JPH0887538A - Design method for semiconductor integrated circuit - Google Patents

Design method for semiconductor integrated circuit

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Publication number
JPH0887538A
JPH0887538A JP6223756A JP22375694A JPH0887538A JP H0887538 A JPH0887538 A JP H0887538A JP 6223756 A JP6223756 A JP 6223756A JP 22375694 A JP22375694 A JP 22375694A JP H0887538 A JPH0887538 A JP H0887538A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
scan
circuit
cell
scan test
test cell
Prior art date
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Pending
Application number
JP6223756A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroaki Yamamoto
博朗 山本
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Fujifilm Business Innovation Corp
Original Assignee
Fuji Xerox Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Xerox Co Ltd filed Critical Fuji Xerox Co Ltd
Priority to JP6223756A priority Critical patent/JPH0887538A/en
Publication of JPH0887538A publication Critical patent/JPH0887538A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To provide a design method which can shorten the designing time of a semiconductor integrated circuit. CONSTITUTION: A scanning test cent arrangement area is secured in a scanning test cell arrangement position securing process S31 and at the same time the scan control signals are distributed. Then an ordinary logic part is secured in addition to the scanning test cell arrangement area (S32), and the real wiring length is extracted (S33). On the other hand, the permuting and inserting positions are decided for the scanning test cells (S21). Then the scanning test cells are permuted and inserted in a logic circuit (S22). These processes can be carried out in parallel and independently of each other. The timing of the virtual wiring length including the scanning test cells is verified (S23) based on the real wiring length extracted in the process S33. Then the scanning test cells are arranged and wired (S34). A scanning sequence is decided (S35) and a logical scan path is generated (S24). Then the scan path is actually wired (S36).

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、スキャンパス用テスト
セル方式を使用する半導体集積回路の配置、配線などの
レイアウトの設計方法に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a layout designing method for semiconductor integrated circuits using a scan path test cell system, such as layout and wiring.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、半導体集積回路のテストを容易化
するため、予めラッチやレジスタなどのテスト用の回路
セルを一般の回路の各所に挿入しておき、製造された半
導体集積回路に対してこのテスト用の回路セルを用いた
スキャンパス方式のテストが行なわれている。このよう
なテスト用の回路セル、すなわち、スキャン用テストセ
ルは、半導体集積回路のレイアウト時に一般の回路とと
もに組み込んでおく必要がある。
2. Description of the Related Art In recent years, in order to facilitate testing of semiconductor integrated circuits, test circuit cells such as latches and registers have been previously inserted in various places of a general circuit, and the manufactured semiconductor integrated circuits have to be manufactured. A scan-path test using this test circuit cell has been performed. Such a test circuit cell, that is, a scan test cell needs to be incorporated together with a general circuit at the time of layout of the semiconductor integrated circuit.

【0003】図8は、従来の半導体集積回路の設計方法
を示すフローチャートである。S1において、半導体集
積回路に集積させる回路の論理設計を行なう。次に、S
2において、スキャン用テストセルの論理設計を行な
う。S3では、S1で設計された論理回路と、S2で設
計されたスキャン用テストセルの論理設計をもとに、こ
れらを物理的に実現するためのレイアウト設計を行な
う。最後に、S4において、S3でレイアウト設計を行
なった後の実配線長を用いて、タイミングの検証等のシ
ミュレーションを行なう。
FIG. 8 is a flow chart showing a conventional method for designing a semiconductor integrated circuit. In S1, the logic of the circuit to be integrated in the semiconductor integrated circuit is designed. Then S
In 2, the logic design of the scan test cell is performed. In S3, based on the logic design of the S1 and the scan test cell designed in S2, a layout design for physically realizing them is performed. Finally, in S4, simulation such as timing verification is performed using the actual wiring length after the layout design in S3.

【0004】また、S2におけるスキャン用テストセル
の論理設計においては、S21においてスキャン用テス
トセルを一般の論理回路のどの部分を置換、挿入するか
を決定し、S22において実際に論理回路にスキャン用
テストセルを置換、挿入し、S23においてスキャン用
テストセルを置換、挿入した後の仮想配線長を使用して
シミュレーションによってタイミングを検証する。
Further, in the logic design of the scan test cell in S2, it is determined in S21 which part of the general logic circuit is to be replaced or inserted with the scan test cell, and in S22, the scan test cell is actually scanned into the logic circuit. The timing is verified by simulation using the virtual wiring length after replacing and inserting the test cell and replacing and inserting the scan test cell in S23.

【0005】このような手法では、S1の論理設計から
S4の実配線長シミュレーションまで順次実行しなけれ
ばならないため、設計時間が長くなるという欠点があっ
た。また、実配線長のシミュレーションは、スキャン用
テストセルを含めたすべての回路をレイアウトした後で
なければ行なうことはできず、論理設計段階まで戻って
修正を行なう場合には、必要のない場合であってもスキ
ャン用テストセルの論理設計、レイアウト設計をやり直
すことになり、さらに設計時間が長くなるという問題が
ある。
In such a method, since the logic design in S1 to the actual wiring length simulation in S4 must be sequentially executed, there is a drawback that the design time becomes long. Also, the simulation of the actual wiring length can be performed only after laying out all the circuits including the scan test cells, and when it is necessary to go back to the logic design stage and make corrections, it is not necessary. Even if there is, the logic design and layout design of the scan test cell must be redone, which further increases the design time.

【0006】従来の半導体集積回路の設計方法として
は、例えば、特開平4−96252号公報に記載されて
いるものがある。この文献中では、スキャンレジスタに
置換しない場合のレイアウトを行ない、そのレイアウト
情報を使用してスキャンレジスタへの置換を行ない、ス
キャンレジスタの接続、すなわち、スキャンチェーンを
決定し、決定されたスキャンチェーンの情報に合わせテ
ストベクタを作成している。このような技術によって、
スキャンレジスタ、スキャンチェーンを自動挿入するこ
とができ、レイアウト設計を容易化することができる。
しかし、図8に示した各ステップを変更するものではな
く、順次実行することによる設計時間の長期化は避けら
れない。
As a conventional method for designing a semiconductor integrated circuit, there is, for example, a method described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-96252. In this document, the layout is performed when the scan register is not replaced, the scan register is replaced using the layout information, the scan register connection, that is, the scan chain is determined, and the determined scan chain is Test vectors are created according to the information. With such technology,
The scan register and the scan chain can be automatically inserted, and the layout design can be facilitated.
However, the steps shown in FIG. 8 are not changed, and it is inevitable that the design time is lengthened by sequentially executing the steps.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上述した事
情に鑑みてなされたもので、半導体集積回路の設計時間
を短縮することのできる設計方法を提供することを目的
とするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a design method capable of shortening the design time of a semiconductor integrated circuit.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、スキャンパス
方式により試験を行なうためのテスト回路セルを有する
半導体集積回路の設計方法において、前記テスト回路セ
ルの配置領域を確保し、前記テスト回路セル以外の一般
回路セルの配置を行ない、先に確保したテスト回路セル
の配置領域に前記テスト回路セルを配置し、レイアウト
を決定することを特徴とするものである。
According to the present invention, in a method of designing a semiconductor integrated circuit having a test circuit cell for performing a test by a scan path method, a region for arranging the test circuit cell is secured, and the test circuit cell is secured. Other general circuit cells are arranged, the test circuit cells are arranged in the previously reserved test circuit cell arrangement area, and the layout is determined.

【0009】前記テスト回路セルの配置領域を確保する
際に、該配置領域に配置される前記テスト回路セルを接
続する制御信号線を配線するように構成することもでき
る。
When securing the placement area of the test circuit cell, a control signal line for connecting the test circuit cell placed in the placement area may be wired.

【0010】[0010]

【作用】本発明によれば、一般回路セルのレイアウトを
完了するまではテスト回路セルの論理設計に関する情報
を必要とせずにレイアウト設計を進めることができる。
そのため、テスト回路セルの論理設計とレイアウト設計
を並行して行なうことが可能となる。また、一般回路セ
ルのレイアウトは、テスト回路セルの論理設計とは独立
して行なわれるため、例えば、一般回路セルのレイアウ
ト上のミスが発見されても、テスト回路セルの論理設計
に影響を与えずに修正が可能である。さらに、一般回路
セルのレイアウトが完了した時点で一般回路セルの実配
線長が決定されるので、テスト回路セルの回路配線長の
シミュレーションを行なう際にこれらの情報を用いたテ
ストを行なうことができ、テスト回路セル側の修正を早
期に行なうことができる。
According to the present invention, it is possible to proceed with the layout design without requiring information about the logic design of the test circuit cell until the layout of the general circuit cell is completed.
Therefore, the logic design and layout design of the test circuit cell can be performed in parallel. Also, since the layout of the general circuit cell is performed independently of the logic design of the test circuit cell, even if a mistake in the layout of the general circuit cell is found, it has an influence on the logic design of the test circuit cell. It can be modified without. Further, since the actual wiring length of the general circuit cell is determined when the layout of the general circuit cell is completed, it is possible to perform a test using this information when simulating the circuit wiring length of the test circuit cell. The test circuit cell side can be corrected early.

【0011】[0011]

【実施例】図1は、本発明の半導体集積回路の設計方法
の一実施例を示すフローチャートである。S1では、一
般回路セルの論理回路を決定する論理設計処理が行なわ
れる。S2では、テストを容易化するためのスキャン設
計処理を行なう。S3では、S1で論理設計された一般
回路セルおよびS2でスキャン設計されたスキャン用テ
ストセルを物理的にレイアウトするレイアウト設計処理
が行なわれる。S4では、S3でレイアウト設計を行な
った後の実配線長シミュレーションを行ない、タイミン
グを検証する実配線長シミュレーション処理が行なわれ
る。
1 is a flow chart showing an embodiment of a method for designing a semiconductor integrated circuit according to the present invention. In S1, a logic design process for determining the logic circuit of the general circuit cell is performed. In S2, a scan design process for facilitating the test is performed. In S3, a layout design process for physically laying out the general circuit cell logically designed in S1 and the scan test cell scan-designed in S2 is performed. In S4, the actual wiring length simulation after the layout design in S3 is performed, and the actual wiring length simulation process for verifying the timing is performed.

【0012】S2において行なわれるスキャン設計処理
としては、次の各処理が行なわれる。S21において、
テストセルを論理回路のどの部分と置換、挿入するかを
決定するスキャン用テストセル位置決定処理が行なわれ
る。S22において、論理回路にスキャン用テストセル
を置換、挿入するスキャン用テストセル置換挿入処理が
行なわれる。S23において、スキャン用テストセルを
置換、挿入した後のスキャン部分の仮想配線長と、S3
3で抽出される一般ロジック部分の実配線長を使用して
タイミングを検証する仮想配線長シミュレーション処理
が行なわれる。S24において、S3のレイアウト設計
に合わせたスキャン用テストセルのスキャンパスを作成
するスキャンパス生成処理が行なわれる。
As the scan design process performed in S2, the following processes are performed. In S21,
Scan test cell position determination processing is performed to determine which portion of the logic circuit the test cell is to be replaced with and inserted. In S22, a scan test cell replacement / insertion process of replacing and inserting a scan test cell in the logic circuit is performed. In S23, the virtual wiring length of the scan portion after the scan test cell is replaced and inserted, and S3
A virtual wiring length simulation process for verifying the timing is performed using the actual wiring length of the general logic portion extracted in 3. In S24, a scan path generation process for creating a scan test cell scan path according to the layout design in S3 is performed.

【0013】また、S3において行なわれるレイアウト
設計処理としては、次の各処理が行なわれる。S31に
おいて、スキャン用テストセルを配置する領域を確保す
るスキャン用テストセル配置位置確保処理が行なわれ
る。S32において、スキャン用テストセルを除く一般
ロジック部の配置配線を行なう一般ロジック部レイアウ
ト設計処理が行なわれる。S33において、S32の結
果の実配線長を抽出する実配線長抽出処理が行なわれ
る。S34において、S21で決定したスキャン用テス
トセルをS31で確保した位置に配置するスキャン用テ
ストセル配置処理が行なわれる。S35において、テス
トベクタを作成するために必要になるスキャン用テスト
セルのチェーンの順番を決定するための35のスキャン
用テストセル位置抽出処理が行なわれる。S36におい
て、S24で決定したスキャンパスを実現するスキャン
パス配線処理が行なわれる。
As the layout design process performed in S3, the following processes are performed. In S31, a scan test cell placement position securing process for securing a region where the scan test cells are placed is performed. In step S32, a general logic section layout design process is performed for placing and wiring the general logic section excluding the scan test cells. In S33, an actual wiring length extracting process for extracting the actual wiring length as a result of S32 is performed. In S34, a scan test cell placement process of placing the scan test cell determined in S21 at the position secured in S31 is performed. In S35, the scan test cell position extraction process of 35 for determining the order of the scan test cell chain necessary for creating the test vector is performed. In S36, a scan path wiring process for realizing the scan path determined in S24 is performed.

【0014】次に、具体例を用いて本発明の設計方法の
流れを説明する。図2は、本発明の設計方法によるレイ
アウトの一具体例を示す模式図である。図中、41は半
導体集積回路、42はI/O部、T1ないしTnはスキ
ャン用テストセル、TE,SE,TCはスキャン用制御
信号、SI,SOはスキャン信号、DI1ないしDIn
は内部データ観測信号、DO1ないしDOnは内部デー
タ制御信号である。以下の説明では、図2に示すレイア
ウトを得る場合について説明する。
Next, the flow of the design method of the present invention will be described using a specific example. FIG. 2 is a schematic diagram showing a specific example of the layout according to the design method of the present invention. In the figure, 41 is a semiconductor integrated circuit, 42 is an I / O unit, T1 to Tn are scan test cells, TE, SE and TC are scan control signals, SI and SO are scan signals, and DI1 to DIn.
Is an internal data observation signal, and DO1 to DOn are internal data control signals. In the following description, the case of obtaining the layout shown in FIG. 2 will be described.

【0015】半導体集積回路41内には、複数のスキャ
ン用テストセルT1〜Tnが配置されている。各スキャ
ン用テストセルT1〜Tnには、スキャン用制御信号T
E,SE,TCが入力されている。スキャン用信号T
E,SEは、各スキャン用テストセルT1〜Tnの動作
モードを設定するための信号であり、スキャン用信号T
Cは、各スキャン用テストセルT1〜Tnが動作するた
めのタイミングを供給するための信号である。スキャン
用信号TE,SE,TCは、半導体集積回路41のI/
O部42を介して外部より与える。
In the semiconductor integrated circuit 41, a plurality of scan test cells T1 to Tn are arranged. Each of the scan test cells T1 to Tn has a scan control signal T
E, SE, TC are input. Scan signal T
E and SE are signals for setting the operation modes of the scan test cells T1 to Tn, and the scan signal T
C is a signal for supplying a timing for operating each of the scan test cells T1 to Tn. The scan signals TE, SE, TC are I / O of the semiconductor integrated circuit 41.
It is given from the outside through the O section 42.

【0016】スキャン用テストセルT1のスキャン信号
SIの端子には、I/O部42を介して外部からスキャ
ン信号SIが入力される。スキャン用テストセルT2〜
Tnのスキャン信号SIの端子には、別のスキャン用テ
ストセルT1〜Tn−1のスキャン信号SOの端子と接
続され、スキャン用テストセルT1〜Tnはシリアルに
接続されている。そして、スキャン用テストセルTnの
スキャン信号SOの端子からI/O部42を介してスキ
ャン信号SOが外部に出力されている。ここではすべて
のスキャン用テストセルがシリアルに接続されている
が、いくつかのグループごとにシリアルに接続する構成
であってもよい。テストを行なう際には、スキャン信号
SIを外部より与えたり、スキャン信号SOを観測する
ことによって一般ロジック部の動作状態を把握すること
ができ、半導体集積回路41のテストを行なうことがで
きる。
The scan signal SI of the scan test cell T1 is externally input with the scan signal SI via the I / O section 42. Scan test cell T2
The terminals of the scan signal SI of Tn are connected to the terminals of the scan signal SO of the other scan test cells T1 to Tn-1, and the scan test cells T1 to Tn are serially connected. Then, the scan signal SO is output to the outside from the terminal of the scan signal SO of the scan test cell Tn via the I / O unit 42. Here, all the scan test cells are serially connected, but a configuration in which some scan cells are serially connected may be used. When performing the test, the operating state of the general logic portion can be grasped by externally applying the scan signal SI and observing the scan signal SO, and the semiconductor integrated circuit 41 can be tested.

【0017】各スキャン用テストセルT1〜Tnには、
それぞれ、内部データ観測信号DI1〜DInが入力さ
れ、また、内部データ制御信号DO1〜DOnが出力さ
れている。内部データ観測信号DI1〜DInは、一般
の論理回路(一般ロジック部)から出力される信号であ
って、テストの際に観測対象となる信号である。また、
内部データ制御信号DO1〜DOnは一般ロジック部に
入力される信号であって、通常の動作時には内部データ
観測信号DI1〜DInが入力されるべき信号である。
テストの際には、この内部データ制御信号DO1〜DO
nを作成して与えることによって、種々のテストを行な
うことが可能である。内部データ制御信号DO1〜DO
nは、スキャン信号SIによって与えることができ、そ
のときの内部データ観測信号DI1〜DInは、スキャ
ン信号SOを観測することによって得ることができる。
Each of the scan test cells T1 to Tn includes:
The internal data observation signals DI1 to DIn are input and the internal data control signals DO1 to DOn are output, respectively. The internal data observation signals DI1 to DIn are signals output from a general logic circuit (general logic unit), and are signals to be observed during a test. Also,
The internal data control signals DO1 to DOn are signals input to the general logic unit, and the internal data observation signals DI1 to DIn should be input during normal operation.
During the test, the internal data control signals DO1 to DO
Various tests can be performed by creating and giving n. Internal data control signals DO1 to DO
n can be given by the scan signal SI, and the internal data observation signals DI1 to DIn at that time can be obtained by observing the scan signal SO.

【0018】図3は、スキャン用テストセルへの置換時
のスキャンチェーン回路の一例を示す模式図、図4はス
キャン用テストセルの挿入時のスキャンチェーン回路の
一例を示す模式図である。51ないし53は一般ロジッ
ク部である。スキャン用テストセルは、論理設計によっ
て作成された一般ロジック部内の例えばラッチやレジス
タなどの回路セルを置換して配置する場合と、一般ロジ
ック部外に配置し、一般ロジック部に挿入する場合があ
る。図3では、一般ロジック部51と一般ロジック部5
2の間に設けられていた回路セル、および、一般ロジッ
ク部52と一般ロジック部53の間に設けられていた回
路セルを、スキャン用テストセルT1〜T4に置換した
例を示している。置換されたスキャン用テストセルT1
〜T4は、それぞれ、スキャン信号SI,SOによりシ
リアルに接続されるとともに、スキャン用制御信号T
E,SE,TCが並列的に入力されている。
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a scan chain circuit at the time of replacement with a scan test cell, and FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a scan chain circuit at the time of inserting a scan test cell. Reference numerals 51 to 53 are general logic units. The scan test cell may be arranged by replacing a circuit cell such as a latch or a register in the general logic part created by the logic design, or may be arranged outside the general logic part and inserted in the general logic part. . In FIG. 3, the general logic section 51 and the general logic section 5 are shown.
2 shows an example in which the circuit cells provided between No. 2 and the circuit cells provided between the general logic unit 52 and the general logic unit 53 are replaced with scan test cells T1 to T4. Replaced scan test cell T1
To T4 are serially connected by the scan signals SI and SO, respectively, and the scan control signal T
E, SE, and TC are input in parallel.

【0019】図4では、一般ロジック部51に対して、
スキャン用テストセルT1〜Tnを用意し、一般ロジッ
ク部51内のn本の信号線に、それぞれ、スキャン用テ
ストセルT1〜Tnを挿入する。すなわち、信号線上の
信号は、スキャン用テストセルに内部データ観測信号D
I1〜DInとして取り出され、スキャン用テストセル
からの内部データ制御信号DO1〜DOnがもとの信号
線上の信号として一般ロジック部51に返される。各ス
キャン用テストセルT1〜Tnは、それぞれ、スキャン
信号SI,SOによりシリアルに接続されるとともに、
スキャン用制御信号TE,SE,TCが入力されてい
る。
In FIG. 4, with respect to the general logic section 51,
The scan test cells T1 to Tn are prepared, and the scan test cells T1 to Tn are inserted into the n signal lines in the general logic section 51, respectively. That is, the signal on the signal line is the internal data observation signal D in the scan test cell.
The internal data control signals DO1 to DOn from the scan test cells are taken out as I1 to DIn and returned to the general logic unit 51 as signals on the original signal lines. The scan test cells T1 to Tn are serially connected by the scan signals SI and SO, respectively, and
Scan control signals TE, SE, and TC are input.

【0020】図1に示したフローチャートにおいて、ま
ず、S1において、一般ロジック部の回路の論理設計が
行なわれる。そして、一般ロジック部の論理設計情報
は、S2のスキャン設計処理とS3のレイアウト設計処
理で用いられる。S2のスキャン設計処理とS3のレイ
アウト設計処理は、相互に関連しながら並列的に進めら
れる。
In the flow chart shown in FIG. 1, first, in S1, the logic design of the circuit of the general logic section is performed. Then, the logic design information of the general logic part is used in the scan design process of S2 and the layout design process of S3. The scan design process of S2 and the layout design process of S3 are performed in parallel while being mutually related.

【0021】まず、S2のスキャン設計処理では、S2
1のスキャン用テストセル位置決定処理において、スキ
ャン用テストセルを一般ロジック部の論理回路のうち、
どの部分をスキャン用テストセルに置換するか、あるい
は、どの部分にスキャン用テストセルを挿入するかを決
定する。例えば、図3や図4に示すような、論理設計上
のスキャン用テストセルの置換、挿入位置を決定する。
そして、S22のスキャン用テストセル置換挿入処理に
おいて、一般ロジック部の論理回路に対して、論理的な
スキャン用テストセルの置換、挿入が行なわれ、スキャ
ン用テストセルを含む論理回路が作成される。
First, in the scan design process of S2, S2
In the scan test cell position determining process of No. 1, the scan test cell is selected from among the logic circuits of the general logic unit.
It is determined which part should be replaced with the scan test cell or which part the scan test cell should be inserted into. For example, as shown in FIGS. 3 and 4, replacement and insertion positions of scan test cells in logic design are determined.
Then, in the scan test cell replacement / insertion process of S22, logical scan test cell replacement and insertion are performed with respect to the logic circuit of the general logic section, and a logic circuit including the scan test cell is created. .

【0022】スキャン設計処理のうち、S21のスキャ
ン用テストセル位置決定処理、および、S22のスキャ
ン用テストセル置換挿入処理と独立して、S3のレイア
ウト設計処理のうち、S31のスキャン用テストセル配
置位置確保処理、S32の一般ロジック部レイアウト設
計処理、S33の実配線長抽出処理を行なうことができ
る。これらの処理は、S21およびS22の処理と前後
して、あるいは並行して処理を行なうことができる。
Independently of the scan test cell position determining process of S21 and the scan test cell replacement inserting process of S22 in the scan design process, the scan test cell arrangement of S31 in the layout design process of S3 is performed. The position securing process, the general logic part layout designing process of S32, and the actual wiring length extracting process of S33 can be performed. These processes can be performed before or after the processes of S21 and S22, or in parallel.

【0023】まず、S31のスキャン用テストセル配置
位置確保処理では、半導体集積回路のレイアウト面に、
あらかじめ回路規模に応じた数、あるいはそれより多く
のスキャン用テストセルを配置するための配置領域を確
保する。そして、各スキャン用テストセルにスキャン制
御信号TE,SE,TCを供給するための配線を行な
う。このとき、このとき、スキャン制御信号TE,S
E,TCに接続される端子が同一Y座標になるようにス
キャン用テストセルを配置し、スキャン制御信号を配線
する。図5は、スキャン用テストセルの配置領域を確保
した時点の一例を示すレイアウト図である。図中、Td
1〜Tdnはスキャン用テストセル配置領域である。図
5に示すように、スキャン用テストセル配置領域Td1
〜Tdnを確保し、スキャン制御信号TE,SE,TC
を配線している。なお、この段階では、配置領域を確保
するのみであり、スキャン用テストセルは配置されてい
ない。また、スキャン制御信号TE,SE,TC以外は
配線されていない。
First, in the scan test cell placement position securing process of S31, the layout surface of the semiconductor integrated circuit is
An arrangement area for arranging a number or more of scan test cells according to the circuit scale is secured in advance. Then, wiring for supplying scan control signals TE, SE, TC to each scan test cell is performed. At this time, at this time, the scan control signals TE and S
The scan test cells are arranged so that the terminals connected to E and TC have the same Y coordinate, and the scan control signals are wired. FIG. 5 is a layout diagram showing an example of a time point when the arrangement area of the scan test cells is secured. In the figure, Td
1 to Tdn are scan test cell placement regions. As shown in FIG. 5, the scan test cell placement region Td1
To Tdn are secured and scan control signals TE, SE, TC
Is wired. At this stage, only the arrangement area is secured, and the scan test cell is not arranged. Further, no wiring is provided except for the scan control signals TE, SE and TC.

【0024】図5では、テストセルの端子が同一Y座標
になるように設定したが、構成によっては同一X座標と
なるように設定しても構わない。また、複数行にわたり
スキャン用テストセルが配置されているとき、図5では
一筆書きのように接続しているが、これに限らず、スト
ライプ状の配線を行なったり、いくつかのブロックに分
割して配線するなど、種々の形状の配線を行なうことが
できる。
Although the terminals of the test cells are set to have the same Y coordinate in FIG. 5, they may be set to have the same X coordinate depending on the configuration. In addition, when the scan test cells are arranged over a plurality of rows, they are connected like a single stroke in FIG. 5, but the present invention is not limited to this, and wiring in stripes is performed or divided into several blocks. It is possible to perform wiring in various shapes, such as wiring.

【0025】S31においてスキャン用テストセル配置
領域が確保された後の半導体集積回路のレイアウトに対
し、S32において、一般ロジック部のレイアウト設計
を行ない、一般ロジック部の配置および配線を行なう。
この時点で、一般ロジック部内の配線は確定するので、
S33の実配線長抽出処理において、一般ロジック部内
の実配線長を抽出する。
With respect to the layout of the semiconductor integrated circuit after the scan test cell layout area is secured in S31, the layout design of the general logic section is performed and the layout and wiring of the general logic section are performed in S32.
At this point, the wiring in the general logic section is fixed,
In the actual wiring length extraction processing of S33, the actual wiring length in the general logic part is extracted.

【0026】S33において得られた実配線長の情報
は、S2のスキャン設計処理で用いられる。S23の仮
想配線長シミュレーション処理において、S22のスキ
ャン用テストセル置換挿入処理で論理回路に対してスキ
ャン用テストセルを置換、挿入した後のスキャン部分の
仮想配線長と、S33で抽出される一般ロジック部の実
配線長を使用して、一般ロジック部の動作タイミングが
所定の通り行なわれるか否かをシミュレーションし、タ
イミングの検証を行なう。この段階では、スキャン用テ
ストセルの部分については、論理回路のままであり、レ
イアウトは行なわれていない。
The information on the actual wiring length obtained in S33 is used in the scan design process in S2. In the virtual wiring length simulation processing of S23, the virtual wiring length of the scan portion after the scan test cells are replaced and inserted into the logic circuit in the scan test cell replacement insertion processing of S22, and the general logic extracted in S33. Using the actual wiring length of the section, simulation is performed to determine whether the operation timing of the general logic section is performed as specified, and the timing is verified. At this stage, the portion of the scan test cell remains as a logic circuit and layout is not performed.

【0027】次に、S3のレイアウト設計処理におい
て、S34のスキャン用テストセル配置処理で、実際に
スキャン用テストセルをレイアウトする。スキャン用テ
ストセルは、S31のスキャン用テストセル配置位置確
保処理によって確保されているスキャン用テストセル配
置領域に配置される。スキャン用テストセルの配置は、
各内部データ観測信号および内部データ制御信号によっ
て、その一般ロジック部の近くに配置されることにな
る。
Next, in the layout design process of S3, the scan test cells are actually laid out in the scan test cell placement process of S34. The scan test cells are placed in the scan test cell placement area secured by the scan test cell placement position securing process in S31. The layout of the scan test cell is
Each internal data observation signal and internal data control signal causes it to be placed near its general logic section.

【0028】図6、図7は、スキャン用テストセル配置
処理後の一例を示す回路図である。この段階では、S2
1、S22で発生したスキャン用テストセルの配置を行
なうのみであるので、S31で配線したスキャン制御信
号TE,SE,TCのための配線と、S32で行なわれ
た一般ロジック部のレイアウトが行なわれた状態であ
る。スキャン信号SI,SOはまだ接続されていない。
そのため、図6、図7に示すように、スキャン信号S
I,SOの接続されていない回路がレイアウトされたこ
とになる。
6 and 7 are circuit diagrams showing an example after the scan test cell placement process. At this stage, S2
Since the scan test cells generated in S1 and S22 are only arranged, the wiring for the scan control signals TE, SE, and TC wired in S31 and the layout of the general logic part performed in S32 are performed. It is in a state of being. The scan signals SI and SO are not yet connected.
Therefore, as shown in FIGS. 6 and 7, the scan signal S
This means that the circuit in which I and SO are not connected is laid out.

【0029】次に、S35のスキャン用テストセル位置
抽出処理において、まず、各スキャン用テストセルの座
標を抽出する。また、各スキャン用テストセルをスキャ
ン信号によってシリアルに接続する際の順番、すなわ
ち、シフトクロック接続順を決定する。そして、各スキ
ャン用テストセルの座標を決定したシフトクロック接続
順に従って順番付る。
Next, in the scan test cell position extraction processing of S35, first, the coordinates of each scan test cell are extracted. Further, the order in which the scan test cells are serially connected by the scan signal, that is, the shift clock connection order is determined. Then, the coordinates of the test cells for scanning are sequentially arranged according to the determined shift clock connection order.

【0030】S2のスキャン設計手段に戻り、S24の
スキャンパス生成手段では、S35決定されたシフトク
ロック接続順、および、順番づけられたスキャン用テス
トセルの座標をもとに、スキャン信号SI,SOの配線
を論理的に行なう。この論理的なスキャン信号SI,S
Oの配線情報をもとに、S3のレイアウト設計処理にお
けるS36のスキャンパス配線手段において、スキャン
信号SI,SOの配線を行ない、図3、図4に示すよう
な回路を実現するための図2に示すようなレイアウトが
完成する。
Returning to the scan designing means of S2, the scan path generating means of S24 uses the scan signals SI, SO based on the shift clock connection order determined in S35 and the coordinate of the ordered scan test cell. Wiring is performed logically. This logical scan signal SI, S
Based on the wiring information of O, the scan path wiring means of S36 in the layout design processing of S3 carries out the wiring of the scan signals SI and SO to realize the circuit shown in FIGS. 3 and 4. The layout shown in is completed.

【0031】[0031]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
によれば、スキャン用テストセルの配置領域を他の素子
に先だって確保し、他の素子の配置後スキャン用テスト
セルを配置するので、スキャン設計とレイアウト設計を
並列的に行なうことができる。これによって、一般ロジ
ック部のデバックとスキャン部のデバッグが独立に行な
えるため、開発期間の短縮を図ることができる。また、
スキャン用テストセル挿入後の仮想配線長シミュレーシ
ョンに一般ロジック部のレイアウトの結果を反映するこ
とができるため、開発期間の短縮が図れる。もしこのと
きタイミング不良が生じた場合であっても、スキャン用
テストセル配置処理およびスキャンパス配線処理と同時
にレイアウトの修正を行なうことができるので、処理に
無駄が発生せず、効率よく設計を行なうことができる。
また、スキャン制御信号の配線を他の信号配線に先だっ
て接続できるため、一筆書きとなる接続法やメッシュ状
の接続などを容易に行なうことができ、スキューの低減
が可能となる等の効果がある。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the area where the scan test cells are arranged is secured in advance of the other elements, and the scan test cells are arranged after the other elements are arranged. , Scan design and layout design can be performed in parallel. As a result, the debug of the general logic part and the debugging of the scan part can be performed independently, so that the development period can be shortened. Also,
Since the layout result of the general logic part can be reflected in the virtual wiring length simulation after inserting the scan test cell, the development period can be shortened. Even if a timing failure occurs at this time, the layout can be corrected at the same time as the scan test cell placement process and the scan path wiring process, so that the process is not wasted and efficient design is performed. be able to.
Further, since the scan control signal wiring can be connected to other signal wirings in advance, it is possible to easily perform a one-stroke connection method or a mesh-shaped connection, and it is possible to reduce skew. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】 本発明の半導体集積回路の設計方法の一実施
例を示すフローチャートである。
FIG. 1 is a flowchart showing an embodiment of a method for designing a semiconductor integrated circuit of the present invention.

【図2】 本発明の設計方法によるレイアウトの一具体
例を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing a specific example of a layout according to the design method of the present invention.

【図3】 スキャン用テストセルへの置換時のスキャン
チェーン回路の一例を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing an example of a scan chain circuit when replacing with a scan test cell.

【図4】 スキャン用テストセルの挿入時のスキャンチ
ェーン回路の一例を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing an example of a scan chain circuit when a scan test cell is inserted.

【図5】 スキャン用テストセルの配置領域を確保した
時点の一例を示すレイアウト図である。
FIG. 5 is a layout diagram showing an example of a time point when a placement area of scan test cells is secured.

【図6】 スキャン用テストセルの置換配置処理後の一
例を示す回路図である。
FIG. 6 is a circuit diagram showing an example after a scan test cell replacement placement process.

【図7】 スキャン用テストセルの挿入配置処理後の一
例を示す回路図である。
FIG. 7 is a circuit diagram showing an example after a scan test cell insertion / arrangement process.

【図8】 従来の半導体集積回路の設計方法を示すフロ
ーチャートである。
FIG. 8 is a flowchart showing a conventional method for designing a semiconductor integrated circuit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

41…半導体集積回路、42…I/O部、51〜53…
一般ロジック部、T1〜Tn…スキャン用テストセル、
TE,SE,TC…スキャン用制御信号、SI,SO…
スキャン信号、DI1〜DIn…内部データ観測信号、
DO1〜DOn…内部データ制御信号。
41 ... Semiconductor integrated circuit, 42 ... I / O section, 51-53 ...
General logic part, T1 to Tn ... scan test cell,
TE, SE, TC ... Scan control signals, SI, SO ...
Scan signals, DI1 to DIn ... Internal data observation signals,
DO1 to DOn ... Internal data control signals.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 H01L 21/3205 H01L 21/82 T 21/88 T ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical indication H01L 21/3205 H01L 21/82 T 21/88 T

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 スキャンパス方式により試験を行なうた
めのテスト回路セルを有する半導体集積回路の設計方法
において、前記テスト回路セルの配置領域を確保し、前
記テスト回路セル以外の一般回路セルの配置を行ない、
先に確保したテスト回路セルの配置領域に前記テスト回
路セルを配置し、レイアウトを決定することを特徴とす
る半導体集積回路の設計方法。
1. A method of designing a semiconductor integrated circuit having a test circuit cell for performing a test by the scan path method, wherein an arrangement region of the test circuit cell is secured, and a general circuit cell other than the test circuit cell is arranged. Done,
A method of designing a semiconductor integrated circuit, comprising arranging the test circuit cells in a previously secured area for arranging the test circuit cells and determining a layout.
【請求項2】 前記テスト回路セルの配置領域を確保す
る際に、該配置領域に配置される前記テスト回路セルを
接続する制御信号線を配線することを特徴とする請求項
1に記載の半導体集積回路の設計方法。
2. The semiconductor device according to claim 1, wherein a control signal line connecting the test circuit cells arranged in the arrangement region is wired when securing the arrangement region of the test circuit cell. Integrated circuit design method.
JP6223756A 1994-09-19 1994-09-19 Design method for semiconductor integrated circuit Pending JPH0887538A (en)

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Cited By (2)

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