JPH0864556A - Separation of glass substrate - Google Patents
Separation of glass substrateInfo
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- JPH0864556A JPH0864556A JP6195325A JP19532594A JPH0864556A JP H0864556 A JPH0864556 A JP H0864556A JP 6195325 A JP6195325 A JP 6195325A JP 19532594 A JP19532594 A JP 19532594A JP H0864556 A JPH0864556 A JP H0864556A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は回路を形成したガラス基
板の分離方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for separating a glass substrate having a circuit formed thereon.
【0002】[0002]
【従来の技術】近年、事務機器、ファクシミリ、コンピ
ュータの入力端末用としての各種の密着型イメージセン
サの開発が進められている。密着型イメージセンサは、
等倍率で読み取るために原稿と同一サイズの長尺ライン
センサを必要とする。特に、コストダウン及び一層の小
型化を目的として、ロッドレンズアレイ、収束性ファイ
バー等を使用せず、光センサ上に薄い透明保護膜を被膜
し、この上を密着状態で原稿を移動させつつ読取りを行
う方式の画像読取装置の開発が盛んである。2. Description of the Related Art In recent years, various contact image sensors for office equipment, facsimiles, and input terminals of computers have been developed. Contact image sensor
A long line sensor of the same size as the original is required to read at the same magnification. In particular, for the purpose of cost reduction and further size reduction, a thin transparent protective film is coated on the optical sensor without using a rod lens array, converging fiber, etc., and the document is read while moving in close contact with it. The development of image reading devices of the type that performs
【0003】図14はこの主の画像読取装置の一例を示
す。ここで光電変換素子部12は透明基板11上に設け
た不透光性層18の上に形成されており、基板11の裏
面側に配設した光源34より窓部(不透光性層18の非
形成部分)19を介して入射し、原稿P面で反射された
光Lを光電変換素子部12において受容する。FIG. 14 shows an example of this main image reading apparatus. Here, the photoelectric conversion element portion 12 is formed on the opaque layer 18 provided on the transparent substrate 11, and the window portion (the opaque layer 18 is provided from the light source 34 disposed on the back surface side of the substrate 11). The light L incident on the surface P of the document and reflected by the surface of the document P is received by the photoelectric conversion element unit 12.
【0004】上層電極17の上に、主として半導体層表
面の保護安定化を目的とするパシベーションA層14が
形成され、原稿と直接接触する最上部には耐摩耗層と呼
ばれる原稿による傷遠から装置全体を守る高硬度の透光
性絶縁層22が設けられ、さらにパシベーションA層と
耐摩耗層の間に、双方の密着性向上と耐湿性向上を目的
としたパシベーションB層15が、さらにパシベーショ
ンB層と耐摩耗層の間に、静電気対策層21が形成され
ている。On the upper electrode 17, a passivation A layer 14 is formed mainly for the purpose of stabilizing and protecting the surface of the semiconductor layer, and the uppermost portion which comes into direct contact with the document is called a wear-resistant layer from the scratches caused by the document and the entire apparatus is exposed. Is provided with a high hardness translucent insulating layer 22. Further, between the passivation A layer and the wear resistant layer, a passivation B layer 15 for the purpose of improving adhesion and moisture resistance of both is further provided, and a passivation B layer is further provided. The anti-static layer 21 is formed between the abrasion resistant layer and the abrasion resistant layer.
【0005】ここで、14はポリイミド系樹脂塗布、1
5はエポキシ系樹脂塗布によって形成され、22は50
μm程度のマイクロシートガラス、静電気対策層21は
22裏面に蒸着等で形成されたITO等の透光性導電層
である。この透光性導電層は透明基板11上のグランド
電極との間に導電材を配置することにより一定電位に保
持されている。[0005] Here, 14 is a polyimide resin coating, 1
5 is formed by applying an epoxy resin, and 22 is 50
The microsheet glass having a thickness of about μm, and the antistatic layer 21 are a translucent conductive layer such as ITO formed on the back surface of 22 by vapor deposition or the like. This transparent conductive layer is held at a constant potential by disposing a conductive material between the transparent conductive layer and the ground electrode on the transparent substrate 11.
【0006】透明基板11はもとは300mm四方程度
の大判のガラス基板であり、素子を形成したガラス基板
10に透光性導電層21を形成したマイクロシートガラ
ス22を接着した後、3mmあるいはそれ以下の短冊サ
イズに切断される。切断前の素子の形成されたガラス基
板の平面図を図8(A)に示す。素子は容量を有し、静
電気によってチャージされ、静電破壊することがあるた
め、光電変換素子部12の入出力端子及び電源端子はシ
ャント配線13により同電位に保持されるようになって
いる。シャント配線13はガラス基板切断時に切り離さ
れる。The transparent substrate 11 is originally a large glass substrate having a size of about 300 mm square, and after adhering the microsheet glass 22 having the translucent conductive layer 21 formed thereon to the glass substrate 10 having the element formed thereon, it is 3 mm or more. It is cut into the following strip sizes. A plan view of the glass substrate on which the element before cutting is formed is shown in FIG. Since the element has a capacitance and may be electrostatically charged and electrostatically destroyed, the shunt wiring 13 holds the input / output terminal and the power supply terminal of the photoelectric conversion element section 12 at the same potential. The shunt wiring 13 is cut off when the glass substrate is cut.
【0007】ガラス基板切断方法としては、従来からあ
る半導体ウェハから個々のチップに分離する方法が流用
できる。すなわち、ダイヤモンド粉末を主材料とする刀
(ブレード)によりウエハを切削して溝を形成するダイ
シング法と、ウェハのへき開に沿ってウェハ表面をダイ
ヤモンド針により傷つけ、へき開を利用するスクライブ
法がある。もちろんガラス基板の場合はへき開しない
が、同様の効果が得られる。具体的には以下のような方
法が提案されている。 (1)素子を形成したガラス基板10に透光性導電層2
1を形成したマイクロシートガラス22を接着した後、
3mmあるいはそれ以下の短冊サイズに切断する方法と
して、従来当社が採用していた基板切断方法のフロチャ
ートを図7に示す。切断する基板の断面構成を図7
(A)に示す。この断面構成は図8(A)のガラス基板
の平面図に対応する。図7(A)及び図8(A)のシャ
ント配線に沿って図7(B)に示すようにダイシングに
よるハーフカットを行う。このとき、位置合わせは30
0mm四方のガラス基板に設けられた目合わせマークに
より行う。ハーフカットによりシャント配線の部分は削
られ、なくなる。削られる部分の幅はダイシングブレー
ドにより異なるが、約100〜200μmになる。
(B)によりシャント配線が分離されたので(C)にお
いて、ハーフカット時に発生するガラスかすのガラス基
板表面への付着をスピン洗浄、シャワー洗浄などの自動
化洗浄装置による洗浄後、電気検査を行う。次に(D)
において、ガラス基板裏面に粘着シート16を貼り、ガ
ラス基板表面からダイシングによりフルカットする。粘
着シート16を貼る理由はフルカットされた短冊サイズ
の基板がばらばらにならないためと、基板を完全にフル
カットするため、及びダイシングソーのステージに傷を
つけないよう保護するためである。ダイシングブレード
はダイシングにより摩耗するため、フルカットする場合
にはダイシング必要な深さは変化する。そのために完全
にフルカットするには傷をつけていいシートが必要にな
る。最後に(E)において粘着シート16を基板からは
がすと、図8(B)のような断面の短冊サイズの基板に
分離される。分離後短冊サイズのガラス基板をマニュア
ル洗浄する。なお粘着シート16にはUV光照射により
粘着性のなくなるUVシートを用い、粘着シート16を
基板からはがすのを容易にしている。 (2)特開平2−33948号公報に示されているよう
に、厚さ250μmのウェハ120の裏面側からダイシ
ングにより約100μmの溝209を形成した後、ウェ
ハの表面側210にスクライブにより傷をつけ、へき開
によりチップに分離する方法。(図9参照) (3)特開平1−290237公報に示されているよう
に、ガラス基板102の表面側に接着剤を有する樹脂性
のシート111を貼りつけ、ガラス基板102の裏面を
ハーフカットする。(図10(A)参照)次に、ガラス
基板102の裏面に粘着シート16を貼りつけてからガ
ラス基板102の表面をダイシングし、フルカットする
方法。(図10(B),(C)参照) (4)特開平1−186646公報に示されているよう
に、半導体基板のウェハ120の表面側をハーフカット
し(図11(A)参照)、表面を固定材121で固定
し、半導体基板のウェハ120の裏面側より、研磨もし
くはエッチングを行ない、ハーフカットで未切断部分を
取り除く方法。(図11(B)参照) (5)特開昭61−67243公報に示されているよう
に、回路を形成した半導体のウェハ120の裏面側に粘
着シート16を貼りつけ、ウェハをダイシングソーのス
テージにセットし、図12(A)に示すようにウェハ表
面側よりフルカットあるいはハーフカットを行う。その
後図12(B)に示す選択エッチングする部分114を
エッチングする方法。粘着シート16はウェハ120を
完全にフルカットするためのものであり、かつ、ダイシ
ングソーのステージに傷をつけないように保護するため
のものである。表面からの切断する工程でフルカットし
ない場合は、粘着シート16は必ずしも必要でない。 (6)特開昭60−157236公報に示されているよ
うに、回路を形成した半導体のウェハ120の裏側に粘
着シート16を貼りつけ、ウェハをダイシングソーのス
テージにセットし、図13(A)に示すようにウェハ表
面よりフルカットあるいはハーフカットを行う。その後
粘着シート16を表面に貼り、フルカットあるいはハー
フカットされたチップを固定し、基板を裏返してダイシ
ングソーのステージにセットする。次に図13(B)に
示すように第1工程で用いたブレードより幅の広いブレ
ード115で裏面より切断を行う方法。As a glass substrate cutting method, a conventional method of separating a semiconductor wafer into individual chips can be used. That is, there are a dicing method in which a wafer is cut by a sword (blade) whose main material is diamond powder to form a groove, and a scribing method in which the wafer surface is scratched by a diamond needle along the cleavage of the wafer and the cleavage is used. Of course, the glass substrate does not cleave, but the same effect can be obtained. Specifically, the following methods have been proposed. (1) The transparent conductive layer 2 on the glass substrate 10 on which the element is formed.
After adhering the microsheet glass 22 formed with 1,
FIG. 7 shows a flow chart of a substrate cutting method that has been conventionally adopted by our company as a method for cutting a strip size of 3 mm or less. The cross-sectional structure of the substrate to be cut is shown in FIG.
It shows in (A). This cross-sectional structure corresponds to the plan view of the glass substrate in FIG. Half cut by dicing is performed along the shunt wirings of FIGS. 7A and 8A as shown in FIG. 7B. At this time, the alignment is 30
The alignment mark is provided on a 0 mm square glass substrate. The half-cut eliminates the part of the shunt wiring. The width of the part to be cut varies depending on the dicing blade, but is about 100 to 200 μm.
Since the shunt wiring is separated by (B), in (C), adhesion of glass residue generated at the time of half-cutting to the surface of the glass substrate is cleaned by an automatic cleaning device such as spin cleaning or shower cleaning, and then an electrical inspection is performed. Next (D)
In, the adhesive sheet 16 is attached to the back surface of the glass substrate, and full cutting is performed from the front surface of the glass substrate by dicing. The reason why the adhesive sheet 16 is attached is that the fully cut strip-shaped substrate does not fall apart, the substrate is completely full-cut, and the stage of the dicing saw is protected from being scratched. Since the dicing blade is worn by dicing, the depth required for dicing changes when full cutting is performed. For this reason, a perfectly scratchable sheet is required to completely cut the sheet. Finally, when the adhesive sheet 16 is peeled from the substrate in (E), it is separated into a strip-shaped substrate having a cross section as shown in FIG. 8 (B). After separation, the strip-shaped glass substrate is washed manually. The adhesive sheet 16 is a UV sheet that loses its adhesiveness when irradiated with UV light, so that the adhesive sheet 16 can be easily removed from the substrate. (2) As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-33948, after forming a groove 209 of about 100 μm from the back surface side of a wafer 120 having a thickness of 250 μm by dicing, scratches are scribed on the front surface side 210 of the wafer. A method of attaching and cleaving to separate into chips. (See FIG. 9) (3) As disclosed in JP-A-1-290237, a resin sheet 111 having an adhesive is attached to the front surface side of the glass substrate 102, and the back surface of the glass substrate 102 is half-cut. To do. (See FIG. 10A) Next, a method in which the adhesive sheet 16 is attached to the back surface of the glass substrate 102, and then the front surface of the glass substrate 102 is diced and full cut. (See FIGS. 10B and 10C.) (4) As shown in JP-A-1-186646, the front side of the wafer 120 of the semiconductor substrate is half-cut (see FIG. 11A), A method of fixing the front surface with a fixing material 121, polishing or etching from the back surface side of the wafer 120 of the semiconductor substrate, and removing the uncut portion by half-cutting. (See FIG. 11 (B)) (5) As shown in Japanese Patent Laid-Open No. 61-67243, an adhesive sheet 16 is attached to the back surface side of a semiconductor wafer 120 on which a circuit is formed, and the wafer is diced. After being set on the stage, full cutting or half cutting is performed from the front surface side of the wafer as shown in FIG. After that, a method for etching the portion 114 for selective etching shown in FIG. The adhesive sheet 16 is for completely cutting the wafer 120, and for protecting the stage of the dicing saw from scratches. The adhesive sheet 16 is not always necessary when full cutting is not performed in the step of cutting from the surface. (6) As shown in Japanese Patent Laid-Open No. 60-157236, an adhesive sheet 16 is attached to the back side of a semiconductor wafer 120 on which circuits are formed, and the wafer is set on the stage of a dicing saw. ) As shown in (), a full cut or a half cut is performed from the wafer surface. After that, the adhesive sheet 16 is attached to the surface, the chips that are full-cut or half-cut are fixed, the substrate is turned over, and set on the stage of the dicing saw. Next, as shown in FIG. 13B, a method of cutting from the back surface with a blade 115 wider than the blade used in the first step.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記方法で図
8(A),(B)に示すような薄膜イメージセンサなど
の大判基板を切断する場合には、以下のような課題があ
る。 (1)の方法では、粘着シート16はフルカットした
基板がばらばらにならないために粘着性が必要であり、
かつフルカット後基板からはがしやすい必要があるた
め、UV光により粘着性のなくなる粘着シート(以降U
Vシートと称す)のような高価な資材が必要になる。か
つ、UVシートをガラス基板からはがすためにUV照射
の工程が新たに必要になる。ガラス基板のダイシング
時に発生するガラスかすがガラス基板に付着するため、
ハーフカット後及びフルカット後にはガラス基板の洗浄
が必要になるが、大判基板の場合はスピン洗浄、シャワ
ー洗浄などの自動洗浄装置が使用できるが、短冊サイズ
に分離されたガラス基板には自動洗浄装置が使用できな
いため、マニュアル洗浄をする必要があり、工数がかか
る。UVシートを貼ったガラス基板をフルカットする
と、ダイシングブレードはUVシートのかすが付着して
目づまりを生じたり、ダイシングブレードの摩耗がUV
シートによって加速されたりし、その結果ガラス基板の
チッピングが大きくなる。フルカットするには分離す
るガラス基板の厚さ約1mmをダイシングする必要があ
り、ダイシング時間がかかる。 (2)の方法では、ウェハ裏面側からダイシングする
ため、マイクロシートガラス304及びシャント配線1
10を切断できない。シャント配線110があるため、
ダイシング後の大判基板状態で検査することはできな
い。マイクロシートガラス304は切断されていない
ので、表面側からのスクライブにより傷をつけ、基板を
分離することはできない。 (3)の方法では、ガラス基板裏面側からダイシング
するため、マイクロシートガラス304及びシャント配
線110を切断できない。シャント配線110があるた
め、ハーフカット後の大判基板状態で検査することがで
きない。フルカット時に使用する粘着シート16はフ
ルカットした基板がばらばらにならないために粘着性が
必要であり、かつフルカット後基板からはがしやすい必
要があるため、UVシートのような高価な資材が必要に
なる。かつ、UVシートをガラス基板からはがすために
UV照射の工程が新たに必要になる。フルカット後の
ガラス基板の洗浄は、短冊サイズに分離されたガラス基
板のため、自動洗浄装置が使用できず、マニュアル洗浄
をする必要があり、工数がかかる。UVシートを貼っ
たガラス基板をフルカットすると、ダイシングブレード
はUVシートのかすが付着して目づまりを生じたり、ダ
イシングブレードの摩耗がUVシートによって加速され
たりし、その結果ガラス基板のチッピングが大きくな
る。フルカットするには分離するガラス基板の厚さ約
1mmをダイシングする必要があり、ダイシング時間が
かかる。 (4)の方法では、固定剤121で固定するため、新
たな工程及び固定剤121の資材費がかかる。固定剤
121を取り除くための工程も必要となる。研磨もし
くはエッチングという新たな工程が必要になる。 (5)の方法では、エッチングという新たな工程がはい
るため、工数の増大、保留悪化等が生じる。 (6)の方法では、少なくとも第2工程では粘着シート
16が必要なため、UVシートのような高価な資材が
必要になる。かつ、UVシートをガラス基板からはがす
ためにUV照射の工程が新たに必要になる。フルカッ
ト後のガラス基板の洗浄は、短冊サイズに分離されたガ
ラス基板のため、自動洗浄装置が使用できず、マニュア
ル洗浄をする必要があり、工数がかかる。UVシート
を貼ったガラス基板をフルカットすると、ダイシングブ
レードはUVシートのかすが付着して目づまりを生じた
り、ダイシングブレードの摩耗がUVシートによって加
速されたりし、その結果ガラス基板のチッピングが大き
くなる。フルカットするには分離するガラス基板の厚
さ約1mmをダイシングする必要があり、ダイシング時
間がかかる。However, when a large-sized substrate such as a thin film image sensor as shown in FIGS. 8A and 8B is cut by the above method, there are the following problems. In the method (1), the pressure-sensitive adhesive sheet 16 needs to have adhesiveness because the fully cut substrate does not fall apart.
In addition, it is necessary to peel it off from the substrate after full cutting, so the adhesive sheet loses its adhesiveness by UV light.
Expensive materials such as V-sheet) are required. At the same time, a new UV irradiation step is required to peel off the UV sheet from the glass substrate. Since the glass dust generated during dicing of the glass substrate adheres to the glass substrate,
Although it is necessary to clean the glass substrate after half-cut and full-cut, automatic cleaning equipment such as spin cleaning and shower cleaning can be used for large-sized substrates, but automatic cleaning is performed for glass substrates separated into strips. Since the equipment cannot be used, manual cleaning is required, which requires man-hours. When a glass substrate with a UV sheet attached is fully cut, the dicing blade adheres to the UV sheet dust and causes clogging, and the dicing blade wears due to UV.
It is accelerated by the sheet, and as a result, the chipping of the glass substrate is increased. In order to perform full cutting, it is necessary to dice the glass substrate to be separated into a thickness of about 1 mm, which takes a dicing time. In the method (2), since the dicing is performed from the back side of the wafer, the microsheet glass 304 and the shunt wiring 1 are used.
I can't cut 10. Since there is a shunt wiring 110,
It cannot be inspected in a large-sized substrate after dicing. Since the microsheet glass 304 is not cut, it is not possible to separate the substrate by damaging it by scribing from the surface side. In the method (3), since the dicing is performed from the back surface side of the glass substrate, the microsheet glass 304 and the shunt wiring 110 cannot be cut. Because of the shunt wiring 110, it is impossible to inspect in a large-sized substrate state after half-cutting. The adhesive sheet 16 used at the time of full cutting needs to have adhesiveness so that the fully cut substrate does not come apart, and needs to be easily peeled off from the substrate after the full cutting, so an expensive material such as a UV sheet is required. Become. At the same time, a new UV irradiation step is required to peel off the UV sheet from the glass substrate. Since the glass substrate separated into strips cannot be used for cleaning the glass substrate after full-cutting, an automatic cleaning device cannot be used, and manual cleaning is required, which requires man-hours. When the glass substrate to which the UV sheet is attached is fully cut, the dicing blade causes clogging of the UV sheet to cause clogging, and the abrasion of the dicing blade is accelerated by the UV sheet, resulting in large chipping of the glass substrate. In order to perform full cutting, it is necessary to dice the glass substrate to be separated into a thickness of about 1 mm, which takes a dicing time. In the method (4), since the fixing agent 121 is used for fixing, a new step and material costs for the fixing agent 121 are required. A step for removing the fixative 121 is also required. A new process of polishing or etching is required. In the method of (5), since a new step of etching is included, the number of steps is increased and the retention is deteriorated. In the method (6), since the adhesive sheet 16 is required at least in the second step, an expensive material such as a UV sheet is needed. At the same time, a new UV irradiation step is required to peel off the UV sheet from the glass substrate. Since the glass substrate separated into strips cannot be used for cleaning the glass substrate after full-cutting, an automatic cleaning device cannot be used, and manual cleaning is required, which requires man-hours. When the glass substrate to which the UV sheet is attached is fully cut, the dicing blade causes clogging of the UV sheet to cause clogging, and the abrasion of the dicing blade is accelerated by the UV sheet, resulting in large chipping of the glass substrate. In order to perform full cutting, it is necessary to dice the glass substrate to be separated into a thickness of about 1 mm, which takes a dicing time.
【0009】本発明は、以上に述べた従来技術の問題点
に鑑み、薄膜イメージセンサなどの大判基板の高品質か
つ量産性に富むダイシング方法を提供するものである。In view of the above-mentioned problems of the prior art, the present invention provides a high-quality dicing method for a large-sized substrate such as a thin-film image sensor and having high mass productivity.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明によるガラス基板
の分離方法は、ガラス基板の表面に多数個の素子を形成
したガラス基板の表面側からダシングによるハーフカッ
トを行う第1工程と、前記ガラス基板の裏面側から前記
ハーフカットの位置にスライブ線を形成する第2工程
と、ブレイクにより前記ガラス基板を分離する第3工程
とから成り立っている。又、本発明によるガラス基板の
分離方法は、ガラス基板の表面に静電保護用シャント配
線が形成されたガラス基板の表面側からダイシングによ
るハーフカットを行う第1工程において、前記シャント
配線に沿ってハーフカットを行い前記シャント配線を分
離し、前記第1工程の後、大判基板の状態で電気検査を
行うことを特徴としている。又、本発明によるガラス基
板の分離方法は、ガラス基板の裏面側からスクライブ線
を形成する第2工程において、弱粘着性の粘着シートを
前記ガラス基板の表面側に貼り付けて、ブレイクによる
前記ガラス基板を分離することを特徴としている。又、
本発明によるガラス基板の分離方法においては、ガラス
基板の表面に多数個の素子を形成したガラス基板の表面
に第2のガラス基板が接着されたガラス基板を用いるこ
とを特徴としている。The method for separating a glass substrate according to the present invention comprises a first step of performing a half-cut by dashing from the surface side of a glass substrate having a large number of elements formed on the surface of the glass substrate; It comprises a second step of forming a sliver line from the back surface side of the substrate to the position of the half cut, and a third step of separating the glass substrate by breaking. Further, the method for separating a glass substrate according to the present invention includes a step of performing a half-cut by dicing from the surface side of the glass substrate on which the electrostatic protection shunt wiring is formed on the surface of the glass substrate, along the shunt wiring. It is characterized in that half-cutting is performed to separate the shunt wiring, and after the first step, electrical inspection is performed in a large-sized substrate. Further, in the method for separating a glass substrate according to the present invention, in the second step of forming a scribe line from the back surface side of the glass substrate, a weakly sticky pressure sensitive adhesive sheet is attached to the front surface side of the glass substrate, and the glass substrate is broken. The feature is that the substrate is separated. or,
The method for separating a glass substrate according to the present invention is characterized by using a glass substrate in which a second glass substrate is bonded to the surface of a glass substrate having a large number of elements formed on the surface of the glass substrate.
【0011】[0011]
【実施例】以下本発明の実施例について図面を参照しな
がら説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0012】図1は本発明のガラス基板の分離方法のフ
ローチャートである。切断する基板の断面構成を図1
(A)に示す。これは図7(A)と同一である。この断
面構成は図8(A)のガラス基板の平面図に対応する。
図1(A)及び図8(A)のシャント配線に沿って図1
(B)に示すようにガラス基板の表面側からダイシング
によるハーフカットを行う。このとき、位置合わせは3
00mm四方のガラス基板に設けられた目合わせマーカ
ーにより行う。ハーフカットによりシャント配線の部分
は削られ、なくなる。削られる部分の幅はダイシングブ
レードにより異なるが、約100〜200μmになる。
(B)によりシャント配線が分離されたので、(C)に
おいて、ハーフカット時に発生するガラスかすのガラス
基板表面への付着をスピン洗浄、シャワー洗浄などの自
動化洗浄装置による洗浄後、電気検査を行う。次に
(D)に示すように、ガラス基板裏面からハーフカット
した裏側の位置にスクライブ線23を、図4(A)に示
すようなガラス切断に用いられる超鋼ロールのロール部
35は周囲に鋭部を有する円盤状になっており、このロ
ール部35が回転することによって示すように、スクラ
イブ線23に沿ってブレイクする。FIG. 1 is a flow chart of the glass substrate separating method of the present invention. Figure 1 shows the cross-sectional structure of the substrate to be cut.
It shows in (A). This is the same as FIG. 7 (A). This cross-sectional structure corresponds to the plan view of the glass substrate in FIG.
1 along the shunt wiring of FIG. 1A and FIG.
As shown in (B), half cutting is performed by dicing from the front surface side of the glass substrate. At this time, the alignment is 3
It is carried out by an alignment marker provided on a glass substrate of 00 mm square. The half-cut eliminates the part of the shunt wiring. The width of the part to be cut varies depending on the dicing blade, but is about 100 to 200 μm.
Since the shunt wiring is separated by (B), in (C), the adhesion of the glass dust generated at the time of half-cutting to the glass substrate surface is cleaned by an automated cleaning device such as spin cleaning or shower cleaning, and then an electrical inspection is performed. . Next, as shown in (D), a scribe line 23 is provided at a position on the back side half-cut from the back surface of the glass substrate, and a roll portion 35 of a super steel roll used for cutting glass as shown in FIG. It has a disk shape having a sharp portion, and breaks along the scribe line 23 as shown by the rotation of the roll portion 35.
【0013】このブレイク方法を図4(B)、(C)で
説明する。まずガラス基板表面に弱粘着性の粘着シート
24を貼る。フルカットの場合はガラス基板が動くと位
置制度がでなくなるため、粘着性の高い粘着シートが必
要だが、ブレイクの場合はスクライブ線に沿って割るた
め、位置精度は必要ない。そのため、弱粘着性の粘着シ
ート24が使える。図4(B)に示すように、弱粘着性
の粘着シートを貼ったガラス基板の裏面のスクライブ線
23の上にゴムブレード25を配置し、このゴムブケー
ド25を押圧して荷重を与え、ガラス基板をクスライブ
線23に沿って割る。ブレイク方法の第2の実施例は図
4(C)に示すようにゴムの搬送ローラを用いる。図に
示すように、ガラス基板搬送用のゴムローラ26により
弱粘着性の粘着シート24を貼ったガラス基板を矢印の
方向に搬送し、搬送しながらガラス基板に曲げの押圧を
与え、ガラス基板をスクライブ線23に沿って割る。い
ずれの方法の場合もガラス基板ブレイク後、弱粘着性の
粘着シート24をはがし、短冊状のガラス基板に分離す
る。図7の場合と異なり、粘着シート24は弱粘着性の
ため、はがすのが容易である。図2は短冊状に分離され
たガラス基板の断面図である。This break method will be described with reference to FIGS. 4 (B) and 4 (C). First, a weakly sticky adhesive sheet 24 is attached to the surface of the glass substrate. In the case of full cut, the position accuracy is lost when the glass substrate moves, so an adhesive sheet with high adhesiveness is required, but in the case of break it does not require position accuracy because it breaks along the scribe line. Therefore, the weakly sticky adhesive sheet 24 can be used. As shown in FIG. 4 (B), a rubber blade 25 is arranged on the scribe line 23 on the back surface of the glass substrate on which the weakly sticky pressure-sensitive adhesive sheet is attached, and the rubber blade 25 is pressed to apply a load to the glass substrate. Along the line 23. The second embodiment of the breaking method uses a rubber conveying roller as shown in FIG. As shown in the figure, the glass substrate carrying the rubber substrate 26 for carrying the glass substrate is carried in the direction of the arrow on the glass substrate on which the weakly sticky adhesive sheet 24 is stuck, and while being carried, a bending pressure is applied to the glass substrate to scribe the glass substrate. Split along line 23. In any case, after the glass substrate is broken, the adhesive sheet 24 having weak adhesiveness is peeled off and separated into strip-shaped glass substrates. Unlike the case of FIG. 7, the pressure-sensitive adhesive sheet 24 has a weak adhesive property and thus can be easily peeled off. FIG. 2 is a cross-sectional view of the glass substrate separated into strips.
【0014】図3は本発明の第1の実施例におけるガラ
ス基板分離方法にて分離した基板を使用して組み立てた
画像読取装置の構成図である。図2に示した分離された
ガラス基板はA1等からなるベースプレート33に固定
されている。ベースプレート33には一部には光源34
からの照明光Lを通過させるための照明窓36が設けら
れている。光源34は、LEDチップからなる発光源を
複数個直線上に配列されたLEDアレイからなる。31
は、原稿Pをマイクロシートガラス22に直接接触させ
て搬送する搬送ローラである。FIG. 3 is a block diagram of an image reading apparatus assembled using the substrates separated by the glass substrate separating method according to the first embodiment of the present invention. The separated glass substrate shown in FIG. 2 is fixed to a base plate 33 made of A1 or the like. The base plate 33 has a light source 34 partially
An illumination window 36 for passing the illumination light L from is provided. The light source 34 includes an LED array in which a plurality of light emitting sources each including an LED chip are arranged in a straight line. 31
Is a conveyance roller that conveys the original P by directly contacting it with the microsheet glass 22.
【0015】光源34から発せられた照明光Lはベース
プレート33の照明窓36及び素子を形成した透明基板
10を透過して、原稿Pを照明し、原稿Pから反射した
光を素子を形成した透明基板10の光電変換素子部12
(図8(A)参照)に入射して、光電変換素子より画信
号が出力される。Illumination light L emitted from the light source 34 passes through the illumination window 36 of the base plate 33 and the transparent substrate 10 on which the element is formed, illuminates the original P, and the light reflected from the original P is formed on the element to be transparent. Photoelectric conversion element section 12 of substrate 10
When incident on (see FIG. 8A), an image signal is output from the photoelectric conversion element.
【0016】ガラス基板の原稿給紙側及び原稿俳紙側に
は、原稿搬送用のガイド手段として遮光性のガイド手段
32を設けている。遮光性のガイド手段32はインジェ
クションやポッティングにより樹脂を形成して造ること
により、素子を形成したガラス基板10及び透光性導電
層21を形成したマイクロシートガラス22の端面に固
着さすことができる。また、原稿が搬送される遮光性の
ガイド手段の表面とマイクロシートガラス22の表面の
段差はゼロないし、原稿給紙側ガイド、クイクロシート
ガラス、原稿俳紙側ガイドの順に原稿搬送面の高さが低
くなるように構成する必要がある。このように構成する
ことにより、原稿搬送面の段差や間隙による原稿のジャ
ムを防止することができる。また、原稿の給紙側及び俳
紙側から入射して素子を形成したガラス基板10及び透
光性導電層21を形成したマイクロシートガラス22の
端面から光電変換素子部12を照射する不要な外光Lx
を低減し、より効果的にS/Nを確保することができ
る。さらに、このような照明光Lの一部が素子を形成し
た透明基板10の端面で反射し、光電変換素子部を照射
する迷光Ly をも低減し、S/Nの低下を抑える効果も
有している。一方、図3に示すように、本切断方法では
素子を形成した透明基板10には段差27が生じるた
め、遮光性のガイド手段32をインジェクションやポッ
ティングにより樹脂を成形して作った場合に、素子を形
成した透明基板10は段差27とベースプレート33に
よって固定されるため、搬送ローラ31の押圧にも充分
耐えられる強度を確保できる。Light-shielding guide means 32 is provided as a guide means for conveying the originals on the original feeding side and the original side of the glass substrate. The light-shielding guide means 32 can be fixed to the end surface of the glass substrate 10 on which the element is formed and the microsheet glass 22 on which the translucent conductive layer 21 is formed by forming a resin by injection or potting. Further, there is no step between the surface of the light-shielding guide means for conveying the original and the surface of the micro sheet glass 22, and the height of the original conveying surface is higher in the order of the original feeding side guide, the quill sheet glass, and the original side guide. Must be configured to be low. With this configuration, it is possible to prevent the document from being jammed due to a step or a gap on the document transport surface. Further, the photoelectric conversion element portion 12 is irradiated from the end surface of the glass substrate 10 on which elements are formed and the microsheet glass 22 on which the translucent conductive layer 21 is formed by irradiating the photoelectric conversion element section 12 from the paper feed side and the side of the original sheet. Light L x
Can be reduced and the S / N can be secured more effectively. Further, a part of such illumination light L is reflected by the end surface of the transparent substrate 10 on which the element is formed, and the stray light L y that irradiates the photoelectric conversion element portion is also reduced, which also has the effect of suppressing a decrease in S / N. are doing. On the other hand, as shown in FIG. 3, in the present cutting method, since the step 27 is formed on the transparent substrate 10 on which the element is formed, when the light-shielding guide means 32 is formed by molding a resin by injection or potting, the element is not formed. Since the transparent substrate 10 on which is formed is fixed by the step 27 and the base plate 33, it is possible to secure a strength sufficient to withstand the pressing of the transport roller 31.
【0017】図5は本発明の第2の実施例におけるカラ
ー密着イメージセンサの基板切断方法及び切断後の断面
図である。図5(A)は切断前の素子を形成したガラス
基板の平面図であり、図8(A)と同様に光電変換部1
2とシャント配線13から構成されている。図5(A)
と異なるのはカラー用のため光電変換部12が3列構成
になっており、左からR、G、Bに対応する。図5
(B)はカラーフィルターを形成した透明基板40であ
り、赤(R)のカラーフィルター部41、緑(G)のカ
ラーフィルター42、青(B)のカラーフィルター4
3、遮光部44から構成される。切断前の素子を形成し
たガラス基板10にカラーフィルターを形成した透明基
板40を接着する。接着の際の位置合わせは、各々の透
明基板の設けられた目合わせマーカーにより行う。接着
されたガラス基板の分離方法は図1のフロチャートと同
様に行う。結果として切断後の基板の断面は図5(C)
のようになる。FIG. 5 is a sectional view of a color contact image sensor in a second embodiment of the present invention and a sectional view after cutting. FIG. 5A is a plan view of the glass substrate on which the element before cutting is formed, and the photoelectric conversion unit 1 is similar to FIG. 8A.
2 and shunt wiring 13. Figure 5 (A)
The difference is that the photoelectric conversion unit 12 has a three-column configuration for color, and corresponds to R, G, and B from the left. Figure 5
(B) is a transparent substrate 40 on which a color filter is formed, and includes a red (R) color filter portion 41, a green (G) color filter 42, and a blue (B) color filter 4.
3 and a light shielding unit 44. A transparent substrate 40 having a color filter formed thereon is adhered to the glass substrate 10 on which the element before cutting is formed. The alignment at the time of adhesion is performed by the alignment marker provided on each transparent substrate. The method of separating the adhered glass substrates is the same as in the flow chart of FIG. As a result, the cross section of the substrate after cutting is shown in FIG.
become that way.
【0018】本実施例では、図5(A)に示すように光
電変換素子は、代表として例示的に示されているS1な
いしS3、S4ないしS6、S7ないしS9のように縦
方向に3行に並べられて配置される。言い換えるなら
ば、各行は縦方向に延長され、3つの行が縦方向に並べ
られる。第1行目の光電変換素子S1ないしS3の上面
には、図5(B)で縦に延びる赤のカラーフィルター4
1が設けられる。第2行目の光電変換素子S4ないしS
6の上面には、同様に図5(B)で縦に延びる緑のカラ
ーフィルター42が設けられる。第3行目の光電変換素
子S7ないしS9の上面には、同様に図5(B)で縦に
延びる青のカラーフィルター43が設けられる。遮光部
44はカラーフィルターを形成した透明基板40と素子
を形成した透明基板10の重ね合わせが多少ずれても、
隣接するカラーフィルターからの光が光電変換素子に入
射したり、迷光になったりするのを防止するためであ
る。In this embodiment, as shown in FIG. 5 (A), the photoelectric conversion elements are vertically arranged in three rows like S1 to S3, S4 to S6, and S7 to S9. Are arranged side by side. In other words, each row is vertically extended and three rows are vertically aligned. On the upper surface of the photoelectric conversion elements S1 to S3 in the first row, a red color filter 4 extending vertically in FIG.
1 is provided. Second row photoelectric conversion elements S4 to S
Similarly, on the upper surface of 6, a green color filter 42 extending vertically in FIG. 5B is provided. Similarly, a blue color filter 43 extending vertically in FIG. 5B is provided on the upper surfaces of the photoelectric conversion elements S7 to S9 in the third row. The light-shielding portion 44 is formed by the transparent substrate 40 on which the color filter is formed and the transparent substrate 10 on which the element is formed, even if they are slightly misaligned.
This is to prevent light from adjacent color filters from entering the photoelectric conversion element or becoming stray light.
【0019】図6は図5(C)に示す切断後の基板を使
用して組み立てた画像読取装置の構成図である。素子を
形成した透明基板10はサポートガラス54に固定され
ている。原稿は原稿台ガラス51の上に置かれ、搬送ロ
ーラ31により矢印の方向に搬送される。この画像読取
装置には、原稿に光を照射する白色光源52(本実施例
では白色のキセノン冷陰極管を採用)が原稿搬送方向と
直行する方向に、かつ原稿を約45度の角度で照射する
ように基台56ら配置されている。原稿台ガラス51と
素子を形成した透明基板10の間には、原稿からの反射
光を結像させるための1対1の光学系であるロッドレン
ズ(本実施例では日本板硝子製のSLA12を採用)が
配置されている。さらに、素子を形成した透明基板10
を固定するサポートガラスの下には、光電変換素子を駆
動し、かつ光電変化素子からの電気信号を入力して外部
に出力する駆動回路基板55が、同様に基台56に沿っ
て配置されている。図6には示されていないが、素子を
形成した透明基板10と駆動回路基板55の電気的接続
はフレキシブルケーブルによって行われる。FIG. 6 is a block diagram of an image reading apparatus assembled using the substrate after cutting shown in FIG. 5 (C). The transparent substrate 10 on which the elements are formed is fixed to the support glass 54. The document is placed on the platen glass 51, and is transported by the transport roller 31 in the direction of the arrow. In this image reading apparatus, a white light source 52 (which employs a white xenon cold cathode tube in the present embodiment) for irradiating a document is illuminated in a direction perpendicular to the document conveyance direction and at an angle of about 45 degrees. It is arranged from the base 56 so as to do so. A rod lens (SLA12 manufactured by Nippon Sheet Glass Co., Ltd. is used in this embodiment, which is a one-to-one optical system for forming an image of reflected light from a document between the platen glass 51 and the transparent substrate 10 on which elements are formed. ) Has been placed. Furthermore, a transparent substrate 10 on which elements are formed
A drive circuit board 55 that drives the photoelectric conversion element and that inputs the electric signal from the photoelectric conversion element and outputs the electric signal to the outside is also arranged along the base 56 under the support glass for fixing the. There is. Although not shown in FIG. 6, a flexible cable is used to electrically connect the transparent substrate 10 on which the elements are formed and the drive circuit substrate 55.
【0020】[0020]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によるガラ
ス基板の分離方法では、ガラス基板の表面側からダイシ
ングによりハーフカットを行い、シャント配線を分離す
るため、大判基板状態で検査をおこなすことができる。
また、ガラス基板の裏面側からスクライブ法によって基
板を分離するため、ダイシングによるフルカットの必要
がなくなり、スループットの向上が可能になる。また、
UVシートが不要になるため、コストが低減できると共
に、ダイシンクブレードの目づまりや摩耗が減少するた
め、ダイシングブレードの長寿命化と、ガラス基板のチ
ッピング抑制が実現できる。UV照射工程及びマニュア
ル洗浄工程が不要となるため、工数が削減できる。さら
に、分離したガラス基板の切断面には段差が生じるた
め、分離したガラス基板をベースプレートに固定し、遮
光性のガイド手段をインジェクションやポッティングに
より樹脂を成形して作った画像読取装置において、ガラ
ス基板は段差とベースプレートによって固定されるた
め、機械的強度を向上させることができる。As described above, in the method for separating a glass substrate according to the present invention, half-cutting is performed by dicing from the front surface side of the glass substrate to separate the shunt wiring, so that the inspection is performed in a large-sized substrate state. You can
Further, since the substrate is separated from the back surface side of the glass substrate by the scribing method, there is no need for full cutting by dicing, and throughput can be improved. Also,
Since the UV sheet is not required, the cost can be reduced, and the clogging and abrasion of the die sink blade can be reduced, so that the life of the dicing blade can be extended and the chipping of the glass substrate can be suppressed. Since the UV irradiation process and the manual cleaning process are unnecessary, the number of steps can be reduced. Furthermore, since a step is formed on the cut surface of the separated glass substrate, the separated glass substrate is fixed to the base plate, and an image reading device made by molding the resin with light-shielding guide means by injection or potting. Is fixed by the step and the base plate, so that the mechanical strength can be improved.
【図1】本発明の第1の実施例における基板切断方法の
フロチャート。FIG. 1 is a flowchart of a substrate cutting method according to a first embodiment of the present invention.
【図2】本発明の第1の実施例における基板切断方法に
て切断後の基板の断面図。FIG. 2 is a sectional view of the substrate after being cut by the substrate cutting method according to the first embodiment of the present invention.
【図3】本発明の第1の実施例における基板切断方法に
て切断した基板を使用して組み立てた画像読取装置の構
成図。FIG. 3 is a configuration diagram of an image reading apparatus assembled using a substrate cut by the substrate cutting method according to the first embodiment of the present invention.
【図4】本発明の実施例においてスクライブ溝を形成す
るための超鋼ロールの説明図。FIG. 4 is an explanatory diagram of a super steel roll for forming a scribe groove in an example of the present invention.
【図5】本発明の第2の実施例における基板切断方法及
び切断後の基板の断面図。FIG. 5 is a cross-sectional view of the substrate cutting method and the substrate after cutting according to the second embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第2の実施例における基板切断方法に
て切断した基板を使用して組み立てた画像読取装置の構
成図。FIG. 6 is a configuration diagram of an image reading apparatus assembled using a substrate cut by a substrate cutting method according to a second embodiment of the present invention.
【図7】第1の従来例における基板切断方法のフロチャ
ート。FIG. 7 is a flowchart of a substrate cutting method according to a first conventional example.
【図8】第1の従来例における基板切断方法の説明図及
び切断後の基板の断面図。FIG. 8 is an explanatory view of a substrate cutting method in a first conventional example and a cross-sectional view of the substrate after cutting.
【図9】第2の従来例における基板切断方法の説明図。FIG. 9 is an explanatory diagram of a substrate cutting method in a second conventional example.
【図10】第3の従来例における基板切断方法のフロチ
ャート。FIG. 10 is a flowchart of a substrate cutting method according to a third conventional example.
【図11】第4の従来例における基板切断方法のフロチ
ャート。FIG. 11 is a flowchart of a substrate cutting method in a fourth conventional example.
【図12】第5の従来例における基板切断方法の説明
図。FIG. 12 is an explanatory diagram of a substrate cutting method in a fifth conventional example.
【図13】第6の従来例における基板切断方法の説明
図。FIG. 13 is an explanatory diagram of a substrate cutting method in a sixth conventional example.
【図14】従来の画像読取装置の構成図。FIG. 14 is a configuration diagram of a conventional image reading device.
10 素子を形成した透明基板 11 透明基板 12 光電変換素子部 13 シャント配線 14 パシペーションA層 15 パシペーションB層 16 粘着シート 17 上層粘着 18 不透光性層 19 窓部 21 透光性導電層 22 マイクロシートガラス 23 スクライブ線 24 弱粘着性の粘着シート 25 ゴムブレード 26 ガラス基板搬送ローラ 27 段差 31 搬送ローラ 32 透光性のガイド手段 33 ベースプレート 34 光源 35 ロール部 36 照明窓 40 カラーフィルターを形成した透明基板 41 赤(R)のカラーフィルター部 42 緑(G)のカラーフィルター部 43 青(B)のカラーフィルター部 44 遮光部 51 原稿台ガラス 52 白色光源 53 ロッドレンズ 54 サポートガラス 55 駆動回路基板 56 基台 10 Transparent Substrate on which Elements are Formed 11 Transparent Substrate 12 Photoelectric Conversion Element Section 13 Shunt Wiring 14 Passivation A Layer 15 Passivation B Layer 16 Adhesive Sheet 17 Upper Adhesive 18 Nontranslucent Layer 19 Window 21 Translucent Conductive Layer 22 Micro sheet glass 23 Scribing line 24 Weakly adhesive sheet 25 Rubber blade 26 Glass substrate transport roller 27 Step 31 Transport roller 32 Translucent guide means 33 Base plate 34 Light source 35 Roll part 36 Illumination window 40 Transparent with color filter formed Substrate 41 Red (R) color filter section 42 Green (G) color filter section 43 Blue (B) color filter section 44 Light-shielding section 51 Original plate glass 52 White light source 53 Rod lens 54 Support glass 55 Drive circuit board 56 units Stand
Claims (5)
したガラス基板の分離方法において、前記ガラス基板の
表面側からダイシングによるハーフカットを行う第1工
程と、前記ガラス基板の裏面側から前記ハーフカットの
位置にスクライブ線を形成する第2工程と、ブレイクに
より前記ガラス基板を分離する第3工程とからなること
を特徴とするガラス基板の分離方法。1. A method for separating a glass substrate in which a large number of elements are formed on the surface of a glass substrate, the first step of performing a half cut by dicing from the front surface side of the glass substrate, and the back surface side of the glass substrate A method of separating a glass substrate, comprising a second step of forming a scribe line at a half-cut position and a third step of separating the glass substrate by breaking.
ャント配線が形成されており、前記第1工程において、
前記シャント配線に沿ってハーフカットを行い、前記シ
ャント配線を分離することを特徴とする請求項1記載の
ガラス基板の分離方法。2. The electrostatic protection shunt wiring is formed on the surface of the glass substrate, and in the first step,
The method for separating a glass substrate according to claim 1, wherein half-cutting is performed along the shunt wiring to separate the shunt wiring.
基板が接着されていることを特徴とする請求項1または
2記載のガラス基板の分離方法。3. The method for separating a glass substrate according to claim 1, wherein a second glass substrate is adhered to the surface of the glass substrate.
気検査を行うことを特徴とする請求項1記載のガラス基
板の分離方法。4. The method for separating a glass substrate according to claim 1, wherein after the first step, electrical inspection is performed on the large-sized substrate.
シートを前記ガラス基板の表面側に貼り付けて、前記第
3工程において前記ガラス基板を分離することを特徴と
する請求項1または4記載のガラス基板の分離方法。5. The low-adhesive pressure-sensitive adhesive sheet is attached to the front surface side of the glass substrate in the second step, and the glass substrate is separated in the third step. A method for separating a glass substrate as described above.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP6195325A JPH0864556A (en) | 1994-08-19 | 1994-08-19 | Separation of glass substrate |
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