JPH0896421A - Optical card - Google Patents

Optical card

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Publication number
JPH0896421A
JPH0896421A JP6226331A JP22633194A JPH0896421A JP H0896421 A JPH0896421 A JP H0896421A JP 6226331 A JP6226331 A JP 6226331A JP 22633194 A JP22633194 A JP 22633194A JP H0896421 A JPH0896421 A JP H0896421A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
layer
protective layer
transparent protective
optical card
optical
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP6226331A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kubota
毅 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP6226331A priority Critical patent/JPH0896421A/en
Publication of JPH0896421A publication Critical patent/JPH0896421A/en
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Abstract

PURPOSE: To obtain an optical card not causing warpage or cracking due to bending and excellent in scuffing and wear resistances while using polycarbonate resin as the material of the transparent protective layer. CONSTITUTION: Polycarbonate resin is used as the material of a transparent protective layer 1 and a middle layer 6 of >=20μm thickness made of a radiation- curing resin having <=12% shrinkage is formed on the protective layer 1. Since the radiation-curing resin having <=12% shrinkage can suppress the warpage of the protective layer 1 even in the case of thick coating, coating in >=20μm thickness required to make the middle layer 6 independent of the under protective layer 1 at the time of a pencil hardness test is enabled and pencil hardness of H to 2H is ensured by coating in >=20μm thickness.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、クレジットカード、キ
ャッシュカード、医療カード等に使用される光カードに
関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical card used for credit cards, cash cards, medical cards and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、カード形態の記録メディアにおい
て、磁気カード、ICカードを上回る記憶容量を有する
光カードが開発されている。この光カードの記録方式に
は、読み出し専用(ROM)型、追記(DRAW)型、
消去書き込み(E−DRAW)型があり、それぞれにつ
いて記録媒体及び構成が検討されている。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a card-type recording medium, an optical card having a storage capacity larger than that of a magnetic card or an IC card has been developed. The recording method of this optical card includes a read-only (ROM) type, a write-once (DRAW) type,
There is an erasing and writing (E-DRAW) type, and a recording medium and a configuration are being studied for each.

【0003】このような光カードは基本的に図1に示す
如き層構成をしている。図中1は支持体としての透明保
護層であり、記録再生に使用する光源の波長域で透過率
が高く、且つ後工程において変形、劣化等を生じること
なく、また機械的強度、光学的特性を満たすものであれ
ば特に限定されるものではなく、一般にはポリカーボネ
ート樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹
脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリオレフィン樹脂、スチレ
ンポリカーボネートブレンド樹脂等が用いられている。
2は透明保護層1の下面に2P法で設けられるパターン
層であり、トラックとなる凹凸溝を備えて構成される。
3はパターン層2の凹凸溝を覆うように設けられる光記
録材料層であり、例えばDRAW型ではテルル、ビスマ
ス、アルミニウム等の低融点金属及びその合金からなる
無機系材料或いはアントラキノン系、ナフトキノン系、
トリフェニルメタン系、カルボシアニン系、メロシアニ
ン系、キサンテン系、アゾ系、アジン系、チアジン系、
オキサジン系、フタロシアニン系等の有機色素を含む有
機染料で一般に形成される。またROM型であればアル
ミニウム等の高反射性金属により予め情報を記録した形
で形成されている。4はカード基材であり、接着剤層5
を介して前記構成の光記録部材を支持するものである。
このように光カードは、表側の透明保護層1と裏側のカ
ード基材4により光記録材料層3を中に挟持した構造に
なっている。また、カードの携帯時や使用時において表
面に傷がつくことを防止し、カードの耐久性と書込み及
び読取り精度における信頼性の向上を図るようにするた
め、必要に応じて透明保護層1の表側に表面硬化層が設
けられる。そして、この表面硬化層は通常の場合、放射
線硬化型樹脂を用いて形成されることが多い。
Such an optical card basically has a layer structure as shown in FIG. In the figure, 1 is a transparent protective layer as a support, which has a high transmittance in the wavelength range of the light source used for recording and reproduction, and does not cause deformation or deterioration in the subsequent steps, and has a mechanical strength and an optical characteristic. There is no particular limitation as long as it satisfies the requirements, and generally, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polyvinyl chloride resin, a polyolefin resin, a styrene polycarbonate blend resin or the like is used.
Reference numeral 2 is a pattern layer provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 by the 2P method, and is provided with concave and convex grooves to be tracks.
Reference numeral 3 is an optical recording material layer provided so as to cover the concave and convex grooves of the pattern layer 2. For example, in the DRAW type, an inorganic material made of a low melting point metal such as tellurium, bismuth, or aluminum, and an alloy thereof, an anthraquinone-based material, a naphthoquinone-based material,
Triphenylmethane type, carbocyanine type, merocyanine type, xanthene type, azo type, azine type, thiazine type,
It is generally formed of an organic dye including an organic dye such as an oxazine-based or phthalocyanine-based dye. In the case of the ROM type, it is formed in a form in which information is recorded in advance by a highly reflective metal such as aluminum. 4 is a card substrate, and an adhesive layer 5
The optical recording member having the above-mentioned structure is supported via the.
As described above, the optical card has a structure in which the optical recording material layer 3 is sandwiched between the transparent protective layer 1 on the front side and the card base material 4 on the back side. In addition, in order to prevent the surface from being scratched when carrying or using the card, and to improve the durability of the card and the reliability of writing and reading accuracy, the transparent protective layer 1 may be used as necessary. The surface hardened layer is provided on the front side. The surface-cured layer is usually formed of a radiation-curable resin in most cases.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
で述べた如き光カードでは、光記録材料層の支持体であ
る透明保護層にポリカーボネート樹脂を使用することが
望まれる。すなわち、ポリカーボネート樹脂は低価格で
あり、吸水性がない上に、反りや割れを生じず曲げ適正
に優れる等の利点を有しているからである。しかしなが
ら、ポリカーボネート樹脂は擦り傷に対する硬度(鉛筆
硬度)が低いため、これを透明保護層に使用した場合に
は耐擦傷性を上げるために表面硬化層を設ける必要があ
る。この場合、収縮率の大きな通常の放射線硬化型樹脂
を用いて透明保護層上に表面硬化層を形成すると、放射
線による硬化時に収縮して反りが生じたり、さらには曲
げによる割れが発生する恐れのあることから、15μm
以上の厚みで形成することができない。このように表面
硬化層の厚みがせいぜい15μm程度では、鉛筆硬度試
験を行った時に下地の透明保護層の影響を受けてしま
い、F〜HB程度の硬度しか得られず、耐擦傷性が十分
となる硬度H以上の表面硬化層が得られないという問題
点がある。
By the way, in the optical card as described in the prior art, it is desired to use a polycarbonate resin for the transparent protective layer which is the support of the optical recording material layer. That is, the polycarbonate resin is low in price, has no water absorbency, and has advantages such as excellent bending suitability without warping or cracking. However, since the polycarbonate resin has a low hardness against scratches (pencil hardness), when it is used as a transparent protective layer, it is necessary to provide a surface-hardened layer in order to improve scratch resistance. In this case, when a surface-cured layer is formed on the transparent protective layer using a normal radiation-curable resin having a large shrinkage ratio, shrinkage and warpage may occur during curing by radiation, and further cracks due to bending may occur. 15 μm because there is
It cannot be formed with the above thickness. As described above, when the thickness of the surface-hardened layer is at most about 15 μm, it is affected by the underlying transparent protective layer when a pencil hardness test is performed, and only a hardness of F to HB is obtained, and the scratch resistance is sufficient. There is a problem that a surface hardened layer having a hardness of H or higher cannot be obtained.

【0005】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、透明保護
層にポリカーボネート樹脂を使用した光カードであっ
て、耐擦傷性に優れるとともに、反りが生じたり曲げに
よる割れを発生したりすることのない光カードを提供す
ることにある。
The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is an optical card using a polycarbonate resin for a transparent protective layer, which has excellent scratch resistance. The purpose of the present invention is to provide an optical card that does not warp or crack when bent.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る光カードは、少なくとも透明保護層と
光記録材料層を積層した光記録部材をカード基材上に貼
り合わせてなる光カードにおいて、前記透明保護層にポ
リカーボネート樹脂を使用するとともに、収縮率12%
以下の放射線硬化型樹脂からなる厚さ20μm以上の表
面硬化層を前記透明保護層上に設けて構成される。
In order to achieve the above object, an optical card according to the present invention is an optical card obtained by laminating an optical recording member having at least a transparent protective layer and an optical recording material layer laminated on a card base material. In the card, a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer, and the shrinkage rate is 12%.
A surface-cured layer having a thickness of 20 μm or more made of the following radiation-curable resin is provided on the transparent protective layer.

【0007】[0007]

【作用】収縮率が12%以下の放射線硬化型樹脂は厚く
コーティングしても透明保護層の反りを小さく抑えるこ
とができるため、鉛筆硬度試験を行った時に下地の透明
保護層の影響を受けないようにするのに必要な20μm
以上のコーティングが可能となり、このように20μm
以上の厚みでコーティングすることによりH〜2Hの鉛
筆硬度が得られる。
The radiation curable resin having a shrinkage of 12% or less can suppress the warp of the transparent protective layer even if it is thickly coated, so that it is not affected by the underlying transparent protective layer when a pencil hardness test is performed. 20 μm required to do
The above coating is possible, and it is 20μm like this.
By coating with the above thickness, a pencil hardness of H to 2H can be obtained.

【0008】[0008]

【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.

【0009】図2は本発明に係る光カードの一実施例を
示す断面図である。同図に示されるように、本実施例の
光カードは、ポリカーボネート樹脂からなる透明保護層
1の下面にパターン層2とこのパターン層2の凹凸溝を
覆うようにして光記録材料層3が設けられ、光記録材料
層3を中に挟持するようにしてカード基材4が接着層5
を介して積層され、さらに透明保護層1の上に表面硬化
層6が積層された構成になっている。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of the optical card according to the present invention. As shown in the figure, in the optical card of the present embodiment, the optical recording material layer 3 is provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 made of polycarbonate resin so as to cover the pattern layer 2 and the concave and convex grooves of the pattern layer 2. The card base material 4 has the adhesive layer 5 so that the optical recording material layer 3 is sandwiched therein.
And the surface-hardened layer 6 is further laminated on the transparent protective layer 1.

【0010】透明保護層1に用いるポリカーボネート樹
脂(PC)は、光学特性に富んでいるものがよく、具体
的には、光線透過率90%以上(780nm,830n
m)、屈折率1.59以下(780nm,830n
m)、複屈折100nm以下(シングルパス)又は光学
弾性軸±5%以下のものを使用するのがよい。厚みは、
表面硬化層と合わせて380±20μm程度が好まし
い。具体的には、パターン層2の形成に2P法を用いる
場合、押出し成形した「帝人製、パンライトフィル
ム」、「GE製、レキサンフィルム」等を使用できる。
The polycarbonate resin (PC) used for the transparent protective layer 1 is preferably one having abundant optical characteristics. Specifically, the light transmittance is 90% or more (780 nm, 830 n).
m), refractive index 1.59 or less (780 nm, 830 n
m), birefringence of 100 nm or less (single pass) or optical elastic axis ± 5% or less is preferably used. The thickness is
It is preferably about 380 ± 20 μm including the surface hardened layer. Specifically, when the 2P method is used for forming the pattern layer 2, extruded "Teijin-made Panlite film", "GE-made, Lexan film" or the like can be used.

【0011】表面硬化層6は、官能性モノマー及び/又
は官能性オリゴマーを含む収縮率12%以下の放射線硬
化型樹脂を使用して厚さ20μm以上に形成する。例え
ば200×200mm、厚さ0.4μmのPCシート上
に収縮率12.3%の放射線硬化型樹脂を20μmの厚
さで形成して机上に置いた場合、PCシートの反りが
4.5mmとなるが、枚葉による工程をとる場合、この
ように反りが4mm以上あると後工程に支障を生じるの
で好ましくない。また、カード形態になった時、カード
の反りはPCシートの反りを受け継いで2.2mmとな
りカードとしてスペックアウトとなり、さらには光学的
特性が劣ることになる。同様に、収縮率11.9%の放
射線硬化型樹脂を20μmの厚さで形成して机上におい
た場合、PCシートの反りが4.0mmとなり、光カー
ドとした時の反りは1.8mmとなってスペック内とな
る。したがって、本発明では収縮率12%以下の放射線
硬化型樹脂を使用する。
The surface hardened layer 6 is formed to a thickness of 20 μm or more using a radiation curable resin containing a functional monomer and / or a functional oligomer and having a shrinkage ratio of 12% or less. For example, when a radiation curable resin having a shrinkage ratio of 12.3% is formed on a PC sheet of 200 × 200 mm and a thickness of 0.4 μm with a thickness of 20 μm and placed on a desk, the warp of the PC sheet is 4.5 mm. However, when a single-wafer process is used, a warp of 4 mm or more as described above is not preferable because it interferes with a subsequent process. Further, when the card is formed into a card form, the warp of the card inherits the warp of the PC sheet and becomes 2.2 mm, which is out of the specification as a card, and further the optical characteristics are deteriorated. Similarly, when a radiation curable resin having a shrinkage of 11.9% is formed to a thickness of 20 μm and placed on a desk, the warp of the PC sheet is 4.0 mm, and the warp when the optical card is 1.8 mm. It is within specifications. Therefore, in the present invention, a radiation curable resin having a shrinkage ratio of 12% or less is used.

【0012】官能性モノマーとしては、単官能アクリレ
ート(2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリ
レート等)、2官能アクリレート(1,3−ブタンジオ
ールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等)、3官能アクリレート(ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート等)、4官能アクリレート(ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート等)、5官能ア
クリレート(ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト等)、6官能アクリレート(ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート等)、5官能以上アクリレート(ジ
ペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート
等)の多官能アクリレートのもの等が使用できる。
As the functional monomer, monofunctional acrylates (2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, etc.), bifunctional acrylates (1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butane) are used. Diol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, etc.), trifunctional acrylate (pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, etc.), tetrafunctional acrylate (pentaerythritol tetraacrylate) Etc.) 5-functional acrylates (dipentaerythritol pentaacrylate, etc.), 6-functional acrylates (dipentaerythritol hexaacryl) Etc.), 5 as such multifunctional acrylates or more functional acrylate (dipentaerythritol penta and hexaacrylate, etc.) can be used.

【0013】官能性オリゴマーとしては、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、シリコーンアクリ
レート、不飽和ポリエステル、ポリエン/チオール等が
使用できる。
As the functional oligomer, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, polyene / thiol and the like can be used.

【0014】上記官能性モノマー及び/又は官能性オリ
ゴマーに、ポリカーボネートの接着付与剤及び反応希釈
剤としてのN−ビニルピロリドン、開始剤(ベンゾイン
系、アセトフェノン系、チオキサンソン系、パーオキシ
ド系等)であるイルガキュア651,184等を組み合
わせ、収縮率が12%以下になるように放射線硬化型の
樹脂を作製する。場合によっては、光開始助剤(アミン
系、キノン系等)、熱重合禁止剤、充填剤(無機、有
機)、チクソ付与剤、可塑剤、非反応ポリマー、着色剤
等を加えてもよい。一般に、多官能アクリレートを用い
ると、硬くなる傾向になるが、収縮率は大きくなる方向
にある。下地の影響を受けないように厚さ20μm以上
の表面硬化層を設けるため、反りが小さく且つ硬度を保
つためには収縮率12%までが許容範囲となる。反り及
び硬度を満足するためには収縮率10%、厚み25〜3
0μmが最も適当である。
N-vinylpyrrolidone as a polycarbonate adhesion-imparting agent and reaction diluent, and an initiator (benzoin-based, acetophenone-based, thioxanthone-based, peroxide-based, etc.) Irgacure is added to the above-mentioned functional monomer and / or functional oligomer. By combining 651, 184 and the like, a radiation curable resin is produced so that the shrinkage rate is 12% or less. Depending on the case, a photoinitiator aid (amine-based, quinone-based, etc.), a thermal polymerization inhibitor, a filler (inorganic or organic), a thixotropic agent, a plasticizer, a non-reactive polymer, a colorant and the like may be added. Generally, when a polyfunctional acrylate is used, it tends to be hard, but the shrinkage ratio tends to increase. Since a surface-hardened layer having a thickness of 20 μm or more is provided so as not to be influenced by the base, a shrinkage rate of up to 12% is an allowable range in order to reduce warpage and maintain hardness. In order to satisfy the warp and hardness, the shrinkage rate is 10% and the thickness is 25 to 3
0 μm is most suitable.

【0015】表面硬化層6にレベリング剤として内部硬
化型シリコーン、シリコーン等を、官能性モノマー又は
官能性オリゴマー100重量部に対し0.01〜10重
量部混合してもよい。10重量部を越えてレベリング剤
を混合すると、透明保護層1への密着性が悪くなる。ま
た、表面硬化層6には帯電を防止するために帯電防止剤
を添加してもよい。
The surface-cured layer 6 may be mixed with 0.01 to 10 parts by weight of an internally curable silicone, silicone or the like as a leveling agent with respect to 100 parts by weight of the functional monomer or functional oligomer. When the leveling agent is mixed in an amount exceeding 10 parts by weight, the adhesion to the transparent protective layer 1 becomes poor. Further, an antistatic agent may be added to the surface hardened layer 6 in order to prevent electrification.

【0016】表面硬化層6は、グラビアコーティング
法、ロールコート法、コンマコーティング法、スピンコ
ーティング法、ナイフコーティング法、シルクスクリー
ン法、T−ダイコーティング法、スライドコーティング
法、スリットリバース法等により塗布する。この場合、
溶剤で適度に希釈してコーティングするようにしてもよ
い。なお、表面硬化層6は重ね刷りして多層状態に形成
してもよい。この場合、最上層の放射線硬化型樹脂にレ
ベリング剤及び/又は帯電防止剤を混合するようにして
もよい。
The surface hardened layer 6 is applied by a gravure coating method, a roll coating method, a comma coating method, a spin coating method, a knife coating method, a silk screen method, a T-die coating method, a slide coating method, a slit reverse method or the like. . in this case,
The coating may be performed by appropriately diluting with a solvent. The surface hardened layer 6 may be overprinted to form a multi-layered state. In this case, a leveling agent and / or an antistatic agent may be mixed with the uppermost radiation curable resin.

【0017】透明保護層1の下面に形成するパターン層
2は、一般に既知の2P法、インジェクション法、キャ
スティング法等を用いてパターン層として形成される。
この時、2P法でパターン層を形成する場合はUVで硬
化する樹脂を用い、インジェクション法、キャスティン
グ法では透明保護層と同一のものを使用する。
The pattern layer 2 formed on the lower surface of the transparent protective layer 1 is formed as a pattern layer by the generally known 2P method, injection method, casting method or the like.
At this time, when the pattern layer is formed by the 2P method, a UV-curable resin is used, and by the injection method or the casting method, the same transparent protective layer is used.

【0018】光記録材料層3としては、一般に用いられ
ている金属系光記録材料のテルル系、ビスマス系等の他
に、染料系光記録材料のフタロシアニン系、ナフトキノ
ン系等を使用できる。また、追記型だけでなくROM型
でもよい。
As the optical recording material layer 3, in addition to the commonly used metal-based optical recording materials such as tellurium-based and bismuth-based materials, dye-based optical recording materials such as phthalocyanine-based materials and naphthoquinone-based materials can be used. Further, not only the write-once type but also the ROM type may be used.

【0019】カード基材4としては、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレンテレフタレート、AS、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等を用いることができる。ポリ塩化
ビニルを使用する場合、構成としては、0.05/0.
20/0.05mm、0.05/0.24/0.05m
m、0.05/0.26/0.05mm、0.05/
0.30/0.05mm等の3層、0.20/0.10
mm、0.24/0.10mm、0.26/0.10m
m、0.30/0.10mm等の2層、0.30mm、
0.34mm、0.36mm、0.40mmの1層な
ど、いずれの層構成も可能である。なお、0.10m
m、0.05mmのものは透明ポリ塩化ビニルであり、
0.20mm以上のものは乳白ポリ塩化ビニルである。
そして、印刷の耐磨耗性を上げるため、乳白ポリ塩化ビ
ニルに印刷を施し、透明ポリ塩化ビニルで熱融着する2
層又は3層の方が好ましい。
As the card substrate 4, polyvinyl chloride,
Polyethylene terephthalate, AS, polycarbonate, polypropylene and the like can be used. When polyvinyl chloride is used, the composition is 0.05 / 0.
20 / 0.05mm, 0.05 / 0.24 / 0.05m
m, 0.05 / 0.26 / 0.05 mm, 0.05 /
3 layers of 0.30 / 0.05mm, 0.20 / 0.10
mm, 0.24 / 0.10 mm, 0.26 / 0.10 m
m, two layers of 0.30 / 0.10 mm, 0.30 mm,
Any layer structure is possible, such as one layer of 0.34 mm, 0.36 mm, and 0.40 mm. In addition, 0.10m
m and 0.05 mm are transparent polyvinyl chloride,
Those with 0.20 mm or more are opalescent polyvinyl chloride.
Then, in order to increase the abrasion resistance of printing, printing is performed on opal white polyvinyl chloride, and heat fusion is performed with transparent polyvinyl chloride. 2
Layers or three layers are preferred.

【0020】接着層5に用いる接着剤としては、ウレタ
ン系、エポキシ系、アクリル系、ビニル系、アミド系な
ど従来既知のものが使用できるが、接着剤は光記録材料
層に直接接触するため、記録感度がよく、温湿度適性に
優れているものが好ましい。膜厚は10〜100μm程
度が望ましく、グラビアコーティング法、スピンコーテ
ィング法、ナイフコーティング法、シルクスクリーン
法、ミヤバーコーティング法、T−ダイコーティング法
等により塗布し、平プレス法、ロールプレス法等により
熱プレスして接着する。
As the adhesive used for the adhesive layer 5, conventionally known ones such as urethane type, epoxy type, acrylic type, vinyl type and amide type can be used. However, since the adhesive is in direct contact with the optical recording material layer, It is preferable that the recording sensitivity is good and the temperature and humidity are excellent. The film thickness is preferably about 10 to 100 μm, and is applied by a gravure coating method, a spin coating method, a knife coating method, a silk screen method, a Miyabar coating method, a T-die coating method, etc., and a flat press method, a roll press method, etc. Heat press to bond.

【0021】なお、光記録材料層の記録感度が低い場
合、光記録材料層と接着剤層との間に増感層を形成する
が、記録感度が十分である場合にはその必要はない。ま
た、接着剤層は光記録材料層と接するが、接着剤によっ
て光記録材料層の感度が劣化する場合にはこれを避ける
ために透明保護層を設ける。そして増感層を設けた場合
にはこの透明保護層は接着剤層との間に形成されるもの
ではあるが、上記増感層と兼ねることも可能である。け
れども、光記録材料層の劣化がない材料を選んだ場合に
はこの透明保護層は設ける必要がない。
When the recording sensitivity of the optical recording material layer is low, a sensitizing layer is formed between the optical recording material layer and the adhesive layer, but this is not necessary if the recording sensitivity is sufficient. Further, the adhesive layer is in contact with the optical recording material layer, but if the adhesive deteriorates the sensitivity of the optical recording material layer, a transparent protective layer is provided to avoid this. When the sensitizing layer is provided, the transparent protective layer is formed between the transparent protective layer and the adhesive layer, but it can also serve as the sensitizing layer. However, when a material that does not deteriorate the optical recording material layer is selected, it is not necessary to provide this transparent protective layer.

【0022】また、カード使用上の多様化を図る場合に
は、光記録部材と同一面又は反対面若しくはカード基材
の両面に磁気ストライプを設けたり、光記録部材と同一
面又は反対面にICモジュールを設けるようにするとよ
い。
In order to diversify the use of the card, a magnetic stripe may be provided on the same surface as the optical recording member or on the opposite surface or both surfaces of the card substrate, or an IC may be provided on the same surface as the optical recording member or on the opposite surface. A module should be provided.

【0023】次に、比較例とともに具体例を挙げて説明
する。
Next, a specific example will be described together with a comparative example.

【0024】(具体例1)厚さ0.4mmで200×2
00mmサイズの押出し成形ポリカーボネートを透明保
護層として用い、その片面に下記組成よりなる放射線硬
化型樹脂を厚さ30mmになるようにミヤバーで塗工し
た後、これにUVランプ(フュージョン製、マイクロウ
ェーブ方式)を照射して硬化させ表面硬化層を形成し
た。なお、この放射線硬化型樹脂のUV硬化時における
収縮率は9.6%であり、透明保護層に表面硬化層を形
成した時点での反りは2.5mmであった。また、テー
バー磨耗はCS−10、1kg荷重、100回転でヘイ
ズ値15.0%であり、鉛筆硬度はHであった。 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ヘキサメチレンジアクリレート (日本化薬製、カヤラッドHDDA) 3重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 3重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部
(Specific Example 1) 200 × 2 with a thickness of 0.4 mm
Extrusion-molded polycarbonate of 00 mm size was used as a transparent protective layer, and a radiation curable resin having the following composition was applied on one side of the transparent protective layer with a miya bar to a thickness of 30 mm, and then UV lamp (made by Fusion, microwave method) ) Was irradiated and hardened to form a surface-hardened layer. The shrinkage ratio of this radiation-curable resin during UV curing was 9.6%, and the warp at the time when the surface-cured layer was formed on the transparent protective layer was 2.5 mm. Further, Taber abrasion was CS-10, 1 kg load, 100 rotations, haze value was 15.0%, and pencil hardness was H. Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 100 parts by weight Hexamethylene diacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad HDDA) 3 parts by weight Pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 3 parts by weight Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 Parts by weight

【0025】次に、この表面硬化層を有する透明保護層
の反対面に、2P法で案内トラックのパターン層を形成
し、その上からTeOxをスパッタリングして光記録材
料層を形成した。一方、0.20mmの乳白塩ビからな
るコアシートに両面シルクオフセットの印刷を行い、
0.05mmのオーバーシート2枚で挟み込み、熱融着
にて3層のカード基材を作成した。オーバーシートの片
面には650エルステッドの磁気テープを形成しておい
た。そして、このカード基材と透明保護層を接着剤(東
レ製、TU−4210)を用いて接着した。接着剤の硬
化後、カードサイズ(85.5×54mm)に打ち抜い
て光カードを作製した。
Next, a guide track pattern layer was formed by the 2P method on the opposite surface of the transparent protective layer having the surface hardened layer, and TeOx was sputtered on the guide track pattern layer to form an optical recording material layer. On the other hand, double-sided silk offset printing is performed on a 0.20 mm opalescent vinyl core sheet,
It was sandwiched between two 0.05 mm oversheets and heat-bonded to prepare a three-layer card base material. A magnetic tape of 650 Oersted was formed on one surface of the oversheet. Then, the card base material and the transparent protective layer were adhered to each other using an adhesive (manufactured by Toray, TU-4210). After the adhesive was cured, it was punched out into a card size (85.5 × 54 mm) to produce an optical card.

【0026】以上のようにして得られた光カードに対
し、光カードR/W(オムロン製、3B3H−DJ−0
1)で100トラックのデータを書き込んで読み取った
ところ、エラーレートは1×10-4以下となり良好であ
った。また、折曲げ強度、密着性、透過性、反りのいず
れにも問題はなく、温湿度保存性も良く、カード使用に
十分耐えられるものであった。
In contrast to the optical card obtained as described above, an optical card R / W (manufactured by OMRON, 3B3H-DJ-0
When data of 100 tracks was written and read in 1), the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Further, there were no problems in bending strength, adhesiveness, permeability, and warpage, and the temperature and humidity storability was good, and the card was sufficiently durable to use.

【0027】(具体例2)具体例1と同じ押出し成形ポ
リカーボネートを透明保護層として用い、その片面に下
記組成よりなる放射線硬化型樹脂を厚さ20mmになる
ようにミヤバーで塗工した後、これにUVランプ(フュ
ージョン製、マイクロウェーブ方式)を照射して硬化さ
せ表面硬化層を形成した。なお、この放射線硬化型樹脂
のUV硬化時における収縮率は11.9%で、透明保護
層に表面硬化層を形成した時点での反りは4.0mmで
あった。また、テーバー磨耗はCS−10、1kg荷
重、100回転でヘイズ値15.8%であり、鉛筆硬度
はHであった。 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 1重量部
(Specific Example 2) The same extruded polycarbonate as in Specific Example 1 was used as a transparent protective layer, and a radiation curable resin having the following composition was applied to one side of the transparent protective layer with a bar to a thickness of 20 mm. A UV lamp (manufactured by Fusion, microwave system) was irradiated to the above to cure and form a surface-hardened layer. The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing was 11.9%, and the warp at the time when the surface-cured layer was formed on the transparent protective layer was 4.0 mm. The Taber abrasion was CS-10, 1 kg load, 100 rotations, haze value was 15.8%, and pencil hardness was H. Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocelac UV7500B) 100 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-450) 10 Parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba Geigy, Irgacure 184) ) 10 parts by weight Reactive Silicone (X-22-5002, manufactured by Shin-Etsu Silicone) 1 part by weight

【0028】以下、具体例1と同様にしてパターン層、
光記録材料層を形成し、カード基材と貼り合わせてから
カードサイズに打ち抜いて光カードを作製した。そし
て、このようにして得られた光カードに対し、光カード
R/W(オムロン製、3B3H−DJ−01)で100
トラックのデータを書き込んで読み取ったところ、エラ
ーレートは1×10-4以下となり良好であった。また、
折曲げ強度、密着性、透過性、反りのいずれにも問題は
なく、温湿度保存性も良く、カード使用に十分耐えられ
るものであった。
Thereafter, in the same manner as in Example 1, a pattern layer,
An optical recording material layer was formed, bonded to a card base material, and then punched into a card size to prepare an optical card. Then, an optical card R / W (manufactured by OMRON, 3B3H-DJ-01) was used for 100
When the data of the track was written and read, the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Also,
There were no problems with respect to bending strength, adhesion, permeability, and warpage, and the temperature and humidity storage properties were good, and the card was sufficiently durable to use.

【0029】(比較例1)厚さ0.4mmで200×2
00mmサイズの押出し成形ポリカーボネートを透明保
護層として用い、その片面に下記組成よりなる放射線硬
化型樹脂をミヤバーで10μmの厚みで塗工し、これに
UVランプ(フュージョン製、マイクロウェーブ方式)
を照射して硬化させて表面硬化層を形成した。なお、こ
の放射線硬化型樹脂のUV硬化時における収縮率は1
3.5%であった。 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 2重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 5重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 0.5重量部
(Comparative Example 1) 200 × 2 with a thickness of 0.4 mm
Extrusion-molded polycarbonate of 00 mm size was used as a transparent protective layer, and a radiation curable resin having the following composition was applied on one side thereof with a miya bar to a thickness of 10 μm, and a UV lamp (made by Fusion, microwave method)
Was irradiated and cured to form a surface-cured layer. The shrinkage factor of this radiation-curable resin during UV curing is 1
It was 3.5%. Dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 10 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate (Toa Gosei Kagaku, Aronix M-450) 10 parts by weight Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Chemical UV7500B) 2 parts by weight Parts N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 5 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba-Geigy, Irgacure 184) 0.5 parts by weight

【0030】このように表面硬化層のみを10μmの厚
みで形成したところ、テーバー磨耗はCS−10、1k
g荷重、100回転でヘイズ値9.5%であったが、鉛
筆硬度はHBであった。また、反りは3.5mmであっ
た。このように厚みが不十分であると、十分な鉛筆硬度
が得られない。
When only the surface-hardened layer was formed to a thickness of 10 μm in this manner, Taber abrasion was CS-10, 1k.
The haze value was 9.5% at g load and 100 rotations, but the pencil hardness was HB. The warpage was 3.5 mm. If the thickness is insufficient as described above, sufficient pencil hardness cannot be obtained.

【0031】(比較例2)比較例1において、表面効果
層を25μmの厚みで形成したところ、テーバー磨耗は
ヘイズ値9.5%であり、鉛筆硬度はHであった。ただ
し、この時の反りは4.8mmとなり、また曲げテスト
でクラックが生じた。このように、収縮率の大きなもの
を使用した場合、厚みを大きくすると反りが大きくな
り、曲げ適正に劣ることになる。
Comparative Example 2 In Comparative Example 1, when the surface effect layer was formed to a thickness of 25 μm, the Taber abrasion had a haze value of 9.5% and the pencil hardness was H. However, the warp at this time was 4.8 mm, and cracks were generated in the bending test. As described above, when a material having a large shrinkage ratio is used, the warp becomes large as the thickness becomes large, resulting in inferior bending properness.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の光カード
は、透明保護層にポリカーボネート樹脂を使用し、この
透明保護層上に収縮率12%以下の放射線硬化型樹脂か
らなる厚さ20μm以上の表面硬化層を設けた構成とし
たので、低価格で曲げ適正にも優れるが鉛筆硬度の低い
ポリカーボネートを透明保護層に使用しながらも、その
反りの少ない特性を活かし、且つ耐擦傷性にも優れた光
カードを得ることができる。
As described above, in the optical card of the present invention, a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer, and a thickness of 20 μm or more made of a radiation curable resin having a shrinkage rate of 12% or less is formed on the transparent protective layer. Since it has a surface-hardened layer, it is low in price and excellent in bendability, but while using polycarbonate with a low pencil hardness for the transparent protective layer, it makes use of its characteristic of less warp and also has scratch resistance. An excellent optical card can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】一般的な光カードの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a general optical card.

【図2】本発明に係る光カードの一実施例を示す断面図
である。
FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an optical card according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 透明保護層 2 パターン層 3 光記録材料層 4 カード基材 5 接着層 6 表面硬化層 1 Transparent Protective Layer 2 Pattern Layer 3 Optical Recording Material Layer 4 Card Base Material 5 Adhesive Layer 6 Surface Hardening Layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G06K 19/08 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI technical display location G06K 19/08

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも透明保護層と光記録材料層を
積層した光記録部材をカード基材上に貼り合わせてなる
光カードにおいて、前記透明保護層にポリカーボネート
樹脂を使用するとともに、収縮率12%以下の放射線硬
化型樹脂からなる厚さ20μm以上の表面硬化層を前記
透明保護層上に設けたことを特徴とする光カード。
1. An optical card in which an optical recording member having at least a transparent protective layer and an optical recording material layer laminated together is laminated on a card substrate, and a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer, and a shrinkage rate is 12%. An optical card, characterized in that a surface-cured layer having a thickness of 20 μm or more made of the following radiation-curable resin is provided on the transparent protective layer.
【請求項2】 前記放射線硬化型樹脂にレベリング剤を
混合したことを特徴とする請求項1記載の光カード。
2. The optical card according to claim 1, wherein a leveling agent is mixed with the radiation curable resin.
【請求項3】 前記放射線硬化型樹脂に帯電防止剤を混
合したことを特徴とする請求項1又は2記載の光カー
ド。
3. The optical card according to claim 1, wherein the radiation curable resin is mixed with an antistatic agent.
【請求項4】 前記カード基材の一部にICモジュール
及び/又は磁気ストライプを設けたことを特徴とする請
求項1,2又は3記載の光カード。
4. The optical card according to claim 1, wherein an IC module and / or a magnetic stripe is provided on a part of the card base material.
【請求項5】 前記表面硬化層を多層に形成したことを
特徴とする請求項1記載の光カード。
5. The optical card according to claim 1, wherein the surface-hardened layer is formed in multiple layers.
【請求項6】 多層に形成した表面硬化層における最上
層の放射線硬化型樹脂にレベリング剤を混合したことを
特徴とする請求項5記載の光カード。
6. The optical card according to claim 5, wherein a leveling agent is mixed with the uppermost radiation-curable resin in the surface-cured layers formed in multiple layers.
【請求項7】 多層に形成した表面硬化層における最上
層の放射線硬化型樹脂に帯電防止剤を混合したことを特
徴とする請求項5又は6記載の光カード。
7. The optical card according to claim 5, wherein an antistatic agent is mixed with the uppermost radiation curable resin in the surface-cured layers formed in multiple layers.
【請求項8】 前記カード基材の一部にICモジュール
及び/又は磁気ストライプを設けたことを特徴とする請
求項4,5,6又は7記載の光カード。
8. The optical card according to claim 4, 5, 6 or 7, wherein an IC module and / or a magnetic stripe is provided on a part of the card base material.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999009102A1 (en) * 1997-08-19 1999-02-25 Mitsubishi Plastics Inc. Resin composition for cards, and sheets and cards

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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WO1999009102A1 (en) * 1997-08-19 1999-02-25 Mitsubishi Plastics Inc. Resin composition for cards, and sheets and cards

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