JPH083956Y2 - Impregnated cathode structure - Google Patents

Impregnated cathode structure

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JPH083956Y2
JPH083956Y2 JP6627390U JP6627390U JPH083956Y2 JP H083956 Y2 JPH083956 Y2 JP H083956Y2 JP 6627390 U JP6627390 U JP 6627390U JP 6627390 U JP6627390 U JP 6627390U JP H083956 Y2 JPH083956 Y2 JP H083956Y2
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impregnated
cathode
heater
insulator
storage container
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一雄 小林
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Description

【考案の詳細な説明】 〔考案の目的〕 (産業上の利用分野) 本考案は、大出力のクライストロン等のマイクロ波電
子管の電子銃に使用する含浸型陰極構体に関するもので
ある。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Purpose of Invention] (Field of Industrial Application) The present invention relates to an impregnated cathode assembly used for an electron gun of a microwave electron tube such as a high-power klystron.

(従来の技術) クライストロン等のマイクロ波電子管は、高出力化の
傾向にあり、とくに、核融合や粒子加速器に使用するも
のについては、その出力がMW(メガワット)級になり、
益々の高出力化が望まれている。
(Prior Art) Microwave electron tubes such as klystrons tend to have higher output, and especially for those used for nuclear fusion and particle accelerators, their output is in the MW (megawatt) class,
Increasingly high output is desired.

したがって、その電子銃に使用する陰極も、取出すエ
ミッション値が必然的に増加し、単位面積当りの電流値
が多くなり、高電流密度化が進んでいる。
Therefore, also in the cathode used for the electron gun, the emission value taken out is inevitably increased, the current value per unit area is increased, and the current density is being increased.

そのため、従来から使用していた酸化物陰極構体で
は、取出せる電流値が小さく、動作電圧も高くなるた
め、最近では、耐電圧の面からも、酸化物陰極に代っ
て、含浸型陰極構体が一般的に使用されるようになって
きた。
Therefore, in the conventionally used oxide cathode structure, the current value that can be taken out is small and the operating voltage is also high.In recent years, the impregnated type cathode structure has been replaced by the oxide cathode in terms of withstand voltage. Has become commonly used.

すなわち、含浸型陰極構体は、3A/cm2の電流密度の動
作が可能で、その寿命も、衛星搭載用では、数万時間の
寿命が推定されており、このような大きい特徴があるた
め、高出力のマイクロ波電子管に含浸型陰極構体が使用
される傾向が益々増加している。
That is, the impregnated type cathode assembly is capable of operating at a current density of 3 A / cm 2 , and its life is estimated to be tens of thousands of hours when mounted on a satellite. There is an increasing trend toward the use of impregnated cathode assemblies in high power microwave electron tubes.

この含浸型陰極構体の一般的な構造を第4図に示す。 The general structure of this impregnated cathode assembly is shown in FIG.

1はタングステン(W)から成る多孔質の陰極円板
で、この陰極円板1の空孔率は15〜20%で、この空孔部
にBaO、CaO、Al23から成る電子放射物質が含浸される
ようになっている。
1 is a porous cathode disk made of tungsten (W), the cathode disk 1 has a porosity of 15 to 20%, and the electron emitting material composed of BaO, CaO, and Al 2 O 3 in the holes. Is to be impregnated.

2はモリブデン(Mo)等から成る円筒状の収納容器
で、この収納容器2は、上記陰極円板1を支持する機能
を持ち、上記陰極円板1の裏面にRu−Moのロウ材でロウ
付けされている。
Reference numeral 2 is a cylindrical storage container made of molybdenum (Mo) or the like. The storage container 2 has a function of supporting the cathode disk 1, and the back surface of the cathode disk 1 is brazed with a Ru-Mo brazing material. It is attached.

そして、この収納容器2に上記陰極円板1を最適な動
作温度に加熱するためのヒータ3を、アルミナ等から成
る絶縁物4とともに収納して、絶縁物4中に埋設してあ
り、この絶縁物4を水素中あるいは真空中で加熱して焼
結してある。
A heater 3 for heating the cathode disk 1 to an optimum operating temperature is housed in the container 2 together with an insulator 4 made of alumina or the like and embedded in the insulator 4. The object 4 is sintered by being heated in hydrogen or vacuum.

そして、この後、上記陰極円板1の曲面状に凹陥した
表面に電子放射物質を盛り、水素中のような非酸化性の
雰囲気の中で電子放射物質を加熱溶融することによっ
て、電子放射物質を陰極円板1の空孔部に含浸してあ
る。
Then, after this, the surface of the cathode disk 1 which is concavely curved is filled with an electron-emitting substance, and the electron-emitting substance is heated and melted in a non-oxidizing atmosphere such as in hydrogen, whereby the electron-emitting substance is melted. Is impregnated in the hole of the cathode disk 1.

ところで、陰極が比較的に小型の場合には、とくに問
題は無いが、大形になると、陰極円板を加熱するヒータ
の入力電力が大きくなり、陰極円板が効率的に最適の動
作温度になるように色々の工夫がされている。
By the way, if the cathode is relatively small, there is no particular problem, but if it becomes large, the input power of the heater that heats the cathode disk increases, and the cathode disk efficiently reaches the optimum operating temperature. Various ideas have been made so that

まず、含浸型陰極は、酸化物陰極に比較して、動作温
度が100〜200℃高く、これとともに、ヒータの温度も高
くなり、1500〜1600℃となるため、ヒータをアルミナ等
の絶縁物に埋設し、ヒータの熱を効率的に陰極円板に伝
達するとともに、ヒータの温度が上り過ぎないようにし
ている。
First, the impregnated cathode has an operating temperature 100 to 200 ° C higher than that of the oxide cathode, and the temperature of the heater also rises to 1500 to 1600 ° C, so the heater is made of an insulator such as alumina. It is embedded to efficiently transfer the heat of the heater to the cathode disk and prevent the temperature of the heater from rising too much.

そして、さらに熱効率を上げるために、ヒータの熱が
陰極円板に集中するように、陰極の外側に熱の反射筒を
設けるとともに、陰極の後部に熱の反射板を設けること
が行なわれており、この反射筒や反射板は、その性格
上、陰極円板を除く部分をできるだけ覆うことが望まし
いが、そうすることにより、熱効率は向上するが、陰極
を構成している部品から放出するガスを排気するのに時
間が掛かるという問題がある。
Then, in order to further improve the thermal efficiency, a heat reflecting cylinder is provided outside the cathode and a heat reflecting plate is provided at the rear of the cathode so that the heat of the heater is concentrated on the cathode disk. Due to its character, it is desirable to cover the part excluding the cathode disk as much as possible, but by doing so, the thermal efficiency is improved, but the gas emitted from the components that make up the cathode is eliminated. There is a problem that it takes time to exhaust.

とくに、ヒータを埋設した絶縁物は、アルミナ等の粉
末を焼結しているため、表面積が大きく、ガスを大量に
吸着しているので、放出されるガスの量も多く、少しず
つ排出されるため、排気に時間が掛かる。
In particular, the insulator in which the heater is embedded has a large surface area because it is made by sintering powder of alumina or the like and adsorbs a large amount of gas. Therefore, it takes time to exhaust.

このガスの放出は、マイクロ波電子管の製造工程中の
排気工程において、ヒータに通電して行なうが、ガスの
放出量が多く、管内の真空度が悪いと、陰極を汚染し
て、ガス被毒により、排気後のエミッションに影響を及
ぼし、エミッション値が低くなる。
This gas is discharged by energizing the heater in the exhaust process during the manufacturing process of the microwave electron tube. However, if the amount of gas discharged is large and the vacuum degree in the tube is poor, the cathode is contaminated and gas poisoning occurs. As a result, the emission after exhaust is affected, and the emission value becomes low.

第5図に大口径の含浸型陰極構体の具体的な構造を示
す。
FIG. 5 shows a specific structure of the large diameter impregnated cathode assembly.

11は陰極円板で、この陰極円板11は、多孔質のタング
ステン(W)から成り、この直径は70mmで、中央に円形
の通孔があり、その表面は曲面状に凹陥している。
Reference numeral 11 denotes a cathode disk, which is made of porous tungsten (W), has a diameter of 70 mm, has a circular through hole in the center, and has a curved surface.

12,13,14はモリブデン(Mo)から成る大中小の3つの
円形の支持筒で、この3つの支持筒12,13,14は、上記陰
極円板11の裏面に同心状に配してRu−Moのロウ材でロウ
付けされ、収納容器15を構成する。
12, 13 and 14 are three large, medium and small circular support cylinders made of molybdenum (Mo). These three support cylinders 12, 13 and 14 are concentrically arranged on the back surface of the cathode disk 11 and are made of Ru. -Brazed with Mo brazing material to form the container 15.

なお、最内側の支持筒14は他の支持筒12,13よりも少
しだけ長くなっている。
The innermost support cylinder 14 is slightly longer than the other support cylinders 12 and 13.

16はヒータで、このヒータ16は、直径1.5mmのタング
ステン線で上記収納容器15の支持筒12,13の間及び支持
筒13,14の間に入る2種類の環状のコイルを作り、この
2つのコイルの端部を溶接して1本の連続したコイルに
したもので、収納容器15に収納され、その内側の一端部
16aを最内側の支持筒14に接続することによって、陰極
円板11と同電位で使用されるようになっている。
Reference numeral 16 is a heater, and this heater 16 is a tungsten wire having a diameter of 1.5 mm and forms two types of annular coils to be inserted between the support tubes 12 and 13 of the storage container 15 and between the support tubes 13 and 14. One coil is made by welding the ends of two coils into one continuous coil.
By connecting 16a to the innermost support cylinder 14, the cathode disk 11 is used at the same potential.

17はアルミナの粉末から成る絶縁物で、この絶縁物17
は、上記ヒータ16を収納した収納容器15に充填されてヒ
ータ16を埋設し、乾燥後に、水素中あるいは真空中で加
熱されて焼結してある。
17 is an insulator made of alumina powder.
Is filled in a container 15 in which the heater 16 is housed, the heater 16 is buried therein, and after being dried, it is heated and sintered in hydrogen or vacuum.

18,19はそれぞれ反射板で、環状に形成されて、上記
収納容器15の支持筒12,13の上に設けられ、第1の反射
板18はその外周部を最外側の支持筒12のフランジ部にア
ーク溶接によって固定され、第2の反射板19は、その外
周の一部を折曲した突片部19aにより、第1の反射板18
の上に間隔をおいて配置され、その内周部を最内側の支
持筒14の外周に設けたリング20に溶接することにより固
定されている。
Reference numerals 18 and 19 respectively denote reflecting plates, which are formed in an annular shape and are provided on the supporting cylinders 12 and 13 of the storage container 15, and the first reflecting plate 18 has the outer peripheral portion of the flange of the outermost supporting cylinder 12. The second reflection plate 19 is fixed to the first portion by arc welding, and the second reflection plate 19 is formed by bending a part of the outer periphery of the second reflection plate 19 to form the first reflection plate 18
Are fixedly arranged by welding the inner peripheral portion to a ring 20 provided on the outer periphery of the innermost support cylinder 14 above.

21は反射筒で、この反射筒21は、上記収納容器15及び
上記反射板18,19の外周に設けられ、その一端部を上記
陰極円板11にロウ付けされ、その他端部にはフランジ体
22がロウ付けされている。
Reference numeral 21 denotes a reflecting cylinder, which is provided on the outer circumference of the storage container 15 and the reflecting plates 18 and 19, one end of which is brazed to the cathode disk 11 and the other end is a flange body.
22 is brazed.

なお、この陰極は、上記フランジ体22を介して、電子
銃に固定されるようになっている。
The cathode is fixed to the electron gun via the flange body 22.

(考案が解決しようとする課題) ところで、上述した従来の含浸型陰極構体では、第1
の反射板18の外周部を支持筒12に固定した後、第2の反
射板19の内周部を支持筒14外周のリング20に固定し、こ
の際に、第2の反射板19の外周に折曲した突片部19aに
より第1の反射板18との間隔を形成するため、第2の反
射板19の内周部が彎曲し、この第2の反射板19の内周部
と第1の反射板18との間隔及び固定の状態が安定し難い
という問題がある。
(Problems to be Solved by the Invention) By the way, in the above-mentioned conventional impregnated-type cathode assembly,
After fixing the outer peripheral portion of the reflecting plate 18 to the support cylinder 12, the inner peripheral portion of the second reflecting plate 19 is fixed to the ring 20 on the outer periphery of the supporting cylinder 14, and at this time, the outer periphery of the second reflecting plate 19 is fixed. Since the projection 19a bent in the direction forms a gap with the first reflector 18, the inner periphery of the second reflector 19 is curved, and the inner periphery of the second reflector 19 and the first reflector 18 are curved. There is a problem that it is difficult to stabilize the gap between the first reflector 18 and the fixed plate 18 and the fixed state.

そして、このように反射板18,19の間隔及び固定の状
態が安定し難いので、反射板18,19の間隔が狭いと、ヒ
ータ16のオン/オフによる膨脹及び収縮の繰返しで、反
射板18,19が変形して互いに接触し易く、接触すると熱
効率に変化が生じるので、これを防止するために、反射
板18,19の間隔を広くする必要がある。
Since it is difficult to stabilize the distance between the reflection plates 18 and 19 and the fixed state, if the distance between the reflection plates 18 and 19 is small, the reflection plate 18 is repeatedly expanded and contracted by turning the heater 16 on and off. , 19 are easily deformed and come into contact with each other, and when they come into contact with each other, thermal efficiency changes. Therefore, in order to prevent this, it is necessary to widen the distance between the reflection plates 18, 19.

したがって、熱効率をより一層向上する目的で、反射
板18,19の数を増やそうとした場合、反射板18,19間の間
隔及び固定の状態がさらに不安定となることもあって、
狭いスペースに多くの反射板18,19を設けることが困難
で、反射板18,19の数を増やすことが困難であった。
Therefore, if the number of the reflectors 18 and 19 is increased in order to further improve the thermal efficiency, the spacing between the reflectors 18 and 19 and the fixed state may become more unstable,
It was difficult to provide many reflectors 18 and 19 in a narrow space, and it was difficult to increase the number of reflectors 18 and 19.

また、反射板18,19の数を増やした場合、ヒータ16を
埋設した絶縁物17のガスも抜け難くなり、電子管内を高
真空にするのに時間が掛かるという問題もある。
Further, when the number of reflectors 18 and 19 is increased, it becomes difficult for the gas in the insulator 17 in which the heater 16 is embedded to escape, and it takes time to bring the inside of the electron tube into a high vacuum.

本考案は、このような点に鑑みなされたもので、含浸
型陰極構体において、反射板間の間隔及び固定の状態を
安定させることによって、反射板の数を増やせるように
すること、この場合にも、ガスの排出を円滑に行なえる
ようにすることを目的とするものである。
The present invention has been made in view of such a point, and in the impregnated-type cathode assembly, it is possible to increase the number of reflectors by stabilizing the distance between the reflectors and the fixed state. Also, the purpose is to facilitate smooth gas discharge.

〔考案の構成〕[Constitution of device]

(課題を解決するための手段) 請求項1記載の含浸型陰極構体は、電子放射物質を含
浸した多孔質の陰極円板と、この陰極円板の裏面に設け
られた収納容器と、この収納容器に収納されて焼結され
た絶縁物と、この絶縁物とともに上記収納容器に収納さ
れて絶縁物に埋設されたヒータと、このヒータを埋設し
た上記絶縁物を覆って上記収納容器に取付けられた複数
の反射板とを備えた含浸型陰極構体であって、上記複数
の反射板は、予め複数のスペーサを介して互いに間隔を
おいた状態で反射板構体として一体的に組立てられたも
のである。
(Means for Solving the Problems) The impregnated-type cathode assembly according to claim 1 is a porous cathode disk impregnated with an electron-emitting substance, a storage container provided on the back surface of the cathode disk, and the storage. An insulator that is housed in a container and sintered, a heater that is housed in the container together with the insulator and is embedded in the insulator, and a heater that covers the insulator in which the heater is embedded and is attached to the container. And a plurality of reflecting plates, wherein the plurality of reflecting plates are integrally assembled as a reflecting plate structure with a plurality of spacers spaced apart from each other in advance. is there.

請求項2記載の含浸型陰極構体は、それぞれの反射板
には、互いに直線的に連通しない位置にガス抜き穴が形
成されたものである。
In the impregnated-type cathode structure according to the second aspect of the present invention, each of the reflection plates has a gas vent hole formed at a position where they do not linearly communicate with each other.

(作用) 請求項1記載の含浸型陰極構体では、複数の反射板を
予め反射構体として一体的に組立てておくので、反射板
相互の間隔が安定するとともに、反射板相互の固定の状
態が強固になる。
(Operation) In the impregnated-type cathode assembly according to claim 1, since a plurality of reflectors are integrally assembled as a reflector assembly in advance, the distance between the reflectors is stable and the fixed state of the reflectors is strong. become.

請求項2記載の含浸型陰極構体では、請求項1記載の
作用に加え、排気時に絶縁物等から放出されたガスは、
各反射板に形成したガス抜き穴から抜ける。そして、こ
れらのガス抜き穴を通って放射される熱は、他の反射板
により反射される。
In the impregnated-type cathode assembly according to claim 2, in addition to the function according to claim 1, the gas released from the insulator or the like during exhaust is
It escapes from the gas vent hole formed in each reflector. Then, the heat radiated through these gas vent holes is reflected by another reflector.

(実施例) 本考案の含浸型陰極構体の実施例を第1図ないし第3
図を参照して説明する。
(Embodiment) An embodiment of the impregnated cathode structure of the present invention is shown in FIGS.
It will be described with reference to the drawings.

第1図に本考案の含浸型陰極構体の一実施例の構造を
示す。
FIG. 1 shows the structure of an embodiment of the impregnated cathode structure of the present invention.

31は多孔質のタングステン(W)から成る陰極円板
で、この陰極円板31は、直径が70mmで、その中央に円形
の通孔31aがあり、その表面は曲面状に凹陥している。
Reference numeral 31 is a cathode disk made of porous tungsten (W). The cathode disk 31 has a diameter of 70 mm, a circular through hole 31a is formed in the center thereof, and the surface thereof is concavely curved.

32,33,34はモリブデン(Mo)から成る大中小3つの円
形の支持筒で、この3つの支持筒32,33,34は、上記陰極
円板31の裏面に同心状に配してRu−Moのロウ材でロウ付
けされ、これによって、収納容器35を構成している。
32, 33, and 34 are three large, medium, and small circular support cylinders made of molybdenum (Mo), and these three support cylinders 32, 33, and 34 are concentrically arranged on the back surface of the cathode disk 31 to make Ru- It is brazed with Mo brazing material, and thereby the storage container 35 is configured.

そして、上記支持筒32,33,34を陰極円板31の裏面にロ
ウ付けする際に、同じ陰極円板31の裏面にRu−Moのロウ
材を塗布し、裏面の空孔部を目潰しすることによって、
表面から含浸する電子放射物質が後述するヒータ36側に
入ってヒータ36と反応するのを防止している。
Then, when brazing the support cylinders 32, 33, 34 to the back surface of the cathode disk 31, a Ru-Mo brazing material is applied to the back surface of the same cathode disk 31, and the holes on the back surface are crushed. By
The electron emitting material impregnated from the surface is prevented from entering the heater 36 side described later and reacting with the heater 36.

また、中間の支持筒33にはヒータ36の中間部が貫通す
る切欠部33aが形成されているとともに、最内側の支持
筒34は、ヒータ36の内側の一端部36aを溶接するため
に、他の支持筒32,33よりも少しだけ長くなっている。
Further, the intermediate support tube 33 is formed with a cutout portion 33a through which the intermediate portion of the heater 36 penetrates, and the innermost support tube 34 is formed by welding the inner end portion 36a of the heater 36 to another. It is slightly longer than the support tubes 32, 33 of.

なお、最内側の支持筒34の長さは、後述する反射板4
1,42の間隔を狭くして反射板41,42,43,44の数を多くす
るために、ヒータ36の一端部36aを溶接することができ
る範囲内でできるだけ短いほうがよい。
The length of the innermost support cylinder 34 is the same as that of the reflection plate 4 described later.
In order to narrow the interval between 1,42 and increase the number of reflection plates 41, 42, 43, 44, it is preferable that the one end 36a of the heater 36 be welded as short as possible.

36はヒータで、このヒータ36は、上記陰極円板31を加
熱するためのもので、陰極円板31が所定の動作温度にな
るように、直径1.5mmのタングステン線で上記収納容器3
5の支持筒32,33の間と支持筒33,34の間に入る2種類の
環状のコイルを作り、この2つのコイルの端部を溶接し
て1本の連続したコイルにしたもので、上記収納容器35
に収納され、その内側の一端部36aを最内側の支持筒34
に接続することにより、陰極円板31と同電位で使用され
るようになっている。
36 is a heater for heating the cathode disk 31, and the heater 36 is a tungsten wire with a diameter of 1.5 mm so that the cathode disk 31 reaches a predetermined operating temperature.
Two types of annular coils that enter between the support cylinders 32 and 33 and between the support cylinders 33 and 34 of 5 are made, and the ends of these two coils are welded into one continuous coil. Above storage container 35
And the inner end 36a is stored in the innermost support tube 34
When connected to the cathode disk 31, the cathode disk 31 is used at the same potential.

37はアルミナの粉末から成る絶縁物で、この絶縁物37
は上記ヒータ36を収納した収納容器35に支持筒32,33の
高さまで充填されてヒータ36を埋設しており、この絶縁
物37を、乾燥した後、水素中あるいは真空中で加熱して
焼結することにより、ヒータ36が支持筒32,33,34や陰極
円板31に所定の間隔を介して絶縁された状態で固定され
ている。
37 is an insulator made of alumina powder.
Is embedded in the storage container 35 containing the heater 36 up to the height of the support cylinders 32, 33, and the heater 36 is embedded.The insulator 37 is dried and then heated in hydrogen or vacuum to burn. By connecting the heaters 36, the heater 36 is fixed to the support cylinders 32, 33, 34 and the cathode disc 31 in an insulated state with a predetermined gap.

なお、上記ヒータ36の内側の一端部36aは、上記絶縁
物37から突出し、絶縁物37の焼結後に最内側の支持筒34
に溶接される。
It should be noted that one end portion 36a of the inside of the heater 36 projects from the insulator 37, and after the insulator 37 is sintered, the innermost support cylinder 34
Be welded to.

また、上記ヒータ36の外側の他端部36bは、電圧を印
加するために、絶縁物37から突設されているが、この絶
縁物37からの突出部分にはアルミナ製の保護パイプ38が
装着され、根元部分における折損の防止がなされてい
る。
The other end 36b outside the heater 36 is projected from an insulator 37 for applying a voltage, and a protective pipe 38 made of alumina is attached to the protruding portion from the insulator 37. Therefore, breakage at the root portion is prevented.

40は反射板構体で、この反射板構体40は、上記絶縁物
37を覆って熱の逃げを抑制し、輻射により熱効率を高め
るためのもので、第2図及び第3図に示すように、モリ
ブデン(Mo)から成る4枚の反射板41,42,43,44を、モ
リブデン(Mo)から成る4本のリベット45により、モリ
ブデン(Mo)から成る複数の環状のスペーサ46,47を介
して間隔をおいた状態で、一体的に組立てたものであ
る。
40 is a reflector plate structure, and this reflector plate structure 40 is the insulator
It covers the 37 and suppresses the escape of heat and increases the thermal efficiency by radiation. As shown in FIGS. 2 and 3, four reflection plates 41, 42, 43, made of molybdenum (Mo), are used. 44 is integrally assembled by four rivets 45 made of molybdenum (Mo) with a plurality of annular spacers 46, 47 made of molybdenum (Mo) spaced apart from each other.

この反射板構体40は、上記絶縁物37を焼結し、ヒータ
36の一端部36aを支持筒34に溶接した後、その第1の反
射板41を上記収納容器35の最外側の支持筒32のフランジ
部32aにアーク溶接によって固定され、これによって、
他の反射板42,43,44も固定されている。
The reflector plate structure 40 is obtained by sintering the insulator 37 and heating it.
After welding one end 36a of 36 to the support cylinder 34, the first reflection plate 41 is fixed to the flange portion 32a of the outermost support cylinder 32 of the storage container 35 by arc welding.
The other reflectors 42, 43, 44 are also fixed.

そして、この反射板構体40の4枚の反射板41,42,43,4
4のうち第1の反射板41だけは、中央に通孔41aを形成し
た円環状で、この通孔41aを収納容器35の最内側の支持
筒34の外側に嵌合することにより、第1の反射板41は収
納容器35の他の支持筒32,33及び収納容器35内の絶縁物3
7に密着し、絶縁物37の脱落を阻止している。
Then, the four reflectors 41, 42, 43, 4 of this reflector assembly 40
Of the four, only the first reflecting plate 41 has an annular shape with a through hole 41a formed in the center, and the through hole 41a is fitted to the outer side of the innermost support cylinder 34 of the storage container 35, thereby The reflection plate 41 of the support container 32, 33 of the storage container 35 and the insulator 3 in the storage container 35
It adheres to 7 and prevents the insulator 37 from falling off.

なお、第2ないし第4の反射板42,43,44の中央には通
孔が無いので、第1の反射板41から突出した上記支持筒
34から放出される熱を陰極円板31側に反射して、熱効率
を向上することができる。
Since there is no through hole in the center of each of the second to fourth reflectors 42, 43, 44, the support cylinder protruding from the first reflector 41 is shown.
The heat emitted from 34 is reflected to the cathode disk 31 side, and the thermal efficiency can be improved.

また、この反射板構体40の反射板41,42,43,44には、
それぞれ、上記ヒータ36の他端部36bが貫通する開口部4
8が一直線に連通する位置に形成されているとともに、
直線的に連通しない位置に複数のガス抜き穴49,50が形
成されている。
In addition, in the reflectors 41, 42, 43, 44 of this reflector structure 40,
The opening 4 through which the other end 36b of the heater 36 passes
8 is formed in a position that communicates in a straight line,
A plurality of gas vent holes 49, 50 are formed at positions where they do not communicate linearly.

このように、直線的に連通しない位置に複数のガス抜
き穴を形成すると、第1の反射板41に設ける通孔41aと
同様に、第1の反射板41から突出した支持筒34から放射
される熱を陰極円板31側に反射して、熱効率を向上する
ことができる。
In this way, when a plurality of gas vent holes are formed at positions that do not communicate with each other linearly, the gas is radiated from the support cylinder 34 protruding from the first reflection plate 41, similarly to the through hole 41a provided in the first reflection plate 41. It is possible to improve the heat efficiency by reflecting the generated heat to the cathode disk 31 side.

51はレニウム(Re)−モリブデン(Mo)から成る反射
筒で、この反射筒51は、上記収納容器35を覆って熱の逃
げを抑制し、輻射により熱効率を高めるためのもので、
その一端部は、最外側の支持筒32のフランジ部32bの外
側に位置して、陰極円板31にRu−Mo−Niのロウ材でロウ
付けすることによって固定され、その他端部には、モリ
ブデン(Mo)から成るフランジ部材52がRu−Mo−Niのロ
ウ材でロウ付けすることによって固定され、このフラン
ジ部材52は図示しない電子銃に固定されるようになって
いる。
Reference numeral 51 is a reflection cylinder made of rhenium (Re) -molybdenum (Mo). The reflection cylinder 51 is for covering the storage container 35 to suppress heat escape and to improve thermal efficiency by radiation.
One end thereof is located outside the flange portion 32b of the outermost support cylinder 32, and is fixed by brazing to the cathode disc 31 with a brazing material of Ru-Mo-Ni, and the other end is A flange member 52 made of molybdenum (Mo) is fixed by brazing with a Ru-Mo-Ni brazing material, and the flange member 52 is fixed to an electron gun (not shown).

そうして、この後、上記陰極円板31の曲面状に凹陥し
た表面にBaO、CaO、Al23から成る電子放射物質を乗せ
て、水素中で1600〜1700度Cに加熱することによって、
電子放射物質を溶融して陰極円板31の空孔部に含浸させ
ている。
Then, after this, by placing an electron emitting substance composed of BaO, CaO, and Al 2 O 3 on the curved surface of the cathode disk 31 and heating it in hydrogen to 1600 to 1700 ° C. ,
The electron emitting substance is melted and impregnated in the void portion of the cathode disk 31.

このような構成において、上記4枚の反射板41,42,4
3,44は、収納容器35に取付ける前に、予め、反射板構体
40としてスペーサ46,47を介してリベット45により一体
的に組立てられているので、反射板41,42,43,44相互の
間隔が安定するとともに、反射板41,42,43,44相互の固
定の状態が強固になり、しかも、反射板構体40全体を収
納容器35に固定する第1の反射板41の厚さを厚くして、
彎曲や変形を防止することにより、反射板構体40全体を
収納容器35に安定的に取付けることができる。
In such a structure, the four reflection plates 41, 42, 4
3,44 is a reflector plate structure before being attached to the storage container 35.
Since it is integrally assembled with the rivet 45 via the spacers 46 and 47 as 40, the distance between the reflection plates 41, 42, 43 and 44 is stable and the reflection plates 41, 42, 43 and 44 are fixed to each other. And the thickness of the first reflection plate 41 for fixing the entire reflection plate structure 40 to the storage container 35 is increased.
By preventing bending and deformation, the entire reflector plate structure 40 can be stably attached to the storage container 35.

したがって、反射板41,42,43,44の間隔を狭くして、
狭いスペースに多くの反射板41,42,43,44を設けること
ができるので、熱効率をより一層向上することができ
る。
Therefore, by narrowing the spacing between the reflectors 41, 42, 43, 44,
Since many reflection plates 41, 42, 43, 44 can be provided in a narrow space, the thermal efficiency can be further improved.

また、反射板41,42,43,44の数を増やした場合、その
ままでは、マイクロ波電子管の排気工程において、ヒー
タ36を埋設した絶縁物37のガスが抜け難くなり、電子管
内を高真空にするのに時間が掛かるが、ここでは、反射
板41,42,43,44にガス抜き穴49,50が形成されているた
め、ガスが抜け易くなり、排気が円滑に行なわれるの
で、時間が掛かることがない。
Further, when the number of the reflection plates 41, 42, 43, 44 is increased, the gas of the insulator 37 in which the heater 36 is buried is less likely to escape in the exhaust process of the microwave electron tube as it is, and the inside of the electron tube is made to have a high vacuum. Although it takes time to do so, here, since the gas vent holes 49, 50 are formed in the reflection plates 41, 42, 43, 44, it is easy for the gas to escape and the exhaust is performed smoothly, so it takes time. It does not hang.

なお、第1の反射板41の厚さは0.2〜1.0mm、第2ない
し第4の反射板42,43,44の厚さは0.1〜0.5mm、第1の反
射板41と第2の反射板42の間のスペーサ46の高さは1〜
5mm、第2の反射板42と第3の反射板43と第4の反射板4
4の間のスペーサ47の高さは1〜5mmのもの用いられる。
The thickness of the first reflection plate 41 is 0.2 to 1.0 mm, the thickness of the second to fourth reflection plates 42, 43 and 44 is 0.1 to 0.5 mm, the first reflection plate 41 and the second reflection plate The height of the spacer 46 between the plates 42 is 1 to
5 mm, second reflector 42, third reflector 43, and fourth reflector 4
The height of the spacer 47 between 4 is 1 to 5 mm.

〔考案の効果〕[Effect of device]

請求項1記載の含浸型陰極構体によれば、含浸型陰極
構体において、ヒータを埋設した絶縁体を覆う複数の反
射板は、予め反射板構体としてスペーサを介して一体的
に組立てられているので、反射板相互の間隔が安定する
とともに、反射板相互の固定の状態が強固になり、反射
板構体全体を収納容器に安定的に取付けることができ
る。したがって、反射板の間隔を狭くして、狭いスペー
スに多くの反射板を設けることができるので、熱効率を
より一層向上することができる。
According to the impregnated-type cathode assembly according to claim 1, in the impregnated-type cathode assembly, the plurality of reflectors covering the insulator in which the heater is embedded are integrally assembled beforehand as a reflector assembly via a spacer. The distance between the reflectors is stable, and the reflectors are firmly fixed to each other, so that the entire reflector structure can be stably attached to the storage container. Therefore, the distance between the reflectors can be narrowed and many reflectors can be provided in a narrow space, so that the thermal efficiency can be further improved.

請求項2記載の含浸型陰極構体によれば、請求項1記
載の効果に加え、反射板の数を増やした場合、そのまま
では、排気工程において、ヒータを埋設した絶縁物等の
ガスが抜け難くなり、電子管内を高真空にするのに時間
が掛かるが、反射板にガス抜き穴が形成されているた
め、ガスが抜け易くなり、排気が円滑に行なわれるの
で、高真空にするのに時間が掛かることがない。また、
これらのガス抜き穴を通って放射される熱は、他の反射
板により反射されるので、熱効率を向上することができ
る。
According to the impregnated-type cathode assembly of claim 2, in addition to the effect of claim 1, when the number of reflectors is increased, it is difficult for gas such as an insulator in which a heater is embedded to escape during the exhaust process as it is. It takes time to make the inside of the electron tube high vacuum, but since the gas vent holes are formed in the reflector, it becomes easier for the gas to escape and the gas is exhausted smoothly. It does not hang. Also,
The heat radiated through these degassing holes is reflected by another reflector, so that the thermal efficiency can be improved.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図ないし第3図は本考案の含浸型陰極構体の実施例
を示し、第1図はその一部を断面にした側面図、第2図
はその反射板構体の側面図、第3図はその反射板構体の
底面図であり、第4図は含浸型陰極構体の一体的な構造
を示す縦断面図、第5図は従来の大口径の含浸型陰極構
体の一部を断面にした側面図である。 31……陰極円板、35……収納容器、36……ヒータ、37…
…絶縁物、40……反射板構体、41,42,43,44……反射
板、46,47……スペーサ、49,50……ガス抜き穴。
1 to 3 show an embodiment of an impregnated-type cathode assembly according to the present invention, FIG. 1 is a side view of a part of which is shown in cross section, FIG. 2 is a side view of the reflector assembly, and FIG. FIG. 4 is a bottom view of the reflector plate structure, FIG. 4 is a vertical cross-sectional view showing an integrated structure of the impregnated-type cathode structure, and FIG. 5 is a partial cross-section of a conventional large-diameter impregnated-type cathode structure. It is a side view. 31 …… Cathode disk, 35 …… Storage container, 36 …… Heater, 37…
… Insulator, 40 …… Reflector structure, 41,42,43,44 …… Reflector, 46,47 …… Spacer, 49,50 …… Gas vent.

Claims (2)

【実用新案登録請求の範囲】[Scope of utility model registration request] 【請求項1】電子放射物質を含浸した多孔質の陰極円板
と、この陰極円板の裏面に設けられた収納容器と、この
収納容器に収納されて焼結された絶縁物と、この絶縁物
とともに上記収納容器に収納されて絶縁物に埋設された
ヒータと、このヒータを埋設した上記絶縁物を覆って上
記収納容器に取付けられた複数の反射板とを備えた含浸
型陰極構体であって、 上記複数の反射板は、予め複数のスペーサを介して互い
に間隔をおいた状態で反射板構体として一体的に組立て
られたことを特徴とする含浸型陰極構体。
1. A porous cathode disk impregnated with an electron emitting material, a storage container provided on the back surface of the cathode disk, an insulator housed in the storage container and sintered, and the insulation. An impregnated-type cathode assembly including a heater housed in the storage container together with an object and embedded in an insulator, and a plurality of reflectors mounted on the storage container to cover the insulator in which the heater is embedded. An impregnated-type cathode assembly, wherein the plurality of reflectors are integrally assembled as a reflector assembly with a plurality of spacers spaced apart from each other in advance.
【請求項2】それぞれの反射板には、互いに直線的に連
通しない位置にガス抜き穴が形成されたことを特徴とす
る請求項1記載の含浸型陰極構体。
2. The impregnated-type cathode assembly according to claim 1, wherein each of the reflection plates is formed with a gas vent hole at a position where they do not linearly communicate with each other.
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