The bit lines are precharged through the N-type field effect transistors M1 and M2 in the same manner as in the first embodiment. But at this time,
Even after the N-type field effect transistor M2 is turned off, pulling up is further performed through the N-type field effect transistor M1 to increase the difference in the reaching potential of the bit line when the memory cell is on and when the memory cell is off. The difference in the reaching potential is amplified by the inverter INV2 that applies negative feedback, and is output from the output node SOUT2.

【0028】したがって、メモリセルのプリチャージ用
N型電界効果トランジスタをN型電界効果トランジスタ
M1、M2のように2つ設けて、それぞれをインバータ
INV2で抵抗素子R1、R2によりしきい値を変えて
別々に制御することにより、その出力であるビット線の
到達電位の差をより大きくし、センスアンプの出力とす
れば、センス動作がさらに容易なメモリセルのプリチャ
ージの終了とともにセンス動作が完了する高速なセンス
アンプを得ることができる。
Therefore, two N-type field effect transistors for precharging the memory cell are provided like the N-type field effect transistors M1 and M2, and the threshold value is changed by the resistance elements R1 and R2 in the inverter INV2. By controlling separately, the difference in the reaching potential of the bit line, which is the output thereof, can be made larger, and if it is used as the output of the sense amplifier, the sense operation is completed with the end of the precharge of the memory cell in which the sense operation is easier. A high-speed sense amplifier can be obtained.

【0029】ここで、上記抵抗素子R1、R2はトラン
ジスタ負荷を用いることもできる。 (3)第3実施例 図3は、本発明のセンスアンプに用いられる半導体装置
の第3実施例を示した回路図である。
Here, the resistance elements R1 and R2 may be transistor loads. (3) Third Embodiment FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【0030】図3において、センスアンプに用いられる
半導体装置は、第1実施例における半導体装置1と同じ
2つの半導体装置、半導体装置1、1′と差動増幅回路
OPAを含む。
In FIG. 3, the semiconductor device used for the sense amplifier includes the same two semiconductor devices as the semiconductor device 1 in the first embodiment, semiconductor devices 1 and 1 ', and a differential amplifier circuit OPA.

【0031】半導体装置1′のインバータINV1′、
および電界効果トランジスタM11、M31、および抵
抗素子R11、および端子DBL、およびノード13
7、および出力ノードSOUT1′は、それぞれ第1実
施例の半導体装置1のインバータINV1、および電界
効果トランジスタM1、M3、および抵抗素子R1、お
よび端子BL、およびノード107、および出力ノード
SOUT1に対応し、その接続関係および動作は第1実
施例と同様である。
The inverter INV1 'of the semiconductor device 1',
And field effect transistors M11 and M31, resistance element R11, terminal DBL, and node 13
7 and the output node SOUT1 'correspond to the inverter INV1, the field effect transistors M1 and M3, the resistance element R1, the terminal BL, the node 107, and the output node SOUT1 of the semiconductor device 1 of the first embodiment, respectively. The connection relationship and operation are similar to those in the first embodiment.

【0032】半導体装置1′の端子DBLにはダミーセ
ルが接続されており、出力ノードSOUT1′からは、
ある基準電位が発生する。
A dummy cell is connected to the terminal DBL of the semiconductor device 1 ', and from the output node SOUT1',
A certain reference potential is generated.

【0033】プリチャージ終了時のメモリセルのオン時
とオフ時の端子BLの到達電位の差が、半導体装置1に
より増幅されて出力され、その出力が差動増幅回路OP
Aの非反転入力端子+に入力され、また、半導体装置
1′の出力ノードSOUT1′からの出力が差動増幅回
路OPAの反転入力端子−に入力されて、差動増幅回路
OPAの出力ノードSOUT3からは増幅されたビット
線の到達電位の差がさらにに差動増幅されて出力され
る。
The difference in the reaching potential of the terminal BL when the memory cell is turned on and when it is turned off at the end of the precharge is amplified by the semiconductor device 1 and output, and the output is the differential amplifier circuit OP.
A is input to the non-inverting input terminal + of A, and the output from the output node SOUT1 ′ of the semiconductor device 1 ′ is input to the inverting input terminal − of the differential amplifier circuit OPA to output node SOUT3 of the differential amplifier circuit OPA. The differential of the reaching potential of the bit line thus amplified is further differentially amplified and output.

【0034】したがって、同形の半導体装置1、1′を
対照的に用いることによりパラメータ変動の影響が相殺
されるので、パラメータ変動が小さい。また、半導体装
置1、1′の各インバータの出力をセンスアンプの出力
として、さらに、差動増幅回路OPAを用いてその出力
を増幅するだけなので、プリチャージの終了後すぐにセ
ンス動作が完了する高速なセンスアンプを得ることがで
きる。
Therefore, by using the semiconductor devices 1 and 1'of the same shape in contrast, the influence of the parameter variation is canceled out, and the parameter variation is small. Further, since the output of each inverter of the semiconductor devices 1 and 1'is used as the output of the sense amplifier and the output is simply amplified by using the differential amplifier circuit OPA, the sense operation is completed immediately after the end of the precharge. A high-speed sense amplifier can be obtained.

【0035】ここで、上記抵抗素子R1、R11には、
トランジスタ負荷を用いることもできる。
Here, the resistance elements R1 and R11 are
A transistor load can also be used.

【0036】上記半導体装置1、1′の出力をクロスカ
ップル型のセンスアンプで受ける構成も可能である。
A configuration is also possible in which the output of the semiconductor device 1, 1'is received by a cross-couple type sense amplifier.

【0037】図4は、図3の第3実施例の半導体装置に
おいて、半導体装置1、1′を、第2実施例の半導体装
置と同じ2つの半導体装置2、2′に置換えた回路図で
ある。
FIG. 4 is a circuit diagram in which, in the semiconductor device of the third embodiment shown in FIG. 3, the semiconductor devices 1, 1'are replaced by the same two semiconductor devices 2, 2'as the semiconductor device of the second embodiment. is there.

【0038】図4において、半導体装置2′のインバー
タINV2′、および電界効果トランジスタM11、M
21、M31、および抵抗素子R11、R31、および
端子DBL、およびノード149、151、および出力
ノードSOUT2′は、それぞれ第2実施例の半導体装
置2のインバータINV2、および電界効果トランジス
タM1、M2、M3、および抵抗素子R1、R3、およ
び端子BL、およびノード119、121、および出力
ノードSOUT2に対応し、半導体装置2′の接続関係
および動作は第2実施例の半導体装置2と同様である。
In FIG. 4, the inverter INV2 'of the semiconductor device 2'and the field effect transistors M11, M are shown.
21 and M31, the resistance elements R11 and R31, the terminal DBL, the nodes 149 and 151, and the output node SOUT2 ′ are the inverter INV2 and the field effect transistors M1, M2, and M3 of the semiconductor device 2 of the second embodiment, respectively. , And the resistance elements R1 and R3, the terminal BL, the nodes 119 and 121, and the output node SOUT2, and the connection relation and operation of the semiconductor device 2 ′ are similar to those of the semiconductor device 2 of the second embodiment.

【0039】半導体装置2′の端子DBLにはダミーセ
ルが接続されており、出力ノードSOUT2′からはあ
る基準電位が発生する。
A dummy cell is connected to the terminal DBL of the semiconductor device 2 ', and a certain reference potential is generated from the output node SOUT2'.

【0040】プリチャージ終了時のメモリセルのオン時
とオフ時の端子BLの到達電位の差が半導体装置2によ
り増幅されて出力ノードSOUT2から出力され、その
出力が差動増幅回路OPAの非反転入力端子+に入力さ
れ、また半導体装置2′の出力ノードSOUT2′から
の出力は差動増幅回路OPAの反転入力端子−に入力さ
れて、差動増幅回路OPAの出力ノードSOUT4から
は増幅されたビット線の到達電位の差がさらに増幅され
て出力される。したがって、同形の半導体装置1、1′
を対照的に用いるとこによりパラメータ変動の影響が相
殺されるので、パラメータ変動が小さい。また、半導体
装置2、2′のインバータの出力をセンスアンプの出力
とし、さらに、差動増幅回路OPAを用いてその出力を
増幅するだけなので、プリチャージの終了後すぐにセン
ス動作が完了する高速なセンスアンプを得ることができ
る。その際、半導体装置2、2′を用いたときのほうが
ビット線の到達電位の差が大きくされているので、半導
体装置1、1′を用いたときよりもそのセンス動作が容
易となっている。
The difference in the reaching potential of the terminal BL when the memory cell is turned on and when it is turned off at the end of precharge is amplified by the semiconductor device 2 and output from the output node SOUT2, and the output is non-inverted by the differential amplifier circuit OPA. The output from the output node SOUT2 ′ of the semiconductor device 2 ′ is input to the inverting input terminal − of the differential amplifier circuit OPA and amplified from the output node SOUT4 of the differential amplifier circuit OPA. The difference between the reaching potentials of the bit lines is further amplified and output. Therefore, the semiconductor devices 1, 1'of the same shape
In contrast, the effect of the parameter variation is canceled by the use of, so that the parameter variation is small. Further, since the output of the inverter of the semiconductor device 2, 2'is used as the output of the sense amplifier and the output is simply amplified by using the differential amplifier circuit OPA, the sense operation is completed at a high speed immediately after the end of the precharge. You can get a good sense amplifier. At that time, since the difference in the reaching potential of the bit line is larger when the semiconductor devices 2 and 2'are used, the sensing operation is easier than when the semiconductor devices 1 and 1'are used. .

【0041】ここで、上記抵抗素子R1、R3、R1
1、R31は、トランジスタ負荷を用いることもでき
る。
Here, the resistance elements R1, R3, R1
A transistor load can be used for 1 and R31.

【0042】上記半導体装置2、2′の出力をクロスカ
ップル型のセンスアンプで受ける構成も可能である。 (4)第4実施例 図5は、本発明のセンスアンプに用いられる半導体装置
の第4実施例を示した回路図である。
A configuration is also possible in which the output of the semiconductor device 2, 2'is received by a cross-couple type sense amplifier. (4) Fourth Embodiment FIG. 5 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【0043】図5において、半導体装置は、第1実施例
における半導体装置と同じ2つの半導体装置、半導体装
置1、1′とカレントミラー負荷を用いた回路Cを含
む。ここで、カレントミラー負荷を用いた回路Cは差動
増幅回路を実現するものとして使用されている。
In FIG. 5, the semiconductor device includes the same two semiconductor devices as those in the first embodiment, semiconductor devices 1 and 1 ', and a circuit C using a current mirror load. Here, the circuit C using the current mirror load is used to realize a differential amplifier circuit.

【0044】半導体装置1、1′は、第3実施例の半導
体装置1、1′と同じものであり、その接続関係および
動作は第3実施例と同様である。
The semiconductor devices 1 and 1'are the same as the semiconductor devices 1 and 1'of the third embodiment, and their connection relationship and operation are the same as those of the third embodiment.

【0045】カレントミラー負荷を用いた回路Cは、N
型電界効果トランジスタM41、M43、P型電界効果
トランジスタM45、M47とを含む。
The circuit C using the current mirror load is
Type field effect transistors M41, M43 and P type field effect transistors M45, M47.

【0046】カレントミラー負荷を用いた回路Cにおい
て、ノード167で、P型電界効果トランジスタM45
およびM47のソースが接続され、電源電圧Vccに接
続されている。ノード169で、P型電界効果トランジ
スタM45のゲートおよびドレインとP型電界効果トラ
ンジスタM47のゲートとN型電界効果トランジスタM
41のソースが接続されている。ノード171で、N型
電界効果トランジスタM41およびM43のドレインと
端子165とが接続され、接地されている。
In the circuit C using the current mirror load, the P-type field effect transistor M45 is provided at the node 167.
And the sources of M47 are connected to the power supply voltage Vcc. At node 169, the gate and drain of P-type field effect transistor M45, the gate of P-type field effect transistor M47, and N-type field effect transistor M
41 sources are connected. At the node 171, the drains of the N-type field effect transistors M41 and M43 are connected to the terminal 165 and are grounded.

【0047】半導体装置1の出力ノードSOUT1は、
N型電界効果トランジスタM41のゲートに接続され、
半導体装置1′の出力ノードSOUT1′は、N型電界
効果トランジスタM43のゲートに接続されている。出
力ノードSOUT5で、N型電界効果トランジスタM4
3のソースとP型電界効果トランジスタM47のドレイ
ンとが接続されている。
The output node SOUT1 of the semiconductor device 1 is
Connected to the gate of an N-type field effect transistor M41,
The output node SOUT1 'of the semiconductor device 1'is connected to the gate of the N-type field effect transistor M43. At the output node SOUT5, the N-type field effect transistor M4
3 is connected to the drain of the P-type field effect transistor M47.

【0048】電源電圧Vccが印加されると、P型電界
効果トランジスタM45とM47とを通して、ノード1
69と出力ノードSOUT5は電源電圧Vccと同電位
となる。これにより、P型電界効果トランジスタM45
とM47のゲートにもこの電源電圧Vccと同じ電圧が
印加され、P型電界効果トランジスタM45とM47
は、非導通状態となる。
When the power supply voltage Vcc is applied, the node 1 passes through the P-type field effect transistors M45 and M47.
69 and the output node SOUT5 have the same potential as the power supply voltage Vcc. Thereby, the P-type field effect transistor M45
The same voltage as the power supply voltage Vcc is applied to the gates of the P-type field effect transistors M45 and M47.
Becomes non-conductive.

【0049】ここで、プリチャージ終了時のメモリセル
のオン時とオフ時の端子BLの到達電位の差が半導体装
置1により増幅されて出力ノードSOUT1から出力さ
れ、また、ある基準電位が半導体装置1′の出力ノード
SOUT1′から出力されている。
Here, the difference in the reaching potential of the terminal BL at the time of turning on and off of the memory cell at the end of the precharge is amplified by the semiconductor device 1 and output from the output node SOUT1, and a certain reference potential is also applied to the semiconductor device. It is output from the 1'output node SOUT1 '.

【0050】N型電界効果トランジスタM41のゲート
には半導体装置1の出力ノードSOUT1からの出力電
圧が、N型電界効果トランジスタM43のゲートには半
導体装置1′の出力ノードSOUT1′からの出力電圧
がそれぞれ印加されるので、その電位の大きな応じてN
型電界効果トランジスタM41とM43のそれぞれの導
通状態が変わり、出力ノードSOUT5からは、増幅さ
れたビット線の到達電位の差がさらに増幅されて出力さ
れる。
The output voltage from the output node SOUT1 of the semiconductor device 1 is applied to the gate of the N-type field effect transistor M41, and the output voltage from the output node SOUT1 'of the semiconductor device 1'is applied to the gate of the N-type field effect transistor M43. Since each voltage is applied, N
The conduction states of the field effect transistors M41 and M43 are changed, and the difference in the reached potential of the amplified bit line is further amplified and output from the output node SOUT5.

【0051】したがって、同形の半導体装置1、1′を
対照的に用いることにより、パラメータ変動の影響が相
殺されるので、パラメータ変動が小さい。また、半導体
装置1、1′のインバータの出力をセンスアンプの出力
とし、さらに、カレントミラー負荷を用いた回路Cを用
いてその出力を増幅するだけなので、プリチャージの終
了後すぐにセンス動作が完了する高速なセンスアンプを
得ることができる。
Therefore, by using the semiconductor devices 1 and 1 ′ having the same shape in contrast, the influence of the parameter fluctuation is canceled out, so that the parameter fluctuation is small. Further, the output of the inverter of the semiconductor device 1 or 1'is used as the output of the sense amplifier, and the output is simply amplified by using the circuit C using the current mirror load. Therefore, the sense operation is performed immediately after the end of the precharge. A high-speed sense amplifier that completes can be obtained.

【0052】ここで、上記抵抗素子R1、R11には、
トランジスタ負荷を用いることもできる。
Here, the resistance elements R1 and R11 are
A transistor load can also be used.

【0053】上記半導体装置1、1′の出力をクロスカ
ップル型のセンスアンプで受ける構成も可能である。
A configuration is also possible in which the output of the semiconductor device 1, 1'is received by a cross-couple type sense amplifier.

【0054】図6は、図5の第4実施例の半導体装置に
おいて、半導体装置1、1′を第2実施例の半導体装置
と同じ2つの半導体装置2、2′に置換えた回路図であ
る。
FIG. 6 is a circuit diagram in which, in the semiconductor device of the fourth embodiment of FIG. 5, the semiconductor devices 1, 1'are replaced by the same two semiconductor devices 2, 2'as the semiconductor device of the second embodiment. .

【0055】図6において、半導体装置2、2′の接続
関係および動作は第3実施例と同様である。
In FIG. 6, the connection relationship and operation of the semiconductor devices 2 and 2'are the same as in the third embodiment.

【0056】半導体装置2′の端子DBLにはダミーセ
ルが接続されており、出力ノードSOUT2′からはあ
る基準電位が発生する。
A dummy cell is connected to the terminal DBL of the semiconductor device 2 ', and a certain reference potential is generated from the output node SOUT2'.

【0057】半導体装置2の出力ノードSOUT2は、
N型電界効果トランジスタM41のゲートに接続され、
半導体装置2′の出力ノードSOUT2′は、N型電界
効果トランジスタM43のゲートに接続されている。出
力ノードSOUT6で、N型電界効果トランジスタM4
3のソースとP型電界効果トランジスタM47のドレイ
ンとが接続されている。
The output node SOUT2 of the semiconductor device 2 is
Connected to the gate of an N-type field effect transistor M41,
The output node SOUT2 'of the semiconductor device 2'is connected to the gate of the N-type field effect transistor M43. At the output node SOUT6, the N-type field effect transistor M4
3 is connected to the drain of the P-type field effect transistor M47.

【0058】端子163から電源電圧Vccが印加され
ると、図5の例と同様に、P型電界効果トランジスタM
45とM47とを通して、ノード169と出力ノードS
OUT6は電源電圧Vccと同電位となる。これによ
り、P型電界効果トランジスタM45とM47のゲート
にもこの電源電圧Vccと同じ電圧が印加され、P型電
界効果トランジスタM45とM47は非導通状態とな
る。
When the power supply voltage Vcc is applied from the terminal 163, as in the example of FIG.
45 and M47 through node 169 and output node S
OUT6 has the same potential as the power supply voltage Vcc. As a result, the same voltage as the power supply voltage Vcc is applied to the gates of the P-type field effect transistors M45 and M47, and the P-type field effect transistors M45 and M47 are turned off.

【0059】ここで、プリチャージ終了時のメモリセル
のオン時のオフ時の端子BLの到達電位の差が半導体装
置2により増幅されて出力ノードSOUT2から出力さ
れ、また、ある基準電位が半導体装置2′の出力ノード
SOUT2′から出力されている。
Here, the difference in the reaching potential of the terminal BL at the time of turning on the memory cell at the end of precharge is amplified by the semiconductor device 2 and output from the output node SOUT2, and a certain reference potential is also applied to the semiconductor device. It is output from the 2'output node SOUT2 '.

【0060】N型電界効果トランジスタM41のゲート
には半導体装置2の出力ノードSOUT2からの出力電
圧が、N型電界効果トランジスタM43のゲートには半
導体装置2′の出力ノードSOUT2′からの出力電圧
がそれぞれ印加されるので、その電位の大きさに応じて
N型電界効果トランジスタM41とM43のそれぞれの
導通状態が変わり、出力ノードSOUT6からは、ビッ
ト線の到達電位の差がさらに増幅されて出力される。そ
して、半導体装置2、2′を用いた場合のほうが半導体
装置1、1′を用いた場合よりもプリチャージ終了時の
メモリセルのオン時とオフ時の到達電位の差が大きいの
で、カレントミラー負荷を用いた回路Cによる増幅効果
も大きい。
The output voltage from the output node SOUT2 of the semiconductor device 2 is applied to the gate of the N-type field effect transistor M41, and the output voltage from the output node SOUT2 'of the semiconductor device 2'is applied to the gate of the N-type field effect transistor M43. Since each is applied, the conduction state of each of the N-type field effect transistors M41 and M43 changes according to the magnitude of the potential, and the difference between the reaching potentials of the bit lines is further amplified and output from the output node SOUT6. It Since the difference between the on-state and off-state reaching potentials of the memory cells at the end of precharge is larger when the semiconductor devices 2 and 2'are used than when the semiconductor devices 1 and 1'are used. The amplification effect by the circuit C using the load is also large.

【0061】したがって、同形の半導体装置2、2′を
対照的に用いることによりパラメータ変動の影響は相殺
されるので、パラメータの変動が小さい。また、半導体
装置2、2′のインバータの出力を半導体装置2、2′
の出力とし、さらに、カレントミラー負荷を用い回路C
を用いてその出力を増幅するだけなので、プリチャージ
の終了後すぐにセンス動作が完了する高速なセンスアン
プを得ることができる。その際、半導体装置1、1′を
用いたときよりもビット線の到達電位の差が大きいので
センス動作が容易となる。
Therefore, by using the same-shaped semiconductor devices 2 and 2'in contrast, the influence of the parameter variation is canceled out, and the parameter variation is small. In addition, the output of the inverter of the semiconductor device 2, 2'is converted into
Of the circuit C using the current mirror load.
Since the output is only amplified by using, it is possible to obtain a high-speed sense amplifier in which the sensing operation is completed immediately after the end of precharge. At that time, since the difference in the reaching potential of the bit line is larger than that when the semiconductor devices 1 and 1 ′ are used, the sensing operation becomes easier.

【0062】ここで、上記抵抗素子R1、R3、R1
1、R31は、トランジスタ負荷を用いることもでき
る。
Here, the resistance elements R1, R3, R1
A transistor load can be used for 1 and R31.

【0063】上記半導体装置2、2′の出力をクロスカ
ップル型のセンスアンプで受ける構成も可能である。
A configuration is also possible in which the output of the semiconductor device 2, 2'is received by a cross-couple type sense amplifier.

【0064】上記全実施例のN型およびP型電界効果ト
ランジスタを、それぞれP型およびN型電界効果トラン
ジスタに変えても、同様にして構成することができる。
Even if the N-type and P-type field effect transistors of all of the above-mentioned embodiments are replaced with P-type and N-type field effect transistors, the same construction can be achieved.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上のように本発明の請求項1の半導体
装置においては、ビット線に所定のメモリセルのプリチ
ャージ用電位が印加され、その印加された電位に応じた
検出信号が入力され、その反転信号が上記半導体の出力
として出力され、また、反転信号によりメモリセルの電
位を制御するので、負帰還をかけるインバータが構成さ
れ、そのインバータから出力された反転信号は、プリチ
ャージ終了時のメモリセルのオン時とオフ時のビット線
の到達電位の差が増幅されたものとなっている。
As described above, in the semiconductor device according to the first aspect of the present invention, the precharge potential of the predetermined memory cell is applied to the bit line, and the detection signal corresponding to the applied potential is input. , The inverted signal is output as the output of the semiconductor, and the potential of the memory cell is controlled by the inverted signal, so that an inverter for negative feedback is formed, and the inverted signal output from the inverter is output at the end of precharge. The difference in the reaching potential of the bit line when the memory cell is turned on and when it is turned off is amplified.

【0066】その結果、負帰還をかけるインバータの出
力をセンスアンプ出力として高速なセンスアンプを得る
ことができる。
As a result, a high-speed sense amplifier can be obtained by using the output of the inverter which applies the negative feedback as the sense amplifier output.

【0067】請求項2の半導体装置においては、請求項
1の半導体装置において、プリチャージ用電位が継続的
に供給され、印加されるので、メモリセルのオン時とオ
フ時のビット線の到達電位の差をより大きくすることが
できる。
According to the semiconductor device of claim 2, in the semiconductor device of claim 1, since the precharge potential is continuously supplied and applied, the reaching potential of the bit line when the memory cell is on and when it is off. The difference between can be made larger.

【0068】その結果、負帰還をかけるインバータの出
力をセンスアンプ出力として、センス動作が容易な高速
なセンスアンプを得ることができる。
As a result, it is possible to obtain a high-speed sense amplifier which facilitates the sensing operation by using the output of the inverter for negative feedback as the sense amplifier output.

【0069】請求項3の半導体装置においては、請求項
1の半導体装置において、反転信号が増幅されるので、
プリチャージ終了時のメモリセルのオン時とオフ時のビ
ット線の到達電位の差がさらに増幅されたものとなる。
In the semiconductor device according to claim 3, in the semiconductor device according to claim 1, since the inverted signal is amplified,
The difference in the reaching potential of the bit line when the memory cell is turned on and when the memory cell is turned off at the end of precharge is further amplified.

【0070】その結果、負帰還をかけるインバータの出
力を増幅したものをセンスアンプ出力として、さらにセ
ンス動作が容易な高速なセンスアンプを得ることができ
る。
As a result, it is possible to obtain a high-speed sense amplifier in which the sense operation is further facilitated by using, as the sense amplifier output, the one obtained by amplifying the output of the inverter which applies the negative feedback.

【0071】請求項4の半導体装置においては、請求項
3において、半導体装置が対を構成し、対の一方はメモ
リセルの接続され、対の他方はダミーセルに接続され、
上記対の半導体それぞれに接続され、それぞれの出力の
差が増幅されるので、プリチャージ終了時のメモリセル
のオン時とオフ時のビット線の到達電位の差がさらに増
幅されたものとなる。また、パラメーター変動の影響が
相殺される。
According to a fourth aspect of the present invention, in the third aspect, the semiconductor devices form a pair, one of the pair is connected to a memory cell, and the other of the pair is connected to a dummy cell.
Since the difference between the outputs of the semiconductors connected to each of the pair of semiconductors is amplified, the difference between the reaching potentials of the bit lines when the memory cell is on and when the precharge is completed is further amplified. Also, the effects of parameter variations are offset.

【0072】その結果、負帰還をかけるインバータの出
力を増幅したものをセンスアンプ出力として、センス動
作がさらに容易な、かつパラメータ変動が小さい高速な
センスアンプを得ることができる。
As a result, it is possible to obtain a high-speed sense amplifier in which the sense operation is further facilitated and the parameter variation is small, by using the amplified output of the inverter for negative feedback as the sense amplifier output.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明のセンスアンプに用いられる半導体装
置の第1実施例を示した回路図である。
FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor device used for a sense amplifier of the present invention.

【図2】 本発明のセンスアンプに用いられる半導体装
置の第2実施例を示した回路図である。
FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【図3】 本発明のセンスアンプに用いられる半導体装
置の第3実施例を示した回路図である。
FIG. 3 is a circuit diagram showing a third embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【図4】 本発明の図3のセンスアンプに用いられる半
導体装置において、半導体装置1、1′を第2実施例の
半導体装置と同じ2つの半導体装置2、2′に置換えた
回路図である。
4 is a circuit diagram in which, in the semiconductor device used in the sense amplifier of FIG. 3 of the present invention, the semiconductor devices 1 and 1'are replaced with the same two semiconductor devices 2 and 2'as the semiconductor device of the second embodiment. .

【図5】 本発明のセンスアンプに用いられる半導体装
置の第4実施例を示した回路図である。
FIG. 5 is a circuit diagram showing a fourth embodiment of the semiconductor device used in the sense amplifier of the present invention.

【図6】 本発明の図5のセンスアンプに用いられる半
導体装置において、半導体装置1、1′を第2実施例の
半導体装置と同じ2つの半導体装置2、2′に置換えた
回路図である。
6 is a circuit diagram in which, in the semiconductor device used in the sense amplifier of FIG. 5 of the present invention, the semiconductor devices 1 and 1'are replaced with the same two semiconductor devices 2 and 2'as the semiconductor device of the second embodiment. .

【図7】 従来の一般的に知られているセンスアンプに
用いられる半導体装置の回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram of a semiconductor device used for a conventional and generally known sense amplifier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1′,2,2′ センスアンプとして用いられる半
導体装置、M1,M2,M3,M11,M21,M3
1,M41,M43 N型電界効果トランジスタ、M4
5,M47 P型電界効果トランジスタ、R1,R3,
R11,R31抵抗素子、OPA 差動増幅回路、C
カレントミラー負荷を用いた回路、INV1,INV
1′,INV2,INV2′ インバータ。
Semiconductor devices used as 1,1 ', 2,2' sense amplifiers, M1, M2, M3, M11, M21, M3
1, M41, M43 N-type field effect transistor, M4
5, M47 P-type field effect transistor, R1, R3
R11, R31 resistance element, OPA differential amplifier circuit, C
Circuits using current mirror load, INV1, INV
1 ', INV2, INV2' inverter.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G11C 17/00 520 A (72)発明者 帶刀 恭彦 兵庫県伊丹市瑞原4丁目1番地 三菱電機 株式会社ユー・エル・エス・アイ開発研究 所内─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 6 Identification number Internal reference number FI Technical display location G11C 17/00 520 A (72) Inventor Yasuhiko Toto, 4-chome, Mizuhara, Itami-shi, Hyogo Mitsubishi Electric Corporation Company ULS Development Research Center

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 ビット線に接続されたメモリセルの電位
を前記ビット線の電位より検出する半導体装置であっ
て、 前記ビット線に所定のメモリセルのプリチャージ用電位
を印加する印加手段と、 印加された電位に応じた検出信号を入力し、その反転信
号を前記半導体装置の出力として出力する出力手段と、 前記反転信号により前記メモリセルのプリチャージ用電
位を制御する制御手段とを含む半導体装置。
1. A semiconductor device for detecting the potential of a memory cell connected to a bit line from the potential of the bit line, the applying device applying a precharge potential of a predetermined memory cell to the bit line, A semiconductor including an output unit for inputting a detection signal corresponding to the applied potential and outputting an inverted signal thereof as an output of the semiconductor device, and a control unit for controlling the precharge potential of the memory cell by the inverted signal. apparatus.
【請求項2】 前記印加手段は、前記所定のメモリセル
のプリチャージ用電位を継続的に供給する供給手段をさ
らに含む請求項1に記載の半導体装置。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the applying unit further includes a supplying unit that continuously supplies the precharge potential of the predetermined memory cell.
【請求項3】 前記反転信号を増幅する手段をさらに含
む請求項1に記載の半導体装置。
3. The semiconductor device according to claim 1, further comprising means for amplifying the inverted signal.
【請求項4】 前記半導体装置は対を構成し、前記対の
一方は前記メモリセルに接続され、前記対の他方はダミ
ーセルに接続され、 前記対の半導体装置それぞれに接続され、それぞれの出
力の差を増幅する差動増幅手段をさらに含む請求項3に
記載の半導体装置。
4. The semiconductor devices form a pair, one of the pair is connected to the memory cell, the other of the pair is connected to a dummy cell, and each of the semiconductor devices of the pair is connected to each of the output terminals. The semiconductor device according to claim 3, further comprising a differential amplifying unit that amplifies the difference.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
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