JPH0865147A - チャージ・ポンプ回路 - Google Patents

チャージ・ポンプ回路

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JPH0865147A
JPH0865147A JP7175733A JP17573395A JPH0865147A JP H0865147 A JPH0865147 A JP H0865147A JP 7175733 A JP7175733 A JP 7175733A JP 17573395 A JP17573395 A JP 17573395A JP H0865147 A JPH0865147 A JP H0865147A
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JP
Japan
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voltage
circuit
charge pump
switch
charge
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JP7175733A
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English (en)
Inventor
Manisuwamii Goda Sdeele
スディール・マニスワミィ・ゴウダ
Jon Shin Hyun
ヒュン・ジョン・シン
Robert Renner Kevin
ケヴィン・ロバート・レナー
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International Business Machines Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 スイッチング・デバイスによる電圧降下を発
生させることなく、実質上、入力電圧の2倍の出力電圧
を与えるチャージ・ポンプ回路を提供すること。 【構成】 第1と第2のプリチャ−ジ/ブースト回路
2、4を含むチャージ・ポンプは、チャージの排出(リ
ーク)を生ずることなく、入力の2倍の大きさ一定電圧
レベルに保つように、p−MOSFETスイッチング・
デバイスP13をスイッチする。第1のプリチャージ/
ブースト回路2は、電源VDDに接続されたp−MOSF
ETスイッチP11およびスイッチP11のゲートに出
力が接続されたインバータI66を含む。第2のプリチ
ャージ/ブースト回路4は、電源VDDに接続されたp−
MOSFETスイッチP21およびスイッチP21のゲ
ートに出力が接続されたNANDゲートI68を含む。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、低電圧CMOS技術に
関するものであり、特にCMOS回路における効果的な
チャージ・ポンプ回路に関するものである。
【0002】
【従来の技術】多くの回路は、機能させたりパフォーマ
ンスを向上させるために、供給電圧(VDD)以上の動作
電圧を必要とする。例えば、一般的に電気的にプログラ
ム可能なROMは、プログラミングやその内容を消去す
る場合にブースト電圧を用いる。DRAMやSRAM
は、セル・アクセス・デバイスを頻繁にオン状態にする
ために、ワードライン・ドライバの出力をブーストする
こともある。LCDドライバや低電圧電源のような回路
では、適切に動作させるためにブースト電圧を必要とす
る。
【0003】電圧のブースティングは、通常、チャージ
・ポンプを用いて行われる。しかしながら、電圧ブース
トを用いた通常のチャージ・ポンプ回路は、大部分の先
進的な半導体技術において十分に機能しない。これらの
技術では、デバイス・パフォーマンスを向上させるため
に、ゲート酸化膜をより薄くし、サイズの小型化を図
り、デバイス面をより浅くすることが望まれているか
ら、デバイスの信頼性を維持し、消費電力を低減するた
めには、より低い供給電圧が必要とされている。
【0004】ダイオ−ドの電圧降下は、高電圧技術にお
いて実施される通常のチャ−ジ・ポンプでは、普通に、
見受けられることであるがそのまま放置されている。し
かしながら、供給電圧が減少した場合、そのようなダイ
オ−ドの電圧降下は、チャージ・ポンプ回路を実用的で
ないものにする。この問題は、ブースティング・ステー
ジを追加することでは、簡単に取り除くことはできな
い。マルチ・ステージ・ポンプは、ブースト・レベルを
最悪の条件下で容認し得る最小値へ上げることが可能で
あるとはいえ、マルチ・ステージ・ポンプは、別のプロ
セス及び動作条件の下で容認し得ない高電圧を発生させ
ることがある。これらの高電圧レベルは、デバイスの信
頼性を落としかねない。
【0005】低いVDDを用いて効果的なチャージ・ポン
プが行える既存の回路があるが、それらは低電圧技術に
十分には適してはいない。例えば、MOSFETを使用
した場合、チャージ・ポンプ回路の一部のキャパシタ
は、ゲート酸化物間に約2VDDの電圧が加わっても耐え
うるものでなければならない。しかしながら、低電圧の
用途では、技術の信頼性の限界を越えない電圧条件の下
で、ポンプ回路の全てのデバイスを動作させなければと
いう制限がある。より明確には、熱電子による劣化、酸
化物の破壊、パンチ・スルーのような問題は、避けなけ
ればならない。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、低電
圧技術に適合するやり方で、供給電圧よりも大きいオン
・チップ電圧を生成し、保持するチャージ・ポンプ回路
を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、入力電圧をブ
ーストするための低電圧チャージ・ポンプ回路であり、
回路のどの素子も、入力電圧にほぼ等しい電圧よりも大
きな電位差を受けないように構成される。この回路は、
周期的に変動する電源を含み、この電源は0ボルトとV
DDボルトとの間のレベルで周期的に変化する電圧を発生
するリング・オシレータのような電圧発生手段を有す
る。第1のチャージ・ストア・デバイスの第1の端がこ
の電圧発生手段に接続され、第1のチャージ・ストア・
デバイスの第2の端はトランジスタ・スイッチの第1の
端に接続される。トランジスタ・スイッチの第2の端
は、ポンプ出力ノードに接続される。第1のプリチャー
ジ/ブースト回路が上記第1のチャージ・ストア・デバ
イスと上記トランジスタ・スイッチの接続点に接続れ、
この接続点にVDDと約2VDDのレベルの間で周期的に変
動する電圧を発生させる。第2のプリチャージ/ブース
ト回路が上記トランジスタ・スイッチの制御端子に接続
され、第1のチャージ・ストア・デバイスと上記トラン
ジスタ・スイッチの接続点の電圧がVDDの時に、上記ト
ランジスタ・スイッチをオフにし、上記第1のチャージ
・ストア・デバイスと上記第1のスイッチの接続点の電
圧が約2VDDの時に、上記トランジスタ・スイッチをオ
ンにする。上記第1と第2のプリチャージ/ブースト回
路は、どのデバイスの両端の電圧降下も回路入力電圧を
越えることがないように構成される。
【0008】
【実施例】図1は、従来技術によるチャージ・ポンプ回
路の概要を表したものである。この回路は、100と1
02の2つのキャパシタを含み、後者は102aと10
2bとの組み合わせから成る。回路は、ダイオード10
4、106、108も含んでいる。ダイオード108の
目的は、端子VBOOSTの出力電圧がVDD−VTまたはVDD
−VBEよりも低い電圧に降下しないようにすることによ
って、チャージ・ポンプ回路の出力に初期の高電圧を供
給することである。(ここで表されるVTというのは、
デバイス108のしきい値または'ターン・オン'電圧降
下であり、VBEは対応デバイスとしてバイポーラ・トラ
ンジスタを用いたときのベース・エミッタ間の電圧降下
である)。デバイス両端の電圧がVBEであるかまたは、
Tであるかは、使用する特定のデバイスに依存する。
本明細書では、簡単化のため、ダイオードの電圧降下を
Tと想定することにする。インバータ110は、チャ
ージ・ポンプ回路と入力トリガ信号との間のバッファと
して働くように、チャージ・ポンプ回路の入力に置かれ
る。インバータ110は、本発明の動作に必要な特徴で
はないが、典型的なIC技術では用いられる。
【0009】このチャージ・ポンプ回路は、次のように
動作する。インバータ110への入力が高い場合は、イ
ンバータ110は低い出力を発生する('高い'というこ
とは、電圧レベルが近似的にVDDに等しく、'低い'とい
うことは、ゼロに等しいことである)。インバータ出力
は、キャパシタ100への入力として用いられる。キャ
パシタ100の両端の電圧は、瞬間的に変化できないた
め、キャパシタ100の出力の電圧は、VDDだけ降下す
る。この低レベルの出力が、ダイオード104を導通さ
せ、ノードAにおける電圧をVDD−VTのレベルに上昇
させる。最初、ノードBの電圧もVDD−VTであり、ま
た、ダイオード106の両端に電位差がないから、ダイ
オード106は導通しない。
【0010】インバータ110への入力が低くなった場
合、インバータ110の出力は高くなる。キャパシタの
両端の電圧は、瞬間的に変化することができないから、
キャパシタ100の出力は、VDDの値まで上昇する。そ
の結果、ノードAの電圧は、VDD+VDD−VT の電圧に
なり、ダイオード104をオフにする。これは、ダイオ
ード106の両端に電位差を生じて、これを導通させ、
キャパシタ102aと102bをチャージする。このサ
イクルが繰り返され、数回のサイクルの後に、キャパシ
タ102aと102bは、合わせて2VDD−2VTのレベ
ルまでチャージされる。
【0011】このようにして、従来技術のチャージ・ポ
ンプ回路は、よくて2VDD−2VTのピーク出力電圧を
得ることができた。従来の高電圧の用途では、この2V
Tの損失はなんらの問題を引き起こさなかったが、低電
圧の用途では、このような電圧降下は回路を実用的でな
いものにする。本発明のチャージ・ポンプ回路は、従来
技術のこの欠点を解決したものである。
【0012】本発明は、ダイオード・スイッチングに代
わるMOSFETスイッチング技術を採用したチャージ
・ポンプ回路である。このチャージ・ポンプ回路は、ス
イッチング素子の両端の電圧降下が非常に小さいという
利点と、動作中にどの回路素子も約VDDの電圧を越える
電圧を受けないという利点がある。この後者の特徴は、
今日の破壊されやすいCMOSデバイス上のストレスを
低減させるために重要である。
【0013】図2は、本発明に関するチャージ・ポンプ
回路の略図を示しており、この回路は、2つのプリチャ
ージ/ブースト回路2と4、MOSFETスイッチP1
3、タイミング回路(図3にリング・オシレータとして
示す)、その他の関連素子を含んでいる。この回路は、
負電圧を発生させたり、p−ウェル技術で実施するよう
に、容易に変更可能である。
【0014】図4に、上記回路のより詳細な図を示す。
図2と図4の構成素子が同一である場合、これらの構成
素子は、同じ参照番号で示されている。
【0015】図4に示した回路へのタイミング入力は、
図3に示したリング・オシレータ200によって供給さ
れ、リング・オシレータ200は、ポンピングの割合を
セットし、一組のタイミング信号A1〜A9までを与え
る。リング・オシレータは、I2〜I9までの複数のイ
ンバータと、NANDゲートI1と、入力VCONTを
含み、図3に示すように構成されている。VCONT
は、リング・オシレータをオン/オフする制御信号であ
る。図示したリング・オシレータが好ましいが、本発明
のチャージ・ポンプ回路の制御信号の要求に合致する回
路であれば、いかなるものでも使用し得る。リング・オ
シレータ中のインバータは、それぞれ遅延を与え、従っ
て相次ぐインバータのノードからタップを取ることによ
り、順次に時間差を持った、交互に極性が変わる出力が
得られる。これらのノード出力は、本発明のチャージ・
ポンプ回路への色々なタイミング入力として利用され
る。リング・オシレータの出力波形は、図5のシグナル
A1〜A9として示されている。そのようなリング・オ
シレータの構造と動作については、技術的によく知られ
ていることである。
【0016】図2の回路は、次のように動作する。図2
を参照して、チャージ・ポンプ回路の好ましい実施例に
ついて説明する。第1のプリチャージ/ブースト回路2
は、ポンピング・ノードVB1を制御し、最初、VDD
でVB1をプリチャージし、そして、最終的に2VDD
でブーストする。プリチャージ/ブースト回路2の動作
は、次のように行われる。
【0017】インバータI66の入力が高い場合は、そ
の出力は低くなる。これは、スイッチング・トランジス
タP11をオン状態にし、VB1ノード電圧をVDD
上昇させる。その後、少したつと、インバータI67へ
の入力が高くなり、その出力は低くなり、キャパシタP
10への入力を0ボルトまで降下させる。このことは、
VB1ノード電圧を急速に0ボルトに向かって降下させ
る。しかしながら、VB1は、VDDのレベルまで急速に
チャージ・バックし始める。この動作シーケンスは、後
述するように、スイッチP11を通るチャージ排出(リ
ーク)をなくすために重要である。インバータI67
は、チャージ・ポンプ回路と入力トリガ信号間のバッフ
ァとして働くように回路の入力に置かれる。インバータ
I67は、本発明の動作になくてはならないものではな
いが、典型的なIC手法の特徴を表すものである。
【0018】VB1 が、VDDのレベルまでチャージさ
れた後、I66への入力は低くなる。その後間もなく、
I67への入力も低くなり、その出力は高くなる。これ
は、キャパシタP10の入力にVDDの電位を与える。キ
ャパシタの両端の電圧は、瞬時に変化することができな
いため、ノードVB1電圧は、VDDだけ上昇して、2V
DDのレベルになる。インバータI66への電源供給は、
ラインI66aを介してノードVB1から行われるか
ら、I66の高い出力は直ちに2VDDのレベルまで跳ね
上がり、スイッチP11をオフにして、VB1からP1
1を通ってチャージが排出するのを防止する。インバー
タI66とI67のその後のサイクル動作では、ノード
VB1電圧はVDDと2VDD間で周期的に変化する。
【0019】次に、図2のプリチャージ/ブースト回路
4および第2図の回路の下側部分の動作について説明す
る。回路の下側部分は、NANDゲートI22とI6
8、キャパシタP20、スイッチP21から構成され
る。これらの構成部品の動作は、基本的には、回路2に
関連して上述した対応構成部品の動作と同じである。す
なわち、I68の出力(入力は、リング・オシレータか
ら与えられる)が低い場合、スイッチP21はオンとな
り、ノードVB2の電圧レベルをVDDのレベルまで上昇
させる。その後、間もなく、I22の出力が低下し、キ
ャパシタP20への入力を0ボルトに降下させ、ノード
VB2電圧を0ボルトに向けて低下させる。P20は、
チャージを開始し、ノードVB2電圧をVDDに戻す。I
68の出力は、この時、高レベルになり、続いてI22
の出力が高レベルになる。I22の出力が高くなること
で、ノードVB2電圧がVDDから2VDDに跳ね上がる。
I68への電源供給は、ノードVB2から行われるた
め、スイッチP21のゲート電圧を2VDDのレベルに上
昇させP21をオフにする。ノードVB2電圧は、その
後、VDDと2VDDレベル間で周期的に変化する。
【0020】記述した図2のプリチャージ/ブースト回
路4の機能は、スイッチング・トランジスタP13のゲ
ート・ノードであるVB2を制御することである。
【0021】前述のように、チャージ・ポンプ回路のタ
イミングは、VB1が2VDDへブーストされる間に、V
B2がVDDにプリチャージされるように構成される。こ
れは、p−MOSFETスイッチP13をオンにし、ポ
ンプされたノードVB1から出力VBOOSTへチャー
ジを供給する。p−MOSFET P15とP16から
構成されるキャパシタは、出力VBOOSTに接続され
ており、このチャージをストアする。2VDDのレベルに
達するまでP15とP16から構成されるキャパシタを
チャージするためには、数回のサイクルが必要である。
反対に、VB1がVDDまでプリチャージしている間、V
B2は、2VDDまでブーストされ、トランジスタ・スイ
ッチP13をオフし、VBOOSTからVB1にもどる
ディスチャージを最小にする。
【0022】次に、図4を参照して、インバータI66
とNANDゲートI68(図2に簡略して示され、図4
に詳細に示されている)の詳細について説明する。イン
バータI66の実際の構成は、NANDゲートI10、
NORゲートI11、トランジスタP12、N10とN
11から構成される。NANDI68の実際の構成は、
NANDゲートI20、NORゲートI21、トランジ
スタP22、N20、N21から構成される。インバー
タI66とNANDゲートI68の両者のトランジスタ
は、正確なタイミング制御を用いて、ブロック2および
4のいかなるデバイスも約VDDよりも大きな電圧降下を
受けないようにするとともに、キャパシタP10とP2
0の中のストアされたチャ−ジの排出を防止するように
構成される。図5は、このようなタイミングと論理構成
の結果、得られるタイミング図を示している。
【0023】NANDゲートI10、I20、I22
と、NORゲートI11、I21へのタイミング信号の
入力は、VB1がブーストされる間のみ、スイッチP1
3がオンになることを保証するように、二つのプリチャ
ージ/ブースト回路2と4のタイミングを制御する。イ
ンバータI66とNANDゲートI68は、リング・オ
シレータの入力A3とA4を共有することがわかる。A
5は、I67とI5(図3)の出力に相当する。この構
成は、トランジスタ・スイッチP11、P21、P13
のスイッチングにおける適切な同期を保証するものであ
る。
【0024】まとめると、高効率の低VDD動作が、本発
明の新規な回路により達成される。ポンピング効率を高
める特徴として、次のことが挙げられる。 (a)全てのしきい値あるいはダイオード電圧降下がブ
ースティング・プロセスから取り除かれる。 (b)ブーストされた電圧と結合するp−MOSFET
デバイス(P11とP13)は、ブースト・レベル(V
B1、VB2)を用いてオフにされ、意図しない経路を
通じてのディスチャージを防ぐ。 (c)p−MOSFETデバイスは、ウェルがソース/
ドレインに接続された場合、|VT|<|VTN|となる
ため選択されており、これらのデバイスがポンピング・
キャパシタとして働く(VTNは、基板バイアスあるい
は、いわゆる'基板効果'を持つNMOSのしきい値であ
る)。 (d)ウェルは、接合ダイオードが回路のパフォーマン
スを低下させないように、そして、可能であれば、動作
効果を改善するように接続される。例えば、デバイスP
11、P21、P14中に形成されるp+−n−ウェル
・ダイオードは、VDDからのVBOOST、VB1、V
B2の初期チャージ動作を助け、より高速なブースト動
作を与える。また、デバイスP13に形成されたp+−
n−ウェル・ダイオードは、VB1からVBOOSTへ
のチャージの初期の転送を援助する。
【0025】低電圧技術との適合性は、MOSFET端
子間に印加される電圧差を最小にすることにより達成さ
れる。全てのゲート酸化物の両端の最大電圧は、VDD
制限され、これにより、酸化物の破壊と熱電子による劣
化の可能性を低減している。例えば、NANDゲートI
10は、ブーストされた電圧によってp−MOSFET
P12にストレスが加えられるのを防止する。ゲート
VX1Pは、VX1をVDDへ上昇させるのに十分な期間
だけ低レベルになり、VB1が2VDDにブーストされる
前に高レベルになる(図5の'*')。このことは、ブー
スティングの間中P12をオンに保持し、P12に過大
な|VGD|または|VGB|(VGDは、ゲート−ドレイン
の電圧降下であり、VGBはゲート−基板の電圧降下であ
る)を加えることなく、XV1も2VDDに上昇できるよ
うにする。NANDゲートI20は、同様にして、トラ
ンジスタP22を保護する。
【0026】更に、電圧をストアするVBOOST上の
キャパシタは、直列なMOSFETP15とP16から
成り、約2VDDの最終電圧は等しく、2つのデバイスに
分けられる。
【0027】最後に、チャージ・ポンプ回路中における
各々のデバイスの最大のドレイン−ソース電圧は、約V
DDに制限され、このようにして、パンチ・スルーの可能
性を減少させている。例えば、トランジスタN10は、
VX1Nが低い間は、ブースト電圧がトランジスタN1
1の両端に印加されるのを防ぐ。代わりに、N11のド
レイン−ソース電圧がVDD−VTNの電圧を受けるだけで
ある。N10の両端の最大ドレイン−ソース電圧は、V
DD+VTNに制限される。パンチ・スルーは、更に、デバ
イス・チャネルの長さを長くすることにより避けること
が可能である。トランジスタN20は、同様に、トラン
ジスタN21を保護する。
【0028】このようにして、本発明によれば、低いV
DDで機能し、従って低電圧技術と適合するVDDより大き
い電圧に効果的にブーストし、保持する回路が得られ
る。そのようなチャージ・ポンプ回路は、供給電圧より
も高い動作電圧を必要とするあらゆる回路の低電圧技術
(言い換えると、サブミクロンのCMOS技術)におい
て有効である。そのような回路の例は、EPROM、S
RAM、DRAM、LCDドライバ、電圧レギュレータ
である。
【0029】
【発明の効果】本発明により、従来のようなダイオード
電圧降下を伴わずに、供給電圧よりも大きいオン・チッ
プ電圧を生成し、保持するチャージ・ポンプ回路が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】従来のチャージ・ポンプ回路の概略図である。
【図2】本発明によるチャージ・ポンプ回路の概略図で
ある。
【図3】発明によるチャージ・ポンプで用いたリング・
オシレータの概略図である。
【図4】図2のチャージ・ポンプ回路のより詳細な回路
図である。
【図5】図4の回路の種々のノードにおける電圧を表す
タイミング図である。
【符号の説明】
2 : プリチャージ/ブースト回路 4 : プリチャージ/ブースト回路 I22 : NANDゲート I66 : インバータ I67 : インバータ I68 : NANDゲート P10 : キャパシタ P11 : トランジスタ P13 : トランジスタ P14 : トランジスタ P15 : キャパシタ P16 : キャパシタ P20 : キャパシタ P21 : トランジスタ
フロントページの続き (72)発明者 ヒュン・ジョン・シン アメリカ合衆国コネチカット州リッジフィ ールド ホビー・ドライブ42 (72)発明者 ケヴィン・ロバート・レナー アメリカ合衆国ニュージャージ州リッジウ ッド ハイ・ストリート44

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】0ボルトとVDDボルトとの間のレベルで周
    期的に変化する電圧を発生する手段と、 第1の端が上記電圧発生手段に接続された第1のチャー
    ジ・ストア・デバイスと、 第1の端が上記チャージ・ストア・デバイスの第2の端
    に接続され、第2の端がポンプ出力ノードに接続された
    トランジスタ・スイッチと、 上記第1のチャージ・ストア・デバイスと上記トランジ
    スタ・スイッチの接続点に接続され、この接続点にVDD
    と約2VDDとの間で周期的に変動する電圧を発生させる
    第1のプリチャージ/ブースト回路と、 上記第1のチャ−ジ・ストア・デバイスと上記トランジ
    スタ・スイッチの接続点の電圧がVDDの時に上記トラン
    ジスタ・スイッチをオフにし、上記第1のチャージ・ス
    トア・デバイスと上記トランジスタ・スイッチの接続点
    の電圧が約2VDDの時に上記トランジスタ・スイッチを
    オンにする上記トランジスタ・スイッチとの制御端子に
    接続された第2のプリチャージ/ブースト回路とを含む
    チャージ・ポンプ回路。
  2. 【請求項2】約2VDDの一定した出力ノード電圧を保つ
    ために、上記ポンプ出力ノードに接続された第2のチャ
    ージ・ストア・デバイスを含む、請求項1のチャージ・
    ポンプ回路。
JP7175733A 1994-07-18 1995-07-12 チャージ・ポンプ回路 Pending JPH0865147A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100518545B1 (ko) * 2002-12-10 2005-10-04 삼성전자주식회사 고전압 스트레스를 감소시킬 수 있는 승압전압 발생회로및 승압전압 발생방법
CN1328726C (zh) * 2004-07-12 2007-07-25 威盛电子股份有限公司 光学读取头取样介面系统
CN113595371A (zh) * 2021-07-28 2021-11-02 深圳市长运通半导体技术有限公司 一种可调过温保护集成电路

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