JPH0877601A - Optical disk and fabrication thereof - Google Patents
Optical disk and fabrication thereofInfo
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- JPH0877601A JPH0877601A JP6206698A JP20669894A JPH0877601A JP H0877601 A JPH0877601 A JP H0877601A JP 6206698 A JP6206698 A JP 6206698A JP 20669894 A JP20669894 A JP 20669894A JP H0877601 A JPH0877601 A JP H0877601A
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、一主面が記録層が形成
される成膜面とされ他主面が読み取り面とされてなる光
ディスク、例えば光磁気ディスクに関するものであり、
さらにはその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an optical disk, for example, a magneto-optical disk, one main surface of which is a film-forming surface on which a recording layer is formed and the other main surface of which is a reading surface.
Furthermore, it relates to a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】近時においては、小型大容量のデータス
トレージ媒体として光ディスクが注目されている。この
光ディスクとしては、直径300mm〜2.5インチサ
イズのものまで様々なものがあり、再生専用のタイプや
記録及び再生が可能なタイプのものが製品化されてい
る。2. Description of the Related Art Recently, an optical disk has been drawing attention as a small-sized and large-capacity data storage medium. There are various types of optical discs having a diameter of 300 mm to 2.5 inches, and a read-only type and a recordable and reproducible type are commercially available.
【0003】再生専用の光ディスクとしては、一主面に
Al,Au等の金属が積層されて成膜層とされたものが
一般的であり、真空蒸着法やスパッタリング法等の薄膜
形成技術により基板上に積層形成されてなるものであ
る。また、記録再生用の光ディスクとしては、光磁気デ
ィスクや相変化ディスク、一度だけ記録可能なライトワ
ンスディスク等がある。As a read-only optical disc, one in which a metal such as Al or Au is laminated on one main surface to form a film-forming layer is generally used, and a substrate is formed by a thin film forming technique such as a vacuum deposition method or a sputtering method. It is formed by laminating on top. Further, as an optical disk for recording / reproducing, there are a magneto-optical disk, a phase change disk, a write-once disk capable of recording only once, and the like.
【0004】光磁気ディスクにおいて、その記録層の材
料としては希土類−遷移金属合金が一般的であり、この
合金膜を誘電体膜と反射膜等で挟持した多層構造とされ
てなる。この多層膜はぞれぞれ上記薄膜形成技術により
基板上に積層形成されてなるものである。また、上記光
ディスクにおいては、再生専用・記録再生用を問わず、
上記記録層上にスピンコート法により紫外線硬化型樹脂
等が塗布されて保護膜が形成されているものが多い。In the magneto-optical disk, a rare earth-transition metal alloy is generally used as the material for the recording layer, and this alloy film has a multi-layer structure sandwiched between a dielectric film and a reflective film. Each of the multilayer films is formed by laminating on the substrate by the thin film forming technique described above. Further, in the above optical disc, whether it is for reproduction only or for recording / reproduction,
In many cases, a protective film is formed by applying an ultraviolet curable resin or the like on the recording layer by a spin coating method.
【0005】ところで、上記基板上に記録層を成膜して
光ディスクを作製する際には、図4に示すような成膜装
置を用いる。この成膜装置は、光ディスクの基板101
を設置するパレット102と、当該基板101の成膜面
となる一主面の内周端近傍及び外周端近傍を被覆する内
周マスク103及び外周マスク104とから構成されて
いる。By the way, when a recording layer is formed on the substrate to manufacture an optical disk, a film forming apparatus as shown in FIG. 4 is used. This film forming apparatus is provided with an optical disk substrate 101.
And a peripheral mask 103 and an outer peripheral mask 104 that cover the vicinity of the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the one main surface which is the film formation surface of the substrate 101.
【0006】成膜時においては、先ず上記基板101を
ディスクベース105を介して内周マスク103及び外
周マスク104を用いてパレット102上に載置固定す
る。この状態において、上記薄膜形成技術により記録層
を形成し、さらに内周マスク103及び外周マスク10
4を外して上記基板101の上記記録層が形成された一
主面上全体に上記保護膜を成膜する。At the time of film formation, first, the substrate 101 is placed and fixed on the pallet 102 using the inner peripheral mask 103 and the outer peripheral mask 104 via the disk base 105. In this state, a recording layer is formed by the thin film forming technique described above, and the inner peripheral mask 103 and the outer peripheral mask 10 are further formed.
4 is removed and the protective film is formed on the entire one main surface of the substrate 101 on which the recording layer is formed.
【0007】上記の如く、記録層の成膜時においては、
内周マスク103及び外周マスク104を用いるため
に、必然的に上記基板の内周端近傍及び外周端近傍には
記録層の無成膜箇所が形成されることになる。このた
め、保護膜の成膜時において、上記記録層を完全に被覆
することができ、上記無成膜箇所では紫外線硬化樹脂と
基板表面とが直接に密着結合することになり、記録層の
損傷や腐食等が防止されて製品の信頼性を向上させてい
る。As described above, when the recording layer is formed,
Since the inner peripheral mask 103 and the outer peripheral mask 104 are used, inevitably, non-film-forming portions of the recording layer are formed near the inner peripheral edge and the outer peripheral edge of the substrate. Therefore, during the formation of the protective film, the recording layer can be completely covered, and the UV curable resin and the substrate surface are directly adhered to each other at the non-deposited portion, and the recording layer is damaged. And corrosion is prevented, improving the reliability of the product.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記記
録層の成膜時において、上記基板101をパレット10
2に取り付ける際に、内周マスク103及び外周マスク
104を配設するときにダストが発生し易く、作製され
た光ディスクのエラーレートの増大を招来し、マスクエ
ッジ近傍では膜厚が安定しないために反射率に変動が大
きくなる等の問題がある。However, when the recording layer is formed, the substrate 101 is placed on the pallet 10.
When the optical disc is mounted on the optical disc 2, the inner peripheral mask 103 and the outer peripheral mask 104 are likely to generate dust, which causes an increase in the error rate of the manufactured optical disc, and the film thickness is not stable near the mask edge. There are problems such as large fluctuations in reflectance.
【0009】また、記録層の成膜を繰り返し行うにつれ
て各マスク上に当該記録層の材料が徐々に堆積してゆ
き、この堆積物が剥離脱落してダスト発生の主原因とな
るために定期的に各マスクを新しい物に交換する必要が
ありコストがかかる。Further, as the recording layer is repeatedly formed, the material of the recording layer is gradually deposited on each mask, and this deposit is peeled off to become the main cause of dust generation. It is costly to replace each mask with a new one.
【0010】さらには、各マスクの取付が煩雑な作業で
あるために、取付ミスが生じ易く歩留りや稼働率の大幅
な低下を引き起こす原因ともなっている。Further, since the mounting of each mask is a complicated work, a mounting error is likely to occur, which causes a large decrease in yield and operating rate.
【0011】そこで、内周マスク103は必須部材であ
ることを勘案して、外周マスク104を用いずに記録層
を成膜した場合、当該記録層を完全に被覆することがで
きなくなって腐食に対する信頼性に低下を招く。さら
に、記録膜等の無成膜箇所が形成されず、紫外線硬化樹
脂と基板表面との直接的な結合が無いために保護膜の密
着性が劣化することが懸念される。Therefore, in consideration of the fact that the inner peripheral mask 103 is an indispensable member, when the recording layer is formed without using the outer peripheral mask 104, the recording layer cannot be completely covered, and corrosion is prevented. This leads to a decrease in reliability. Further, there is a concern that the adhesion of the protective film may be deteriorated because the non-deposited portion such as the recording film is not formed and there is no direct bonding between the ultraviolet curable resin and the substrate surface.
【0012】本発明は、上述の課題に鑑みてなされたも
のであり、外周マスクを用いずに記録層を成膜しても腐
食信頼性を劣化させることなくエラーレートを向上させ
反射率変動の改善を可能とするとともに、外周マスクを
用いないためにこの外周マスクの基板取付に伴う取付ミ
ス等が皆無となって製品の歩留りの大幅な向上を図るこ
とを可能とする光ディスク及びその製造方法を提供する
ことを目的とする。The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and even if a recording layer is formed without using an outer peripheral mask, the error rate is improved without degrading the corrosion reliability, and the reflectance fluctuation is suppressed. (EN) An optical disk and a manufacturing method thereof that can be improved and can greatly improve the yield of products by eliminating the mounting error etc. accompanying the mounting of the peripheral mask on the substrate because the peripheral mask is not used. The purpose is to provide.
【0013】[0013]
【課題を解決するための手段】本発明の対象となるもの
は、基板の一主面側が記録層が成膜される成膜面とさ
れ、他主面側が読み取り面とされてなる光ディスクと、
この光ディスクの製造方法である。An object of the present invention is an optical disk in which one main surface side of a substrate is a film forming surface on which a recording layer is formed, and the other main surface side is a reading surface.
This is a method of manufacturing this optical disc.
【0014】本発明においては、上記基板の外周端面を
面取りしてテーパ状とし、上記成膜面側のディスク径寸
法を読み取り面側のディスク径寸法より大として光ディ
スクを構成することを特徴とするものである。According to the present invention, the outer peripheral end surface of the substrate is chamfered to be tapered, and the optical disk is constructed so that the disk diameter on the film forming surface side is larger than the disk diameter on the reading surface side. It is a thing.
【0015】このとき、上記基板の読み取り面側のディ
スク径寸法を、使用する光ディスク装置の光ピックアッ
プの光ディスクに対する最外周アクセス位置の描く円径
寸法と読み取り面上における光スポット径寸法とを加え
た値より大となるように当該光ディスクを構成すること
が望ましい。At this time, the disk diameter on the reading surface side of the substrate is added to the circular diameter drawn by the outermost peripheral access position of the optical pickup of the optical disk device to be used with respect to the optical disk and the light spot diameter on the reading surface. It is desirable to configure the optical disc so that it is larger than the value.
【0016】ここで、一般に光ディスクに用いられる光
学系におけるレーザ光の記録層上の光スポット径は1μ
m程度であるが、レーザ光は上記基板を通して集光され
るために上記読み取り面上では光スポット径は1mm程
度となる。このとき、レーザ光が正常に記録層上に集光
されるためには、レーザ光の光軸が読み取り面に対して
垂直である必要がある。したがって、読み取り面上にお
いて光スポット内に上記基板のテーパ状の外周端面が入
らないようにしなければならない。このような観点か
ら、最外周アクセス位置の描く半径と光スポットの半径
を加えた値、すなわち上記読み取り面上における光スポ
ットの到達し得る最外周位置の半径より上記基板の読み
取り面側のディスク半径を大とすることが好ましい。Here, the optical spot diameter of the laser beam on the recording layer in the optical system generally used for the optical disc is 1 μm.
Although it is about m, the laser beam is condensed through the substrate, so that the light spot diameter is about 1 mm on the reading surface. At this time, in order for the laser light to be normally focused on the recording layer, the optical axis of the laser light needs to be perpendicular to the reading surface. Therefore, it is necessary to prevent the tapered outer peripheral end surface of the substrate from entering the light spot on the reading surface. From this point of view, a value obtained by adding the radius drawn by the outermost peripheral access position and the radius of the light spot, that is, the radius of the disc on the reading surface side of the substrate from the radius of the outermost position that the light spot can reach on the reading surface. Is preferably large.
【0017】なお、本発明において上記光ディスクとし
ては、主に光磁気ディスクをその対象とする。In the present invention, the above optical disk is mainly a magneto-optical disk.
【0018】さらに本発明は、上記光ディスクの基板を
内周マスクを用いてパレットに設置して成膜面となる一
主面の内周端近傍を被覆し、この基板の成膜面に記録層
を成膜する光ディスクの製造方法をその対象とする。Further, according to the present invention, the substrate of the above-mentioned optical disk is placed on a pallet using an inner peripheral mask to cover the vicinity of the inner peripheral edge of one main surface which is a film forming surface, and the recording layer is formed on the film forming surface of this substrate. The manufacturing method of an optical disk for forming a film is targeted.
【0019】すなわち、本発明は、上記パレットにざぐ
り部を設け、当該ざぐり部の深さを上記基板の厚み以上
として、このざぐり部に上記基板をはめ込み固定して上
記記録層を成膜することを特徴とするものである。That is, in the present invention, the pallet is provided with a countersunk portion, the depth of the countersunk portion is made equal to or larger than the thickness of the substrate, and the substrate is fitted and fixed in the countersunk portion to form the recording layer. It is characterized by.
【0020】このとき、上記ざぐり部を、その外周部を
テーパ状に形成し構成することが望ましい。ここで、上
記ざぐり部においては、外周端面がテーパ状とされた上
記光ディスクの基板と隙間なく係合するように上記外周
部を形成することが好ましい。At this time, it is desirable that the counterbore be formed by forming a tapered outer peripheral portion. Here, it is preferable to form the outer peripheral portion of the counterbore portion so that the outer peripheral end surface is engaged with the substrate of the optical disk having a tapered shape without a gap.
【0021】[0021]
【作用】本発明に係る光ディスクにおいては、その基板
の外周端面が面取りされてテーパ状とされ、成膜面側の
ディスク径寸法が読み取り面側のディスク径寸法より大
とされている。In the optical disk according to the present invention, the outer peripheral end surface of the substrate is chamfered to be tapered, and the disk diameter dimension on the film forming surface side is larger than the disk diameter dimension on the reading surface side.
【0022】したがって、記録層を成膜する際に、外周
マスクを設置せずに薄膜形成技術を施した際に、成膜面
となる上記基板の一主面全体に記録層が成膜され、しか
も上記外周端面は成膜面の裏面に当たる読み取り面側を
向いているために、この外周端面に記録層の材料が付着
することが防止される。その結果、上記記録層の成膜後
にスピンコート法等によりこの記録層上に保護膜を成膜
する際に、保護膜は記録層が成膜されたときに無成膜箇
所となった上記外周端面にも成膜されるために、記録層
が完全に保護膜によって被覆されるとともに、上記基板
と保護膜とが上記外周端面にて結合されて密着すること
になる。Therefore, when the thin film forming technique is applied without forming the outer peripheral mask when forming the recording layer, the recording layer is formed on the entire one main surface of the substrate which is the film forming surface. Moreover, since the outer peripheral edge faces the reading surface side, which corresponds to the back surface of the film formation surface, the material of the recording layer is prevented from adhering to the outer peripheral edge. As a result, when the protective film is formed on the recording layer by spin coating or the like after the recording layer is formed, the protective film is the non-deposited portion when the recording layer is formed. Since the film is also formed on the end face, the recording layer is completely covered with the protective film, and the substrate and the protective film are bonded and adhere to each other at the outer peripheral end face.
【0023】また、本発明においては、パレットにざぐ
り部を設け、当該ざぐり部の深さを上記基板の厚み以上
として、このざぐり部に上記基板をはめ込み固定すして
記録層の成膜を行う。Further, in the present invention, the pallet is provided with a countersunk portion, the depth of the countersunk portion is made equal to or larger than the thickness of the substrate, and the substrate is fitted and fixed in the countersunk portion to form the recording layer.
【0024】すなわち、記録層の成膜時において、上記
光ディスクの基板を上記ざぐり部にはめ込み固定するこ
とにより、ざぐり部の深さが上記基板の厚み以上である
ために上記基板は当該ざぐり部内に完全に埋め込まれた
かたちとなり、上記外周端面には記録層が成膜されず無
成膜箇所となる。そして、上記ざぐり部から上記基板を
取り外してスピンコート法等の手法により保護膜を形成
する際に、保護膜により上記記録層が完全に被覆される
とともに上記無成膜箇所まで成膜することが可能とな
る。That is, when the recording layer is formed, the substrate of the optical disc is fitted and fixed in the countersunk portion, so that the depth of the countersunk portion is equal to or larger than the thickness of the substrate, so that the substrate is placed in the countersunk portion. The recording layer is completely embedded, and the recording layer is not formed on the outer peripheral end face, which is a non-deposited portion. When the substrate is removed from the counterbore and a protective film is formed by a method such as a spin coating method, the recording layer is completely covered with the protective film and the film can be formed up to the non-film-forming portion. It will be possible.
【0025】[0025]
【実施例】以下、本発明に係る光ディスク及びその製造
方法について、光磁気ディスクに適用した具体的な実施
例を図面を参照しながら詳細に説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An optical disc and a method of manufacturing the same according to the present invention will be described below in detail with reference to the drawings showing specific embodiments applied to a magneto-optical disc.
【0026】本実施例の光磁気ディスクは、ディスク基
板である透明基板に一主面上に記録層(ここでは、Si
N,TbFeCo,SiN,及びAlが順次積層された
もの)がスパッタ形成され、この記録層上にUVレジン
等の紫外線硬化型の塗料がスピンコート法により塗布さ
れることにより保護膜が形成されて成膜面が形成され構
成されている。ここで、前記成膜面の裏面が光スポット
が照射される読み取り面とされている。The magneto-optical disk of the present embodiment has a recording layer (here, Si) on one main surface of a transparent substrate which is a disk substrate.
(N, TbFeCo, SiN, and Al are sequentially laminated) is sputtered, and an ultraviolet curable coating material such as UV resin is applied onto the recording layer by spin coating to form a protective film. A film-forming surface is formed and configured. Here, the back surface of the film formation surface is a reading surface on which a light spot is irradiated.
【0027】そして特に、上記光磁気ディスクは、図1
に示すように、その透明基板1の外周端面1aがテーパ
状とされ、成膜面2側のディスク径寸法D1が読み取り
面3側のディスク径寸法D2より大(D1>D2)とさ
れ構成されている。And, in particular, the magneto-optical disk is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, the outer peripheral end surface 1a of the transparent substrate 1 is tapered, and the disk diameter dimension D1 on the film forming surface 2 side is larger than the disk diameter dimension D2 on the reading surface 3 side (D1> D2). ing.
【0028】さらに、上記光磁気ディスクは、読み取り
面3側のディスク径寸法D2が、使用する光磁気ディス
ク装置の光ピックアップの当該光磁気ディスクに対する
最外周アクセス位置の描く円径寸法d1と読み取り面上
における光スポット径寸法d2とを加えた値より大(D
2>d1+d2)とされている。Further, in the magneto-optical disk, the disk diameter dimension D2 on the reading surface 3 side is the circular diameter dimension d1 drawn by the outermost peripheral access position of the optical pickup of the magneto-optical disk device to be used with respect to the magneto-optical disk and the reading surface. Greater than the value obtained by adding the light spot diameter dimension d2 above (D
2> d1 + d2).
【0029】これは、以下に示す理由によりものであ
る。すなわち、一般に光磁気ディスクに用いられる光学
系におけるレーザ光の記録層上の光スポット径は1μm
程度であるが、レーザ光は透明基板1を通して集光され
るために読み取り面3上では光スポット径は1mm程度
となる。このとき、レーザ光が正常に集光されるために
は、レーザ光の光軸(図中、破線Lで示す)が読み取り
面3に対して垂直である必要がある。したがって、読み
取り面3上において光スポット内に透明基板1のテーパ
状の外周端面1aが入らないようにしなければならな
い。このような観点から、最外周アクセス位置の描く半
径r1(=d1/2)と光スポットの半径r2(=d2
/2)を加えた値、すなわち上記読み取り面上における
光スポットの到達し得る最外周位置の半径より透明基板
1の読み取り面3側のディスク半径R2(=D2/2)
を大(R2>r1+r2)とすることが望ましい。This is because of the following reasons. That is, the optical spot diameter of the laser beam on the recording layer in the optical system generally used for the magneto-optical disk is 1 μm.
Although the laser light is focused through the transparent substrate 1, the light spot diameter is about 1 mm on the reading surface 3. At this time, in order for the laser light to be focused normally, the optical axis of the laser light (indicated by a broken line L in the drawing) needs to be perpendicular to the reading surface 3. Therefore, it is necessary to prevent the tapered outer peripheral end surface 1a of the transparent substrate 1 from entering the light spot on the reading surface 3. From this point of view, the radius r1 (= d1 / 2) drawn by the outermost peripheral access position and the radius r2 (= d2) of the light spot.
/ 2), that is, the radius R2 (= D2 / 2) of the disk on the reading surface 3 side of the transparent substrate 1 from the radius of the outermost position where the light spot can reach on the reading surface.
Is preferably large (R2> r1 + r2).
【0030】そして、透明基板1上に記録層を成膜して
上記光磁気ディスクを作製する際には、図2に示すよう
な成膜装置を用いる。この成膜装置は、光磁気ディスク
の透明基板1を設置するパレット11と、当該透明基板
1の成膜面2となる一主面の内周端近傍を被覆する内周
マスク12とから構成されている。When a recording layer is formed on the transparent substrate 1 to produce the magneto-optical disk, a film forming apparatus as shown in FIG. 2 is used. This film forming apparatus is composed of a pallet 11 on which a transparent substrate 1 of a magneto-optical disk is placed, and an inner peripheral mask 12 which covers the vicinity of the inner peripheral edge of one main surface which is the film forming surface 2 of the transparent substrate 1. ing.
【0031】ここで、上記パレット11は、透明基板1
をはめ込み固定するためのざぐり部21を設け、当該ざ
ぐり部21の深さTが上記基板の厚みt以上(T≧t)
とされ構成されている。Here, the pallet 11 is the transparent substrate 1
A counterbore portion 21 for fitting and fixing is provided, and the depth T of the counterbore portion 21 is equal to or larger than the thickness t of the substrate (T ≧ t).
And is configured.
【0032】上記ざぐり部21は、その外周部21aが
テーパ状に形成されており、外周端面1aがテーパ状と
された上記光磁気ディスクの透明基板1と隙間なく係合
するように構成されている。The counterbore portion 21 has an outer peripheral portion 21a formed in a tapered shape, and is configured to engage with the transparent substrate 1 of the magneto-optical disk whose outer peripheral end surface 1a is tapered without a gap. There is.
【0033】成膜時においては、先ず透明基板1を内周
マスク12を用いてパレット11のざぐり部21内には
め込み固定する。この状態において、スパッタ法により
記録層を形成し、さらに内周マスク12を外して透明基
板1の上記記録層が形成された一主面上全体にスピンコ
ート法により保護膜を成膜する。At the time of film formation, first, the transparent substrate 1 is fitted and fixed in the spot facing portion 21 of the pallet 11 using the inner peripheral mask 12. In this state, a recording layer is formed by a sputtering method, the inner peripheral mask 12 is removed, and a protective film is formed by a spin coating method over the entire one main surface of the transparent substrate 1 on which the recording layer is formed.
【0034】上記のスピンコート法によれば、光磁気デ
ィスク上にUVレジン等の紫外線硬化型の塗料を滴下し
た後に、この光磁気ディスクを高速度で回転させること
により上記塗料が光磁気ディスクの表面全体に広がり、
均一な膜厚を有する保護膜3が形成される。According to the above-mentioned spin coating method, after the ultraviolet curable coating material such as UV resin is dropped on the magneto-optical disk, the magneto-optical disk is rotated at a high speed so that the coating material becomes a magneto-optical disk. Spread over the surface,
The protective film 3 having a uniform film thickness is formed.
【0035】このように、本実施例においては、透明基
板1の外周端面1aがテーパ状とされ、成膜面2側のデ
ィスク径寸法D1が読み取り面3側のディスク径寸法D
2より大とされている。As described above, in this embodiment, the outer peripheral end surface 1a of the transparent substrate 1 is tapered, and the disk diameter dimension D1 on the film forming surface 2 side is the disk diameter dimension D on the reading surface 3 side.
Greater than two.
【0036】したがって、記録層を成膜する際に、外周
マスクを設置せずにスパッタ法や真空蒸着法等の薄膜形
成技術を施すと、成膜面2となる透明基板1の一主面全
体に記録層が成膜され、しかも上記外周端面1aは成膜
面2の裏面に当たる読み取り面3側を向いているため
に、この外周端面1aに記録層の材料が付着することが
防止される。その結果、上記記録層の成膜後にスピンコ
ート法等によりこの記録層上に保護膜を成膜する際に、
保護膜は記録層が成膜されたときに無成膜箇所となった
上記外周端面1aにも成膜されるために、記録層が完全
に保護膜によって被覆されるとともに、透明基板1と保
護膜とが上記外周端面1aにて結合されて密着すること
になる。Therefore, when a thin film forming technique such as a sputtering method or a vacuum deposition method is applied without forming an outer peripheral mask when forming the recording layer, the whole one main surface of the transparent substrate 1 to be the film forming surface 2 is formed. Since the recording layer is formed on the outer peripheral end surface 1a and the outer peripheral end surface 1a faces the reading surface 3 side which is the back surface of the film forming surface 2, the material of the recording layer is prevented from adhering to the outer peripheral end surface 1a. As a result, when the protective film is formed on the recording layer by spin coating or the like after the recording layer is formed,
Since the protective film is also formed on the outer peripheral end face 1a where the recording layer is not formed when the recording layer is formed, the recording layer is completely covered with the protective film and is protected from the transparent substrate 1. The film and the outer peripheral end face 1a are bonded and closely adhered to each other.
【0037】なお、成膜時においては、透明基板1をざ
ぐり部21にはめ込み固定することにより、ざぐり部2
1の深さTが上記透明基板1の厚みt以上であるために
透明基板1は当該ざぐり部21内に完全に埋め込まれた
かたちとなり、上記外周端面1aには記録層が成膜され
ず無成膜箇所となる。そして、上記ざぐり部1aから透
明基板1を取り外してスピンコート法等の手法により保
護膜を形成する際に、保護膜により上記記録層が完全に
被覆されるとともに上記無成膜箇所まで成膜することが
可能となる。During film formation, the transparent substrate 1 is fitted and fixed in the countersunk portion 21 so that the countersunk portion 2 is formed.
Since the depth T of 1 is equal to or larger than the thickness t of the transparent substrate 1, the transparent substrate 1 is completely embedded in the spot facing portion 21, and no recording layer is formed on the outer peripheral end face 1a. It will be a film formation location. Then, when the transparent substrate 1 is removed from the countersunk portion 1a and a protective film is formed by a method such as a spin coating method, the recording layer is completely covered with the protective film and the film is formed up to the non-film-forming portion. It becomes possible.
【0038】ここで、一つの実験例について説明する。
この実験は、上記のように作製した光磁気ディスクのサ
ンプル1を用いて、そのエラーレート及び反射率の測定
を行ったものである。Here, one experimental example will be described.
In this experiment, the error rate and reflectance of the magneto-optical disk sample 1 manufactured as described above were measured.
【0039】成膜を施したサンプル1の透明基板1は、
その厚みtが1.2mm、成膜面2側の直径D1が65
mm、読み取り面3側の直径D2が64mmであり、最
外周アクセス位置の描く円径寸法d1が31mmであ
る。The transparent substrate 1 of the sample 1 on which the film is formed is
The thickness t is 1.2 mm, and the diameter D1 on the film formation surface 2 side is 65.
mm, the diameter D2 on the side of the reading surface 3 is 64 mm, and the circular diameter dimension d1 drawn by the outermost peripheral access position is 31 mm.
【0040】また、上記成膜装置については、パレット
11のざぐり部21の深さTが1.2mmであるものを
使用した。Further, as the film forming apparatus, the one in which the depth T of the spot facing portion 21 of the pallet 11 is 1.2 mm was used.
【0041】ここで、上記実施例に対する比較例とし
て、従来の光磁気ディスクを用いて上記実験例と同一の
実験を行った。先ず、比較例1においては、従来の成膜
装置を用い外周マスク104を使用して、外周端面がテ
ーパ状でない従来の光磁気ディスクの基板101に成膜
を施した光磁気ディスクのサンプル2を用いた。次い
で、比較例2においては、外周マスク104を用いない
こと以外は比較例1と同様として作製したサンプル3を
用いた。Here, as a comparative example to the above-mentioned embodiment, the same experiment as the above-mentioned experiment example was conducted using a conventional magneto-optical disk. First, in Comparative Example 1, a sample 2 of a magneto-optical disk in which a film was formed on a substrate 101 of a conventional magneto-optical disk whose outer peripheral end surface is not tapered by using a conventional film forming apparatus and an outer peripheral mask 104. Using. Next, in Comparative Example 2, Sample 3 manufactured in the same manner as in Comparative Example 1 was used except that the outer peripheral mask 104 was not used.
【0042】先ず、実験1として、上記各サンプル1〜
3を、温度85℃、湿度95%の環境下において200
時間駆動させて加速信頼性試験を行う間にエラーレート
の測定を行った。この測定は、線速1.22m/秒、記
録レーザパワー4.55mW、磁界24kA/mにて磁
界変調方式でランダムEFM信号を記録した後に、再生
パワー0.6mWで再生を行ってエラー数の変化を調べ
たものである。First, as Experiment 1, each of the samples 1 to
3 under the environment of a temperature of 85 ° C and a humidity of 95%.
The error rate was measured during the time-driven acceleration reliability test. In this measurement, a random EFM signal was recorded by a magnetic field modulation method at a linear velocity of 1.22 m / sec, a recording laser power of 4.55 mW, and a magnetic field of 24 kA / m, and then reproduced at a reproduction power of 0.6 mW to measure the number of errors. This is a study of changes.
【0043】この実験1の結果を図3に示す。サンプル
2では外周マスク104を用いて記録層が成膜されたた
めに200時間経過しても劣化は見られなかったが、初
期値が良好な値とは言い難い。またサンプル3では外周
マスク104を用いていないために初期値は優れている
が、時間経過にしたがって大幅な劣化を示した。それに
対して、サンプル1では優れた初期値を示したととも
に、200時間経過しても劣化はほぼ皆無であった。The results of this experiment 1 are shown in FIG. In Sample 2, since the recording layer was formed using the outer peripheral mask 104, no deterioration was observed even after 200 hours, but it is hard to say that the initial value is a good value. Moreover, in Sample 3, the initial value is excellent because the outer peripheral mask 104 is not used, but it shows a significant deterioration over time. On the other hand, Sample 1 showed an excellent initial value and showed almost no deterioration even after 200 hours.
【0044】このことから、本実施例の光磁気ディスク
は従来のそれと比較してエラーレートが大幅に改善さ
れ、より優れた耐久性を有することが分かる。From this, it can be seen that the magneto-optical disk of the present embodiment has a significantly improved error rate as compared with the conventional one, and has more excellent durability.
【0045】次いで、実験2として、レーザ波長780
nmの光学系を使用して反射率変動の測定を行った。そ
の結果、サンプル2では外周マスク104を用いために
3.5%という大きな変動を示したことに対し、サンプ
ル3では0.9%と優れた値を示した。そしてサンプル
1では、外周マスクを用いなかったために1.2%とサ
ンプル3とほぼ同様の低い変動値を示した。Next, as Experiment 2, a laser wavelength of 780
The reflectance variation was measured using the nm optical system. As a result, Sample 2 showed a large variation of 3.5% due to the use of the peripheral mask 104, whereas Sample 3 showed an excellent value of 0.9%. Sample 1 showed a low variation value of 1.2%, which is almost the same as sample 3, because the peripheral mask was not used.
【0046】このことから、本実施例の光磁気ディスク
は安定した反射率を示すことが分かる。From this, it can be seen that the magneto-optical disk of this example exhibits a stable reflectance.
【0047】なお、本実施例においては、光ディスクの
例として光磁気ディスクについて説明したが、本発明は
これに限定されず、記録層上に保護膜を有する他の光デ
ィスク、例えば再生専用の光ディスクや相変化ディス
ク、ライトワンスディスク等にも当然適用可能である。In the present embodiment, the magneto-optical disk has been described as an example of the optical disk, but the present invention is not limited to this, and other optical disks having a protective film on the recording layer, such as read-only optical disks and Of course, it can be applied to a phase change disc, a write-once disc, etc.
【0048】[0048]
【発明の効果】以上のことから明かなように、本発明に
よれば、外周マスクを用いずに光ディスクの基板に記録
層を成膜しても腐食信頼性を劣化させることなくエラー
レートを向上させ反射率変動の改善が可能となるととも
に、外周マスクを用いないためにこの外周マスクの基板
取付に伴う取付ミス等が皆無となって製品の歩留りの大
幅な向上を図ることが可能となる。As is apparent from the above, according to the present invention, even if a recording layer is formed on a substrate of an optical disk without using a peripheral mask, the error rate is improved without degrading the corrosion reliability. As a result, it is possible to improve the fluctuation of the reflectance, and since the peripheral mask is not used, there are no mounting mistakes due to the mounting of the peripheral mask on the substrate, and it is possible to significantly improve the yield of products.
【図1】本実施例の光磁気ディスクを模式的に示す断面
図である。FIG. 1 is a sectional view schematically showing a magneto-optical disk according to an embodiment.
【図2】本実施例の光磁気ディスクの基板に記録層を成
膜する際の様子を模式的に示す断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view that schematically shows how the recording layer is formed on the substrate of the magneto-optical disk of this example.
【図3】上記光磁気ディスクの加速信頼性試験を行った
際の時間経過に伴うエラーレートの変化を示す特性図で
ある。FIG. 3 is a characteristic diagram showing a change in error rate over time when an accelerated reliability test is performed on the magneto-optical disk.
【図4】従来の光磁気ディスクの基板に記録層を成膜す
る際の様子を模式的に示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view that schematically shows how a recording layer is formed on a substrate of a conventional magneto-optical disk.
1 透明基板 1a 外周端面 2 成膜面 3 読み取り面 11 パレット 12 内周マスク 21 ざぐり部 21a 外周部 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Transparent substrate 1a Outer peripheral end surface 2 Deposition surface 3 Reading surface 11 Pallet 12 Inner peripheral mask 21 Spot facing 21a Outer peripheral portion
Claims (5)
膜面とされ、他主面側が読み取り面とされてなる光ディ
スクにおいて、 上記基板の外周端面が面取りされてテーパ状とされ、成
膜面側のディスク径寸法が読み取り面側のディスク径寸
法より大とされてなることを特徴とする光ディスク。1. An optical disc having one main surface side of a substrate as a film forming surface on which a recording layer is formed and the other main surface side as a reading surface, wherein the outer peripheral end surface of the substrate is chamfered and tapered. An optical disc characterized in that the disc diameter on the film-forming surface side is larger than the disc diameter on the reading surface side.
が、使用する光ディスク装置の光ピックアップの光ディ
スクに対する最外周アクセス位置の描く円径寸法と読み
取り面上における光スポット径寸法とを加えた値より大
であることを特徴とする請求項1記載の光ディスク。2. The disk diameter dimension on the reading surface side of the substrate is obtained by adding the circle diameter dimension drawn by the outermost peripheral access position of the optical pickup of the optical disc apparatus used to the optical disc and the light spot diameter dimension on the reading surface. The optical disc according to claim 1, which is large.
請求項1記載の光ディスク。3. The optical disk according to claim 1, which is a magneto-optical disk.
マスクを用いてパレットに設置して成膜面となる一主面
の内周端近傍を被覆し、この基板の成膜面に記録層を成
膜するに際して、 上記パレットにざぐり部を設け、当該ざぐり部の深さを
上記基板の厚み以上として、このざぐり部に上記基板を
はめ込み固定することを特徴とする光ディスクの製造方
法。4. The optical disk substrate according to claim 1 is placed on a pallet using an inner peripheral mask to cover the vicinity of the inner peripheral edge of one main surface which is a film forming surface, and recording is performed on the film forming surface of this substrate. A method for manufacturing an optical disk, characterized in that when forming a layer, a counterbore portion is provided on the pallet, the depth of the counterbore portion is made equal to or greater than the thickness of the substrate, and the substrate is fitted and fixed in the counterbore portion.
ていることを特徴とする請求項4記載の光ディスクの製
造方法。5. The method of manufacturing an optical disk according to claim 4, wherein the counterbore portion has a tapered outer peripheral portion.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6206698A JPH0877601A (en) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | Optical disk and fabrication thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6206698A JPH0877601A (en) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | Optical disk and fabrication thereof |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0877601A true JPH0877601A (en) | 1996-03-22 |
Family
ID=16527640
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6206698A Pending JPH0877601A (en) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | Optical disk and fabrication thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0877601A (en) |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP6206698A patent/JPH0877601A/en active Pending
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