JPH0869770A - 電界放出型電子銃 - Google Patents

電界放出型電子銃

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JPH0869770A
JPH0869770A JP6206214A JP20621494A JPH0869770A JP H0869770 A JPH0869770 A JP H0869770A JP 6206214 A JP6206214 A JP 6206214A JP 20621494 A JP20621494 A JP 20621494A JP H0869770 A JPH0869770 A JP H0869770A
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Shigetomo Yamazaki
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 加工の容易な形状の電極とすることのできる
電界放出型電子銃を提供する。 【構成】 陰極11と、引出電極12と、加速電極20
とを備えた電界放出型電子銃において、陰極11から引
き出された電子線が通過する第1孔14を引出電極12
の中心部に設け、加速電極20と対向する引出電極12
の下面12cを平面状にし、引出電極12と対向する加
速電極20の上面20aの中央に円柱状の凹部21を設
け、この凹部21の底の中心部に電子線が通過する第2
孔22を設け、引出電極12の下面12cと、加速電極
20の上面20aとの間隔をh2とし、加速電極20の凹
部21の深さをh1とし、その凹部21の内径をDとし
たとき、 1.7≦D/h2 、0.8≦h1/D となる関係を有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、走査型電子顕微鏡に
用いられる電界放射型電子銃に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、走査電子顕微鏡における電子銃
は、図5に示すように、陰極1である電界放射電子源
(FEチップ)から電子線を電界放出させて引き出す引
出電極2と、陰極1から引き出された電子線を加速する
加速電極3とから構成され、引出電極2及び加速電極3
で形成された静電レンズ4が陰極1からの電子線を収束
して、2次光源5を形成する。
【0003】ここで、陰極1に対して引出電極2に印加
する電圧をV1、陰極1に対して加速電極3に印加する
電圧をV2とし、引出電極2から陰極1までの距離をL
1、引出電極2から2次光源5までの距離をL2とした場
合に、V2/V1を変化すると2次光源5までの距離L2
は、図6のように変化する。
【0004】すなわち、V2/V1=1のとき、即ち等電
位の時には、図6(A)に示すように静電レンズの作用
はなく、陰極1の位置から電子線が直線として放出さ
れ、2次光源5の位置は陰極1の位置と一致する。
【0005】V2/V1を1から増加又は減少させていく
と2次光源5の位置は、図6(B)(C)に示すように陰極
1の上方へ移動する。この上方の位置を図7に示すよう
に虚像領域と呼ぶ。
【0006】さらに、V2/V1を増加又は減少させてい
くと、あるところで電子線は平行ビームとなる(図6
(D)(E)参照)。このとき、2次光源5は上方の無限遠
位置から手前側(下側)の無限遠位置へ移動する(図7
参照)。
【0007】ここで、V2/V1を1から減少させた際に
2次光源5が無限遠位置となったときのV2/V1の値を
第1境界値A1とし、又V2/V1を1から増加させた際に
2次光源5が無限遠位置となったときのV2/V1の値を
第2境界値A2(A1<A2)とする。さらに、V2/V1を
増加又は減少させていくと、図7に示す実像領域に入る
とともに2次光源5の位置は下から上の陰極1へ近かづ
いていく。そして、電子線は図6(F)(G)に示す状態と
なる。
【0008】走査型電子顕微鏡では、一般に2次光源5
の位置が上述した虚像領域の範囲内となるように使用さ
れる。
【0009】走査型電子顕微鏡では、X線分析を効率よ
く行うため、加速電圧をある程度の分解能が得られるい
わゆる高加速電圧(15K〜30KV)の範囲に設定し
て観察することが一般的である。その範囲で2次光源5
が虚像領域となるように、電極形状が形成されている。
しかし、第1境界値A1を低くする試みは、ほとんどな
されていなかった。
【0010】ところで、近年、非導電性の試料を直接観
察したいという要望がでてきている。
【0011】この場合には、上述の通常の加速電圧で使
用すると試料表面に電荷が蓄積(帯電現象)し、このた
め像のひずみや異常なコントラストが生じる等の弊害が
ある。この弊害を防止するために、より低い低加速電圧
(1〜5KV)で観察することが要求され、電子銃の第
1境界値A1の値を小さくしなければならないという要
求が高まってきた。
【0012】一方、電界放出型チップは、加速電圧が低
くても、熱電子銃に比べ輝度が高く、見掛上の光源の大
きさも小さいため、観察には十分な分解能を確保するこ
とが出来る利点がある。しかし、従来のタングステンタ
イプの電子銃の電極構造と組み合わせた場合、要求され
る低加速電圧域において、2次光源が実像域に移動した
り、高加速電圧での2次光源位置から大きく隔たったり
する。このため、電子レンズ系の構成を大幅に変更しな
ければならないなどの問題が生じる。
【0013】そこで、電界放出型チップを従来のタング
ステンタイプの電子銃の電極構造と組み合わせた場合で
も、タングステンタイプの電子レンズ系の構成を変更せ
ずに済むように、虚像領域を広げる電極構造が提案され
ている(特開平1−189843号公報参照)。
【0014】この提案された引出電極は、加速電極側の
下面が凸の円錐形状であると共に、その円錐形状の頂点
に凹状の円柱形の窪みを有し、その窪みの中心部に電子
線が通過する孔を有している。
【0015】また、加速電極は、引出電極側の上面に円
錐形の凹部が形成され、さらにこの円錐形の頂点側に連
続形成された円柱形窪みを有し、この円柱窪みの中心部
に電子線が通過する孔が形成されている。
【0016】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、引出電
極および加速電極は複雑な形状であり、精密に加工する
ことが容易でないという問題があった。
【0017】この発明は、上記問題点に鑑みてなされた
もので、その目的は、虚像領域を拡大することができ、
しかも、単純な形状の電極とすることのできる電界放出
型電子銃を提供することにある。
【0018】
【課題を解決するための手段】この発明は、上記目的を
達成するため、電子線を電界放出する陰極と、前記陰極
から電子線を電界放出させて引き出すための電界を前記
陰極との間に形成する引出電極と、前記陰極から電界放
出されて前記引出電極を通過する電子線を加速する加速
電極とを備えた電界放出型電子銃において、前記陰極か
ら引き出された電子線が通過する第1孔を前記引出電極
の中心部に設け、前記加速電極と対向する引出電極の下
面を平面状に形成し、前記引出電極と対向する加速電極
の上面の中央に円柱状の凹部を設け、前記凹部の底の中
心部に前記電子線が通過する第2孔を設け、前記引出電
極の前記下面と、前記加速電極の前記上面との間の間隔
をh2とし、前記加速電極の凹部の深さをh1とし、その
凹部の内径をDとしたとき、 1.7≦D/h2 0.8≦h1/D となる関係を有することを特徴とする。
【0019】
【実施例】以下、この発明に係わる走査型電子顕微鏡の
電界放射型電子銃の実施例を図面に基づいて説明する。
【0020】図1において、11は電界放射型電子銃1
0の陰極(FEチップ)、12は陰極11から電子線を
電界放出させて引き出すための電界を前記陰極との間に
形成する引出電極、20は引出電極12を通過する電子
線を加速する加速電極である。
【0021】[引出電極]引出電極12の中心部には、
電子線が通過する内径d1の第1孔14が設けられ、加
速電極に対向する下面12cが平面状に形成されてい
る。第1孔14の内径d1は電子線が通過する程度の径
であれば足りる。一般的には1mm〜3mm程度である。
【0022】また、引出電極12の厚さHは1mm〜2mm
程度である。
【0023】この引出電極12には、陰極11からの放
出電流が所定の値(一例として略10μA)となるよう
に引出し電圧V1(通常3〜7KV)が印加される。
【0024】[加速電極]引出電極12に対向する加速
電極20の上面20aには、円柱状の凹部21が設けら
れており、この凹部21の中心部には電子線が通過する
第2孔22が設けられている。ここで、凹部21の深さ
をh1、加速電極20の凹部21の内径をD、第2孔2
2の径をd2、加速電極20の上面20aと引出電極12
の下面12cとの間隔をh2とする。また、加速電極20
の下面20bは平面状に形成されている。
【0025】第2孔22の内径d2は、凹部21の内径
Dよりも小さく設定され(d2<<D)、電子線が通過す
る程度であれば足り、一般的に数mm程度とされる。
【0026】このように、引出電極12には第1孔14
を設けただけであり、また加速電極20には円柱状の凹
部21と第2孔22を設けただけなので各電極12,2
0の形状は単純なものであり、その加工は容易なものと
なる。
【0027】加速電極20には、陰極11からの電子線
を所定速度に加速するために加速電圧V2が印加され
る。そして、上述した引出電極12及び加速電極20で
形成された静電レンズ25が陰極11から引き出された
電子線を収束して、2次光源25を形成する。
【0028】ここで、陰極11に対して引出電極12に
印加する電圧をV1(1000V)、陰極11に対して
加速電極20に印加する電圧をV2とし、引出電極12
と陰極11との距離をS0(V2/V1=1のときの2次光
源25の距離)、V2/V1を変化させたときの引出電極
12と2次光源25までの距離をSとする。
【0029】このときの2次光源像25の位置変化比S
/S0は、磁場が存在しないことに留意しつつ、与えられ
た電極形状に関して有限要素法を利用して電極間の電位
関数を得て、これに基づき下記近軸軌道方程式を解いて
求められる。
【0030】有限要素法とは、電極形状に合わせて空間
を微小な三角形で分割し、その中での電位の変化が1次
関数で表されるようにとり、各要素でのエネルギー△F
を計算し、これを全空間について和をとり、その最小条
件を作ることで電位関数を得るものである。
【0031】磁場が存在しないときの近軸軌道方程式
は、 U´´+(Φ´/2Φ)U´+(Φ´´/4Φ)U=0 で表される。
【0032】ただし、Uは、回転座標X,YをU=X+
jYとして与えたものであり、Φは電位関数を示す。
【0033】ここで、V1=1000V, D=45mm h1=70mm h2=10mm S0=4mm d1,d2<<D とし、引出電極12の印加電圧と加速電極20の印加電
圧の比V2/V1を変化させたときの2次光源像25の位
置変化比S/S0を上記近軸軌道方程式で求めた結果を図
2に示す。
【0034】一般に、引出し電圧V1は、チップ先端
(陰極11先端)の曲率半径によって異なるが、放出電
流が略10μAとなるように、通常3〜7KVの間で使
用される。一方、加速電圧V2は、高加速電圧(15K
〜30KV)から低加速電圧(1〜5KV)の範囲で使
用される。
【0035】これを考慮して、通常の走査型電子顕微鏡
では、V2/V1が0.1〜10の範囲で使用されている。
【0036】図2において、高加速電圧領域の上限値
(V2/V1=10)付近について、考察してみると、V2
/V1=10において、仮想電極である2次光源25の位
置Sと実際の電極位置S0との比(S/S0)は2.35で
あり、V2 /V1=15においてでさえS/S0は3.4の
ように十分小さい値をとる。
【0037】他方、低加速電圧領域の下限値(V2/V1
=0.1)付近について、考察してみると、V2/V1=
0.1において、仮想電極の像位置Sと実際の電極位置
S0との比(S/S0)は4.78であり、V2 /V1=0.
08におけるS/S0でも、6.49のように10よりも
十分小さい値をとり、加速電圧を変更しても2次光源2
5の位置は大きく変わらない良好な特性を示すことが分
かる。
【0038】[適用範囲]一般に、電子光学において、
磁界がないときすべての電極電圧を同じ倍率で変えても
電子の軌道は変わらず、電極電圧を変えないで電極寸法
を同じ倍率で拡大、縮小すると軌道も同じ倍率で拡大・
縮小されるという、相似則が適用できることが知られて
いる。
【0039】そこで、電極形状の許容範囲を求めるた
め、通常の走査型電子顕微鏡において使用されるV2/V
1をパラメータとし、そのパラメータの下限値を0.1、
そのパラメータの上限値を10として、加速電極20の
凹部21の内径Dと、引出電極12の下面12cと加速
電極20の上面20aとの間隔h2との比(D/h2)と、
加速電極20の凹部21の深さh1と加速電極20の凹
部21の内径Dとの比(h1/D)とを用いて、2次光源
25の位置の変化比の特性を近軸軌道方程式から求めた
結果を図3に示す。
【0040】ここでは、V2/V1=0.08とD/h2=
1.4を一定にしてh1/Dを変化させていったときのS/
S0を求め、同様にして、D/h2=1.71、D/h2=
2、D/h2=2.6、D/h2=3.1、D/h2=3.7を
一定にしてh1/Dを変化させていったときのS/S0を求
めた。
【0041】また、同様に、V2/V1=10のとき、D/
h2=1.4、D/h2=1.71、D/h2=2、D/h2=
2.6、D/h2=3.1、D/h2=3.7を一定にしてh1
/Dを変化させていったときのS/S0を求めた。
【0042】図3を参照すると、低加速電圧領域の下限
値近傍(V2/V1=0.08)においてh1/Dの値が小さ
すぎると2次光源25の位置変化比S/S0が著しく大き
くなり、またD/h2の値が小さすぎると、どのようなh
1/Dの値をとっても、2次光源25の位置変化比S/S0
が10以下の値をとれない。
【0043】従って、h1 /D≧0.8、D/h2≧1.7
の範囲の電極形状を採用すれば、低加速電圧領域の下限
値近傍のV2/V1=0.08付近においても、2次光源の
位置変化比S/S0がさほど大きくなく十分使用可能な電
子銃を形成することができる。すなわち、低加電圧速領
域の下限値をV2/V1=1からV2/V1=0.08まで下
げることができ、虚像領域が広がることとなる(但し、
h1,h2,D≠0とする)。
【0044】この低加速電圧領域の下限値を小さくする
ことができることにより、非導電性の試料上に電子線を
連続して収束させても帯電現象を生じさせずに済み、こ
の結果、像のひずみや異常なコントラストを生じさせる
ことなく非導電性の試料を直接観察することができるこ
ととなる。
【0045】また、特にh1/Dの値を1.2≦h1/D≦
4とすれば、D/h2の値を変化、すなわち引出電極12
の下面12cと加速電極20の上面20aとの間隔h2の
値を変えても2次光源25の位置変化比S/S0の値は大
きく変化しない。これは、低加電圧速領域の下限値近傍
から高加速電圧領域の上限値近傍(V2/V1=10)ま
での範囲について云える。
【0046】この2次光源25の位置変化比S/S0の値
はさほど大きく変わらないことにより、2次光源25の
位置の移動にともなう加速電極20の後の後段のレンズ
系での補正の負担を軽減することができる。
【0047】また、D/h2の値を2≦D/h2≦3.1の
範囲とすれば、h1を変化させても、2次光源の位置変
化比S/S0の値の変化はさらに小さなものとなる。この
ため、2次光源25の位置の移動にともなう加速電極2
0の後の後段のレンズ系での補正の負担をさらに軽減す
ることができる。
【0048】さらに、h1/Dの値を1.2≦h1/D≦4
の範囲とし、かつD/h2の値を2≦D/h2≦3.1の範
囲とすれば、2次光源25の位置変化比S/S0の値はほ
とんど一定となり、このためh1,h2又はDのいずれか
一つの自由度が増えることとなり、設計上の選択の自由
度が増えるという効果がある。
【0049】従って、この場合の電極形状は、形状自体
が単純で製作し易いだけでなく、その製作精度も厳しい
要求がなされない。また、2次光源25の位置変化比S
/S0の値はほとんど一定であるため、2次光源25の位
置の移動にともなう加速電極20の後の後段のレンズ系
での補正は不要となる。
【0050】図5は他の実施例を示すものである。この
実施例では加速電極20の上面20aを、半径rのR状
に形成したものである。このR状により放電防止効果を
図ったものである。
【0051】
【発明の効果】請求項1の発明によれば、電子線が通過
する第1孔を引出電極の中心部に設け、加速電極と対向
する引出電極の下面を平面状に形成し、前記引出電極と
対向する加速電極の上面の中央に円柱状の凹部を設け、
前記凹部の底の中心部に前記電子線が通過する第2孔を
設けただけなので、引出電極および加速電極の形状は単
純な形状なものである。
【0052】また、請求項1の発明によれば、高加速電
圧領域の上限値をある程度の大きさに保ちつつ、低加速
電圧領域の下限値を小さくすることができるので、高加
速電圧領域から低加速電圧領域までの広い範囲を2次光
源位置の虚像領域とすることができる。また、低加速電
圧領域の下限値を小さくすることができるので、電子銃
以降の集束レンズ系などによって非導電性の試料上に電
子線を連続して収束させることができる。
【0053】さらに、1.7≦D/h2、2≦h1/D2の範
囲では2次光源の位置変化比S/S0の値はさほど大きく
変わらないので、2次光源位置の移動にともなう後段の
レンズ系での補正の負担を軽減することができる。
【0054】請求項2の発明によれば、2≦D/h2≦
3.1なので、2次光源の位置変化比S/S0の値をさら
に小さくすることができ、2次光源位置の移動にともな
う後段のレンズ系での補正の負担をさらに軽減すること
ができる。
【0055】請求項3の発明によれば、2≦h1/D≦
3.5なので、2次光源の位置変化比S/S0の値は殆ど
一定となり、2次光源位置の移動にともなう後段のレン
ズ系での補正は不要となる。また、2≦D/h2≦3.1
の範囲内であれば、2次光源25の位置変化比S/S0の
値はほとんど一定となり、このためh1,h2又はDのい
ずれか一つの自由度が増えることとなり、設計上の選択
の自由度が増える。また、この場合の電極形状は、形状
自体が製作し易いだけでなく、その製作精度も緩いもの
で済むこととなる。
【0056】請求項4の発明によれば、加速電極の上面
をR状に形成したので、放電防止効果が得るれる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明に係わる電界放出型電子銃の構成を示
した説明図である。
【図2】引出電極電圧と加速電極電圧の比と、陰極位置
と2次光源位置の比との関係を表わしたグラフである。
【図3】2次光源像位置変化の特性を示したグラフであ
る。
【図4】他の実施例を示した説明図である。
【図5】従来の電界放出型電子銃の構成を示した説明図
である。
【図6】(A)はV2/V1=1のときの電子線の状態を示
した説明図である。(B)はV1>V2のときの電子線の状
態を示した説明図である。(C)はV1<V2のときの電子
線の状態を示した説明図である。(D)は電子線が平行ビ
ームとなっている状態を示した説明図である。(E)は電
子線が平行ビームとなっている状態を示した説明図であ
る。(F)2次光源が実像領域に入っているときの電子線
の状態を示した説明図である。(G)2次光源が実像領域
に入っているときの電子線の状態を示した説明図であ
る。
【図7】V2/V1に対する2次光源位置を示す説明図で
ある。
【符号の説明】
11 陰極 12 引出電極 12c 下面 14 第1孔 20 加速電極 20a 上面 21 凹部 22 第2孔 D 凹部の内径 h1 凹部の深さ h2 間隔

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】電子線を電界放出する陰極と、 前記陰極から電子線を電界放出させて引き出すための電
    界を前記陰極との間に形成する引出電極と、 前記陰極から電界放出されて前記引出電極を通過する電
    子線を加速する加速電極とを備えた電界放出型電子銃に
    おいて、 前記陰極から引き出された電子線が通過する第1孔を前
    記引出電極の中心部に設け、 前記加速電極と対向する引出電極の下面を平面状に形成
    し、 前記引出電極と対向する加速電極の上面の中央に円柱状
    の凹部を設け、 前記凹部の底の中心部に前記電子線が通過する第2孔を
    設け、 前記引出電極の前記下面と、前記加速電極の前記上面と
    の間の間隔をh2とし、前記加速電極の凹部の深さをh1
    とし、その凹部の内径をDとしたとき、 1.7≦D/h2 0.8≦h1/D となる関係を有することを特徴とする電界放出型電子
    銃。
  2. 【請求項2】前記内径Dと前記間隔h2との比が 2≦D/h2≦3.1 となる関係を有することを特徴とする請求項1に記載の
    電界放出型電子銃。
  3. 【請求項3】前記深さh1と前記内径Dとの比を 1.2≦h1/D≦3.5 となる関係を有することを特徴とする請求項1ないし請
    求項2に記載の電界放出型電子銃。
  4. 【請求項4】前記加速電極の上面をR状に形成したこと
    を特徴とする請求項1ないし請求項3に記載の電界放出
    型電子銃。
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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