JPH0863747A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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JPH0863747A
JPH0863747A JP19660794A JP19660794A JPH0863747A JP H0863747 A JPH0863747 A JP H0863747A JP 19660794 A JP19660794 A JP 19660794A JP 19660794 A JP19660794 A JP 19660794A JP H0863747 A JPH0863747 A JP H0863747A
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JP
Japan
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substrate
film forming
tray
chamber
magnetic recording
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Application number
JP19660794A
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Japanese (ja)
Inventor
Norikazu Nogawa
典和 野川
Sukeyuki Sakon
祐之 左近
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Publication date
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Publication of JPH0863747A publication Critical patent/JPH0863747A/en
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Abstract

PURPOSE: To lessen the generation of errors by the fine powder of the hydrogenated carbon sticking to trays in the state of continuing the operation of a film forming device by subjecting incoming trays after film formation in the film forming device to a dustproof treatment. CONSTITUTION: A substrate holder 1 is transferred by a transporting device into a substrate device chamber 11 and the prescribed number of sheets of disk-shaped substrates 2 are mounted at the trays of this substrate holder 1. Next, this substrate holder 1 is transported into a loading chamber 12 in the film forming device, is subjected to film formation by a sputtering chamber 13 and an unloading chamber 15 and is transported through a conveyor 16, a return route 17 and a dustproof device 20 in this return route 17 into a substrate attaching and detaching chamber 18, where the substrates 2 are removed from the trays of the substrate holder 1. As a result, the fine granular dust, such as fine powder of the hydrogenated carbon, which is the cause for the errors in the film forming parts sticking to the trays is efficiently removed by the dustproof device 20 in the state of continuing the operation. The productivity of the high-quality magnetic recording media is thus improved.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は磁気記録媒体の製造方法
に関する。詳しくは、成膜装置内を循環移動するトレー
上に基板を装着して成膜することにより磁気記録媒体を
製造する方法の改良に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a magnetic recording medium. More specifically, the present invention relates to an improvement in a method for manufacturing a magnetic recording medium by mounting a substrate on a tray that circulates in a film forming apparatus and forming a film.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスク等の磁気記録媒体は、基板
上に金属又は合金からなる磁性薄膜層(以下「磁性層」
と称す。)をメッキ法、真空蒸着法又はスパッタリング
法等によって被着形成することにより製造される。
2. Description of the Related Art A magnetic recording medium such as a magnetic disk has a magnetic thin film layer (hereinafter referred to as "magnetic layer") made of metal or alloy on a substrate.
Called. Is deposited by a plating method, a vacuum vapor deposition method, a sputtering method, or the like.

【0003】磁気記録媒体に対しては、その使用に際し
て磁気ヘッドとの物理的接触に耐えられるだけの十分な
耐磨耗性と、水蒸気等の腐食環境に磁性層が十分に耐え
られるだけの耐食性とが要求されており、このような要
求特性を満たすべく、基板上に形成した磁性層上に保護
層が形成されている。
With respect to the magnetic recording medium, the abrasion resistance is sufficient to withstand physical contact with the magnetic head during its use, and the corrosion resistance is sufficient to withstand the magnetic layer in a corrosive environment such as water vapor. In order to satisfy such required characteristics, a protective layer is formed on the magnetic layer formed on the substrate.

【0004】従来、この保護層としては、通常、磁気ヘ
ッドに対する耐磨耗性に優れているとされる炭素質膜が
用いられており、炭素質保護膜は、アルゴン等の希ガス
雰囲気下、グラファイトやアモルファスカーボンをター
ゲットとして用い、通常のスパッタリング法によって磁
性層上に被着形成されている。
Conventionally, as the protective layer, a carbonaceous film which is generally considered to have excellent abrasion resistance to a magnetic head has been used. The carbonaceous protective film is used in an atmosphere of a rare gas such as argon, Using graphite or amorphous carbon as a target, it is deposited on the magnetic layer by an ordinary sputtering method.

【0005】しかしながら、このようにして磁性層上に
炭素質保護膜を形成した磁気記録媒体では、実際の使用
に際して十分な耐磨耗性が得られないため、耐磨耗性の
向上を目的として、スパッタリング法により炭素質保護
膜を成膜する際、アルゴン等の希ガス中に水素ガスを共
存させて水素化カーボン保護膜を形成することが試みら
れている。
However, in the magnetic recording medium having the carbonaceous protective film formed on the magnetic layer as described above, sufficient abrasion resistance cannot be obtained in actual use, and therefore the purpose is to improve the abrasion resistance. When forming a carbonaceous protective film by a sputtering method, it has been attempted to form a hydrogenated carbon protective film by making hydrogen gas coexist in a rare gas such as argon.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】基板上に磁性層及び水
素化カーボン保護膜を工業的に成膜するには、一般に、
通過式の成膜装置を用い、ディスク状基板をトレーに装
着して搬送装置によって順次搬送しながら行う。このト
レーは、成膜装置内を循環移動させて繰り返し使用され
る。このような成膜方法において、成膜回数が増加する
につれて、搬送装置のトレー等にカーボンスパッタ成膜
時に形成された水素化カーボンの微粉末が付着して堆積
してくる。そして、トレーは水素化カーボンの微粉末が
付着した状態で成膜装置のリターン系を経由して磁気記
録媒体の脱着室に移送され、磁気記録媒体を脱着した
後、再び基板装着室に移送されて基板が装着され、再度
成膜室に移送され成膜が行われるが、この成膜室内にお
いて、真空に減圧される際、トレーに付着していた水素
化カーボンの微粉末がトレーから発散して舞い上がり、
曳いては基板表面に付着する。
In order to industrially form a magnetic layer and a hydrogenated carbon protective film on a substrate, generally,
Using a pass-through type film forming apparatus, the disk-shaped substrate is mounted on a tray and sequentially transferred by a transfer device. This tray is circulated in the film forming apparatus and repeatedly used. In such a film forming method, as the number of times of film formation increases, fine powder of hydrogenated carbon formed at the time of carbon sputter film formation adheres and deposits on the tray of the transfer device. Then, the tray is transferred to the magnetic recording medium desorption chamber via the return system of the film forming apparatus in a state where the fine powder of hydrogenated carbon is adhered, and after the magnetic recording medium is desorbed, it is transferred again to the substrate mounting chamber. The substrate is mounted and transferred to the film forming chamber again for film formation.When the pressure in the film forming chamber is reduced to a vacuum, the fine powder of hydrogenated carbon adhering to the tray is released from the tray. Soar up,
It is pulled and adheres to the substrate surface.

【0007】基板に水素化カーボンの微粉末が付着した
状態で成膜を行うと、この微粉末が付着した箇所が、得
られる磁気記録媒体の欠陥(エラー)となる。このた
め、このように成膜毎に水素化カーボンの微粉末が付着
し、その付着量が増加するトレーを循環使用すると、時
間の経過と共に、磁気記録媒体の欠陥(エラー)が増加
してくる。
When a film is formed with the fine powder of hydrogenated carbon adhered to the substrate, the portion where the fine powder adheres becomes a defect (error) in the obtained magnetic recording medium. For this reason, when the tray in which the fine powder of hydrogenated carbon adheres and the adhered amount increases every time the film is formed, the defects (errors) of the magnetic recording medium increase with the passage of time. .

【0008】従って、従来の方法においては、磁気記録
媒体のエラーが増加してきた場合には、トレー等の搬送
装置、特にトレーに堆積した水素化カーボンの微粉末を
定期的に除去する必要がある。
Therefore, in the conventional method, when the error of the magnetic recording medium increases, it is necessary to periodically remove the carrier such as a tray, especially the fine powder of hydrogenated carbon deposited on the tray. .

【0009】しかしながら、この水素化カーボンの微粉
末の除去のためには、使用しているトレーを、予め水素
化カーボンを除去して清浄にした予備のトレーと交換す
る必要が出てくる。この予備のトレーは、使用前に予め
成膜装置内で真空乾燥する等の操作が必要となるためデ
ィスクのスパッタリングを一旦停止しなければならず、
操作が煩雑である上にこのような運転の停止により、生
産性が低下するという問題がある。
However, in order to remove the fine powder of hydrogenated carbon, it is necessary to replace the used tray with a spare tray which has been cleaned by removing the hydrogenated carbon in advance. Since this spare tray requires an operation such as vacuum drying in the film forming apparatus before use, the sputtering of the disk must be temporarily stopped,
There is a problem that the operation is complicated and productivity is reduced due to the stop of the operation.

【0010】また、予備のトレーは非常に高価であるた
め、その保有数量も必然的に限られ、水素化カーボンの
微粉末の付着量が増加すると、エラーの増加を抑えたデ
ィスクを製造するためのトレーの交換が間に合わず、製
品の歩留りが悪くなっていた。
Further, since the spare tray is very expensive, the quantity to be held is inevitably limited, and when the amount of the fine particles of hydrogenated carbon adhering to the tray increases, a disk with an increased error is suppressed. The tray was not replaced in time, and the product yield was poor.

【0011】本発明は上記従来の問題点を解決し、トレ
ーに付着した水素化カーボンの微粉末によるエラーの発
生を、成膜装置の運転を継続した状態で減少させること
ができる磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的
とする。
The present invention solves the above-mentioned conventional problems and provides a magnetic recording medium capable of reducing the occurrence of errors due to the fine powder of hydrogenated carbon adhering to the tray while the film forming apparatus is continuously operated. It is intended to provide a manufacturing method.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】請求項1の磁気記録媒体
の製造方法は、基板装着用のトレーを、成膜装置内を循
環移動させ、該トレー上に基板を装着した後、該成膜装
置の成膜室に導入して成膜し、次いで成膜処理された基
板を該成膜装置から取り出すようにした磁気記録媒体の
製造方法において、該成膜装置から移動してきたトレー
に対し、除塵処理を施すことを特徴とする。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a tray for mounting a substrate is circulated in a film forming apparatus, a substrate is mounted on the tray, and then the film is formed. In a method of manufacturing a magnetic recording medium, in which a film is introduced by introducing it into a film forming chamber of the apparatus, and then the substrate subjected to the film forming process is taken out from the film forming apparatus, in the tray moved from the film forming apparatus, It is characterized by performing dust removal processing.

【0013】請求項2の磁気記録媒体の製造方法は、請
求項1の方法において、該成膜室において、基板上に磁
性層を形成した後、該磁性層を覆う水素化カーボンより
なる保護層を形成することを特徴とする。
A method for manufacturing a magnetic recording medium according to a second aspect is the method according to the first aspect, wherein a magnetic layer is formed on the substrate in the film forming chamber, and then a protective layer made of hydrogenated carbon is formed to cover the magnetic layer. Is formed.

【0014】請求項3の磁気記録媒体の製造方法は、請
求項1又は2の方法において、成膜装置が搬送式のイン
ライン型スパッタリング装置であることを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a magnetic recording medium according to the first or second aspect, wherein the film forming apparatus is a carrier type in-line type sputtering apparatus.

【0015】請求項4の磁気記録媒体の製造方法は、請
求項1ないし3のいずれか1項に記載の方法において、
トレーをガスブロー処理することにより除塵処理するこ
とを特徴とする。
A method of manufacturing a magnetic recording medium according to a fourth aspect is the method according to any one of the first to third aspects,
It is characterized in that the tray is subjected to a gas blow process to remove dust.

【0016】以下に本発明を、基板上に磁性層及び水素
化カーボンよりなる保護層を形成して磁気記録媒体を製
造する方法を例示して詳細に説明する。
The present invention will be described in detail below by exemplifying a method of manufacturing a magnetic recording medium by forming a magnetic layer and a protective layer made of hydrogenated carbon on a substrate.

【0017】本発明における磁気記録媒体の基板として
は、アルミニウム、アルミニウム合金、ガラス等の通常
のディスク状非磁性基板が用いられる。通常の場合、こ
れらの非磁性基板は、所定の厚さに加工後、その表面を
鏡面加工した後、非磁性金属、例えばNi−P合金、N
i−Cu−P合金等を無電解メッキ処理等により約5〜
20μmの膜厚で成膜して表面層を形成させた後使用さ
れる。このようにして基板上に形成した表面層には必要
に応じてテクスチャ加工を施し、微細な溝又は凸凹を精
度良く加工形成し、特定の表面粗さに仕上げた表面加工
層とする。このテクスチャ加工により、磁気ヘッドと磁
気記録媒体との吸着が防止でき、且つCSS特性が改善
され、更に磁気異方性が良好となる。
As the substrate of the magnetic recording medium in the present invention, a usual disc-shaped non-magnetic substrate made of aluminum, aluminum alloy, glass or the like is used. Usually, these non-magnetic substrates are processed to have a predetermined thickness, and after the surface is mirror-finished, a non-magnetic metal such as Ni-P alloy or N is used.
Approximately 5 to about 5% by electroless plating of i-Cu-P alloy
It is used after forming a film with a film thickness of 20 μm to form a surface layer. The surface layer thus formed on the substrate is subjected to texturing as required to form fine grooves or irregularities with high precision to obtain a surface processed layer having a specific surface roughness. By this texturing, adsorption between the magnetic head and the magnetic recording medium can be prevented, CSS characteristics can be improved, and magnetic anisotropy can be improved.

【0018】更に、この表面加工層上には下地層を形成
した後、磁性層を被着形成する。下地層は、通常、スパ
ッタリング法により、例えば膜厚50〜2000Å程度
のクロム下地膜を成膜することにより形成される。
Further, after forming an underlayer on this surface-treated layer, a magnetic layer is deposited. The underlayer is usually formed by a sputtering method, for example, by forming a chromium underlayer having a film thickness of about 50 to 2000 Å.

【0019】この下地層上に形成される磁性層として
は、通常、Co−Cr,Co−Ni,Co−Cr−X,
Co−Ni−X,Co−W−X等で表されるCo系合金
の磁性薄膜層が好適である。なお、ここで、Xとしては
Li,Si,Ca,Ti,V,Cr,Ni,As,Y,
Zr,Nb,Mo,Ru,Rh,Ag,Sb,Hf,T
a,W,Re,Os,Ir,Pt,Au,La,Ce,
Pr,Nd,Pm,Sm及びEuよりなる群から選ばれ
る1種又は2種以上の元素が挙げられる。
The magnetic layer formed on this underlayer is usually Co--Cr, Co--Ni, Co--Cr--X,
A magnetic thin film layer of a Co-based alloy represented by Co-Ni-X, Co-W-X or the like is suitable. Here, as X, Li, Si, Ca, Ti, V, Cr, Ni, As, Y,
Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, Hf, T
a, W, Re, Os, Ir, Pt, Au, La, Ce,
One or more elements selected from the group consisting of Pr, Nd, Pm, Sm and Eu can be mentioned.

【0020】このようなCo系合金からなる金属磁性層
は、通常、スパッタリング等の手段により基板の下地層
上に被着形成される。この金属磁性層の膜厚としては、
通常、50〜600Åの範囲とされる。
The metallic magnetic layer made of such a Co-based alloy is usually deposited on the base layer of the substrate by means of sputtering or the like. As the film thickness of this metal magnetic layer,
Usually, it is in the range of 50 to 600Å.

【0021】次いで、このようにして形成された磁性層
上に水素化カーボン保護膜をスパッタリングにより形成
する。
Next, a hydrogenated carbon protective film is formed on the magnetic layer thus formed by sputtering.

【0022】水素化カーボン膜とは、水素と炭素を含有
する膜であれば良く、特に限定されるものではないが、
例えば、カーボンをターゲットとして希ガスと水素ガス
を含むプラズマ中でスパッタリングすることにより形成
される。ここで使用されるターゲットとしては、ダイヤ
モンド状、グラファイト状、又は、アモルファス状のカ
ーボンが用いられる。
The hydrogenated carbon film is not particularly limited as long as it is a film containing hydrogen and carbon,
For example, it is formed by sputtering using carbon as a target in a plasma containing a rare gas and a hydrogen gas. As the target used here, carbon in the form of diamond, graphite or amorphous is used.

【0023】また、希ガスとしては、アルゴン、ヘリウ
ム、ネオン、キセノン、ラドン、クリプトン等が挙げら
れるが、これらのうち、特に、アルゴンが好適に用いら
れる。アルゴンガス等の希ガスと水素ガスを含むスパッ
タリング雰囲気中の水素ガスの含有量は、通常、2〜2
0体積%、望ましくは5〜10体積%の範囲である。
As the rare gas, argon, helium, neon, xenon, radon, krypton and the like can be mentioned. Of these, argon is particularly preferably used. The content of hydrogen gas in a sputtering atmosphere containing a rare gas such as argon gas and hydrogen gas is usually 2 to 2.
It is 0% by volume, preferably 5 to 10% by volume.

【0024】スパッタリング法としては、通常、直流マ
グネトロンスパッタリング法が採用されるが、高周波マ
グネトロンスパッタリング法も使用できる。
As the sputtering method, a direct current magnetron sputtering method is usually adopted, but a high frequency magnetron sputtering method can also be used.

【0025】スパッタリング時のチャンバー内の圧力
は、通常、0.5〜20mTorr、望ましくは1〜1
0mTorrとされ、基板の温度は、通常、300℃以
下、望ましくは常温〜250℃の範囲とされる。基板と
ターゲットとの間隔、スパッタ時間、投入電力等は、形
成する水素化カーボン保護膜の膜厚に応じて適宜決定さ
れる。
The pressure in the chamber during sputtering is usually 0.5 to 20 mTorr, preferably 1 to 1
The substrate temperature is usually 300 ° C. or lower, and preferably in the range of normal temperature to 250 ° C. The distance between the substrate and the target, the sputtering time, the input power, etc. are appropriately determined according to the film thickness of the hydrogenated carbon protective film to be formed.

【0026】なお、水素化カーボン保護膜の厚さは、通
常、50〜1000Å、望ましくは100〜600Åの
範囲である。
The thickness of the hydrogenated carbon protective film is usually in the range of 50 to 1000Å, preferably 100 to 600Å.

【0027】以下に、本発明における成膜方法の実施例
について図面を参照して詳細に説明する。
An embodiment of the film forming method of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings.

【0028】図1は、本発明の磁気記録媒体の製造方法
の実施に当り、各構成層の成膜に好適に用いられるイン
ライン式スパッタリング装置の一実施例を示す概略構成
図、図2は、図1に示すスパッタリング装置のリターン
系路に設けられた除塵装置を示す図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an embodiment of an in-line type sputtering apparatus which is preferably used for forming each constituent layer in carrying out the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, and FIG. It is a figure which shows the dust remover provided in the return system path of the sputtering apparatus shown in FIG.

【0029】まず、基板ホルダー1は搬送装置によっ
て、基板装着室11に移され、該基板ホルダー1のトレ
ーにディスク状基板2が所定枚数取り付けられる。次い
で、この基板ホルダー1はローディングチャンバー室1
2に搬送され、所定圧力に減圧されると共に所定温度に
昇温される。
First, the substrate holder 1 is moved to the substrate mounting chamber 11 by the transfer device, and a predetermined number of disc-shaped substrates 2 are attached to the tray of the substrate holder 1. Next, the substrate holder 1 is loaded into the loading chamber chamber 1
It is conveyed to 2, and is decompressed to a predetermined pressure and heated to a predetermined temperature.

【0030】次に、この基板ホルダー1はスパッター室
13の第1領域13Aに搬送され、基板ホルダー1のト
レーに装着された基板2がCr等の下地層ターゲット面
3及びCo系合金等の磁性層ターゲット面4を通過する
間に、その基板の表面上(テクスチャ表面加工層上)に
Cr等の下地層及びCo系合金等の磁性層が、希ガス雰
囲気下、前述の所定条件でスパッタリングにより被着形
成される。
Next, the substrate holder 1 is transferred to the first area 13A of the sputtering chamber 13, and the substrate 2 mounted on the tray of the substrate holder 1 is subjected to the underlayer target surface 3 such as Cr and the magnetic property such as Co alloy. While passing through the layer target surface 4, an underlayer of Cr or the like and a magnetic layer of Co-based alloy or the like are formed on the surface of the substrate (textured surface-treated layer) by sputtering under a rare gas atmosphere under the above-mentioned predetermined conditions. Deposition is formed.

【0031】次いで、基板ホルダー1は、スリット14
を経てスパッター室13の第2領域13Bに搬送され
る。この第2領域13Bには、配管6より水素ガスが、
また、配管7よりアルゴンガスがそれぞれ所定割合で導
入され、内部は所定の混合ガス雰囲気とされている。こ
の第2領域13B内において、基板ホルダー1がカーボ
ン保護層ターゲット面5を通過する間に、スパッタリン
グにより、基板ホルダー1上のディスク状基板2の磁性
層上に水素化カーボン保護膜が被着形成される。
Next, the substrate holder 1 is provided with a slit 14
And is transported to the second region 13B of the sputtering chamber 13. Hydrogen gas from the pipe 6 flows into the second region 13B.
Argon gas is introduced at a predetermined ratio from the pipe 7, and the inside is made into a predetermined mixed gas atmosphere. In the second region 13B, a hydrogenated carbon protective film is deposited on the magnetic layer of the disk-shaped substrate 2 on the substrate holder 1 by sputtering while the substrate holder 1 passes through the carbon protective layer target surface 5. To be done.

【0032】次いで、アンローディングチャンバー室1
5に基板ホルダー1が移され、常温及び大気圧下に戻さ
れ、搬送装置によりコンベア16及びリターン系路17
を経て、基板脱着室18に搬送され、基板ホルダー1の
トレーから基板2が取り外される。その後、基板ホルダ
ー1は搬送装置によってコンベア19を経て基板装着室
11に戻される。そして、この基板ホルダー1のトレー
に再び基板が取り付けられ、搬送装置によって上気した
順路を順次搬送され、繰り返し巡回使用される。本実施
例においては、リターン系路17に除塵装置20が設け
られている。また、本発明において、成膜装置とは、ロ
ーディングチャンバー室12から、アンローディングチ
ャンバー室15までの成膜工程を含む装置を示す。
Next, the unloading chamber chamber 1
The substrate holder 1 is moved to 5 and returned to room temperature and atmospheric pressure.
After that, the substrate 2 is transferred to the substrate attaching / detaching chamber 18, and the substrate 2 is removed from the tray of the substrate holder 1. After that, the substrate holder 1 is returned to the substrate mounting chamber 11 via the conveyor 19 by the transfer device. Then, the substrate is attached to the tray of the substrate holder 1 again, and is sequentially transported by the transport device in the forward route, and repeatedly used. In this embodiment, the dust removing device 20 is provided in the return passage 17. Further, in the present invention, the film forming apparatus means an apparatus including a film forming process from the loading chamber chamber 12 to the unloading chamber chamber 15.

【0033】巡回使用により成膜回数が増加するにつれ
て、前述の如く、基板ホルダー1のトレー等に、カーボ
ンスパッタ成膜時に形成された水素化カーボン微粉末が
付着して堆積する。従来において、この微粉末は、基板
ホルダーを巡回してローディングチャンバー室12に入
れて真空引きにした際に、該トレー等から剥れてダスト
となって舞い上がり、ディスク基板の表面に付着してエ
ラーを発生させる。更に、トレーは循環使用されている
ため、時間の経過と共にトレーに付着している水素化カ
ーボンの微粉末が増加することから、エラー発生率は増
加する。
As the number of times of film formation increases due to cyclic use, as described above, the hydrogenated carbon fine powder formed during carbon sputter film formation adheres and deposits on the tray of the substrate holder 1 or the like. Conventionally, when this fine powder circulates around the substrate holder and is put into the loading chamber chamber 12 and evacuated, it is peeled off from the tray or the like and rises to dust, and adheres to the surface of the disc substrate to cause an error. Generate. Furthermore, since the tray is recycled, the error occurrence rate increases because the amount of hydrogenated carbon fine powder adhering to the tray increases over time.

【0034】本実施例では、上記リターン系路17に設
けたガスブロータイプの除塵装置20により、トレー表
面に付着した水素化カーボンの微粉末を吹き飛ばし、基
板成膜時のエラーを減少させる。
In the present embodiment, the gas blow type dust removing device 20 provided in the return passage 17 blows away the fine powder of hydrogenated carbon adhering to the surface of the tray to reduce errors during film formation on the substrate.

【0035】図2はこのリターン系路17に設けられた
除塵装置20の構成図であり、図1のII−II線に沿う部
分の断面を示している。以下に、この除塵装置による除
塵システムについて説明する。
FIG. 2 is a block diagram of the dust removing device 20 provided in the return passage 17, and shows a cross section of a portion along the line II-II in FIG. The dust removal system using this dust removal device will be described below.

【0036】縦長の長方形断面形状のチャンバ21内
を、基板ホルダー1のトレー1Aが搬送装置22によっ
て、板面を鉛直にした起立姿勢にて走行される。このチ
ャンバ21の両側面にエアノズル23が上下に多段に配
設されており、トレー1Aの両側面に空気を吹き付け得
るように構成されている。チャンバ21の上下両面には
排気ダクト24A,24Bが接続されており、トレー1
Aに吹き付けられた後の空気を排出可能としている。
The tray 1A of the substrate holder 1 is moved in the vertically long chamber 21 having a rectangular cross section by the transfer device 22 in an upright posture with the plate surface vertical. Air nozzles 23 are vertically arranged in multiple stages on both side surfaces of the chamber 21 so that air can be blown to both side surfaces of the tray 1A. Exhaust ducts 24A and 24B are connected to the upper and lower surfaces of the chamber 21, respectively.
The air after being blown onto A can be discharged.

【0037】トレー1Aには基板(図2においては図示
略)が保持されており、該トレー1Aに対しノズル23
から空気を吹き付けることにより、該トレー1A表面に
付着ないし堆積した水素化カーボンの微粒状ダストが吹
き払われる。舞い上ったダストを含む空気はダクト24
A,24Bから排出される。このように空気吹付により
除塵処理されたトレー1Aが次の基板脱着室18へ送ら
れる。
A substrate (not shown in FIG. 2) is held on the tray 1A, and a nozzle 23 is provided for the tray 1A.
By blowing air from above, the fine particulate dust of hydrogenated carbon attached or deposited on the surface of the tray 1A is blown off. The air containing dust flying up is duct 24
It is discharged from A and 24B. The tray 1A thus dust-removed by air blowing is sent to the next substrate desorption chamber 18.

【0038】なお、本実施例ではチャンバ21の上下両
面に排気ダクト24A,24Bを接続しているが、チャ
ンバ21の上面のみ又は下面のみに該ダクトを配置して
も良い。また、吹付に用いるガスは、水分含有率の極力
少ない乾燥ガスであれば良く、そのガス種に特に制限は
ないが、作業の安全性及びコストの面で空気が好まし
い。
Although the exhaust ducts 24A and 24B are connected to the upper and lower surfaces of the chamber 21 in this embodiment, the ducts may be arranged only on the upper surface or the lower surface of the chamber 21. The gas used for spraying may be a dry gas having a moisture content as low as possible, and the gas species is not particularly limited, but air is preferred from the viewpoint of work safety and cost.

【0039】除塵装置による除塵は、トレー上の水素化
カーボンの微粉末の付着量が多くなったときのみ行って
も良く、また、リターン系に戻されたトレーについて常
に行うようにしても良い。この除塵処理は、トレーから
基板を脱着する前に限らず、脱着後に行っても良い。
The dust removal by the dust removing device may be performed only when the amount of the fine powder of hydrogenated carbon on the tray is increased, or may be always performed on the tray returned to the return system. This dust removing process is not limited to before the substrate is removed from the tray, and may be performed after the removal.

【0040】このような方法によれば、一旦成膜運転を
停止して成膜装置内の減圧を解除することなく、運転を
継続した状態において、基板成膜部のエラーを減少させ
ることができる。
According to such a method, it is possible to reduce the error in the substrate film forming section in the state where the film forming apparatus is continuously operated without stopping the film forming operation and releasing the reduced pressure in the film forming apparatus. .

【0041】[0041]

【作用】本発明によれば、成膜部のエラー原因となる、
トレー上に付着した水素化カーボンの微粉末等のダスト
を、運転を継続した状態で効率的に除去することができ
る。
According to the present invention, it causes an error in the film forming section,
Dust such as fine powder of hydrogenated carbon adhering to the tray can be efficiently removed while the operation is continued.

【0042】[0042]

【実施例】以下に具体的な実施例を挙げて本発明をより
詳細に説明する。
EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to specific examples.

【0043】実施例1 図1に示すインライン式スパッタリング装置を用いて、
基板ホルダー1にテクスチャ加工を施したディスク状基
板(アルミニウム基板)を装着し、スパッター室13に
搬送して順次Cr下地層、Co系磁性層及び水素化カー
ボン膜を成膜して磁気記録媒体を製造した。
Example 1 Using the in-line type sputtering apparatus shown in FIG.
A textured disk-shaped substrate (aluminum substrate) is mounted on the substrate holder 1 and conveyed to the sputtering chamber 13 to sequentially form a Cr underlayer, a Co-based magnetic layer and a hydrogenated carbon film to form a magnetic recording medium. Manufactured.

【0044】水素化カーボン膜の成膜条件は成膜圧力4
mTorr、水素/アルゴン混合比=1/10(体積
比)の割合とし、リターン系路17に戻されたトレー1
Aを図2に示した除塵装置20により両側からブロー
し、ダストを含んだ空気を下部より吸引して除塵処理を
行った後、循環使用した。
The film formation conditions for the hydrogenated carbon film are film formation pressure 4
The tray 1 returned to the return passage 17 with mTorr and hydrogen / argon mixing ratio = 1/10 (volume ratio).
A was blown from both sides by the dust removing device 20 shown in FIG. 2, air containing dust was sucked from the lower part to perform dust removal processing, and then was used again.

【0045】その結果、運転当初のエラー個数を1とし
た場合のエラー増加率は、図3のNo. 1に示す如く、2
0時間の運転においても、わずかに1.5倍以内であっ
た。
As a result, when the number of errors at the beginning of operation is 1, the error increase rate is 2 as shown in No. 1 of FIG.
Even at 0 hours of operation, it was slightly within 1.5 times.

【0046】一方、この除塵装置を停止して、トレーの
除塵処理を全く行わずにトレーを循環使用したところ、
エラー個数は図3の No.2に示す如く増加傾向を示し、
20時間後にはエラー個数は約3倍にも増加した。
On the other hand, when the dust removing device was stopped and the tray was circulated and used without performing dust removing treatment on the tray,
The number of errors shows an increasing tendency as shown in No. 2 of Fig. 3,
The number of errors increased about three times after 20 hours.

【0047】以上の結果から、本発明によれば、エラー
の少ない磁気ディスクを生産性良く製造することができ
ることが明らかである。
From the above results, it is clear that according to the present invention, a magnetic disk with few errors can be manufactured with high productivity.

【0048】[0048]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の磁気記録媒
体の製造方法によれば、基板装着用のトレーを、成膜装
置内を循環移動させ、該トレー上に基板を装着した後、
該成膜装置の成膜室に導入して成膜し、次いで成膜処理
された基板を該成膜装置から取り出すようにした磁気記
録媒体の製造方法において、トレーに付着した、成膜部
のエラー原因となる水素化カーボン微粉末等の微粒状ダ
ストを、運転を継続した状態で効率的に除去して、エラ
ーの少ない、高品質な磁気記録媒体を高い歩留りにて生
産性良く、効率的に製造することができる。
As described above in detail, according to the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, the tray for mounting the substrate is circulated in the film forming apparatus, and after mounting the substrate on the tray,
In the method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein the substrate is introduced into a film forming chamber of the film forming apparatus to form a film, and then the film-formed substrate is taken out of the film forming apparatus. Efficiently removes fine particulate dust such as hydrogenated carbon fine powder, which causes an error, in a state where the operation is continued, thereby producing a high-quality magnetic recording medium with few errors with high yield, high productivity, and high efficiency. Can be manufactured.

【0049】請求項2の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、水素化カーボンの微粉末による成膜部のエラーを効
率的に防止することができる。
According to the manufacturing method of the magnetic recording medium of the second aspect, it is possible to efficiently prevent the error of the film forming portion due to the fine powder of hydrogenated carbon.

【0050】請求項3の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、搬送式のインライン型スパッタリング装置により、
高い生産性のもとに磁気記録媒体を製造することができ
る。
According to the method of manufacturing a magnetic recording medium of claim 3, the carrier type in-line type sputtering apparatus is used.
A magnetic recording medium can be manufactured with high productivity.

【0051】請求項4の磁気記録媒体の製造方法によれ
ば、効率的な除塵処理を行える。
According to the magnetic recording medium manufacturing method of the fourth aspect, efficient dust removal processing can be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施に好適
なインライン式スパッタリング装置の一実施例を示す概
略構成図である。
FIG. 1 is a schematic configuration diagram showing an example of an in-line type sputtering apparatus suitable for carrying out the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】図1に示すスパッタリング装置に設けられた除
塵装置を示す構成図であり、図1のII−II線に沿う部分
の断面を示す。
2 is a configuration diagram showing a dust remover provided in the sputtering apparatus shown in FIG. 1, and shows a cross section of a portion taken along line II-II in FIG.

【図3】実施例1におけるエラー増加率の推移を示すグ
ラフであり、No. 1は本発明例、No. 2は比較例を示
す。
FIG. 3 is a graph showing a transition of an error increase rate in Example 1, No. 1 shows an example of the present invention, and No. 2 shows a comparative example.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 基板ホルダー 1A トレー 2 ディスク状基板 3 下地層ターゲット面 4 磁性層ターゲット面 5 保護層ターゲット面 11 基板装着室 12 ローディングチャンバー室 13 スパッター室 13A 第1領域 13B 第2領域 15 アンローディングチャンバー室 17 リターン系路 18 基板脱着室 20 除塵装置 21 チャンバ 22 搬送装置 23 ノズル 24A,24B ダクト 1 Substrate Holder 1A Tray 2 Disc Substrate 3 Underlayer Target Surface 4 Magnetic Layer Target Surface 5 Protective Layer Target Surface 11 Substrate Mounting Room 12 Loading Chamber Room 13 Sputter Room 13A First Area 13B Second Area 15 Unloading Chamber Room 17 Return System path 18 Substrate desorption chamber 20 Dust removal device 21 Chamber 22 Transfer device 23 Nozzle 24A, 24B Duct

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板装着用のトレーを、成膜装置内を循
環移動させ、該トレー上に基板を装着した後、該成膜装
置の成膜室に導入して成膜し、次いで成膜処理された基
板を該成膜装置から取り出すようにした磁気記録媒体の
製造方法において、 該成膜装置から移動してきたトレーに対し、除塵処理を
施すことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
1. A substrate mounting tray is circulated in a film forming apparatus, a substrate is mounted on the tray, and then introduced into a film forming chamber of the film forming apparatus to form a film, and then a film is formed. A method of manufacturing a magnetic recording medium, wherein a treated substrate is taken out of the film forming apparatus, wherein a dust having been removed from a tray moved from the film forming apparatus.
【請求項2】 請求項1の方法において、該成膜室にお
いて、基板上に磁性層を形成した後、該磁性層を覆う水
素化カーボンよりなる保護層を形成することを特徴とす
る磁気記録媒体の製造方法。
2. The magnetic recording method according to claim 1, wherein in the film forming chamber, a magnetic layer is formed on a substrate, and then a protective layer made of hydrogenated carbon is formed to cover the magnetic layer. Medium manufacturing method.
【請求項3】 請求項1又は2の方法において、成膜装
置が搬送式のインライン型スパッタリング装置であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
3. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the film forming apparatus is a transport type in-line type sputtering apparatus.
【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか1項に記載
の方法において、トレーをガスブロー処理することによ
り除塵処理することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
4. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the tray is subjected to a gas blow treatment to remove dust.
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