JPH0875820A - Graphite vapor-deposited contact pin and ic socket pin using this contact pin - Google Patents

Graphite vapor-deposited contact pin and ic socket pin using this contact pin

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JPH0875820A
JPH0875820A JP6297816A JP29781694A JPH0875820A JP H0875820 A JPH0875820 A JP H0875820A JP 6297816 A JP6297816 A JP 6297816A JP 29781694 A JP29781694 A JP 29781694A JP H0875820 A JPH0875820 A JP H0875820A
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JP
Japan
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contact
pin
graphite
socket
vapor
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JP6297816A
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Masao Watanabe
正夫 渡辺
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Abstract

PURPOSE: To enhance the contact reliability and prolong the life. by vapor- depositing graphite on the surface of a contact pin. CONSTITUTION: Graphite vapor-deposition 11 is formed on the surface of a contact pin 20. The contact reliability and durability of the graphite vapor- deposited contact pin 20 or IC socket pin, which is repeatedly slid and attached/ detached, are enhanced. As means for forming vapor deposition of graphite, coating treatment by vacuum deposition with electron beams is one example. The socket pin having the graphite vapor deposition 11 has a function to prevent the formation of a gold-lead alloy on the surface of gold caused by sliding of the contact surface. As a result, the formation of tin oxide caused by remaining tin and oxygen in the air, which is a main cause to increase contact resistance, is suppressed. By the graphite vapor deposition 11, contact surface with less friction resistance can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明は、被試験デバイスのI
Cピンと、電気接続するコンタクトピンとの間で、繰り
返し摺動着脱が行われるICソケット等において、コン
タクトピン接触面の電気的接触信頼性の長寿命化を実現
する摺動面のコーティング手段に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention This invention relates to a device under test I
The present invention relates to a coating means for a sliding surface that achieves a long life of electrical contact reliability of the contact pin contact surface in an IC socket or the like in which sliding and mounting is repeatedly performed between a C pin and a contact pin that is electrically connected.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICテスタにおいては、被試験デバイス
(DUT)50を試験する際に、DUT50との間で、
一時的に電気的接続をする必要があり、この為のコンタ
クタ(contacts)構造を有している。このコンタクタ構
造の中で、DUT50のリードピンと摺動して電気的接
続をするタイプ、例えばICソケット構造のものがあ
る。このICソケット型のコンタクタでは、多数回の摺
動作用によって、コンタクト面の物理変化や化学変化を
起こしてくる為に、接触抵抗が増加する傾向にある。
2. Description of the Prior Art In an IC tester, when a device under test (DUT) 50 is tested,
It is necessary to make electrical connection temporarily, and it has a contactor structure for this purpose. Among the contactor structures, there is a type in which the lead pins of the DUT 50 are slid to make an electrical connection, for example, an IC socket structure. In this IC socket type contactor, the contact resistance tends to increase because a physical change or a chemical change occurs on the contact surface due to a large number of sliding actions.

【0003】従来技術の例としては、ICソケットによ
って、DUT50と電気的接続をする形態がある。これ
について、図3を参照して説明する。本コンタクタの構
成は、テストヘッド部40と、ICソケット30と、D
UT50とで構成している。テストヘッド部40は、I
Cテスタ側からの試験用信号が対応するICソケット3
0のソケットピン34に接続されていて、被試験電圧
や、被試験パターンを供給する。DUT50は、被試験
デバイスであり、IC容器にパッケージングされた後、
製造後の検査の為に、全ファンクション試験項目を測定
実施されて、良品/不良品の判別や、性能ランク別の識
別、選別が行われる。DUT50のICリードピン51
は、一般に、芯材が銅ニッケル(CuNi)や鉄ニッケル
(FeNi)合金が使われていて、この表面にハンダがコ
ーティングされている。
As an example of the conventional technique, there is a form in which the IC is electrically connected to the DUT 50. This will be described with reference to FIG. This contactor is composed of a test head section 40, an IC socket 30, a D
It consists of UT50. The test head unit 40 is I
IC socket 3 to which test signals from the C tester side correspond
It is connected to the socket pin 34 of 0 and supplies the voltage under test and the pattern under test. The DUT 50 is a device under test, and after being packaged in an IC container,
For the post-manufacturing inspection, all function test items are measured and implemented, and non-defective products / defective products are discriminated, and performance ranks are identified and sorted. IC lead pin 51 of DUT50
In general, the core material is made of copper nickel (CuNi) or iron nickel (FeNi) alloy, and the surface thereof is coated with solder.

【0004】ICソケット30は、ソケットハウジング
32と、複数のソケットピン34とで構成していて、D
UT50のパッケージ品種に対応したソケットを設けて
使用する。このソケットピン34のコンタクト面35部
分には、金(Au)メッキ処理されていて安定した電気
接触が得られる電極を形成している。このICソケット
30は、前記の試験の為に、DUT50との間で、繰り
返し着脱使用されるものであり、電気接触部の電気的接
触信頼性と、耐久性が要求される。ところが、ICソケ
ット30のソケットピン34のコンタクト面35は、繰
り返しの摺動により、コンタクト面の化学変化を起こし
てくる為に、接触抵抗が増加し、接触不良を起こした
り、許容限界を超える接触抵抗値となってくる傾向にあ
る。この為、ICソケット30は、ある程度の使用回数
毎に交換が必要な消耗部品となっている。
The IC socket 30 comprises a socket housing 32 and a plurality of socket pins 34.
A socket corresponding to the UT50 package type is provided and used. The contact surface 35 of the socket pin 34 is plated with gold (Au) to form an electrode for obtaining stable electrical contact. The IC socket 30 is repeatedly attached to and detached from the DUT 50 for the above-mentioned test, and the electrical contact reliability and durability of the electrical contact portion are required. However, the contact surface 35 of the socket pin 34 of the IC socket 30 causes a chemical change of the contact surface due to repeated sliding, so that the contact resistance increases, resulting in poor contact or exceeding the allowable limit. It tends to become a resistance value. For this reason, the IC socket 30 is a consumable component that needs to be replaced after every use.

【0005】ソケットピン34のコンタクト面35の物
理変化、化学変化について説明する。数万回使用された
ICソケット30を走査顕微鏡、表面元素分析器で観測
すると、コンタクト面35の全面に渡りハンダ材が金メ
ッキ表面を覆っていることが観測される。この部分の表
面元素分析した結果、ハンダ(SnPb合金)とその酸化
物である酸化鉛(PbO)酸化錫(SnO2)の混合物が
コンタクト面35の金(Au)膜上に転移及び生成して
いることがわかる。ここで、ハンダの転移と摺動作用に
より、コンタクト面35の金(Au)表面上には、ハン
ダとの間で、金鉛(AuPb)合金が形成される。この合
金自体は導体であり接触抵抗に影響を与えないが、ハン
ダ材と金(Au)面との接着剤の役割を果たしてハンダ
転移を促進する。残りのハンダ成分である錫は、空気中
の酸素と化合して酸化物である酸化錫(SnO2)を生成
してくる。この酸化錫は、接触抵抗に大きな悪影響を与
える成分であることが知られている。このように、金と
ハンダとの化学反応が、結果として、接触抵抗の増加の
主要因となる、不良な酸化錫(SnO2)の生成を促す問
題点があることが見出された。
Physical changes and chemical changes of the contact surface 35 of the socket pin 34 will be described. When the IC socket 30 used tens of thousands of times is observed with a scanning microscope and a surface elemental analyzer, it is observed that the solder material covers the entire gold plating surface of the contact surface 35. As a result of surface elemental analysis of this portion, a mixture of solder (SnPb alloy) and its oxide, lead oxide (PbO) tin oxide (SnO2), is transferred and generated on the gold (Au) film of the contact surface 35. I understand. Here, due to the transfer and sliding action of the solder, a gold-lead (AuPb) alloy is formed on the gold (Au) surface of the contact surface 35 with the solder. Although this alloy itself is a conductor and does not affect the contact resistance, it plays the role of an adhesive between the solder material and the gold (Au) surface and promotes solder transition. The remaining solder component, tin, combines with oxygen in the air to form oxide tin oxide (SnO2). It is known that this tin oxide is a component that has a great adverse effect on contact resistance. Thus, it has been found that the chemical reaction between gold and solder results in the production of defective tin oxide (SnO2), which is the main cause of the increase in contact resistance.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】上記説明のように、D
UT50のICリードピン51とソケットピン34のコ
ンタクト面35が多数回の摺動作用によって、コンタク
ト面35の金(Au)表面には、ICソケットピン34
表面のハンダコーティングが転移して、酸化錫(SnO
2)の酸化物が生成してくる。この結果、表面には、不
導体膜が形成され、電気抵抗が大きくなり、例えば数Ω
以上に至るものもある。このような接触抵抗になると電
気試験に支障をきたし、電気測定の誤差要因となったり
する悪影響をもたらしてくる。
DISCLOSURE OF THE INVENTION Problems to be Solved by the Invention As described above, D
The IC lead pin 51 of the UT 50 and the contact surface 35 of the socket pin 34 are slid many times, so that the gold (Au) surface of the contact surface 35 has an IC socket pin 34
The solder coating on the surface is transferred and tin oxide (SnO)
The oxide of 2) is generated. As a result, a non-conductive film is formed on the surface, increasing the electrical resistance, for example, several Ω.
There are also things that lead to the above. Such contact resistance hinders the electrical test and has an adverse effect of causing an error in electrical measurement.

【0007】そこで、本発明が解決しようとする課題
は、ソケットピン34のコンタクト面35に絶縁体物質
の形成されにくい表面処理をして、格段の接触信頼性の
向上、長寿命化を実現することを目的とする。
Therefore, the problem to be solved by the present invention is to improve the contact reliability and to prolong the life of the contact surface 35 of the socket pin 34 by subjecting the contact surface 35 of the socket pin 34 to a surface treatment that makes it difficult to form an insulating material. The purpose is to

【0008】[0008]

【課題を解決する為の手段】上記課題を解決するため
に、本発明の構成では、第2のコンタクトピン20の表
面にグラファイト蒸着11のコーティング処理をする手
段とする。これにより、グラファイトを蒸着したコンタ
クトピン、あるいはICソケットピンの、繰り返し摺動
着脱するコンタクトピンの接触信頼性・耐久性を向上す
る。このグラファイトの蒸着形成手段としては、電子線
蒸着法によって真空蒸着によりコーティング処理をする
手段がある。
In order to solve the above-mentioned problems, in the constitution of the present invention, a means for coating the surface of the second contact pin 20 with the graphite vapor deposition 11 is used. As a result, the contact reliability and durability of the contact pin on which graphite is vapor-deposited or the contact pin of the IC socket pin that is repeatedly slidably attached and removed are improved. As a means for forming and depositing this graphite by vapor deposition, there is a means for performing coating treatment by vacuum vapor deposition by electron beam vapor deposition.

【0009】[0009]

【作用】グラファイト蒸着11を形成したソケットピン
は、両コンタクト面の摺動によって、金(Au)表面
に、金鉛(AuPb)合金の形成を防止する作用が得られ
る。この結果、接触抵抗の増加の主要因となる、残りの
錫と空気中の酸素との酸化物である酸化錫(PbO2)の
生成を抑制する作用がある。また、グラファイト蒸着1
1により、摩擦抵抗の小さいコンタクト面が得られ、ハ
ンダの付着/転移の軽減作用がある。
The socket pin formed with the graphite vapor deposition 11 has the function of preventing the formation of a gold-lead (AuPb) alloy on the gold (Au) surface by sliding the contact surfaces. As a result, it has an effect of suppressing the formation of tin oxide (PbO2), which is the oxide of the remaining tin and oxygen in the air, which is the main factor of the increase in contact resistance. Also, graphite deposition 1
According to No. 1, a contact surface having a small frictional resistance can be obtained, and there is an action of reducing the adhesion / transfer of solder.

【0010】[0010]

【実施例】本発明の実施例は、ICソケット30のソケ
ットピンの表面にグラファイト(黒鉛)を蒸着して接触
信頼性の向上を実現する場合である。これについて、図
1と図2(a)、(b)を参照して説明する。ソケット
ピンの構造は、コンタクトピン20と、金メッキ22
と、グラファイト蒸着11とで構成している。コンタク
トピン20と、金メッキ22は、従来と同様のソケット
ピン構造物である。
EXAMPLE An example of the present invention is a case where graphite is deposited on the surface of a socket pin of the IC socket 30 to improve contact reliability. This will be described with reference to FIGS. 1 and 2A and 2B. The structure of the socket pin is the contact pin 20 and the gold plating 22.
And graphite vapor deposition 11. The contact pin 20 and the gold plating 22 are the same socket pin structure as the conventional one.

【0011】グラファイト蒸着11は、金メッキ22の
表面に、真空蒸着処理により形成したものである。グラ
ファイトは、蒸発しにくい物質である為に、真空蒸着
は、電子線蒸着法により行う。また、形成されるグラフ
ァイト膜が伝導性の良いグラファイト膜を形成される様
にする為に、コンタクトピン20を200度近く迄昇温
した状態で蒸着を行う。
The graphite vapor deposition 11 is formed on the surface of the gold plating 22 by vacuum vapor deposition processing. Since graphite is a substance that does not easily evaporate, vacuum evaporation is performed by electron beam evaporation. Further, in order to form a graphite film having good conductivity, the formed graphite film is vapor-deposited in a state where the temperature of the contact pin 20 is raised to about 200 degrees.

【0012】この様にして形成したソケットピンは、第
1に、摩擦抵抗の小さいコンタクト面が得られ、第2
に、ハンダの付着/転移の軽減作用が得られ、第3に、
ソケットピンの金メッキ22との合金の生成を抑制する
作用が得られ、第4に接触抵抗の安定化作用が得られ
る。第1の摩擦抵抗は、従来に比較して、約半分程度の
摩擦抵抗に軽減している。これによって、摺動によるコ
ンタクト面の摩耗の軽減と、ICリードピン51からの
ハンダ材の転移の軽減が実現される。第2のハンダの付
着/転移の軽減は、図2(a)の比較特性図に示す。横
軸は、着脱回数であり、縦軸は、転移したハンダ材の量
である。従来の転移量特性101a曲線に比べ、本発明
では、半分以下の転移量特性101b曲線となってい
る。第4の接触抵抗の安定化は、図2(b)の比較特性
図に示す。横軸は、着脱回数であり、縦軸は、接触抵抗
値である。従来の接触抵抗曲線102aに示すように、
2500回以上から接触抵抗が増加しているのに対し
て、本発明では、安定した低抵抗の接触抵抗曲線102
bを維持していることがわかる。
In the socket pin thus formed, firstly, a contact surface having a small frictional resistance can be obtained, and
To obtain the effect of reducing the adhesion / transfer of solder, and thirdly,
The effect of suppressing the formation of an alloy with the gold plating 22 of the socket pin is obtained, and fourthly, the effect of stabilizing the contact resistance is obtained. The first frictional resistance is reduced to about half that of the conventional one. As a result, the wear of the contact surface due to the sliding and the transfer of the solder material from the IC lead pin 51 are reduced. The reduction of the adhesion / transfer of the second solder is shown in the comparative characteristic diagram of FIG. The horizontal axis represents the number of times of attachment and detachment, and the vertical axis represents the amount of transferred solder material. Compared with the conventional transfer amount characteristic 101a curve, in the present invention, the transfer amount characteristic 101b curve is half or less. The stabilization of the fourth contact resistance is shown in the comparative characteristic diagram of FIG. The horizontal axis represents the number of attachments and detachments, and the vertical axis represents the contact resistance value. As shown in the conventional contact resistance curve 102a,
In contrast to the contact resistance increasing from 2500 times or more, in the present invention, the stable and low contact resistance curve 102 is obtained.
It can be seen that b is maintained.

【0013】上記実施例の説明では、ICソケット30
のソケットピンの表面にグラファイトを蒸着する場合で
説明したが、上記実施例以外のコンタクト(接触子)の
形態で、一方が金のコンタクト面で、他方がハンダ面
で、両者を摺動して電気的接続をする場合でも良く、同
様にして実施できる。
In the description of the above embodiment, the IC socket 30 is used.
In the above description, the graphite was vapor-deposited on the surface of the socket pin. However, in the form of a contact (contact) other than the above-mentioned embodiment, one is a gold contact surface and the other is a solder surface, and both are slid. It is also possible to make electrical connection, and the same operation can be performed.

【0014】[0014]

【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、下記に記載されるような効果を奏する。グ
ラファイト蒸着11を形成したソケットピンは、DUT
50のICリードピン51とソケットピン34のコンタ
クト面35が摺動作用によって、コンタクト面35の金
(Au)表面に、金鉛(AuPb)合金の形成を防止する
効果が得られる。この結果、接触抵抗の増加の主要因と
なる、残りの錫と空気中の酸素との酸化物である酸化錫
(PbO2)の生成を抑制する効果がある。グラファイト
蒸着11を形成したソケットピンは、摩擦抵抗の小さい
コンタクト面が得られ、ハンダの付着/転移の軽減効果
が得られ、ソケットピンの金メッキ22との合金の生成
を抑制する効果が得られ、これらから、長寿命の安定し
た接触抵抗が得られる。これを使用して繰り返し着脱使
用されるICソケット30では、電気的接触信頼性と、
耐久性が向上し、ICソケット30の交換頻度が少なく
できる為、交換コストの低減が実現できる利点がある。
Since the present invention is configured as described above, it has the following effects. The socket pin with the graphite vapor deposition 11 is a DUT
By the sliding action of the IC lead pin 51 of 50 and the contact surface 35 of the socket pin 34, an effect of preventing the formation of a gold-lead (AuPb) alloy on the gold (Au) surface of the contact surface 35 is obtained. As a result, there is an effect of suppressing the formation of tin oxide (PbO2), which is the oxide of the remaining tin and oxygen in the air, which is the main cause of the increase in contact resistance. The socket pin on which the graphite vapor deposition 11 is formed has a contact surface with low frictional resistance, an effect of reducing solder adhesion / transition, and an effect of suppressing the formation of an alloy with the gold plating 22 of the socket pin. From these, a long life and stable contact resistance can be obtained. In the IC socket 30 that is repeatedly attached and detached by using this, electrical contact reliability and
Since the durability is improved and the frequency of replacing the IC socket 30 can be reduced, there is an advantage that the replacement cost can be reduced.

【0015】[0015]

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の、コンタクト面35の金(Au)表面
に、グラファイトを形成した断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view in which graphite is formed on a gold (Au) surface of a contact surface 35 of the present invention.

【図2】(a)コンタクト面の着脱回数に対する、ハン
ダの付着/転移の比較特性図である。 (b)コンタクト面の着脱回数に対する、接触抵抗の比
較特性図である。
FIG. 2A is a comparative characteristic diagram of solder adhesion / dislocation with respect to the number of times of contact surface attachment / detachment. (B) is a comparative characteristic diagram of the contact resistance with respect to the number of times the contact surface is attached and detached.

【図3】従来の、ICソケットによる、DUT50を電
気的接続して電気試験をする使用例を説明する図であ
る。
FIG. 3 is a diagram illustrating a conventional use example in which an electric test is performed by electrically connecting a DUT 50 with an IC socket.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 グラファイト蒸着 20 コンタクトピン 22 金メッキ 30 ICソケット 32 ソケットハウジング 34 ソケットピン 35 コンタクト面 40 テストヘッド部 50 被試験デバイス(DUT) 51 ICリードピン 101a、101b 転移量特性曲線 102a、102b 接触抵抗曲線 11 Graphite Vapor Deposition 20 Contact Pin 22 Gold Plating 30 IC Socket 32 Socket Housing 34 Socket Pin 35 Contact Surface 40 Test Head Part 50 Device Under Test (DUT) 51 IC Lead Pin 101a, 101b Transfer Rate Characteristic Curve 102a, 102b Contact Resistance Curve

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1のコンタクト材の表面にハンダ材で
あるSnPb合金がコーティングされ、第2のコンタクト
材の表面に金(Au)がコーティングされ、両者を繰り
返し摺動着脱するコンタクトピンにおいて、 第2のコンタクトピン(20)の表面にグラファイト蒸
着(11)のコーティング処理をし、 以上を具備していることを特徴としたグラファイトを蒸
着したコンタクトピン。
1. A contact pin in which the surface of a first contact material is coated with a SnPb alloy, which is a solder material, and the surface of a second contact material is coated with gold (Au). A contact pin, which is obtained by subjecting a surface of a second contact pin (20) to a coating process of graphite deposition (11) and having the above-mentioned features.
【請求項2】 第1のコンタクト材の表面にハンダ材で
あるSnPb合金がコーティングされ、第2のICソケッ
ト(30)のコンタクト材の表面に金(Au)がコーテ
ィングされ、両者を繰り返し摺動着脱するICソケット
(30)において、 第2のICソケット(30)のコンタクトピン(20)
の表面にグラファイト蒸着(11)のコーティング処理
をし、 以上を具備していることを特徴としたグラファイトを蒸
着したICソケットピン。
2. The surface of the first contact material is coated with a SnPb alloy, which is a solder material, and the surface of the contact material of the second IC socket (30) is coated with gold (Au), and both are repeatedly slid. In the detachable IC socket (30), the contact pin (20) of the second IC socket (30)
An IC socket pin on which graphite has been vapor-deposited, which is obtained by subjecting the surface of (1) to a coating treatment of graphite vaporization (11) and having the above.
【請求項3】 グラファイトの蒸着形成は、 電子線蒸着法によって真空蒸着する、請求項1及び請求
項2記載のグラファイトを蒸着したコンタクトピン及び
これを用いたICソケットピン。
3. The graphite-vapor-deposited contact pin according to claim 1 or 2, wherein the graphite is vapor-deposited by an electron beam vapor deposition method, and an IC socket pin using the same.
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