JPH08235639A - Optical recording medium and its formation method - Google Patents
Optical recording medium and its formation methodInfo
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- JPH08235639A JPH08235639A JP7042638A JP4263895A JPH08235639A JP H08235639 A JPH08235639 A JP H08235639A JP 7042638 A JP7042638 A JP 7042638A JP 4263895 A JP4263895 A JP 4263895A JP H08235639 A JPH08235639 A JP H08235639A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、光カード、フレキシブ
ルディスク等に使用される光記録媒体及びその作成方法
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical recording medium used for optical cards, flexible disks, etc., and a method for producing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来、低融点金属や有機染料の薄膜を記
録層として基材上に設け、レーザー光等を照射してこの
薄膜の一部に変化を生じさせて記録を行い、記録された
データを光学的に再生する光記録媒体が知られている。
この光記録媒体の記録方式には、読出し専用(ROM)
型、追記(DRAW)型、消去書込み(E−DRAW)
型があり、それぞれについて記録媒体及び構成が検討さ
れている。2. Description of the Related Art Conventionally, a thin film of a low melting point metal or an organic dye is provided as a recording layer on a substrate, and recording is performed by irradiating a laser beam or the like to cause a change in a part of the thin film and recording. Optical recording media that optically reproduce data are known.
The recording method of this optical recording medium is read-only (ROM)
Type, write-once (DRAW) type, erase write (E-DRAW)
There are types, and recording media and configurations are being examined for each.
【0003】このような光記録媒体をカード形態とした
所謂光カードは基本的に図1に示す如き層構成をしてい
る。図中1は支持体としての透明保護層であり、記録再
生に使用する光源の波長域で透過率が高く、且つ後工程
において変形、劣化等を生じることなく、また機械的強
度、光学的特性を満たすものであれば特に限定されるも
のではなく、一般にはポリカーボネート樹脂、アクリル
樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリ塩化ビニル樹
脂、ポリオレフィン樹脂、スチレンポリカーボネートブ
レンド樹脂等が用いられている。2は透明保護層1の下
面に2P法で設けられるパターン層であり、トラックと
なる凹凸溝を備えて構成される。なお、2P法によらず
にインジェクション法、キャスティング法でパターンを
形成する場合には透明保護層1とパターン層との境界は
なくなる。3はパターン層2の凹凸溝を覆うように設け
られる光記録層であり、例えばDRAW型ではテルル、
ビスマス、アルミニウム等の低融点金属及びその合金か
らなる無機系材料或いはアントラキノン系、ナフトキノ
ン系、トリフェニルメタン系、カルボシアニン系、メロ
シアニン系、キサンテン系、アゾ系、アジン系、チアジ
ン系、オキサジン系、フタロシアニン系等の有機色素を
含む有機染料で一般に形成される。またROM型であれ
ばアルミニウム等の高反射性金属により予め情報を記録
した形で形成されている。4はカード基材であり、接着
層5を介して前記構成の光記録部材を支持するものであ
る。このように光カードは、表側の透明保護層1と裏側
のカード基材4により光記録層3を中に挟持した構造に
なっている。また、カードの携帯時や使用時において表
面に傷がつくことを防止し、カードの耐久性と書込み及
び読取り精度における信頼性の向上を図るようにするた
め、必要に応じて透明保護層1の表側に表面硬化層が設
けられる。そして、この表面硬化層は通常の場合、放射
線硬化型樹脂を用いて形成されることが多い。A so-called optical card having such an optical recording medium as a card basically has a layer structure as shown in FIG. In the figure, 1 is a transparent protective layer as a support, which has a high transmittance in the wavelength range of the light source used for recording and reproduction, and does not cause deformation or deterioration in the subsequent steps, and has a mechanical strength and an optical characteristic. There is no particular limitation as long as it satisfies the requirements, and generally, a polycarbonate resin, an acrylic resin, a urethane resin, an epoxy resin, a polyvinyl chloride resin, a polyolefin resin, a styrene polycarbonate blend resin or the like is used. Reference numeral 2 is a pattern layer provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 by the 2P method, and is provided with concave and convex grooves to be tracks. When the pattern is formed by the injection method or the casting method instead of the 2P method, the boundary between the transparent protective layer 1 and the pattern layer disappears. Reference numeral 3 is an optical recording layer provided so as to cover the concave and convex grooves of the pattern layer 2. For example, in the DRAW type, tellurium,
Inorganic materials made of low melting point metals such as bismuth and aluminum and alloys thereof, or anthraquinone series, naphthoquinone series, triphenylmethane series, carbocyanine series, merocyanine series, xanthene series, azo series, azine series, thiazine series, oxazine series, It is generally formed of an organic dye including an organic dye such as a phthalocyanine type. In the case of the ROM type, it is formed in a form in which information is recorded in advance by a highly reflective metal such as aluminum. Reference numeral 4 denotes a card base material, which supports the optical recording member having the above structure via the adhesive layer 5. Thus, the optical card has a structure in which the optical recording layer 3 is sandwiched between the transparent protective layer 1 on the front side and the card base material 4 on the back side. In addition, in order to prevent the surface from being scratched when carrying or using the card, and to improve the durability of the card and the reliability of writing and reading accuracy, the transparent protective layer 1 may be used as necessary. The surface hardened layer is provided on the front side. The surface-cured layer is usually formed of a radiation-curable resin in most cases.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ところで、従来の技術
で述べた如き光カードでは、光記録層の支持体である透
明保護層にポリカーボネート樹脂を用いることが望まれ
る。すなわち、ポリカーボネート樹脂は低価格であり、
吸水性がない上に、反りや割れを生じず曲げ適正に優れ
る等の利点を有しているからである。しかしながら、ポ
リカーボネート樹脂は擦り傷に対する硬度(鉛筆硬度)
が低いため、これを透明保護層に使用した場合には耐擦
傷性を上げるために表面硬化層を設ける必要がある。こ
の場合、通常の放射線硬化型樹脂を用いて透明保護層上
に表面硬化層を形成すると、放射線による硬化時に収縮
して反りが生じる。また表面硬度を上げるために硬化層
を厚くすると、カードを曲げた時に割れが発生してしま
う。したがって15μm以上の厚みで形成することがで
きない。このように表面硬化層の厚みがせいぜい15μ
m程度では、鉛筆硬度試験を行った時に下地の透明保護
層の影響を受けてしまい、F〜HB程度の硬度しか得ら
れず、耐擦傷性が十分となる硬度H以上の表面硬化層が
得られないという問題点がある。By the way, in the optical card as described in the prior art, it is desired to use a polycarbonate resin for the transparent protective layer which is the support of the optical recording layer. That is, the polycarbonate resin has a low price,
This is because it has advantages such as no water absorption and excellent bending suitability without warping or cracking. However, polycarbonate resin has a hardness against scratches (pencil hardness)
Therefore, when this is used for the transparent protective layer, it is necessary to provide a surface-hardened layer in order to improve scratch resistance. In this case, when the surface-cured layer is formed on the transparent protective layer by using a normal radiation-curable resin, the surface-cured layer contracts and is warped when cured by radiation. If the hardened layer is thickened to increase the surface hardness, cracks will occur when the card is bent. Therefore, it cannot be formed with a thickness of 15 μm or more. Thus, the thickness of the surface-hardened layer is at most 15μ.
When the hardness is about m, it is affected by the underlying transparent protective layer when a pencil hardness test is performed, and only a hardness of F to HB is obtained, and a surface-hardened layer having a hardness of H or more, which is sufficient for scratch resistance, is obtained. There is a problem that it cannot be done.
【0005】これを解決するために、硬度の異なる放射
線硬化型樹脂を多層に積層し、最外層に向けて硬度を高
くする試みも行われている(例えば、特開平2−239
438号公報参照)。しかしながら、この従来技術で
は、硬度の異なる硬化層が積層されているために各層間
に界面が存在することから、曲げに対して割れが生じや
すく、したがって各層の厚さを大きくすることが困難
で、表面の硬度を上げるのが難しいという問題点があっ
た。In order to solve this problem, attempts have been made to laminate radiation curable resins having different hardnesses in multiple layers to increase the hardness toward the outermost layer (for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2-239).
No. 438). However, in this conventional technique, since hardened layers having different hardnesses are laminated and an interface exists between the layers, cracks are likely to occur in bending, and thus it is difficult to increase the thickness of each layer. However, there is a problem that it is difficult to increase the hardness of the surface.
【0006】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、耐擦傷性
に優れるとともに、反りが生じたり曲げによる割れを発
生したりすることのない光記録媒体及びその作成方法を
提供することにある。The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide excellent abrasion resistance, warpage and cracking due to bending. It is to provide a non-optical recording medium and a manufacturing method thereof.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係る光記録媒体は、少なくとも透明保護層
と光記録層を積層してなり、前記透明保護層上に硬化型
樹脂による硬化層が設けられた光記録媒体において、前
記硬化層の硬度が透明保護層との界面から表面に向かっ
て連続的に高くなっていることを特徴とする。そして、
前記硬化層にレベリング剤や帯電防止剤を添加してあっ
てもよい。In order to achieve the above object, an optical recording medium according to the present invention comprises at least a transparent protective layer and an optical recording layer laminated, and is cured by a curable resin on the transparent protective layer. In the optical recording medium provided with a layer, the hardness of the cured layer is continuously increased from the interface with the transparent protective layer toward the surface. And
A leveling agent or an antistatic agent may be added to the cured layer.
【0008】また、上記構成の光記録媒体の作成方法
は、少なくとも透明保護層と光記録層を積層してなり、
前記透明保護層上に硬化型樹脂による硬化層が設けられ
た光記録媒体の作成方法において、硬化収縮率の異なる
複数の硬化型樹脂を透明保護層との界面から表面に向か
ってその硬化収縮率が大きくなる状態で重ね合わせるよ
うに同時に供給した後、一括して硬化させることにより
前記硬化層を形成するようにしたものである。In addition, the method for producing the optical recording medium having the above-described structure comprises at least a transparent protective layer and an optical recording layer,
In the method for producing an optical recording medium in which a curable layer made of a curable resin is provided on the transparent protective layer, a plurality of curable resins having different curing shrinkages are cured and contracted from the interface with the transparent protective layer toward the surface. In such a state that the cured layer becomes large, the layers are simultaneously supplied so as to be superposed, and then they are collectively cured to form the cured layer.
【0009】[0009]
【作用】硬化収縮率が低い放射線硬化型樹脂は厚くコー
ティングしても透明保護層の反りを小さく抑えることが
できるため、鉛筆硬度試験を行った時に下地の透明保護
層の影響を受けないようにするのに必要な厚みでのコー
ティングが可能となり、このような厚みでコーティング
することによりH〜2Hの鉛筆硬度を得ることができ
る。しかし、硬化収縮率が低い放射線硬化型樹脂はフレ
キシビリティはあるが樹脂自体は柔らかいため、厚くコ
ーティングすることで鉛筆硬度は向上するものの、テー
バー磨耗(ASTM D1044に定めるテーバー磨耗
試験)、落砂磨耗(JIS T8147に定める落砂磨
耗試験)などの擦り傷テストに対しては弱い面がある。
逆に、硬化収縮率の大きい放射線硬化型樹脂は収縮時の
反りは大きいがテーバー磨耗等に優れている。したがっ
て、透明保護層の界面から表面に向かって硬度が連続的
に高くなるようにした硬化層を設けることにより、反り
が押さえられるとともに、鉛筆硬度、テーバー磨耗等に
優れたものとなり、しかも表面の硬化層に界面が存在し
ないので曲げ適正にも優れたものとなる。[Function] A radiation-curable resin having a low curing shrinkage ratio can suppress the warp of the transparent protective layer to a small extent even if it is thickly coated, so that it is not affected by the underlying transparent protective layer when performing a pencil hardness test. Coating with a thickness necessary to achieve this is possible, and a pencil hardness of H to 2H can be obtained by coating with such a thickness. However, the radiation curable resin, which has a low curing shrinkage rate, is flexible but the resin itself is soft, so a thick coating improves the pencil hardness, but Taber abrasion (Taber abrasion test stipulated in ASTM D1044) and falling sand abrasion. There is a weak side to the abrasion test such as (Sandfall abrasion test defined in JIS T8147).
On the contrary, the radiation curable resin having a large curing shrinkage has a large warp at the time of shrinkage, but is excellent in Taber abrasion. Therefore, by providing a hardened layer whose hardness is continuously increased from the interface of the transparent protective layer to the surface, warpage is suppressed and pencil hardness, Taber abrasion, etc. are excellent, and moreover, Since there is no interface in the hardened layer, the bendability is also excellent.
【0010】[0010]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0011】図2は本発明に係る光記録媒体の一形態で
ある光カードの一実施例を示す断面図である。FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an optical card which is one form of the optical recording medium according to the present invention.
【0012】同図に示されるようにこの光カードは、透
明保護層1の下面にパターン層2とこのパターン層2の
凹凸溝を覆うようにして光記録層3が設けられ、光記録
層3を中に挟持するようにしてカード基材4が接着層5
を介して積層され、さらに透明保護層1の上に見かけ上
第1層a、第2層b及び第3層cからなる硬化層6が積
層された構成になっている。この硬化層6は、透明保護
層1上に硬化収縮率の異なる3種類の硬化型樹脂を重ね
合わせるように同時に供給した後、一括して硬化させる
ことにより、各樹脂層の接する面で樹脂が混合され、各
樹脂層間の界面がなくなって硬度が連続的に変化した状
態で形成される。As shown in the figure, in this optical card, an optical recording layer 3 is provided on the lower surface of the transparent protective layer 1 so as to cover the pattern layer 2 and the concave and convex grooves of the pattern layer 2, and the optical recording layer 3 is provided. The card substrate 4 has an adhesive layer 5 so that the
And a cured layer 6 apparently composed of a first layer a, a second layer b and a third layer c is further laminated on the transparent protective layer 1. The cured layer 6 is prepared by simultaneously supplying three types of curable resins having different curing shrinkage rates onto the transparent protective layer 1 so as to be superposed on each other, and then collectively curing the resin so that the resin on the contact surface of each resin layer is When mixed, the interface between the resin layers disappears and the hardness is continuously changed.
【0013】透明保護層1に用いる樹脂は光学特性に富
んでいるものがよく、具体的には、光線透過率90%以
上(780nm,830nm)、複屈折100nm以下
(シングルパス)又は光学弾性軸±5%以下のものを使
用するのがよい。厚みは、硬化層6と合わせて380±
20μm程度が好ましい。一般に使用されている樹脂の
中でもポリカーボネート樹脂(PC)が特に好ましく、
上記光学特性をもつアクリル樹脂を用いてもよい。例え
ば2P法によりその片面にパターン層2を形成する場合
には、ポリカーボネート樹脂を押出し成形した「帝人
製、パンライトフィルム」、「GE製、レキサンフィル
ム」等を使用できる。The resin used for the transparent protective layer 1 is preferably rich in optical characteristics. Specifically, the light transmittance is 90% or more (780 nm, 830 nm), the birefringence is 100 nm or less (single pass), or the optical elastic axis. It is better to use the one with ± 5% or less. The thickness is 380 ± including the hardened layer 6.
About 20 μm is preferable. Of the commonly used resins, polycarbonate resin (PC) is particularly preferable,
An acrylic resin having the above optical characteristics may be used. For example, when the pattern layer 2 is formed on one side by the 2P method, "Teijin made Panlite film", "GE made lexan film" and the like obtained by extruding a polycarbonate resin can be used.
【0014】硬化層6のうちの第1層aには、官能性モ
ノマー及び/又は官能性オリゴマーを含む硬化収縮率の
低い放射線硬化型樹脂を用いる。例えば厚さが0.4m
mで200×200mmサイズのPCシート上に硬化収
縮率12.3%の放射線硬化型樹脂を20μmの厚さで
形成して机上に置いた場合、PCシートの反りが4.5
mmとなるが、枚葉による工程をとる場合、このように
反りが4mm以上あると後工程に支障を生じるので好ま
しくない。また、カード形態になった時、カードの反り
はPCシートの反りを受け継いで2.2mmとなりカー
ドとしてスペックアウトとなり、さらには光学的特性が
劣ることになる。同様に、硬化収縮率11.9%の放射
線硬化型樹脂を20μmの厚さで形成して机上に置いた
場合、PCシートの反りが4.0mmとなり、カードと
した時の反りは1.8mmとなってスペック内となる。
したがって、ここでは第1層aに硬化収縮率12%以下
の放射線硬化型樹脂を使用する。For the first layer a of the cured layer 6, a radiation curable resin containing a functional monomer and / or a functional oligomer and having a low curing shrinkage is used. For example, the thickness is 0.4m
When a radiation curable resin having a curing shrinkage ratio of 12.3% is formed in a thickness of 20 μm on a PC sheet having a size of 200 × 200 mm and a thickness of 20 μm and placed on a desk, the warp of the PC sheet is 4.5.
However, in the case where a single-wafer process is performed, a warp of 4 mm or more as described above is not preferable because it interferes with a subsequent process. Further, when the card is formed into a card form, the warp of the card inherits the warp of the PC sheet and becomes 2.2 mm, which is out of the specification as a card, and further the optical characteristics are deteriorated. Similarly, when a radiation curable resin having a cure shrinkage of 11.9% is formed to a thickness of 20 μm and placed on a desk, the warp of the PC sheet becomes 4.0 mm, and the warp when formed into a card is 1.8 mm. And is within specifications.
Therefore, here, a radiation curable resin having a curing shrinkage ratio of 12% or less is used for the first layer a.
【0015】官能性モノマーとしては、単官能アクリレ
ート(2−エチルヘキシルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリ
レート等)、2官能アクリレート(1,3−ブタンジオ
ールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジアクリ
レート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ジ
エチレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート等)、3官能アクリレート(ペン
タエリスリトールトリアクリレート、トリメチロールプ
ロパントリアクリレート等)、4官能アクリレート(ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート等)、5官能ア
クリレート(ジペンタエリスリトールペンタアクリレー
ト等)、6官能アクリレート(ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート等)、5官能以上アクリレート(ジ
ペンタエリスリトールペンタ及びヘキサアクリレート
等)の多官能アクリレートのもの等が使用できる。As the functional monomer, monofunctional acrylates (2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxypropyl acrylate, etc.), bifunctional acrylates (1,3-butanediol diacrylate, 1,4-butane) are used. Diol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, neopentyl glycol diacrylate, etc., trifunctional acrylate (pentaerythritol triacrylate, trimethylolpropane triacrylate, etc.), tetrafunctional acrylate (pentaerythritol tetraacrylate) Etc.) 5-functional acrylates (dipentaerythritol pentaacrylate, etc.), 6-functional acrylates (dipentaerythritol hexaacryl) Etc.), 5 as such multifunctional acrylates or more functional acrylate (dipentaerythritol penta and hexaacrylate, etc.) can be used.
【0016】官能性オリゴマーとしては、エポキシアク
リレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリ
レート、ポリエーテルアクリレート、シリコーンアクリ
レート、不飽和ポリエステル、ポリエン/チオール等が
使用できる。As the functional oligomer, epoxy acrylate, urethane acrylate, polyester acrylate, polyether acrylate, silicone acrylate, unsaturated polyester, polyene / thiol and the like can be used.
【0017】透明保護層1にポリカーボネート樹脂を用
いる場合、上記官能性モノマー及び/又は官能性オリゴ
マーに、接着性付与剤及び反応希釈剤としてのN−ビニ
ルピロリドン、開始剤(ベンゾイン系、アセトフェノン
系、チオキサンソン系、パーオキシド系等)であるイル
ガキュア651,184等を組み合わせ、硬化収縮率が
12%以下になるように放射線硬化型の樹脂を作製す
る。場合によっては、光開始助剤(アミン系、キノン系
等)、熱重合禁止剤、充填剤(無機、有機)、チクソ付
与剤、可塑剤、非反応ポリマー、着色剤等を加えてもよ
い。一般に、多官能アクリレートを用いると、硬度が上
がって硬化収縮率が大きくなる傾向にある。下地の影響
を受けないように第1層aの厚みを20μm以上にする
には、反りを小さくして硬度を保つために硬化収縮率1
2%までが許容範囲となる。鉛筆硬度はガラス上で2H
程度のものを使用する。厚みとしては25〜30μm程
度が最も適当である。When a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer 1, N-vinylpyrrolidone as an adhesiveness-imparting agent and a reaction diluent, an initiator (benzoin-based, acetophenone-based, A radiation curable resin is produced by combining Irgacure 651, 184 (which is a thioxanthone type, a peroxide type, etc.) and the like so that the curing shrinkage rate is 12% or less. Depending on the case, a photoinitiator aid (amine-based, quinone-based, etc.), a thermal polymerization inhibitor, a filler (inorganic or organic), a thixotropic agent, a plasticizer, a non-reactive polymer, a colorant and the like may be added. Generally, when a polyfunctional acrylate is used, the hardness tends to increase and the curing shrinkage rate tends to increase. In order to reduce the thickness of the first layer a to 20 μm or more so as not to be affected by the base, the curing shrinkage ratio is 1 in order to reduce the warp and maintain the hardness.
The allowable range is up to 2%. Pencil hardness is 2H on glass
Use something of a degree. The most suitable thickness is about 25 to 30 μm.
【0018】第2層bには、硬度及び硬化収縮率が前記
の第1層aと後述する第3層cとの中間にある放射線硬
化型樹脂を用いる。具体的には硬化収縮率が12〜15
%程度となるように官能性モノマー、官能性オリゴマー
を選択すればよい。鉛筆硬度はガラス上で4H程度のも
のを使用する。厚みとしては10〜20μmが最も適当
である。For the second layer b, a radiation curable resin whose hardness and cure shrinkage ratio are between those of the first layer a and the third layer c described later is used. Specifically, the curing shrinkage is 12 to 15
The functional monomer and the functional oligomer may be selected so as to be about%. Use a pencil hardness of about 4H on glass. The most suitable thickness is 10 to 20 μm.
【0019】上記の第1層a及び第2層bに用いる放射
線硬化型樹脂には、面を綺麗に出すためレベリング剤を
添加してもよい。A leveling agent may be added to the radiation-curable resin used for the first layer a and the second layer b in order to obtain a clean surface.
【0020】第3層cは、硬度をだすため、3官能〜5
官能の官能性モノマーを主剤とし、これに官能性オリゴ
マーを若干加えたものを含む硬化収縮率の比較的高い放
射線硬化型樹脂を使用して第2層b上に形成する。透明
保護層1にポリカーボネート樹脂を使用する場合、接着
性付与剤及び反応希釈剤としてのN−ビニルピロリド
ン、開始剤を加えるとともに、レベリング剤としてシリ
コーン等を固形分100重量部に対し0.01〜10重
量部混合するのが好ましい。レベリング剤を添加するこ
とにより、面欠陥が少なくなり、また滑り性が増すため
見かけの硬度が上がる。曲げ適正を向上させるため官能
性オリゴマーの割合を増やせばよい。場合によっては、
光開始助剤(アミン系、キノン系等)、熱重合禁止剤、
充填剤(無機、有機)、チクソ付与剤、可塑剤、非反応
ポリマー、着色剤等を加えてもよい。厚みは15μm以
上形成すると、光カードとしての反りが大きくなり、ま
た曲げ適正に劣ることになる。具体的には、ベンディン
グテストでクラックが生じることとなる。厚みが2μm
以下になると硬度不足となる。したがって、2〜15μ
mがよいが、曲げと硬度の両方を満足するためには2〜
10μmが好ましい。また、曲げ適正を増すため、場合
によっては第2層bの樹脂を0〜30%程度混合しても
よい。鉛筆硬度はガラス上で6〜7H程度のものを使用
する。硬化収縮率は15%以上に設定するとよい。The third layer c has 3 functionalities to 5 in order to obtain hardness.
It is formed on the second layer b using a radiation curable resin having a relatively high curing shrinkage ratio, which contains a functional functional monomer as a main component and a small amount of a functional oligomer added thereto. When a polycarbonate resin is used for the transparent protective layer 1, N-vinylpyrrolidone as an adhesion promoter and a reaction diluent and an initiator are added, and silicone as a leveling agent is added in an amount of 0.01 to 100 parts by weight based on the solid content. It is preferable to mix 10 parts by weight. By adding the leveling agent, surface defects are reduced and the slipperiness is increased, so that the apparent hardness is increased. The proportion of the functional oligomer may be increased in order to improve bendability. In some cases,
Photoinitiating aid (amine, quinone, etc.), thermal polymerization inhibitor,
Fillers (inorganic or organic), thixotropic agents, plasticizers, non-reactive polymers, colorants and the like may be added. If the thickness is 15 μm or more, the warp as an optical card becomes large and the bending property becomes poor. Specifically, cracking will occur in the bending test. Thickness is 2 μm
If it becomes less than the following, hardness becomes insufficient. Therefore, 2 ~ 15μ
m is good, but 2 to satisfy both bending and hardness
10 μm is preferable. In addition, in order to increase the bendability, the resin of the second layer b may be mixed in an amount of 0 to 30% in some cases. The pencil hardness is about 6 to 7H on glass. The curing shrinkage rate is preferably set to 15% or more.
【0021】また、第1層a、第2層b及び第3層cに
は帯電を防止するために帯電防止剤を添加してもよい。
そして、第1層a、第2層b及び第3層cはスライドコ
ート法により透明保護層1の上に同時に塗布する。すな
わち、スライドヘッドからウェット状態で重ね合わせる
ように押し出して塗布する。塗布された第1層a、第2
層b及び第3層cは、風乾もしくは熱乾燥している間に
微妙に混合し、放射線硬化までに見かけ上界面がなくな
る。そして、放射線を照射することで硬化する。これに
より界面がなくなって曲げ適正が向上する。この場合、
溶剤で適度に希釈してコーティングするようにしてもよ
い。或いは、カーテンコート法、スロットコート法等に
よって塗布してもよい。具体的な塗布方法としては、特
公昭33−8977号公報、特公昭45−12390号
公報、特開昭52−115214号公報、特公昭63−
22192号公報、特公平2−18143号公報等に記
載のものがある。An antistatic agent may be added to the first layer a, the second layer b and the third layer c in order to prevent charging.
Then, the first layer a, the second layer b and the third layer c are simultaneously coated on the transparent protective layer 1 by a slide coating method. That is, it is applied by being extruded from the slide head so as to be superposed in a wet state. Applied first layer a, second
The layer b and the third layer c are delicately mixed during air-drying or heat-drying, and apparently have no interface before radiation curing. Then, it is cured by irradiation with radiation. As a result, the interface is eliminated, and the bendability is improved. in this case,
The coating may be performed by appropriately diluting with a solvent. Alternatively, it may be applied by a curtain coating method, a slot coating method, or the like. Specific coating methods include JP-B-33-8977, JP-B-45-12390, JP-A-52-115214, and JP-B-63-
22192 and Japanese Patent Publication No. 2-18143.
【0022】なお、本実施例では硬化層6を3層で構成
する場合を示したが、2層、4層、5層等でもよい。こ
の場合も、各層を構成する放射線硬化型樹脂の硬化収縮
率を透明保護層1との界面から表面に向けて順に大きく
すると、カードの反りを押さえながらカード表面の硬度
を高くすることができる。なお、各層の厚みを最外層に
向けて順に薄くした方が曲げに対して強くなる。また、
カードの反りの状態は各層の硬化収縮率と厚みによって
変化するため、反りを最小限に押さえるようにこの2つ
をパラメーターとして最終の層構成を決定すればよい。
なお、硬度の判断基準は、鉛筆硬度の他、落差磨耗、ス
チールウール、テーバー磨耗等のいずれを用いてもよ
い。Although the hardened layer 6 is composed of three layers in this embodiment, it may be composed of two layers, four layers, five layers or the like. Also in this case, the hardness of the card surface can be increased while suppressing the warp of the card by increasing the curing shrinkage of the radiation curable resin forming each layer from the interface with the transparent protective layer 1 toward the surface. It should be noted that it becomes stronger against bending if the thickness of each layer is successively reduced toward the outermost layer. Also,
The warp state of the card changes depending on the curing shrinkage rate and thickness of each layer, so that the final layer constitution may be determined using these two as parameters so as to minimize the warp.
In addition to the pencil hardness, any of drop wear, steel wool, Taber wear, etc. may be used as the criterion for determining the hardness.
【0023】また、本実施例では放射線硬化型樹脂を用
いて硬化層6を形成する場合について説明したが、シリ
コン系、メラミン系等の他の反応硬化型樹脂を使用する
ことも可能である。Further, although the case where the cured layer 6 is formed by using the radiation curable resin has been described in this embodiment, it is also possible to use other reaction curable resins such as silicon type and melamine type.
【0024】透明保護層1の下面に形成するパターン層
2は、一般に既知の2P法、インジェクション法、キャ
スティング法等を用いてパターン層として形成される。
この時、2P法でパターン層2を形成する場合はUVで
硬化する樹脂を用い、インジェクション法、キャスティ
ング法では透明保護層1と同一のものを使用する。The pattern layer 2 formed on the lower surface of the transparent protective layer 1 is formed as a pattern layer by the generally known 2P method, injection method, casting method or the like.
At this time, when the pattern layer 2 is formed by the 2P method, a UV-curable resin is used, and by the injection method or the casting method, the same transparent protective layer 1 is used.
【0025】光記録層3としては、一般に用いられてい
る金属系光記録材料のテルル系、ビスマス系等の他に、
染料系光記録材料のフタロシアニン系、ナフトキノン系
等を使用できる。また、追記型だけでなくROM型でも
よい。As the optical recording layer 3, in addition to the commonly used metallic optical recording materials such as tellurium and bismuth,
Phthalocyanine-based and naphthoquinone-based dye recording materials can be used. Further, not only the write-once type but also the ROM type may be used.
【0026】カード基材4としては、ポリ塩化ビニル、
ポリエチレンテレフタレート、ABS、ポリカーボネー
ト、ポリプロピレン等を用いることができる。ポリ塩化
ビニルを使用する場合、構成としては、0.05/0.
20/0.05mm、0.05/0.24/0.05m
m、0.05/0.26/0.05mm、0.05/
0.30/0.05mm等の3層、0.20/0.10
mm、0.24/0.10mm、0.26/0.10m
m、0.30/0.10mm等の2層、0.30mm、
0.34mm、0.36mm、0.40mmの1層な
ど、いずれの層構成も可能である。なお、0.10m
m、0.05mmのものは透明であり、0.20mm以
上のものは乳白である。そして、印刷の耐磨耗性を上げ
るため、ポリ塩化ビニルを用いる場合、乳白ポリ塩化ビ
ニルに印刷を施し、透明ポリ塩化ビニルで熱融着する2
層又は3層の方が好ましい。As the card substrate 4, polyvinyl chloride,
Polyethylene terephthalate, ABS, polycarbonate, polypropylene and the like can be used. When polyvinyl chloride is used, the composition is 0.05 / 0.
20 / 0.05mm, 0.05 / 0.24 / 0.05m
m, 0.05 / 0.26 / 0.05 mm, 0.05 /
3 layers of 0.30 / 0.05mm, 0.20 / 0.10
mm, 0.24 / 0.10 mm, 0.26 / 0.10 m
m, two layers of 0.30 / 0.10 mm, 0.30 mm,
Any layer structure is possible, such as one layer of 0.34 mm, 0.36 mm, and 0.40 mm. In addition, 0.10m
Those with m and 0.05 mm are transparent, and those with 0.20 mm or more are milky white. Then, in order to increase the abrasion resistance of printing, when polyvinyl chloride is used, printing is performed on milky polyvinyl chloride and heat fusion is performed with transparent polyvinyl chloride. 2
Layers or three layers are preferred.
【0027】接着層5に用いる接着剤としては、ウレタ
ン系、エポキシ系、アクリル系、ビニル系、アミド系な
ど従来既知のものが使用できるが、接着剤は光記録層3
に直接接触するため、記録感度がよく、温湿度適性に優
れているものが好ましい。膜厚は10〜100μm程度
が望ましく、グラビアコーティング法、スピンコーティ
ング法、ナイフコーティング法、シルクスクリーン法、
ミヤバーコーティング法、T−ダイコーティング法等に
より塗布し、平プレス法、ロールプレス法等により熱プ
レスして接着する。As the adhesive used for the adhesive layer 5, conventionally known adhesives such as urethane type, epoxy type, acrylic type, vinyl type and amide type can be used. The adhesive is the optical recording layer 3
Since it is in direct contact with, it is preferable to have good recording sensitivity and excellent temperature and humidity suitability. A film thickness of about 10 to 100 μm is desirable, and a gravure coating method, a spin coating method, a knife coating method, a silk screen method,
It is applied by the Miyabar coating method, the T-die coating method or the like, and is heat pressed and adhered by the flat pressing method, the roll pressing method or the like.
【0028】なお、光記録層3の記録感度が低い場合、
光記録層3と接着層5との間に増感層を形成するが、記
録感度が十分である場合にはその必要はない。また、接
着層5は光記録層3と接するが、接着剤によって光記録
層3の感度が劣化する場合にはこれを避けるために透明
保護層を設ける。そして増感層を設けた場合にはこの透
明保護層は接着層5との間に形成されるものではある
が、上記増感層と兼ねることも可能である。けれども、
光記録層3の劣化がない材料を選んだ場合にはこの透明
保護層は設ける必要がない。When the recording sensitivity of the optical recording layer 3 is low,
A sensitizing layer is formed between the optical recording layer 3 and the adhesive layer 5, but it is not necessary if the recording sensitivity is sufficient. Further, the adhesive layer 5 is in contact with the optical recording layer 3, but if the sensitivity of the optical recording layer 3 deteriorates due to the adhesive, a transparent protective layer is provided to avoid this. When the sensitizing layer is provided, the transparent protective layer is formed between the transparent protective layer and the adhesive layer 5, but it can also serve as the sensitizing layer. However,
When a material that does not deteriorate the optical recording layer 3 is selected, it is not necessary to provide this transparent protective layer.
【0029】また、カード使用上の多様化を図る場合に
は、光記録部材と同一面又は反対面若しくはカード基材
4の両面に磁気ストライプを設けたり、光記録部材と同
一面又は反対面にICモジュールを設けるようにすると
よい。In order to diversify the use of the card, magnetic stripes may be provided on the same surface or opposite surfaces of the optical recording member or both surfaces of the card substrate 4, or on the same surface or opposite surface of the optical recording member. It is advisable to provide an IC module.
【0030】次に、比較例とともに具体例を挙げて説明
する。Next, a specific example will be described together with a comparative example.
【0031】(具体例1)厚さが0.4mmで400m
m巾の押出し成形ポリカーボネートを透明保護層として
用い、その片面に下記組成よりなる3種類の放射線硬化
型樹脂をそれぞれ厚さ20μm、10μm、5μm程度
になるようにIPAで希釈しスライドコート法で重なる
ように同時に塗布した後、高圧水銀灯を用いて硬化させ
た。第1層、第2層、第3層に用いた放射線硬化型樹脂
の硬化収縮率はそれぞれ9.6%、13.0%、14.
5%であり、鉛筆硬度はガラス上でそれぞれ2H、4
H、7Hである。そして、最終形態での鉛筆硬度はHで
あり、テーバー磨耗はCS−10、1kg荷重、100
回転でヘイズ値9.8%であった。(Specific example 1) 400 m when the thickness is 0.4 mm
Extruded polycarbonate with a width of m is used as a transparent protective layer, and three types of radiation-curable resins having the following compositions are diluted on one side with IPA to a thickness of 20 μm, 10 μm, and 5 μm, respectively, and they are overlapped by a slide coating method. As described above, they were simultaneously coated and then cured using a high pressure mercury lamp. The curing shrinkage rates of the radiation curable resins used for the first layer, the second layer, and the third layer are 9.6%, 13.0%, and 14.
5% and the pencil hardness is 2H and 4 on glass, respectively.
H and 7H. And, the pencil hardness in the final form is H, and Taber abrasion is CS-10, 1 kg load, 100
The haze value was 9.8% by rotation.
【0032】 <第1層> ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ヘキサメチレンジアクリレート (日本化薬製、カヤラッドHDDA) 3重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 3重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部<First layer> Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 100 parts by weight Hexamethylene diacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad HDDA) 3 parts by weight Pentaerythritol triacrylate (Toagosei Co., Ltd., Aronix M-305) 3 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone ( Made by Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight
【0033】 <第2層> ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 80重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部<Second layer> Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 80 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku) Manufactured by Aronix M-450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone (Ciba Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight
【0034】 <第3層> 放射線硬化型樹脂 (東亜合成化学製、UV−3700) 100重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 0.5重量部<Third layer> Radiation curable resin (UV-3700, manufactured by Toagosei) 100 parts by weight Reactive silicone (X-22-5002, manufactured by Shin-Etsu Silicone) 0.5 parts by weight
【0035】次に、この第1層、第2層及び第3層から
なる硬化層を有する透明保護層の反対面に、2P法で案
内トラックのパターン層を形成し、その上からTeOx
をスパッタリングして光記録層を形成した。一方、0.
20mmの乳白塩ビからなるコアシートに両面シルクオ
フセットの印刷を行い、0.05mmのオーバーシート
2枚で挟み込み、熱融着にて3層のカード基材を作成し
た。オーバーシートの片面には650エルステッドの磁
気テープを形成しておいた。そして、このカード基材と
透明保護層を接着剤(東レ製、TU−4210)を用い
て接着した。接着剤の硬化後、カードサイズ(85.5
×54mm)に打ち抜いて光カードを作製した。Next, a pattern layer of the guide track is formed by the 2P method on the opposite surface of the transparent protective layer having the hardened layer consisting of the first layer, the second layer and the third layer, and TeOx is formed thereon.
Was sputtered to form an optical recording layer. On the other hand, 0.
Double-sided silk offset printing was performed on a 20 mm core sheet made of milky vinyl chloride, sandwiched between two 0.05 mm oversheets, and heat-fused to form a three-layer card base material. A magnetic tape of 650 Oersted was formed on one surface of the oversheet. Then, the card base material and the transparent protective layer were adhered to each other using an adhesive (manufactured by Toray, TU-4210). After curing the adhesive, the card size (85.5
It was punched out to (x54 mm) to produce an optical card.
【0036】以上のようにして得られた光カードに対
し、光カードR/W(オムロン製、3B3H−DJ−0
1)で100トラックのデータを書き込んで読み取った
ところ、エラーレートは1×10-4以下となり良好であ
った。また、折曲げ強度、密着性、透過性、反りのいず
れにも問題はなく、温湿度保存性も良く、カード使用に
十分耐えられるものであった。In comparison with the optical card obtained as described above, an optical card R / W (manufactured by OMRON, 3B3H-DJ-0
When data of 100 tracks was written and read in 1), the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Further, there were no problems in bending strength, adhesiveness, permeability, and warpage, and the temperature and humidity storability was good, and the card was sufficiently durable to use.
【0037】(具体例2)具体例1における第3層の組
成のみを変えて硬化層を形成した。すなわち、放射線硬
化型樹脂(東亜合成化学製、UV−3700)100重
量部に対して反応性シリコーン(信越シリコン製、X−
22−5002)0.5重量部を分散し、さらに第2層
で用いた樹脂を20重量部混合してなる組成物を使用し
た。この組成物の硬化収縮率は14.0%である。この
場合のテーバー磨耗はCS−10、1kg荷重、100
回転でヘイズ値10.5%であった。また、鉛筆硬度は
Hであった。そして、具体例1と同様にして光カードを
作製したところ、曲げ適正が一層良好となった。(Specific Example 2) A hardened layer was formed by changing only the composition of the third layer in Specific Example 1. That is, 100 parts by weight of a radiation curable resin (UV-3700 manufactured by Toagosei) is reactive silicone (X-X manufactured by Shin-Etsu Silicon).
22-5002) 0.5 part by weight was dispersed, and a composition obtained by further mixing 20 parts by weight of the resin used in the second layer was used. The cure shrinkage of this composition is 14.0%. Taber wear in this case is CS-10, 1 kg load, 100
The haze value was 10.5% by rotation. The pencil hardness was H. When an optical card was manufactured in the same manner as in Example 1, the bending suitability was further improved.
【0038】(具体例3)具体例1と同じ押出し成形ポ
リカーボネートを透明保護層として用い、その片面に下
記組成よりなる3種類の放射線硬化型樹脂をそれぞれ厚
さ25μm、12μm、4μm程度になるようにトルエ
ンで希釈しスライドコート法により重なるように同時に
塗布した後、高圧水銀灯を用いて硬化させた。第1層、
第2層、第3層に用いた放射線硬化型樹脂の硬化収縮率
はそれぞれ11.9%、13.5%、14.3%であ
り、鉛筆硬度はガラス上でそれぞれ2H、4H、7Hで
ある。そして、最終形態での鉛筆硬度はHであり、テー
バー磨耗はCS−10、1kg荷重、100回転でヘイ
ズ値9.0%であった。(Specific Example 3) The same extruded polycarbonate as in Specific Example 1 was used as a transparent protective layer, and three types of radiation curable resins having the following compositions were formed on one surface of the transparent protective layer so that the thicknesses were about 25 μm, 12 μm and 4 μm, respectively. Was diluted with toluene and simultaneously coated by a slide coating method so as to overlap each other, and then cured using a high pressure mercury lamp. The first layer,
The curing shrinkage rates of the radiation curable resins used for the second layer and the third layer are 11.9%, 13.5% and 14.3%, respectively, and the pencil hardness is 2H, 4H and 7H on glass, respectively. is there. Then, the pencil hardness in the final form was H, and the Taber abrasion was CS-10, a load of 100 kg, a haze value of 9.0% at 100 rotations.
【0039】 <第1層> ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 100重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 1重量部<First Layer> Urethane Acrylate Oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 100 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku) Manufactured by Aronix M-450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone (Ciba-Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight Reactive silicone (Shin-Etsu Silicon, X-22-5002) 1 part by weight
【0040】 <第2層> ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 70重量部 ペンタエリスリトールトリアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−305) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 50重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 10重量部 反応性シリコーン (信越シリコン製、X−22−5002) 1重量部<Second layer> Urethane acrylate oligomer (Nippon Gosei Kagaku Kogyo, Gocerac UV7500B) 70 parts by weight pentaerythritol triacrylate (Toagosei Kagaku, Aronix M-305) 10 parts by weight pentaerythritol tetraacrylate (Toagosei Kagaku) Manufactured by Aronix M-450) 10 parts by weight dipentaerythritol hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 50 parts by weight 1-hydroxycyclohexylphenyl Ketone (Ciba-Geigy, Irgacure 184) 10 parts by weight Reactive silicone (Shin-Etsu Silicon, X-22-5002) 1 part by weight
【0041】 <第3層> ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 3重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 5重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 0.5重量部 シリコンヘキサアクリレート (ダイセルUCB製、Ebecril−1360) 0.01重量部<Third Layer> Dipentaerythritol Hexaacrylate (Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 10 parts by weight Pentaerythritol Tetraacrylate (Toa Gosei Kagaku, Aronix M-450) 10 parts by weight Urethane Acrylate Oligomer (Nippon Synthetic Chemistry) Industrial, Gocelac UV7500B) 3 parts by weight N-vinylpyrrolidone (Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 5 parts by weight 1-Hydroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba-Geigy, Irgacure 184) 0.5 parts by weight Silicon hexaacrylate ( Daicel UCB, Ebecryl-1360) 0.01 parts by weight
【0042】以下、具体例1と同様にしてパターン層、
光記録層を形成し、カード基材と貼り合わせてからカー
ドサイズに打ち抜いて光カードを作製した。そして、こ
のようにして得られた光カードに対し、光カードR/W
(オムロン製、3B3H−DJ−01)で100トラッ
クのデータを書き込んで読み取ったところ、エラーレー
トは1×10-4以下となり良好であった。また、折曲げ
強度、密着性、透過性、反りのいずれにも問題はなく、
温湿度保存性も良く、カード使用に十分耐えられるもの
であった。Thereafter, in the same manner as in Example 1, a pattern layer,
An optical recording layer was formed, bonded to a card substrate, and then punched into a card size to prepare an optical card. Then, an optical card R / W is used for the optical card thus obtained.
When data of 100 tracks was written and read by (3B3H-DJ-01 manufactured by OMRON), the error rate was 1 × 10 −4 or less, which was good. Also, there is no problem in bending strength, adhesion, permeability, or warpage,
The temperature and humidity storability was good, and it was able to withstand card usage.
【0043】(比較例1)厚さ0.4mmで200×2
00mmサイズの押出し成形ポリカーボネートを透明保
護層として用い、その片面に下記組成よりなる放射線硬
化型樹脂をミヤバーで10μmの厚みで塗工し、これに
UVランプ(フュージョン製、マイクロウェーブ方式)
を照射して硬化させての硬化層を形成した。なお、この
放射線硬化型樹脂のUV硬化時における収縮率は13.
5%であった。(Comparative Example 1) 200 × 2 with a thickness of 0.4 mm
Extrusion-molded polycarbonate of 00 mm size was used as a transparent protective layer, and a radiation curable resin having the following composition was applied on one side thereof with a miya bar to a thickness of 10 μm, and a UV lamp (made by Fusion, microwave method)
Was irradiated and cured to form a cured layer. The shrinkage ratio of this radiation-curable resin during UV curing was 13.
5%.
【0044】 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート (日本化薬製、カヤラッドDPHA) 10重量部 ペンタエリスリトールテトラアクリレート (東亜合成化学製、アロニックスM−450) 10重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー (日本合成化学工業製、ゴーセラックUV7500B) 2重量部 N−ビニルピロリドン (東亜合成化学製、アロニックスM−150) 5重量部 1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン (チバガイギー製、イルガキュアー184) 0.5重量部Dipentaerythritol hexaacrylate (manufactured by Nippon Kayaku, Kayarad DPHA) 10 parts by weight Pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-450) 10 parts by weight Urethane acrylate oligomer (manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry, Gocellac UV7500B) ) 2 parts by weight N-vinylpyrrolidone (manufactured by Toagosei Kagaku, Aronix M-150) 5 parts by weight 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone (manufactured by Ciba Geigy, Irgacure 184) 0.5 parts by weight
【0045】このように硬化層を10μmの厚みで形成
したところ、テーバー磨耗はCS−10、1kg荷重、
100回転でヘイズ値9.5%であったが、鉛筆硬度は
HBであった。また、反りは3.5mmであった。この
ように厚みが不十分であると、十分な鉛筆硬度が得られ
ない。When the hardened layer was thus formed to have a thickness of 10 μm, Taber abrasion was CS-10, 1 kg load,
The haze value was 9.5% at 100 rotations, but the pencil hardness was HB. The warpage was 3.5 mm. If the thickness is insufficient as described above, sufficient pencil hardness cannot be obtained.
【0046】(比較例2)比較例1において、硬化層を
25μmの厚みで形成したところ、テーバー磨耗はヘイ
ズ値9.5%であり、鉛筆硬度はHであった。ただし、
この時の反りは4.8mmとなり、また曲げテストでク
ラックが生じた。このように、硬化収縮率の大きなもの
を使用した場合、厚みを大きくすると反りが大きくな
り、曲げ適正に劣ることになる。Comparative Example 2 In Comparative Example 1, when the hardened layer was formed to a thickness of 25 μm, the Taber abrasion had a haze value of 9.5% and the pencil hardness was H. However,
The warp at this time was 4.8 mm, and cracks were generated in the bending test. As described above, when a material having a large curing shrinkage is used, the warp becomes large when the thickness is increased, resulting in poor bending appropriateness.
【0047】[0047]
【発明の効果】本発明は上述のように構成されているの
で、次に記載の効果を奏する。Since the present invention is constructed as described above, it has the following effects.
【0048】本発明の光記録媒体は、硬化型樹脂により
透明保護層上に設ける硬化層を、その硬度が透明保護層
との界面から表面に向かって連続的に高くなるように構
成したので、硬度の高いもの、すなわち硬化収縮率の大
きなものが外側に、硬度の低いもの、すなわち硬化収縮
率の小さなものが内側に存在し、しかもこれらの間に界
面がなく連続した状態になっていることから、全体に反
りが少なく、曲げ適正に非常に優れ、しかも耐擦傷性に
優れたものとなる。In the optical recording medium of the present invention, the hardened layer formed on the transparent protective layer by the curable resin is structured so that its hardness continuously increases from the interface with the transparent protective layer toward the surface. Those with high hardness, that is, those with high curing shrinkage, are on the outside, and those with low hardness, that is, those with low curing shrinkage, are inside, and there is no interface between them and they are in a continuous state. Therefore, there is little warpage as a whole, the bending property is very excellent, and the scratch resistance is excellent.
【0049】また、硬化収縮率の異なる複数の硬化型樹
脂を重ね合わせるように同時に供給した後、一括して硬
化させることで透明保護層上に硬化層を形成するように
したので、硬化時までに微妙に混合しあい、見かけ上界
面がなくなり、さらに透明保護層との界面から表面に向
けて硬度が高くなっているため、曲げ適正に非常に優
れ、さらに耐擦傷性及び反りに優れた光記録媒体を作成
することができる。Further, a plurality of curable resins having different curing shrinkage rates are simultaneously supplied so as to be superposed, and then they are collectively cured to form a cured layer on the transparent protective layer. Optical recording with excellent bending suitability and excellent scratch resistance and warpage due to the fact that there is no apparent interface between them and the hardness increases from the interface with the transparent protective layer toward the surface. Media can be created.
【図1】一般的な光カードの断面図である。FIG. 1 is a cross-sectional view of a general optical card.
【図2】本発明に係る光カードの一実施例を示す断面図
である。FIG. 2 is a sectional view showing an embodiment of an optical card according to the present invention.
1 透明保護層 2 パターン層 3 光記録層 4 カード基材 5 接着層 6 硬化層 a 第1層 b 第2層 c 第3層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent protective layer 2 Pattern layer 3 Optical recording layer 4 Card base material 5 Adhesive layer 6 Curing layer a 1st layer b 2nd layer c 3rd layer
Claims (6)
してなり、前記透明保護層上に硬化型樹脂による硬化層
が設けられた光記録媒体において、前記硬化層の硬度が
透明保護層との界面から表面に向かって連続的に高くな
っていることを特徴とする光記録媒体。1. An optical recording medium comprising at least a transparent protective layer and an optical recording layer laminated, and a cured layer of a curable resin provided on the transparent protective layer, wherein the hardness of the cured layer is the transparent protective layer. The optical recording medium is characterized in that the height increases continuously from the interface to the surface.
とを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。2. The optical recording medium according to claim 1, wherein a leveling agent is added to the cured layer.
を特徴とする請求項1又は2記載の光記録媒体。3. The optical recording medium according to claim 1, wherein an antistatic agent is added to the cured layer.
してなり、前記透明保護層上に硬化型樹脂による硬化層
が設けられた光記録媒体の作成方法において、硬化収縮
率の異なる複数の硬化型樹脂を透明保護層との界面から
表面に向かってその硬化収縮率が大きくなる状態で重ね
合わせるように同時に供給した後、一括して硬化させる
ことにより前記硬化層を形成することを特徴とする光記
録媒体の作成方法。4. A method for producing an optical recording medium, which comprises at least a transparent protective layer and an optical recording layer laminated, and a cured layer of a curable resin is provided on the transparent protective layer. The curable resin is simultaneously supplied so as to be superposed from the interface with the transparent protective layer toward the surface so that the curing shrinkage rate increases, and then the curable resin is collectively cured to form the cured layer. Method for making optical recording medium.
用することを特徴とする請求項4記載の光記録媒体の作
成方法。5. The method for producing an optical recording medium according to claim 4, wherein a curable resin added with a leveling agent is used.
することを特徴とする請求項4又は5記載の光記録媒体
の作成方法。6. The method for producing an optical recording medium according to claim 4 or 5, wherein a curable resin containing an antistatic agent is used.
Priority Applications (4)
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