JPH087231A - Method for machining mr height of mr composite thin film magnetic head - Google Patents
Method for machining mr height of mr composite thin film magnetic headInfo
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- JPH087231A JPH087231A JP6131870A JP13187094A JPH087231A JP H087231 A JPH087231 A JP H087231A JP 6131870 A JP6131870 A JP 6131870A JP 13187094 A JP13187094 A JP 13187094A JP H087231 A JPH087231 A JP H087231A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、MR(磁気抵抗効果
型)複合薄膜磁気ヘッドのMR高さ加工方法に関し、特
にヘッドブロック状態におけるMR複合薄膜磁気変換素
子のMR素子の高さばらつきを低減し、高精度、高能率
および高歩留まりを可能としたMR(磁気抵抗効果型)
複合薄膜磁気ヘッドのMR高さ加工方法に関するもので
ある。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an MR height machining method for an MR (magnetoresistive effect) composite thin film magnetic head, and more particularly to reducing the height variations of the MR composite thin film magnetic conversion element in a head block state. MR (magnetoresistive effect type) that enables high accuracy, high efficiency and high yield
The present invention relates to an MR height processing method for a composite thin film magnetic head.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年の磁気ディスク装置は、大容量化お
よび小型化の要求によって面記録密度の大幅な向上が望
まれており、このためデータの記録を行うアクティブ型
磁気ヘッド素子とデータ読取り専用のMR(磁気抵抗効
果型)磁気ヘッド素子を組合せたMR(磁気抵抗効果
型)複合薄膜磁気ヘッドが採用されている。このMR複
合薄膜磁気ヘッドは、半導体生成技術と同様に円板状の
ウエハ上に多数の素子を形成し、このウエハから一列の
素子をブロック状に切り出した状態でMR素子を所定の
高さに研磨加工を行い、更に該ヘッドブロックを複数に
分断して形成するのが一般的である。前記MR素子の所
定高さの加工は、磁気信号の読み込み性能を左右するた
め高精度が要求されている。2. Description of the Related Art Recent magnetic disk devices are required to have a large increase in areal recording density due to the demand for larger capacity and smaller size. For this reason, an active magnetic head element for recording data and a data read-only device are required. An MR (magnetoresistive effect type) composite thin-film magnetic head in which MR (magnetoresistive effect type) magnetic head elements are combined is adopted. In this MR composite thin film magnetic head, a large number of elements are formed on a disk-shaped wafer as in the semiconductor production technique, and the MR elements are cut to a predetermined height in a state where a row of elements are cut out in blocks. Generally, the head block is ground and then divided into a plurality of pieces. The processing of the MR element to a predetermined height affects the magnetic signal reading performance, and thus requires high accuracy.
【0003】このMR素子の所定高さの加工は、ウエハ
から切り出したヘッドブロックの歪のアンバンランスに
よる曲り或いはヘッドブロックを治具に固定する時に生
じる変形などの影響によって、各素子のMR高さ位置の
ばらつきが生じ、MR高さを精度良く高歩留まりで加工
することが困難であった。また、MR高さは、素子の内
部にある寸法のため、直接外部から測定することは困難
である。The processing of the MR element to a predetermined height is performed by bending the head block cut out from the wafer due to unbalanced strain, or deforming when the head block is fixed to a jig. Positional variations occur, making it difficult to process the MR height with high precision and high yield. Further, since the MR height is a dimension inside the element, it is difficult to directly measure it from the outside.
【0004】従来技術によるMR高さ加工方法は、例え
ば米国特許第4914868号公報に記載された様に、
ヘッドブロックの下面を回転駆動するラッピング板及び
ダイヤモンドダストを用いた研磨方法において、ヘッド
ブロックの左右端下面に加工終点検知素子を設けると共
に加工中のMR素子の抵抗値を検出する回路を設け、前
記各MR素子の抵抗値及び加工終点検知素子の抵抗値を
測定することによりヘッドブロックのMR高さ位置のば
らつきを把握し、それらばらつきの情報に基づいてアク
チュエータによりヘッドブロックを固定している治具に
強制変位を与えMR高さ位置のばらつきを均一にするこ
とによって、MR高さを高精度に加工するものが提案さ
れている。また、この従来技術によるアクチュエータ
は、ミクロン程度の変位を制御するための構成が開示さ
れてしないものであった。A conventional MR height machining method is disclosed in, for example, US Pat. No. 4,914,868.
In a polishing method using a lapping plate for rotating the lower surface of the head block and diamond dust, a processing end point detection element is provided on the lower surface of the left and right ends of the head block, and a circuit for detecting the resistance value of the MR element being processed is provided, A jig that grasps the variation in the MR height position of the head block by measuring the resistance value of each MR element and the resistance value of the processing end point detection element, and fixes the head block by an actuator based on the information of the variation. A method has been proposed in which the MR height is machined with high accuracy by forcibly displacing the MR height to make the variations in the MR height position uniform. Further, the actuator according to the related art has not disclosed the structure for controlling the displacement of about micron.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】前記従来技術によるM
R高さ加工方法は、ヘッドブロック変形量を制御するた
めのパラメータとして実製品であるMR素子の抵抗値を
用いるものであるが、この抵抗測定に伴う電気信号の導
通によってMR素子が腐食する可能性が大きくなると共
に、MR特性が不良であるMR素子が存在したときには
十分な精度が得られないと言う不具合を招いていた。更
に、測定回路の増加に伴い測定用接続端子等が増え治工
具コストが増大し、製品コストが高くなると言う不具合
も招いていた。またヘッドブロックを変位させるアクチ
ュエータがミクロン単位の高精度加工に摘さないもので
あった。SUMMARY OF THE INVENTION
The R-height processing method uses the resistance value of the MR element that is the actual product as a parameter for controlling the amount of deformation of the head block, but the MR element may be corroded due to conduction of an electric signal accompanying this resistance measurement. When the MR element having poor MR characteristics is present, sufficient accuracy cannot be obtained. Further, as the number of measuring circuits increases, the number of measuring connection terminals and the like increases, and the cost of jigs and tools also increases, resulting in an increase in product cost. In addition, the actuator that displaces the head block is not designed for high precision machining in the micron range.
【0006】本発明の目的は、前述の従来技術による不
具合を除去することであり、製品となるMR素子の抵抗
値を用いることなく正確にMR素子位置を測定すること
により、ヘッドブロックにおけるMR素子位置のばらつ
きを均一にし、MR高さを高精度に加工することができ
るMR複合薄膜磁気ヘッドのMR高さ加工方法を提供す
ることである。また本発明の他の目的は、ヘッドブロッ
クを高精度に変位することができるアクチュエータを含
むMR複合薄膜磁気ヘッドのMR高さ加工方法を提供す
ることである。An object of the present invention is to eliminate the above-mentioned problems caused by the prior art, and by accurately measuring the MR element position without using the resistance value of the MR element as a product, the MR element in the head block. An object of the present invention is to provide a method for processing the MR height of an MR composite thin film magnetic head, which can make the variations in position uniform and process the MR height with high accuracy. Another object of the present invention is to provide an MR height processing method for an MR composite thin film magnetic head including an actuator capable of displacing a head block with high accuracy.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
本発明は、MR素子を含むMR複合薄膜磁気ヘッドを複
数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法におい
て、前記ヘッドブロックに複数のMR素子位置に対応し
て光学的に検知される複数のMRテストパターンを併設
し、該複数のMRテストパターンを光学的に検知するこ
とにより複数のMR素子位置のばらつきを間接的に検出
し、該検出した複数のMR素子位置のばらつきを所定の
許容値内に収る様にヘッドブロックを変位しながらMR
素子を研磨することを第1の特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a method for processing the height of a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads including an MR element, wherein the plurality of MR elements are provided in the head block. A plurality of MR test patterns that are optically detected corresponding to the positions are provided side by side, and the plurality of MR test patterns are optically detected to indirectly detect variations in the positions of the plurality of MR elements. MR is performed while displacing the head block so that variations in the positions of a plurality of MR elements are within a predetermined allowable value.
The first feature is polishing the element.
【0008】また本発明は、MR素子を含むMR複合薄
膜磁気ヘッドを複数搭載したヘッドブロックのMR高さ
加工方法において、前記ヘッドブロックに複数のMR素
子位置に対応して光学的に検知される複数のMRテスト
パターン及び電気抵抗値変化により研磨量を検知する複
数の加工量検知素子を設け、該複数のMRテストパター
ンを光学的に検知することにより複数のMR素子位置の
ばらつきを間接的に検出し、該検出した複数のMR素子
位置を記憶すると共に複数のMR素子位置のばらつきが
所定の許容値内に収る様にヘッドブロックを変位しなが
らMR素子を研磨すると共に、前記複数の加工量検知素
子により所定の加工量に達した時点で前記記憶した複数
のMR素子位置及びヘッドブロックの変位量を用いて加
工途中の複数のMR素子位置のばらつきを予測し、この
予測値を用いて複数のMR素子位置のばらつきが所定の
許容値内に収る様にヘッドブロックの変位を調整しなが
らMR素子を研磨することを第2特徴とする。Further, according to the present invention, in an MR height processing method of a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads including MR elements, the head block is optically detected corresponding to a plurality of MR element positions. A plurality of processing amount detection elements for detecting a polishing amount based on a plurality of MR test patterns and changes in electric resistance value are provided, and a plurality of MR test patterns are optically detected to indirectly vary a plurality of MR element positions. The plurality of MR elements are detected and stored, the detected MR element positions are stored, and the MR element is polished while the head block is displaced so that the variation of the plurality of MR element positions is within a predetermined allowable value. When a predetermined amount of processing is reached by the amount detecting element, a plurality of Ms in the process of processing are processed using the stored plurality of MR element positions and the displacement amount of the head block. A second feature is that the variation of the element position is predicted and the MR element is polished while adjusting the displacement of the head block so that the variation of the plurality of MR element positions falls within a predetermined allowable value using the predicted value. And
【0009】更に本発明は、前記アクチュエータが、ア
クチュエータを微小変位させるピエゾ素子、及びこのピ
エゾ素子による変位量を検出する歪ゲードとを含み、該
歪ゲードにより検出した変位量をフィードバックしなが
らアクチュエータを微小変位させることを第3特徴とす
る。Further, the present invention is characterized in that the actuator includes a piezo element for slightly displacing the actuator, and a strain gate for detecting a displacement amount by the piezo element, and the actuator is fed back with the displacement amount detected by the strain gate. The third feature is to make a minute displacement.
【0010】[0010]
【作用】前記第1の特徴によるMR複合薄膜磁気ヘッド
を複数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法は、
ヘッドブロック上の複数のMRテストパターンを光学的
に検知することにより複数のMR素子位置のばらつきを
間接的に検出し、該検出した複数のMR素子位置のばら
つきを所定の許容値内に収る様にヘッドブロックを変位
しながらMR素子を研磨することにより、MR素子位置
のばらつきをMR素子に通電することなく測定してMR
素子の腐食を防止しつつMR高さを高精度に加工するこ
とができる。The method for processing the MR height of the head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads according to the first feature is as follows.
Optically detecting a plurality of MR test patterns on the head block indirectly detects a plurality of MR element position variations, and keeps the detected plurality of MR element position variations within a predetermined allowable value. By polishing the MR element while displacing the head block in the same manner, the variation in the MR element position can be measured without energizing the MR element and the MR can be measured.
The MR height can be processed with high precision while preventing the element from being corroded.
【0011】前記第2の特徴によるMR複合薄膜磁気ヘ
ッドを複数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法
は、ヘッドブロック上の複数のMRテストパターンを光
学的に検知することにより複数のMR素子位置のばらつ
きを間接的に検出し、該検出した複数のMR素子位置の
ばらつきを所定の許容値内に収る様にヘッドブロックを
変位しながらMR素子を研磨すると共に、加工途中で記
憶した複数のMR素子位置及びヘッドブロックの変位量
を用いて加工途中の複数のMR素子位置のばらつきを予
測し、この予測値を用いて複数のMR素子位置のばらつ
きが所定の許容値内に収る様にヘッドブロックの変位を
調整しながらMR素子を研磨することにより、MR素子
位置のばらつきをMR素子に通電することなく測定して
MR素子の腐食を防止しつつMR高さを更に高精度に加
工することができる。In the MR height processing method for a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads according to the second feature, a plurality of MR element positions are detected by optically detecting a plurality of MR test patterns on the head block. Of the MR element is indirectly detected, the MR element is polished while the head block is displaced so that the detected variations of the MR element positions are within a predetermined allowable value, and the plurality of MR elements stored during the machining are stored. By using the MR element position and the displacement amount of the head block, variations in the MR element positions during processing are predicted, and by using the predicted values, the variations in the MR element positions are set within a predetermined allowable value. By polishing the MR element while adjusting the displacement of the head block, the variation of the MR element position can be measured without energizing the MR element to prevent corrosion of the MR element. The MR height can be further processed with high accuracy while sealed.
【0012】前記第3の特徴によるMR複合薄膜磁気ヘ
ッドを複数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法
は、アクチュエータを微小変位させるピエゾ素子及びこ
のピエゾ素子による変位量を検出する歪ゲードとを含む
アクチュエータを用い、該歪ゲードにより検出した変位
量をフィードバックしながらアクチュエータを微小変位
させることにより、高精度な変位量を制御しながらMR
素子位置のばらつきをMR素子を用いることなく測定し
てMR素子の腐食することなくMR高さを更に高精度に
加工することができる。また前記各特徴によるMR高さ
加工方法は、MR特性が不良なMR素子がある場合でも
誤差なく高精度な加工を行うことができる。An MR height processing method for a head block mounting a plurality of MR composite thin film magnetic heads according to the third feature includes a piezo element for slightly displacing an actuator and a strain gate for detecting a displacement amount by the piezo element. By using an actuator, the displacement amount detected by the strain gate is fed back, and the actuator is finely displaced to control the displacement amount with high accuracy.
The variation in the element position can be measured without using the MR element, and the MR height can be processed with higher accuracy without the corrosion of the MR element. In addition, the MR height processing method according to each of the features described above can perform high-precision processing without error even when there is an MR element having poor MR characteristics.
【0013】[0013]
【実施例】以下、本発明の一実施例によるMR複合薄膜
磁気ヘッドのMR高さ加工方法を図面を参照して詳細に
説明する。図1は本実施例によるMR高さ加工方法を適
用するヘッドブロックの固定状態を示す図、図2は図1
に示したヘッドブロックのMR素子近傍の部分拡大図、
図3は本実施例によるMR高さ加工方法を説明するため
のフローチャート、図4はMR高さ加工装置の概念図、
図5はMRテストパターンによる補正前のMR高さ位置
状態を示す図、図6はMRテストパターンによる補正後
のMR高さ位置状態を示す図、図7は加工終了後のMR
高さ位置状態を示す図である。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A method of processing an MR height of an MR composite thin film magnetic head according to an embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. FIG. 1 is a diagram showing a fixed state of a head block to which the MR height machining method according to this embodiment is applied, and FIG.
A partially enlarged view of the MR element of the head block shown in FIG.
FIG. 3 is a flow chart for explaining the MR height machining method according to this embodiment, FIG. 4 is a conceptual diagram of the MR height machining apparatus,
FIG. 5 is a diagram showing an MR height position state before correction by an MR test pattern, FIG. 6 is a diagram showing an MR height position state after correction by an MR test pattern, and FIG. 7 is an MR height after processing.
It is a figure which shows a height position state.
【0014】まず本実施例によるMR複合薄膜磁気ヘッ
ドのMR高さ加工方法が適用されるヘッドブロック1
は、図1に示す様に円板状のウエハから切出された長方
形形状をしており、熱軟化性のホットメルト系ワックス
3によってSUS材あるいはセラミック材のヘッドブロ
ック固定治具4に接着する。このワックス接着時にはワ
ックス硬化現象によって、接着面における硬化時間の差
異および凝縮による歪の発生に伴いヘッドブロック1に
変形が生じることが知られている。また前記ヘッドブロ
ック固定治具4は、上方に複数の切り欠き41が設けら
れ、この切り欠き41により上方からの圧力によって任
意に弾性変形可能に形成されている。First, a head block 1 to which the MR height processing method for an MR composite thin film magnetic head according to this embodiment is applied.
1 has a rectangular shape cut out from a disk-shaped wafer as shown in FIG. 1, and is bonded to a head block fixing jig 4 of a SUS material or a ceramic material by a heat-softening hot melt wax 3. . It is known that when the wax is adhered, the head block 1 is deformed due to the difference in the curing time on the adhered surface and the distortion caused by the condensation due to the wax curing phenomenon. Further, the head block fixing jig 4 is provided with a plurality of notches 41 on the upper side, and the notches 41 are formed so as to be elastically deformable arbitrarily by pressure from above.
【0015】更に前記ヘッドブロック1は、図2に示す
如く複数のライトヘッド用のコイル23及びリード用の
MR素子21と、両端に配置されたMR加工量検知素子
6と、MR素子23の近傍に本実施例の特徴であるMR
テストパターン22とを配置している。このMRテスト
パターン22は、MR素子形成工程等の素子形成工程中
にMR素子23に併設して設けられ、このテストパター
ン22を光学的に検出することによってMR素子23位
置を間接的に検出するためのものである。Further, as shown in FIG. 2, the head block 1 further includes a plurality of write head coils 23 and read MR elements 21, MR processing amount detection elements 6 arranged at both ends, and the vicinity of the MR element 23. The MR characteristic of this embodiment
The test pattern 22 is arranged. The MR test pattern 22 is provided alongside the MR element 23 during an element forming process such as an MR element forming process, and the MR element 23 position is indirectly detected by optically detecting the test pattern 22. It is for.
【0016】さて、このヘッドブロック1のMR素子2
1のMR膜を研磨してMR高さを決める研磨装置は、図
4に示す如く、ヘッドブロック1を装着した弾性的なヘ
ッドブロック固定治具4の上方に位置する複数のアクチ
ュエータ5と、ヘッドブロック1の下方に位置して回転
駆動するラッピング板60と、該ラッピング板60とヘ
ッドブロック1の間に研磨用のダイヤモンドダスト等を
供給する機構(図示せず)と、前記複数のアクチュエー
タ5の変位を制御する制御装置7と、前記ヘッドブロッ
ク1のMRテストパターン22を光学的に画像検知する
画像処理部61とから構成される。Now, the MR element 2 of this head block 1
As shown in FIG. 4, a polishing apparatus for polishing the MR film of No. 1 to determine the MR height includes a plurality of actuators 5 located above an elastic head block fixing jig 4 on which the head block 1 is mounted, and a head. A lapping plate 60 located below the block 1 and driven to rotate, a mechanism (not shown) for supplying polishing diamond dust or the like between the lapping plate 60 and the head block 1, and a plurality of actuators 5 It is composed of a control device 7 for controlling the displacement and an image processing unit 61 for optically detecting the MR test pattern 22 of the head block 1.
【0017】前記アクチュエータ5は、内部に電力供給
によって変位するビエゾ素子52と、該ビエゾ素子52
による変位によって発生する歪を検出するための歪ゲー
ジ51を内蔵し、前記制御装置7は、前記アクチュエー
タ5のピエゾ素子52を駆動するピエゾドライバ72
と、該ピエゾドライバ72によるアクチュエータ5の変
位を歪として検出する歪ゲージ用アンプ71と、ヘッド
ブロック1の両端に配置されたMR加工量検知素子6か
らの加工量を電気抵抗値変化により検出する加工量検出
素子用アンプ74と、これら回路を制御するコンピュー
タ73とを備え、コンピュータ73が歪ゲージ用アンプ
71を介してアクチュエータ5の変位量をフィードバッ
クしながらピエゾドライバ72によりアクチュエータ5
の変位量を制御すると共に、MR加工量検知素子6によ
る研磨加工量検知及び画像処理部61による画像検知に
よって複数のMRテストパターン22の相対的位置関係
を監視する様に構成されている。尚、通常のピエゾ素子
を用いたアクチュエータでは、高精度な位置決め制御を
行なう上でヒステリシスが問題点となるが、本実施例に
よるアクチュエータ5は歪ゲージ51を内蔵し、フィー
ドバック制御を用いてこのヒステリシスの問題を解決し
ているものである。The actuator 5 has a piezo element 52 which is displaced internally by power supply, and the piezo element 52.
The strain gauge 51 for detecting the strain generated by the displacement of the actuator 5 is built in, and the control device 7 drives the piezo element 52 of the actuator 5 by the piezo driver 72.
And a strain gauge amplifier 71 for detecting the displacement of the actuator 5 by the piezo driver 72 as a strain, and a machining amount from the MR machining amount detecting elements 6 arranged at both ends of the head block 1 is detected by a change in electric resistance value. The processing amount detection element amplifier 74 and a computer 73 for controlling these circuits are provided. The computer 73 feeds back the displacement amount of the actuator 5 via the strain gauge amplifier 71, and the actuator 5 is driven by the piezo driver 72.
Is controlled, and the relative positional relationship of the plurality of MR test patterns 22 is monitored by detecting the polishing processing amount by the MR processing amount detecting element 6 and the image detection by the image processing unit 61. It should be noted that in an actuator using a normal piezo element, hysteresis is a problem in performing highly accurate positioning control, but the actuator 5 according to the present embodiment incorporates a strain gauge 51 and uses feedback control to perform this hysteresis. The problem of is solved.
【0018】この様に構成された研磨装置は、制御装置
7が上方から複数のアクチュエータ5のピエゾ素子52
の変位を用いてヘッドブロック固定治具4を介してヘッ
ドブロック1を下方に押圧しながらラッピング板60を
回転することによってヘッドブロック1の下面、即ちを
MR素子21のMR膜を所定寸法に研磨加工するもので
あり、詳細動作を図8及び図9並びに図3のフローチャ
ートを参照して説明する。図8は、ヘッドブロック1の
アクチュエータ5による押圧工程及びラッピング工程を
説明するための図であり、図9はMR素子21及び該M
R素子21に追随して位置関係が変化するMRテストパ
ターン22を模式的に説明するための図である。In the polishing apparatus thus configured, the control device 7 controls the piezo elements 52 of the plurality of actuators 5 from above.
Is used to rotate the lapping plate 60 while pressing the head block 1 downward through the head block fixing jig 4 to polish the lower surface of the head block 1, that is, the MR film of the MR element 21 to a predetermined size. The detailed operation will be described with reference to FIGS. 8 and 9 and the flowchart of FIG. FIG. 8 is a diagram for explaining a pressing process and a lapping process by the actuator 5 of the head block 1, and FIG.
6 is a diagram for schematically explaining an MR test pattern 22 whose positional relationship changes following the R element 21. FIG.
【0019】さて本実施例によるMR高さ加工方法は、
まず図8[a]に示したヘッドブロック固定治具4に装
着されたヘッドブロック1を図4に示した研磨装置に固
定し(図3中、ステップ101)、このヘッドブロック
1の複数のMRテストパターン22を画像処理部61に
よる光学的に画像検出してMR高さ位置の測定を間接的
に行う(ステップ102)。この固定された状態のヘッ
ドブロック1は、前述のワックス3硬化現象その他の原
因により変則的に湾曲するのが一般的であり、本実施例
においては例えば図9[b]の如く中央が反り上がった
形状に湾曲したばらつき特性とする。このヘッドブロッ
ク1の複数のMRテストパターン22を画像処理部61
により検出した位置関係は、図5に示す如く、標準のM
R高さ位置[0]を基準に中央が反り上がった特性とし
てMR素子21位置のばらつきを間接的に検出すること
ができる。このアクチュエータ5の変位量とMR素子位
置のばらつきの補正量は、相関としてデータベースとし
て収集しておき、加工時の補正係数として用いることも
できる。The MR height machining method according to this embodiment is as follows.
First, the head block 1 mounted on the head block fixing jig 4 shown in FIG. 8A is fixed to the polishing apparatus shown in FIG. 4 (step 101 in FIG. 3), and a plurality of MRs of the head block 1 are fixed. The image of the test pattern 22 is optically detected by the image processing unit 61 to indirectly measure the MR height position (step 102). The head block 1 in this fixed state generally bends irregularly due to the above-mentioned hardening phenomenon of the wax 3 and the like, and in the present embodiment, for example, the center warps as shown in FIG. 9B. The variation characteristic is curved in a curved shape. The image processing unit 61 sets a plurality of MR test patterns 22 of the head block 1.
As shown in Fig. 5, the positional relationship detected by
The variation in the position of the MR element 21 can be indirectly detected as a characteristic that the center is warped with respect to the R height position [0]. The displacement amount of the actuator 5 and the correction amount of the variation of the MR element position can be collected as a correlation in a database and used as a correction coefficient during processing.
【0020】次に本実施例においては、前記湾曲した特
性を補正するために制御装置7が図8[b]及び図9
[b]に示す如く左右のアクチュエータ5のビエゾ素子
52を用いて力F1/F2にて押圧し、該押圧によりヘッ
ドブロック固定治具4が切り欠き41によりアクチュエ
ータ5の駆動に応じてヘッドブロック1を変形させ、こ
の変形を歪ゲージ51を介する歪度及び画像処理部61
による複数のMRテストパターン22のMR高さ位置と
してフィードバックしながら、複数のMR高さ位置のば
らつき特性が標準値[0]に対して所定許容値範囲に収
る様に繰返し位置補正を行う(ステップ102〜ステッ
プ106)。この位置補正を行った後の位置特性は、例
えば図6に示す如く標準値[0]に対してプラスマイナ
ス0.2μmの範囲に収る様に行われる。尚、前記前加工
の状態によっては繰り返し補正をかけもMR素子位置の
ばらつきが許容値内に補正できない場合は、ステップ1
04を介したステップ105により不良として補正及び
加工を中止し、加工効率の向上を図ることもできる。Next, in the present embodiment, the control device 7 for correcting the curved characteristic is shown in FIGS. 8B and 9B.
As shown in [b], the head blocks 1 are pressed by the force F1 / F2 using the piezo elements 52 of the left and right actuators 5, and the head block fixing jig 4 is driven by the notches 41 by the pressing to drive the actuators 5. Of the strain gauge 51 and the image processing unit 61
While being fed back as the MR height positions of the plurality of MR test patterns 22 according to the above, repeated position correction is performed so that the variation characteristic of the plurality of MR height positions falls within a predetermined allowable value range with respect to the standard value [0] ( Step 102 to step 106). The position characteristic after this position correction is performed so that it falls within a range of plus or minus 0.2 μm with respect to the standard value [0] as shown in FIG. 6, for example. If the variation in the MR element position cannot be corrected within the allowable value even if it is repeatedly corrected depending on the state of the pre-processing, step 1
It is also possible to improve the machining efficiency by stopping the correction and machining as a defect in step 105 via 04.
【0021】次に制御装置7は、この複数のMRテスト
パターン22の位置関係、即ちMR素子21のばらつき
位置特性を間接的に記憶してから、ヘッドブロック1下
面のラッピング板60を回転駆動してMR高さ加工を開
始する(ステップ107)。この研磨加工は、ダイヤモ
ンドダスト及び水を用いて約0.5μm/分程度の速度で行
われる。この研磨工程中に制御装置7は、ヘッドブロッ
ク1の両端に設けたMR加工量検知素子6に流れる電流
の抵抗値を検出することにより加工深さ位置の測定を行
い(ステップ108)、研磨量が所定の値に成った時点
で該加工深さ位置による左右端のMR高さ位置と前記ス
テップ107で記憶した左右端以外のMR素子位置とア
クチュエータ5のビエゾ素子52による押圧力F1/F2
とを演算して、他のMR素子位置特性を予測して求める
(ステップ109)。次に制御装置7は、前記ステップ
109で求めた全MR素子のばらつき位置特性を元に、
アクチュエータ5を用いて加工中のMRテストパターン
22のばらつき位置特性が所定の許容値に入る様に、例
えば図9[c]の如く中央部分が凹形状のばらつき位置
特性の場合、図8[d]及び図9[c]の如く中央のア
クチュエータ5を力F3により押圧してMR高さ位置の
再補正を行う(ステップ110〜ステップ111)。Next, the controller 7 indirectly stores the positional relationship of the plurality of MR test patterns 22, that is, the variation position characteristic of the MR element 21, and then rotationally drives the lapping plate 60 on the lower surface of the head block 1. Then, the MR height machining is started (step 107). This polishing process is performed using diamond dust and water at a rate of about 0.5 μm / min. During this polishing process, the control device 7 measures the processing depth position by detecting the resistance value of the current flowing through the MR processing amount detection elements 6 provided at both ends of the head block 1 (step 108), and the polishing amount. At a predetermined value, the MR height positions of the left and right ends according to the machining depth position, the MR element positions other than the left and right ends stored in step 107, and the pressing force F1 / F2 by the piezo element 52 of the actuator 5.
Are calculated to predict and obtain other MR element position characteristics (step 109). Next, the control device 7 determines, based on the variation position characteristics of all MR elements obtained in step 109,
In order to make the variation position characteristic of the MR test pattern 22 being processed using the actuator 5 fall within a predetermined allowable value, for example, in the case of the variation position characteristic in which the central portion has a concave shape as shown in FIG. ] And FIG. 9 [c], the central actuator 5 is pressed by the force F3 to re-correct the MR height position (steps 110 to 111).
【0022】更に本制御装置7は、図3では省略してい
るが更にMR高さの研磨加工をMR加工量検出素子6よ
る加工終点検知まで継続し、このMR加工量検知素子6
に流れる電流の抵抗値が所定値以上になった時点で加工
を終了し、ヘッドブロック1を治具から剥離して研磨加
工を終了する(ステップ112〜ステップ114)。Although not shown in FIG. 3, the control unit 7 further continues the polishing processing of the MR height until the processing end point is detected by the MR processing amount detecting element 6, and the MR processing amount detecting element 6 is detected.
When the resistance value of the current flowing through the device reaches a predetermined value or more, the processing is ended, the head block 1 is separated from the jig, and the polishing processing is ended (steps 112 to 114).
【0023】この様に本実施例による研磨装置は、研磨
装置にヘッドブロッック1を装着した時点で画像処理部
61により複数のMRテストパターン22位置を検出し
て間接的に複数のMR素子21の位置特性を検出して所
定の許容範囲内に位置補正を行うと共に記憶し、研磨途
中で前記記憶したMR素子21の位置特性を元に更にM
R素子21の位置を所定の許容範囲内に補正を加えなが
ら研磨加工することによって、MR素子に電流を印加す
ることなく高精度に研磨加工を行うことができる。こり
により製品となるMR素子の腐食を防止することができ
る。前記加工精度は、例えば図7に示す如く加工終了時
のMR高さ位置特性を基準値[0]を中心としてプラス
マイナス0.2μmの範囲に高精度に加工することができ
る。尚、前記実施例においては、研磨前のみに複数のM
R素子21の位置特性を検出する例を説明したが、研磨
途中で画像処理部61による複数のMRテストパターン
22のMR高さ位置を検出して更に詳細な位置制御を行
っても良く、この方法は定盤(ラッピング板)形状や機
械振動などの要因によってMR素子位置のばらつきが生
じた場合に有効である。またMR加工量検出素子6はヘ
ッドブロック1の両端のみでなく中央その他にも設ける
ことにより、複数位置のMR加工量検出素子6の抵抗値
を検知して更に詳細な加工精度を得ることもできる。ま
た弾性治具として安価に製作できる切欠き溝を持ったヘ
ッドブロック固定治具4を用いる例を説明したが、本発
明はこれに限られるものではなく、例えば弾性的変位が
容易な材質の固定治具自体を用いても良い。また、アク
チュエータ5を変位する手段として微小送り/高位置決
めおよび高出力なピエゾ素子52を用いる例を説明した
が他の素子又は機構であっても良い。As described above, in the polishing apparatus according to the present embodiment, when the head block 1 is mounted on the polishing apparatus, the image processing unit 61 detects the positions of the MR test patterns 22 and indirectly positions the MR elements 21. The characteristic is detected and the position is corrected and stored within a predetermined allowable range, and the characteristic is further stored based on the stored positional characteristic of the MR element 21 during polishing.
By performing the polishing process while correcting the position of the R element 21 within a predetermined allowable range, it is possible to perform the polishing process with high accuracy without applying a current to the MR element. The dust can prevent the MR element as a product from being corroded. As for the processing accuracy, for example, as shown in FIG. 7, the MR height position characteristic at the end of processing can be processed with high accuracy within a range of plus or minus 0.2 μm centering on the reference value [0]. Incidentally, in the above-mentioned embodiment, a plurality of M's are provided only before polishing.
An example of detecting the position characteristic of the R element 21 has been described, but more detailed position control may be performed by detecting the MR height positions of the plurality of MR test patterns 22 by the image processing unit 61 during polishing. The method is effective when the MR element position varies due to factors such as the surface plate (lapping plate) shape and mechanical vibration. Further, by providing the MR machining amount detection element 6 not only at both ends of the head block 1 but also in the center and the like, it is possible to detect the resistance values of the MR machining amount detection elements 6 at a plurality of positions and obtain more detailed machining accuracy. . Further, although the example in which the head block fixing jig 4 having a notched groove which can be manufactured at low cost is used as the elastic jig has been described, the present invention is not limited to this, and for example, fixing of a material that is easily elastically displaced. The jig itself may be used. Further, although the example in which the piezo element 52 with fine feed / high positioning and high output is used as a means for displacing the actuator 5, another element or mechanism may be used.
【0024】また、本発明は、次の態様として表すこと
もできる。 <態様1>MR複合薄膜磁気変換素子を規則的に複数個
形成したヘッドブロックの各MR高さを外部から画像処
理によって間接的に測定できるMRテストパターンを複
数個搭載したヘッドブロックを用いることを特徴とする
MR高さ加工方法。 <態様2>MR複合薄膜磁気変換素子を規則的に複数個
形成したヘッドブロックにおいて上記態様1記載のMR
テストパターンの寸法値を画像処理手法を用いて測定す
る工程、前記測定結果に基づいてヘッドブロックの各M
R高さの位置ばらつき情報を取得する工程、前記情報に
基づいてヘッドブロックを固定している治具に強制変位
を与える工程を有し、それらの工程を任意に繰り返すこ
とで各MR高さの位置ばらつきを均一にすることを特徴
とするMR高さ加工方法。 <態様3>MR複合薄膜磁気変換素子を規則的に複数個
形成したヘッドブロックにおいてMR高さ加工時のMR
高さ位置およびMR高さ終点位置を検知する機能を有す
るMR加工量検知素子を複数個ヘッドブロックに搭載
し、このMR加工量検知素子によるMR高さ位置情報
に、前記態様2記載のヘッドブロック固定治具への強制
変位量とMRテストパターン位置の相関を適用すること
によって各MR高さの位置ばらつきを予測し、ヘッドブ
ロック固定治具に与える強制変位量を制御することを特
徴とするMR高さ加工方法。 <態様4>MR複合薄膜磁気ヘッドのヘッドブロック上
の所定の位置に複数のMR複合薄膜磁気変換素子を形成
する工程と、前記工程において各MR素子を規則的に形
成したヘッドブロック上に複数のMR高さに対応した上
記態様1記載のMRテストパターンを同時に形成する工
程と、複数のMR複合薄膜磁気変換素子を搭載したヘッ
ドブロックに切断する工程と、浮上面に任意形状を加工
する工程と、上記態様3にて記載のMR高さ加工を行な
う工程と、ヘッドブロックをヘッドスライダに切断する
工程からなる薄膜磁気ヘッドの製造方法。 <態様5>MR複合薄膜磁気ヘッドのヘッドブロック上
の所定の位置に複数のMR複合薄膜磁気変換素子を形成
する工程と、前記工程において各MR素子を規則的に形
成したヘッドブロック上に複数のMR高さに対応した上
記態様1記載のMRテストパターンを同時に形成する工
程と、複数のMR複合薄膜磁気変換素子を搭載したヘッ
ドブロックに切断する工程と、上記態様3にて記載のM
R高さ加工を行なう工程と、浮上面に任意形状を加工す
る工程と、ヘッドブロックをヘッドスライダに切断する
工程からなる薄膜磁気ヘッドの製造方法。The present invention can also be expressed as the following aspects. <Aspect 1> A head block having a plurality of MR test patterns capable of indirectly measuring the MR height of each of the head blocks formed by regularly forming a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements from the outside by image processing is used. Characteristic MR height processing method. <Aspect 2> In the head block in which a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements are regularly formed, the MR according to Aspect 1 is provided.
A step of measuring the dimension value of the test pattern using an image processing method, and each M of the head block based on the measurement result.
There is a step of acquiring position variation information of R height and a step of forcibly displacing a jig fixing the head block based on the information, and by repeating these steps arbitrarily, An MR height processing method characterized by making the positional variations uniform. <Aspect 3> MR at the time of MR height processing in a head block in which a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements are regularly formed
A plurality of MR processing amount detecting elements having a function of detecting the height position and the MR height end point position are mounted on the head block, and the head block according to the second aspect is included in the MR height position information by the MR processing amount detecting elements. An MR characterized in that the positional variation of each MR height is predicted by applying the correlation between the amount of forced displacement to the fixing jig and the position of the MR test pattern, and the amount of forced displacement given to the head block fixing jig is controlled. Height processing method. <Aspect 4> A step of forming a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements at predetermined positions on the head block of the MR composite thin film magnetic head, and a plurality of head blocks on which the MR elements are regularly formed in the step. A step of simultaneously forming the MR test pattern according to the above-described aspect 1 corresponding to the MR height, a step of cutting into a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements mounted thereon, and a step of processing an arbitrary shape on the air bearing surface. A method of manufacturing a thin film magnetic head, comprising the steps of performing the MR height processing described in the above aspect 3 and cutting the head block into head sliders. <Aspect 5> A step of forming a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements at predetermined positions on a head block of the MR composite thin film magnetic head, and a plurality of head blocks on which the MR elements are regularly formed in the step. A step of simultaneously forming the MR test pattern according to the above-mentioned aspect 1 corresponding to the MR height, a step of cutting into a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic conversion elements mounted thereon, and an M according to the above-mentioned aspect 3
A method of manufacturing a thin film magnetic head, which comprises a step of performing R-height processing, a step of processing an arbitrary shape on an air bearing surface, and a step of cutting a head block into a head slider.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上述べた如く本発明によるMR複合薄
膜磁気ヘッドを複数搭載したヘッドブロックのMR高さ
加工方法は、ヘッドブロック上の複数のMRテストパタ
ーンを光学的に検知することにより複数のMR素子位置
のばらつきを間接的に検出し、該検出した複数のMR素
子位置のばらつきを所定の許容値内に収る様にヘッドブ
ロックを変位しながらMR素子を研磨することにより、
MR素子位置のばらつきをMR素子に通電することなく
測定してMR素子の腐食を防止しつつMR高さを高精度
に加工することができる。As described above, the method for processing the MR height of the head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads according to the present invention is carried out by optically detecting a plurality of MR test patterns on the head block. By indirectly detecting variations in the MR element position and polishing the MR element while displacing the head block so that the detected variations in the MR element positions are within a predetermined allowable value,
It is possible to measure the MR element position variation without energizing the MR element and process the MR height with high accuracy while preventing corrosion of the MR element.
【0026】また本発明によるヘッドブロックのMR高
さ加工方法は、ヘッドブロック上の複数のMRテストパ
ターンを光学的に検知することにより複数のMR素子位
置のばらつきを間接的に検出し、該検出した複数のMR
素子位置のばらつきを所定の許容値内に収る様にヘッド
ブロックを変位しながらMR素子を研磨すると共に、加
工途中で記憶した複数のMR素子位置及びヘッドブロッ
クの変位量を用いて加工途中の複数のMR素子位置のば
らつきを予測し、この予測値を用いて複数のMR素子位
置のばらつきが所定の許容値内に収る様にヘッドブロッ
クの変位を調整しながらMR素子を研磨することによ
り、MR素子位置のばらつきをMR素子に通電すること
なく測定してMR素子の腐食を防止しつつMR高さを更
に高精度に加工することができる。The head block MR height processing method according to the present invention indirectly detects a plurality of MR element position variations by optically detecting a plurality of MR test patterns on the head block, and detects the variation. Multiple MRs
The MR element is polished while displacing the head block so that the variation of the element position is within a predetermined allowable value, and the plurality of MR element positions and the displacement amount of the head block stored during the processing are used to perform the processing during the processing. By predicting variations in the positions of a plurality of MR elements and using the estimated values to polish the MR elements while adjusting the displacement of the head block so that the variations in the positions of the MR elements are within a predetermined allowable value. It is possible to measure the MR element position variation without energizing the MR element and prevent the MR element from being corroded while processing the MR height with higher accuracy.
【0027】更に本発明によるヘッドブロックのMR高
さ加工方法は、アクチュエータを微小変位させるピエゾ
素子及びこのピエゾ素子による変位量を検出する歪ゲー
ドとを含むアクチュエータを用い、該歪ゲードにより検
出した変位量をフィードバックしながらアクチュエータ
を微小変位させることにより、高精度な変位量を制御し
ながらMR素子位置のばらつきをMR素子を用いること
なく測定してMR素子の腐食することなくMR高さを更
に高精度に加工することができる。また前記各特徴によ
るMR高さ加工方法は、MR特性が不良なMR素子があ
る場合でも誤差なく高精度な加工を行うことができる。
また、測定回路はMR加工量検知素子のみであるため測
定用接続端子等を少なくすることができ治工具コストの
低減に効果がある。Furthermore, the head block MR height machining method according to the present invention uses an actuator including a piezo element for minutely displacing the actuator and a strain gate for detecting the amount of displacement by the piezo element, and the displacement detected by the strain gate. By finely displacing the actuator while feeding back the amount, the variation of the MR element position is measured without using the MR element while controlling the displacement amount with high accuracy, and the MR height is further increased without corroding the MR element. It can be processed with high precision. In addition, the MR height processing method according to each of the features described above can perform high-precision processing without error even when there is an MR element having poor MR characteristics.
Further, since the measuring circuit is only the MR machining amount detecting element, the number of measuring connection terminals and the like can be reduced, which is effective in reducing the cost of jigs and tools.
【図1】本発明によるMR高さ加工方法を適用するヘッ
ドブロックの固定状態を示す図。FIG. 1 is a diagram showing a fixed state of a head block to which an MR height machining method according to the present invention is applied.
【図2】図1に示したヘッドブロックのMR素子近傍の
部分拡大図。2 is a partially enlarged view of the head block shown in FIG. 1 in the vicinity of an MR element.
【図3】本実施例によるMR高さ加工方法を説明するた
めのフローチャート。FIG. 3 is a flowchart for explaining an MR height processing method according to this embodiment.
【図4】MR高さ加工研磨装置の概念図。FIG. 4 is a conceptual diagram of an MR height processing / polishing device.
【図5】MRテストパターンによる補正前のMR高さ位
置状態を示す図。FIG. 5 is a diagram showing an MR height position state before correction by an MR test pattern.
【図6】MRテストパターンによる補正後のMR高さ位
置状態を示す図。FIG. 6 is a diagram showing an MR height position state after correction by an MR test pattern.
【図7】加工終了後のMR高さ位置状態を示す図。FIG. 7 is a diagram showing an MR height position state after processing is completed.
【図8】ヘッドブロックのアクチュエータによる押圧工
程及びラッピング工程を説明するための図。FIG. 8 is a diagram for explaining a pressing process and a lapping process of an actuator of the head block.
【図9】MR素子及び該MR素子に追随して位置関係が
変化するMRテストパターンを模式的に説明するための
図。FIG. 9 is a diagram for schematically explaining an MR element and an MR test pattern whose positional relationship changes following the MR element.
1;ヘッドブロック,2;MR複合薄膜磁気変換素子,
21;MR素子,22;MRテストパターン,23;コ
イル,24;電極,3;ホットメルト系ワックス,4;
ヘッドブロック固定治具,41;切欠き弾性治具,4
2;研磨加工治具,5;ピエゾアクチュエータ6;MR
加工量検知素子,7;制御装置。1; head block, 2; MR composite thin film magnetic conversion element,
21; MR element, 22; MR test pattern, 23; coil, 24; electrode, 3; hot melt wax, 4;
Head block fixing jig, 41; Notch elastic jig, 4
2; polishing jig, 5; piezo actuator 6; MR
Processing amount detection element, 7; control device.
フロントページの続き (72)発明者 高倉 昭雄 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 磯野 千博 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内 (72)発明者 萩原 芳樹 神奈川県小田原市国府津2880番地 株式会 社日立製作所ストレージシステム事業部内Front page continuation (72) Inventor Akio Takakura 2880 Kokuzu, Odawara-shi, Kanagawa Hitachi Storage Systems Division (72) Inventor Chihiro Isono 2880 Kokuzu, Odawara, Kanagawa Hitachi Storage Systems Business In-house (72) Inventor Yoshiki Hagiwara 2880 Kozu, Odawara-shi, Kanagawa Stock Company Hitachi Storage Systems Division
Claims (3)
を複数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法であ
って、前記ヘッドブロックに複数のMR素子位置に対応
して光学的に検知される複数のMRテストパターンを併
設し、該複数のMRテストパターンを光学的に検知する
ことにより複数のMR素子位置のばらつきを間接的に検
出し、該検出した複数のMR素子位置のばらつきを所定
の許容値内に収る様にヘッドブロックを変位しながらM
R素子を研磨することを特徴とするMR複合薄膜磁気ヘ
ッドのMR高さ加工方法。1. A method of processing an MR height of a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads including MR elements, wherein a plurality of MR heights are optically detected corresponding to a plurality of MR element positions on the head block. The MR test pattern is also provided, and the plurality of MR test patterns are optically detected to indirectly detect a plurality of MR element position variations, and the detected plurality of MR element position variations are allowed to be predetermined. M while displacing the head block so that it is within the value
A method for processing an MR height of an MR composite thin film magnetic head, which comprises polishing an R element.
を複数搭載したヘッドブロックのMR高さ加工方法であ
って、前記ヘッドブロックに複数のMR素子位置に対応
して光学的に検知される複数のMRテストパターン及び
電気抵抗値変化により研磨量を検知する複数の加工量検
知素子を設け、該複数のMRテストパターンを光学的に
検知することにより複数のMR素子位置のばらつきを間
接的に検出し、該検出した複数のMR素子位置を記憶す
ると共に複数のMR素子位置のばらつきが所定の許容値
内に収る様にヘッドブロックを変位しながらMR素子を
研磨すると共に、前記複数の加工量検知素子により所定
の加工量に達した時点で前記記憶した複数のMR素子位
置及びヘッドブロックの変位量を用いて加工途中の複数
のMR素子位置のばらつきを予測し、この予測値を用い
て複数のMR素子位置のばらつきが所定の許容値内に収
る様にヘッドブロックの変位を微調整しながらMR素子
を研磨することを特徴とするMR複合薄膜磁気ヘッドの
MR高さ加工方法。2. A method of processing an MR height of a head block having a plurality of MR composite thin film magnetic heads including MR elements, wherein a plurality of MR elements are optically detected corresponding to a plurality of MR element positions on the head block. Of the MR test pattern and a plurality of processing amount detection elements for detecting the polishing amount by the change of the electric resistance value are provided, and the plurality of MR test patterns are optically detected to indirectly detect the variations of the positions of the plurality of MR elements. Then, the detected plurality of MR element positions are stored, and the MR element is polished while the head block is displaced so that the variation of the plurality of MR element positions falls within a predetermined allowable value. When a predetermined machining amount is reached by the sensing element, the stored MR element positions and the displacement amount of the head block are used to determine the positions of the MR elements during machining. An MR characterized by predicting a wobble and using the predicted value to polish the MR element while finely adjusting the displacement of the head block so that the variations of the positions of the plurality of MR elements are within a predetermined allowable value. MR height processing method for composite thin film magnetic head.
微小変位させるピエゾ素子、及びこのピエゾ素子による
変位量を検出する歪ゲードとを含み、該歪ゲードにより
検出した変位量をフィードバックしながらアクチュエー
タを微小変位させることを特徴とする請求項1及び2記
載のMR複合薄膜磁気ヘッドのMR高さ加工方法。3. The actuator includes a piezo element for slightly displacing the actuator, and a strain gate for detecting a displacement amount by the piezo element, and the actuator is finely displaced while feeding back the displacement amount detected by the strain gate. 3. The method for processing the MR height of an MR composite thin film magnetic head according to claim 1 or 2, wherein.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6131870A JPH087231A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | Method for machining mr height of mr composite thin film magnetic head |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6131870A JPH087231A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | Method for machining mr height of mr composite thin film magnetic head |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH087231A true JPH087231A (en) | 1996-01-12 |
Family
ID=15068067
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6131870A Pending JPH087231A (en) | 1994-06-14 | 1994-06-14 | Method for machining mr height of mr composite thin film magnetic head |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH087231A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001015145A1 (en) * | 1999-08-25 | 2001-03-01 | Hitachi, Ltd. | Production method for thin film magnetic head |
WO2001096063A1 (en) * | 2000-06-16 | 2001-12-20 | Tdk Corporation | Magnetic head grinding device and method |
KR100325482B1 (en) * | 1998-06-12 | 2002-03-06 | 사토 히로시 | Apparatus and method for lapping magnetic heads |
-
1994
- 1994-06-14 JP JP6131870A patent/JPH087231A/en active Pending
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