JPH0836745A - Magnetic recording medium and manufacture thereof - Google Patents

Magnetic recording medium and manufacture thereof

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JPH0836745A
JPH0836745A JP19275694A JP19275694A JPH0836745A JP H0836745 A JPH0836745 A JP H0836745A JP 19275694 A JP19275694 A JP 19275694A JP 19275694 A JP19275694 A JP 19275694A JP H0836745 A JPH0836745 A JP H0836745A
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ferromagnetic metal
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film
plasma
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国博 上田
Hiromichi Kanazawa
弘道 金沢
Shinji Miyazaki
真司 宮崎
Jiro Yoshinari
次郎 吉成
Koji Kobayashi
康二 小林
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Abstract

PURPOSE:To provide a magnetic recording medium which extremely excels in the electromagnetic conversion characteristic and also excels in reliability in durability, corrosion resistance and the like. CONSTITUTION:In the magnetic recording medium in which ferromagnetic metal thin films 13, 15 of at least two or more layers are formed on a non-magnetic supporting body 10 and further a protective layer 18 is formed on the ferromagnetic metal thin films, the protective layer 18 is a plasma-polymerized film which is formed by using a hydrocarbon gas and hydrogen gas as raw material, and it has such physical properties that the refractive index is 1.9 to 2.15 and the contact angle is less than 80 deg.. The ferromagnetic metal thin films 13, 15 contain 5at% or more of oxygen uniformly thoroughly in the direction of the thickness of the films, and the maximum oxygen concentration Tu of the ferromagnetic metal thin film of the uppermost layer is 10 to 30at%, and the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film located thereunder is 15 to 50at%, and the ratio of Tu/To is not less than 0.3 and not more than 0.8.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、多層の強磁性金属薄膜
を備える磁気記録媒体、特に、表面保護効果、電磁変換
特性に優れる蒸着型ビデオテープとしての磁気記録媒体
に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium provided with a multi-layered ferromagnetic metal thin film, and more particularly to a magnetic recording medium as a vapor-deposited video tape having excellent surface protection effect and electromagnetic conversion characteristics.

【0002】[0002]

【従来の技術】蒸着型のビデオテープ(磁気記録媒体)
は、塗布型の媒体とは異なり、磁性材料の充填密度が高
いために高記録密度に適している。そのため電磁変換特
性上非常に有利であり、現在すでに実用化されるに至っ
ている。しかしながら、蒸着型のビデオテープは、支持
体の上に磁性金属を成膜する構造をとっているために、
耐久性や耐食性等が不十分であり信頼性にやや難点があ
り、この問題を解決するために種々の提案がなされてい
る。
2. Description of the Related Art Evaporation type video tape (magnetic recording medium)
Is suitable for high recording density because it has a high packing density of the magnetic material, unlike the coating type medium. Therefore, it is very advantageous in terms of electromagnetic conversion characteristics, and has already been put into practical use at present. However, since the vapor deposition type video tape has a structure in which a magnetic metal film is formed on the support,
Durability and corrosion resistance are insufficient and reliability is somewhat difficult, and various proposals have been made to solve this problem.

【0003】その一つに強磁性金属薄膜(磁性層)の上
にプラズマ重合保護膜を形成する旨の提案が挙げられ
る。すなわち、特開昭59−171028号公報、特開
昭61−5426号公報、特開平1−205714号公
報等には強磁性金属薄膜の上に保護膜としてのプラズマ
重合膜を形成し、この際、強磁性金属薄膜表面の酸化層
を厚く形成する旨の提案がなされている。しかしなが
ら、この場合には、信頼性の向上は期待できるものの、
プラズマ重合膜の厚さ分のスペーシングロスと金属酸化
層のスペーシングロスが加算された厚みが全スペーシン
グロスとなり、電磁変換特性上極めて不利になってしま
うという不都合が生じる。
One of them is a proposal to form a plasma polymerization protective film on a ferromagnetic metal thin film (magnetic layer). That is, in JP-A-59-171028, JP-A-61-5426, and JP-A-1-205714, a plasma polymerized film as a protective film is formed on a ferromagnetic metal thin film. It has been proposed to form a thick oxide layer on the surface of a ferromagnetic metal thin film. However, in this case, although improvement in reliability can be expected,
The total spacing loss is the sum of the spacing loss of the thickness of the plasma polymerized film and the spacing loss of the metal oxide layer, which is extremely disadvantageous in terms of electromagnetic conversion characteristics.

【0004】一方、特開昭63−34728号公報に
は、上記の手法とは逆に磁性金属層表面をエッチングし
て酸化層を強制的に除去させる旨が開示されている。し
かしこの場合には、余分な表面処理をすることとにな
り、設備的にも煩雑となるし、また完全に表面酸化層を
エッチングして除去してしまうと信頼性の面でも不十分
となる。
On the other hand, Japanese Unexamined Patent Publication No. 63-34728 discloses that, contrary to the above-mentioned method, the surface of the magnetic metal layer is etched to forcibly remove the oxide layer. However, in this case, an extra surface treatment is required, which complicates the equipment, and if the surface oxide layer is completely removed by etching, the reliability is insufficient. .

【0005】このような観点から磁性層の形成は、一般
的に、一層中における磁性層表面の酸素濃度を高く、磁
性層内部の酸素濃度が低くなるように行われている(特
開昭60−157717号公報、特公平3−18246
号公報等)。すなわち、磁性層表面の酸素濃度を高くし
て、信頼性を向上させ、この一方で磁性層内部を金属成
分リッチにして電磁変換特性を良好にし、全体として、
互いに相反する現象(磁性層表面の酸素濃度を高くすれ
ば信頼性は向上するが、逆に電磁変換特性上は不利とな
る)をバランスさせる方法が一般にとられている。ま
た、防錆剤を用いたり(特開昭58−189825号公
報)、パーフルオロポリエーテル(特開昭56−872
36号公報)などにより信頼性を向上させる方法も提案
されている。
From this point of view, the formation of the magnetic layer is generally performed so that the oxygen concentration on the surface of the magnetic layer in one layer is high and the oxygen concentration inside the magnetic layer is low (Japanese Patent Laid-Open No. Sho 60-60). No. 157717, Japanese Patent Publication No. 3-18246
No. That is, the oxygen concentration on the surface of the magnetic layer is increased to improve the reliability, while the inside of the magnetic layer is rich in metal components to improve the electromagnetic conversion characteristics.
A method of balancing mutually opposing phenomena (reliability is improved by increasing the oxygen concentration on the surface of the magnetic layer but is disadvantageous in terms of electromagnetic conversion characteristics) is generally taken. In addition, a rust preventive agent may be used (JP-A-58-189825), or perfluoropolyether (JP-A-56-872).
No. 36), a method for improving reliability has also been proposed.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】ところで、非磁性支持
体上に2層以上の強磁性金属薄膜(磁性層)を設け、最
上層の磁性層を例えば7MHz程度の高周波数の記録に
適した記録帯とし、それ以外の深部を比較的低周波数域
の記録帯とする、いわゆる多層磁性層タイプの磁気記録
媒体が知られている。
By the way, two or more ferromagnetic metal thin films (magnetic layers) are provided on a non-magnetic support, and the uppermost magnetic layer is suitable for recording at a high frequency of, for example, about 7 MHz. There is known a so-called multilayer magnetic layer type magnetic recording medium having a band and a recording band in a relatively low frequency region in the other deep part.

【0007】この場合には、特に高周波数の記録域が比
較的磁性層の表層近傍で行われるために、保護層の構成
および物性、並びに磁性層表面の酸素濃度は、媒体の電
磁変換特性、信頼性に大きな影響を及ぼす。そのため、
従来公知の磁性層構成および保護層構成をそのまま使う
ことは必ずしも好ましいこととは言えない。従って、優
れた表面保護効果、電磁変換特性等を得るための保護層
および多層磁性層の設計が必要となる。
In this case, since the high frequency recording region is performed relatively near the surface of the magnetic layer, the structure and physical properties of the protective layer and the oxygen concentration on the surface of the magnetic layer depend on the electromagnetic conversion characteristics of the medium. It greatly affects reliability. for that reason,
It is not always preferable to use the conventionally known magnetic layer structure and protective layer structure as they are. Therefore, it is necessary to design the protective layer and the multi-layer magnetic layer in order to obtain an excellent surface protection effect, electromagnetic conversion characteristics and the like.

【0008】本発明はこのような実情のもとに創案され
たものであって、その目的は電磁変換特性が極めて優
れ、耐久性や耐食性等の信頼性にも優れる磁気記録媒体
およびその製造方法を提供することにある。
The present invention was created under such circumstances, and its purpose is to provide a magnetic recording medium having extremely excellent electromagnetic conversion characteristics and excellent reliability such as durability and corrosion resistance, and a method for manufacturing the same. To provide.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的を解決す
るために、本出願に係る発明者らが鋭意研究した結果、
保護層としての所定のプラズマ重合膜の設定、および多
層磁性層中の酸素濃度を考慮した磁性層の設計をするこ
とによって、特に電磁変換特性および信頼性に優れた媒
体が得られることを見いだし、本発明に至ったのであ
る。
[Means for Solving the Problems] In order to solve such an object, the inventors of the present application have earnestly studied, and as a result,
By setting a predetermined plasma polymerized film as a protective layer, and by designing a magnetic layer in consideration of the oxygen concentration in the multilayer magnetic layer, it was found that a medium having particularly excellent electromagnetic conversion characteristics and reliability can be obtained, This led to the present invention.

【0010】すなわち、本発明は、非磁性支持体上に少
なくとも2層以上の強磁性金属薄膜が形成され、さらに
強磁性金属薄膜の上に保護層が形成されている磁気記録
媒体において、前記保護層は、炭化水素ガスと水素ガス
を原料として形成されたプラズマ重合膜であり、屈折率
1.9〜2.15、接触角80度未満の物性を備え、前
記強磁性金属薄膜は、その膜中の厚さ方向に亘って万遍
なく5at%以上の酸素を含有し、最上層の強磁性金属
薄膜の最大酸素濃度Tuが10〜30at%、その下に
位置する強磁性金属薄膜の最大酸素濃度Toが15〜5
0at%であり、かつTu/To比が0.3以上0.8
以下であるように構成される。
That is, the present invention provides a magnetic recording medium in which at least two ferromagnetic metal thin films are formed on a non-magnetic support, and a protective layer is further formed on the ferromagnetic metal thin film. The layer is a plasma-polymerized film formed from hydrocarbon gas and hydrogen gas as raw materials, and has physical properties of a refractive index of 1.9 to 2.15 and a contact angle of less than 80 degrees, and the ferromagnetic metal thin film is the film. 5 at% or more of oxygen is evenly distributed throughout the thickness direction, and the maximum oxygen concentration Tu of the uppermost ferromagnetic metal thin film is 10 to 30 at%, and the maximum oxygen of the ferromagnetic metal thin film located therebelow. Concentration To is 15 to 5
0 at% and Tu / To ratio of 0.3 or more and 0.8
It is constructed as follows.

【0011】[0011]

【作用】本発明によれば、保護層としての所定のプラズ
マ重合膜の設定、および多層磁性層中の酸素濃度を考慮
した磁性層の設計をしているので、特に電磁変換特性お
よび信頼性に優れる。
According to the present invention, since the predetermined plasma polymerized film is set as the protective layer and the magnetic layer is designed in consideration of the oxygen concentration in the multilayer magnetic layer, the electromagnetic conversion characteristics and the reliability are particularly improved. Excel.

【0012】[0012]

【実施例】本発明の磁気記録媒体の好適な一実施例を図
1に基づいて説明する。図1は本発明の磁気記録媒体の
断面図である。この図によれば、本発明の磁気記録媒体
1は、非磁性支持体10の上に2層の強磁性金属薄膜1
3,15がそれぞれ順次形成され、さらに上方側の強磁
性金属薄膜15の上には保護層18が形成されている。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A preferred embodiment of the magnetic recording medium of the present invention will be described with reference to FIG. FIG. 1 is a sectional view of a magnetic recording medium of the present invention. According to this figure, the magnetic recording medium 1 of the present invention comprises a two-layered ferromagnetic metal thin film 1 on a non-magnetic support 10.
3 and 15 are sequentially formed, and a protective layer 18 is formed on the ferromagnetic metal thin film 15 on the upper side.

【0013】非磁性支持体10は、可撓性を備えたテー
プ状、あるいはシート状の形態をなし、その材質は強磁
性金属薄膜13,15の形成に耐え得るだけの耐熱性の
あるものであればよい。具体的には、ポリエチレンテレ
フタレート(PET)、ポリエチレンナフタレート(P
EN)、ポリイミド、アラミド、ポリエーテルエーテル
ケトン(PEEK)、ポリサルフォンなどが挙げられ
る。非磁性支持体10の厚さは、例えば、磁気記録媒体
の録画時間等との兼ね合いで選択されることもあり、通
常5〜40μm程度とされる。
The non-magnetic support 10 has a flexible tape-like or sheet-like form, and its material is heat-resistant enough to withstand the formation of the ferromagnetic metal thin films 13 and 15. I wish I had it. Specifically, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene naphthalate (P
EN), polyimide, aramid, polyetheretherketone (PEEK), polysulfone and the like. The thickness of the non-magnetic support 10 may be selected, for example, in consideration of the recording time of the magnetic recording medium, and is usually about 5 to 40 μm.

【0014】このような非磁性支持体2の上に順次形成
される強磁性金属薄膜13,15は、それぞれコバルト
またはコバルト合金とすることが好ましい。コバルト合
金としては、Co−Ni、Co−Fe、Co−Ni−C
r、Co−Ni−B、Co−Cu、Co−Pt−Cr等
が例示される。これらの強磁性金属薄膜13,15を蒸
着で形成する場合、Coの融点に近い金属では、同一の
ルツボを用いて蒸着する、いわゆる一元蒸着を行い、融
点が異なるものでは複数のルツボを用いる、いわゆる多
元蒸着を行うことが好ましい。
The ferromagnetic metal thin films 13 and 15 sequentially formed on the non-magnetic support 2 are preferably made of cobalt or cobalt alloy. As the cobalt alloy, Co-Ni, Co-Fe, Co-Ni-C
r, Co-Ni-B, Co-Cu, Co-Pt-Cr, etc. are illustrated. When these ferromagnetic metal thin films 13 and 15 are formed by vapor deposition, a metal having a melting point close to that of Co is deposited using the same crucible, that is, so-called unitary vapor deposition is performed, and a plurality of crucibles having different melting points are used. It is preferable to perform so-called multi-source vapor deposition.

【0015】蒸着工程としては、蒸着チャンバー内を、
例えば、10-6Torr程度まで排気した後、電子銃に
て蒸着させるべく金属の溶解を行い、金属全体が溶解し
た時点で蒸着を開始する。さらに、蒸着によって形成さ
れる強磁性金属薄膜13,15の磁気特性を制御するた
めに、通常、酸素、オゾン、亜酸化窒素等の酸化性ガス
を導入しながら成膜する。
In the vapor deposition process, the inside of the vapor deposition chamber is
For example, after evacuation to about 10 −6 Torr, the metal is melted for vapor deposition with an electron gun, and vapor deposition is started when the entire metal is melted. Further, in order to control the magnetic characteristics of the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 formed by vapor deposition, the film is usually formed while introducing an oxidizing gas such as oxygen, ozone, nitrous oxide or the like.

【0016】このような強磁性金属薄膜13,15は、
それぞれその膜中の厚さ方向に所定の酸素濃度分布を備
えており、これを分かりやすく説明するために図2を提
示する。図2は、横軸に媒体の厚さ方向を示しており、
図中左側から、保護層18、強磁性金属薄膜15、強磁
性金属薄膜13、非磁性支持体10が積層された状態を
示している。図2の縦軸は、強磁性金属薄膜13,15
中の酸素濃度(at%(原子%))を示したものであ
り、具体的な酸素濃度(at%)の分布が実線で示され
ている。この酸素濃度(at%)の分布は、Auger
またはESCAにて媒体を厚み方向にエッチングしなが
ら厚み方向の酸素濃度プロファイルを測定して求める。
ちなみに、強磁性金属薄膜13,15の磁性金属組成を
Co−Niと仮定すると、 酸素濃度(at%)=O/(Co+Ni+O) × 1
00 として算出される。
The ferromagnetic metal thin films 13 and 15 are
Each film has a predetermined oxygen concentration distribution in the thickness direction of the film, and FIG. 2 is presented to explain this easily. FIG. 2 shows the thickness direction of the medium on the horizontal axis.
From the left side of the drawing, a state in which the protective layer 18, the ferromagnetic metal thin film 15, the ferromagnetic metal thin film 13, and the nonmagnetic support 10 are laminated is shown. The vertical axis of FIG. 2 indicates the ferromagnetic metal thin films 13, 15
It shows the oxygen concentration (at% (atomic%)) in the inside, and the concrete distribution of the oxygen concentration (at%) is shown by the solid line. The distribution of this oxygen concentration (at%) is
Alternatively, it is obtained by measuring the oxygen concentration profile in the thickness direction while etching the medium in the thickness direction by ESCA.
By the way, assuming that the magnetic metal composition of the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 is Co—Ni, oxygen concentration (at%) = O / (Co + Ni + O) × 1
00 is calculated.

【0017】なお、図2中左側の保護層18領域の一点
鎖点は、カーボンの量を参考のために示しており、酸素
濃度(at%)を示しているものではない。
It should be noted that one-dot chain points in the protective layer 18 region on the left side in FIG. 2 indicate the amount of carbon for reference, and do not indicate the oxygen concentration (at%).

【0018】本発明の強磁性金属薄膜13,15は、そ
れぞれ、その膜中の厚さ方向に亘って万遍なく5at%
以上の酸素を含有している。すなわち、図2に示される
強磁性金属薄膜13,15中の酸素濃度プロファイルを
とった場合、そのプロファイルの最低酸素濃度値Txは
5at%以上、特に好ましくは、8〜15at%の酸素
を含有している。この値が5at%未満となると、磁性
体のカラム中の磁気構造の相互作用により保磁力(H
c)が低下するという不都合が生じる。また、この値が
あまり高い値(例えば、25at%を超える程度)とな
ると、磁束密度が低下し、密度密度が上がらなかった
り、出力が低下する等の不都合が生じる。
The ferromagnetic metal thin films 13 and 15 of the present invention are evenly distributed at 5 at% throughout the thickness direction in the films.
It contains the above oxygen. That is, when the oxygen concentration profile in the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 shown in FIG. 2 is taken, the minimum oxygen concentration value Tx of the profile is 5 at% or more, particularly preferably 8 to 15 at% oxygen is contained. ing. If this value is less than 5 at%, the coercive force (H
Inconvenience arises that c) decreases. On the other hand, if this value becomes too high (for example, exceeds 25 at%), the magnetic flux density will decrease, and the density density will not increase, and the output will decrease.

【0019】また、最上層の強磁性金属薄膜15の最大
酸素濃度Tuは10〜30at%、より好ましくは、1
0〜20at%とされる。そしてその下に位置する強磁
性金属薄膜13の最大酸素濃度Toは、15〜50at
%、より好ましくは、25〜35at%とされる。加え
て、これらの比の値であるTu/Toは、0.3以上
0.8以下とされる。最上層の強磁性金属薄膜15の最
大酸素濃度Tuが30at%を越えると、スペーシング
ロスが増大し、出力が低下するという不都合が生じ、ま
た、Tu値が10at%未満となると信頼性が低下する
という不都合が生じる。そして、この下に位置する強磁
性金属薄膜13の最大酸素濃度Toが50at%を超え
ることは理論上現実性に欠け、To値が15at%未満
となると磁性体カラムの相互作用が発達し、磁気構造が
不安定になり、保磁力が低下したり高周波成分の出力低
下が生じる。また、前記Tu/Toの値が0.8を超え
ると電磁変換特性が劣化するという不都合が生じ、また
Tu/Toの値が0.3未満となると、信頼性が低下す
るという不都合が生じる。
The maximum oxygen concentration Tu of the ferromagnetic metal thin film 15 of the uppermost layer is 10 to 30 at%, more preferably 1
It is set to 0 to 20 at%. And the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film 13 located thereunder is 15 to 50 at.
%, And more preferably 25 to 35 at%. In addition, Tu / To, which is the value of these ratios, is set to 0.3 or more and 0.8 or less. If the maximum oxygen concentration Tu of the uppermost ferromagnetic metal thin film 15 exceeds 30 at%, the spacing loss increases and the output decreases, and if the Tu value is less than 10 at%, the reliability decreases. The inconvenience arises. Further, it is theoretically unrealistic that the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film 13 located below this exceeds 50 at%, and when the To value becomes less than 15 at%, the interaction of the magnetic column develops and the magnetic field is reduced. The structure becomes unstable, the coercive force is reduced, and the output of high frequency components is reduced. Further, if the value of Tu / To exceeds 0.8, electromagnetic conversion characteristics deteriorate, and if the value of Tu / To is less than 0.3, reliability deteriorates.

【0020】なお、最上層の強磁性金属薄膜15中の最
大酸素濃度Tuは、強磁性金属薄膜15の最上部、すな
わち、保護層18との界面近傍に位置することが好まし
い。また、この下に位置する強磁性金属薄膜13の最大
酸素濃度Toは、強磁性金属薄膜13の最上部、すなわ
ち、最上層の強磁性金属薄膜15との界面近傍に位置す
ることが好ましい。
The maximum oxygen concentration Tu in the uppermost ferromagnetic metal thin film 15 is preferably located at the uppermost portion of the ferromagnetic metal thin film 15, that is, near the interface with the protective layer 18. Further, the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film 13 located therebelow is preferably located at the uppermost portion of the ferromagnetic metal thin film 13, that is, near the interface with the uppermost ferromagnetic metal thin film 15.

【0021】このような強磁性金属薄膜13,15中の
酸素濃度分布は、基本的には成膜時に導入される酸素
(O2 )等の酸化性ガスの量(分圧)等を調節すること
によって、任意に設定できるものであるが、本発明で
は、さらに後述するようにプラズマ重合膜を形成するに
際して、原料ガス中に還元性ガスである水素ガスを所定
量混合させており、この水素ガスにより、プラズマ重合
膜形成と同時に強磁性金属薄膜15表面の酸素濃度を下
げるという操作が可能になる。従って、強磁性金属薄膜
13,15の成膜条件をあえて変えることなく各々全く
同じ条件で成膜し、プラズマ重合条件を適宜設定するこ
とにより、所望のTu/To比が得られる。工程簡潔化
という面からも大きなメリットとなる。
The oxygen concentration distribution in the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 basically controls the amount (partial pressure) of oxidizing gas such as oxygen (O 2 ) introduced during film formation. According to the present invention, a hydrogen gas, which is a reducing gas, is mixed in a raw material gas in a predetermined amount when the plasma polymerized film is formed, as will be described later. The gas enables the operation of lowering the oxygen concentration on the surface of the ferromagnetic metal thin film 15 at the same time when the plasma polymerized film is formed. Therefore, the desired Tu / To ratio can be obtained by forming the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 under the same conditions without changing the film forming conditions and appropriately setting the plasma polymerization conditions. It is also a great merit in terms of process simplification.

【0022】このように形成される強磁性金属薄膜1
3,15の厚さは、最上層の強磁性金属薄膜15が、5
00〜2000Å程度、この下に位置する強磁性金属薄
膜13が、500〜2000Å程度とされる。
Ferromagnetic metal thin film 1 thus formed
The thickness of the ferromagnetic metal thin film 15 of the uppermost layer is 5
The ferromagnetic metal thin film 13 located below this is set to about 500 to 2000Å.

【0023】なお、本実施例では、説明を分かりやすく
するために強磁性金属薄膜が2層となっている場合を例
にとって説明してきたが、これに限定されることなく、
3層以上の多層構造の場合にも好適に適用できることは
勿論のことである。3層以上の多層構造の場合において
は、最上層の強磁性金属薄膜と、その下に位置する強磁
性金属薄膜とにそれぞれ注目して、前記の条件を満たす
様に膜構造の設定が行われる。
In this embodiment, the case where the ferromagnetic metal thin film has two layers has been described as an example for easy understanding, but the present invention is not limited to this.
As a matter of course, the present invention can be suitably applied to the case of a multi-layer structure of three layers or more. In the case of a multi-layer structure of three or more layers, attention is paid to the uppermost ferromagnetic metal thin film and the ferromagnetic metal thin film located thereunder, and the film structure is set so as to satisfy the above conditions. .

【0024】最上層の強磁性金属薄膜15の上には、保
護層18が形成されており、この保護層18は、炭化水
素ガスと水素ガスを原料として形成されたプラズマ重合
膜である。
A protective layer 18 is formed on the uppermost ferromagnetic metal thin film 15, and the protective layer 18 is a plasma-polymerized film formed from hydrocarbon gas and hydrogen gas as raw materials.

【0025】本発明で保護層18として用いられるプラ
ズマ重合膜は、屈折率1.9〜2.15、より好ましく
は、1.95〜2.10の物性を備えている。この値が
2.15を超えると、摺接する磁気ヘッドが損傷してし
まうという不都合を生じ、また、この値が1.9未満と
なると、耐久性が向上しないという不都合が生じる。さ
らに、本発明で用いられるプラズマ重合膜は、接触角8
0度未満の物性を備えている。この値が80度以上とな
ると、耐久性が低下するという不都合が生じる。
The plasma polymerized film used as the protective layer 18 in the present invention has physical properties of a refractive index of 1.9 to 2.15, more preferably 1.95 to 2.10. When this value exceeds 2.15, the magnetic head in sliding contact is damaged, and when this value is less than 1.9, the durability is not improved. Further, the plasma polymerized film used in the present invention has a contact angle of 8
It has physical properties of less than 0 degree. When this value is 80 degrees or more, there is a disadvantage that durability is lowered.

【0026】プラズマ重合膜の形成方法の一例を以下に
説明する。図3にはプラズマ重合膜形成装置の概略正面
図が示される。この装置において、繰出ロール51に
は、予め非磁性支持体10上に強磁性金属薄膜13,1
5が設けられた積層体原反70が巻かれている。そし
て、図3に示されるように繰出ロール51から繰り出さ
れた積層体原反70は、ガイドロール52を介して回転
ドラム55に沿って移動し、さらに、ガイドロール56
を介して巻取ロール58へと巻き取られるようになって
いる。この場合、回転ドラム55は、非磁性支持体の裏
面側(強磁性金属薄膜が形成されていない側)と接して
いる。
An example of the method for forming the plasma polymerized film will be described below. FIG. 3 shows a schematic front view of the plasma polymerized film forming apparatus. In this apparatus, the pay-out roll 51 has the ferromagnetic metal thin films 13, 1 on the non-magnetic support 10 in advance.
The laminated body original fabric 70 provided with 5 is wound. Then, as shown in FIG. 3, the laminate original fabric 70 fed from the feeding roll 51 moves along the rotary drum 55 via the guide roll 52, and further, the guide roll 56.
It is adapted to be taken up by the take-up roll 58 via. In this case, the rotary drum 55 is in contact with the back surface side of the non-magnetic support (the side on which the ferromagnetic metal thin film is not formed).

【0027】また、真空槽37内は、プラズマ重合膜形
成のためにのみ必要なスペースを確保するために例えば
仕切り板38,38によって上下に仕切られており、さ
らに放電を発生させるための例えば複数の棒状のプラズ
マ電極39が前記回転ドラム55の回り(図においては
下方)に配設されている。この場合、前記回転ドラム5
5は、放電を発生させない一方のプラズマ電極(アース
側)を構成している。複数のプラズマ電極39はそれら
の基部にて、一体的に接続されたいわゆる櫛形状をなし
ており、この電極にはプラズマ発生のための、例えば、
高周波電源等が接続される。
The inside of the vacuum chamber 37 is divided into upper and lower parts by, for example, partition plates 38 and 38 in order to secure a space necessary only for forming the plasma polymerized film, and a plurality of, for example, a plurality of discharge plates for generating an electric discharge. The rod-shaped plasma electrode 39 is disposed around the rotating drum 55 (downward in the drawing). In this case, the rotary drum 5
Reference numeral 5 constitutes one plasma electrode (ground side) that does not generate discharge. The plurality of plasma electrodes 39 have a so-called comb shape integrally connected at their bases.
A high frequency power source or the like is connected.

【0028】プラズマ重合膜の形成は、真空槽内で有機
化合物、例えば炭化水素系化合物のモノマーガスを高周
波によってプラズマ化させ、連続搬送される強磁性金属
薄膜15の表面に形成させることによって行われる。通
常は、積層体原反70を搬送させる真空槽内を10-5
orr以上に排気した後、原料ガスを所定量導入する。
この所定量は、反応圧力が1〜10-2Torrとなるよ
うに設定することが一般的である。
The formation of the plasma polymerized film is carried out by forming a monomer gas of an organic compound, for example, a hydrocarbon compound, into plasma in a vacuum chamber by high frequency and forming it on the surface of the ferromagnetic metal thin film 15 which is continuously conveyed. . Normally, the inside of the vacuum chamber for transporting the laminate original fabric 70 is 10 -5 T
After evacuation to or or higher, a predetermined amount of raw material gas is introduced.
This predetermined amount is generally set so that the reaction pressure is 1 to 10 -2 Torr.

【0029】本発明では、炭化水素ガスと水素ガスを含
む原料ガスを用いてプラズマ重合膜を形成する。水素ガ
スは、プラズマ重合膜の膜特性にも影響を与えるととも
に、前述したようにプラズマ重合膜形成と同時に強磁性
金属薄膜15表面の酸素濃度を下げるという作用も合わ
せ持っている。水素ガスに対する炭化水素ガスの流量比
は、体積比で1〜5、好ましくは、2〜3とされる。こ
の値が5倍を超えて炭化水素ガスが過剰になると、成膜
した膜の緻密性に欠けて所望の屈折率物性が得られなく
なる。また、場合によっては(水素ガス量の絶対値が問
題であるが)強磁性金属薄膜15表面の酸素濃度を下げ
るという製造上のメリットがなくなるという不都合が生
じる。また、この値が1未満となり、水素ガスが過剰に
なると、成膜レートが低下してしまったり、膜物性であ
る屈折率が高くなりすぎるという不都合が生じる。
In the present invention, the plasma polymerized film is formed by using the source gas containing the hydrocarbon gas and the hydrogen gas. The hydrogen gas not only affects the film characteristics of the plasma polymerized film, but also has the effect of lowering the oxygen concentration on the surface of the ferromagnetic metal thin film 15 at the same time as the formation of the plasma polymerized film as described above. The volume ratio of the flow rate of the hydrocarbon gas to the hydrogen gas is 1 to 5, preferably 2 to 3. If this value exceeds 5 times and the hydrocarbon gas becomes excessive, the denseness of the formed film is lacked and desired refractive index physical properties cannot be obtained. In some cases (though the absolute value of the amount of hydrogen gas is a problem), the merit in manufacturing that the oxygen concentration on the surface of the ferromagnetic metal thin film 15 is reduced disappears. Further, when this value is less than 1 and the hydrogen gas is excessive, the film formation rate is lowered and the refractive index which is a physical property of the film becomes too high.

【0030】炭化水素ガスとしては、メタン、エタン、
プロパン、ブタン、エチレン、プロピレン、アセチレ
ン、メチルアセチレン、トルエン等を単独または混合し
て用いる。
As the hydrocarbon gas, methane, ethane,
Propane, butane, ethylene, propylene, acetylene, methylacetylene, toluene and the like are used alone or in combination.

【0031】プラズマ形成のための放電電源は、50k
Hz〜450kHzの範囲の周波数とされる。中でも特
に100kHz〜400kHzの範囲の周波数が望まし
い。周波数が50kHz未満となると、長時間に亘って
の運転が困難となり、また所望の屈折率物性得られなく
なるという不都合が生じる。
The discharge power source for plasma formation is 50 k
The frequency is in the range of Hz to 450 kHz. Above all, frequencies in the range of 100 kHz to 400 kHz are particularly desirable. When the frequency is less than 50 kHz, it is difficult to operate for a long time, and the desired refractive index physical properties cannot be obtained.

【0032】また、周波数が450kHzを越えると緻
密な膜が得られず、さらに膜物性ととしての屈折率が低
くなりすぎたり、接触角が大きくなりすぎるという不都
合が生じる。
Further, if the frequency exceeds 450 kHz, a dense film cannot be obtained, and further, the refractive index as a physical property of the film becomes too low, and the contact angle becomes too large.

【0033】このようにして形成されるプラズマ重合膜
の厚さは、80〜150Å程度が好ましい。この厚さが
80Å未満では、成膜が十分に行えず、電特も測定不能
となる。また、150Åを越えるとスペーシングロスが
大きくなり、高密度記録に不向となる傾向が生じる。
The thickness of the plasma polymerized film thus formed is preferably about 80 to 150Å. If the thickness is less than 80Å, the film cannot be formed sufficiently and the characteristics cannot be measured. On the other hand, when it exceeds 150 Å, the spacing loss becomes large, which tends to be unsuitable for high density recording.

【0034】なお、本発明においては、プラズマ重合膜
からなる保護膜18上に公知の種々の液体潤滑層を塗布
してもよく、この場合には耐久特性が向上する。また、
非磁性支持体10の裏面(強磁性金属薄膜形成面と反対
の面)にいわゆる公知の種々のバックコート層を設けて
もよいし、非磁性支持体10と強磁性金属薄膜13との
間に種々の中間層を設けてもよい。
In the present invention, various known liquid lubricating layers may be coated on the protective film 18 made of a plasma polymerized film, in which case the durability characteristics are improved. Also,
A so-called various known back coat layer may be provided on the back surface of the non-magnetic support 10 (the surface opposite to the surface on which the ferromagnetic metal thin film is formed), or between the non-magnetic support 10 and the ferromagnetic metal thin film 13. Various intermediate layers may be provided.

【0035】なお、前記プラズマ重合膜の形成に際して
は、その説明を簡潔かつ分かりやすくするために、非磁
性支持体10上に強磁性金属薄膜13,15が設けられ
た積層体原反70が繰出ロール51に予め巻かれている
ケースを例にとって説明したが、これに限定されること
なく、例えば、特開平4−95220号公報に記載され
ているように、非磁性支持体のみを繰出ロールに設置
し、同一真空槽内で、強磁性金属薄膜およびプラズマ重
合膜の形成を順次形成させる方式においても、本発明の
磁気記録媒体の製造方法が適用できるのは勿論のことで
ある。
In forming the plasma-polymerized film, in order to make the explanation simple and easy to understand, the laminate original fabric 70 in which the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 are provided on the non-magnetic support 10 is fed out. Although the case of being pre-wound on the roll 51 has been described as an example, the present invention is not limited to this and, for example, as described in JP-A-4-95220, only the non-magnetic support is used as the pay-out roll. Needless to say, the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention can be applied to a system in which the ferromagnetic metal thin film and the plasma polymerized film are sequentially formed in the same vacuum chamber.

【0036】以下、本発明に関する具体的実験例を示
し、本発明をさらに詳細に説明する。 (実施例サンプル1の作製)まず、最初に、真空槽内に
おいて(10-6Torrまで排気)、厚さ6μmのポリ
エチレンテレフタレート(PET)の非磁性支持体10
を連続搬送させつつこの上に、2層のCo−Niの強磁
性金属薄膜13,15を形成させた。すなわち、Co−
Ni(Co:Ni=90:10(atm 比))の合金を蒸
着源として用いて入射角30°で斜め蒸着を行い(酸素
分圧10-4Torr)、厚さ0.15μmのCo−Ni
強磁性金属薄膜13を形成した。ついで、同様な円筒キ
ャンを用い、Co−Ni(Co:Ni=90:10(at
m 比))の合金を蒸着源として用いて入射角30°で斜
め蒸着を行い(酸素分圧10-4Torr)、厚さ0.1
5μmのCo−Ni強磁性金属薄膜15を積層形成し
た。
The present invention will be described in more detail below by showing specific experimental examples relating to the present invention. (Production of Example Sample 1) First, in a vacuum chamber (evacuated to 10 −6 Torr), a nonmagnetic support 10 of polyethylene terephthalate (PET) having a thickness of 6 μm.
Was continuously conveyed, and two layers of Co—Ni ferromagnetic metal thin films 13 and 15 were formed thereon. That is, Co-
Using an alloy of Ni (Co: Ni = 90: 10 (atm ratio)) as a vapor deposition source, oblique vapor deposition was performed at an incident angle of 30 ° (oxygen partial pressure 10 −4 Torr), and a thickness of 0.15 μm of Co—Ni
The ferromagnetic metal thin film 13 was formed. Then, using a similar cylindrical can, Co-Ni (Co: Ni = 90: 10 (at
(m ratio)) was used as a vapor deposition source to perform oblique vapor deposition at an incident angle of 30 ° (oxygen partial pressure 10 −4 Torr), and the thickness was 0.1.
A Co—Ni ferromagnetic metal thin film 15 of 5 μm was laminated.

【0037】次いで、図3に示される装置を用いて、上
記強磁性金属薄膜15の上にプラズマ重合膜からなる保
護層18を形成した。
Next, using the apparatus shown in FIG. 3, a protective layer 18 made of a plasma polymerized film was formed on the ferromagnetic metal thin film 15.

【0038】すなわち、プラズマ原料ガス導入口から炭
化水素としてメタンガスを20SCCM、水素ガスを10SC
CM、それぞれ導入しつつ、0.05Torrの真空下で
プラズマを発生させて、プラズマ重合膜からなる保護膜
を形成した。
That is, 20 SCCM of methane gas and 10 SC of hydrogen gas as hydrocarbons from the plasma raw material gas inlet port.
While introducing CM, plasma was generated under a vacuum of 0.05 Torr to form a protective film made of a plasma polymerized film.

【0039】この場合、プラズマ放電電源の周波数は、
100kHz、プラズマ出力は1W/cm2 とした。ま
た、プラズマ雰囲気中に強磁性金属薄膜をさらす、いわ
ゆるプラズマ通過時間は1secとした。このようにプ
ラズマ重合膜を形成した後、8mm幅にスリットして実
施例サンプル1を作製した (実施例サンプル2〜5の作製)上記実施例サンプル1
において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上
にプラズマ重合膜を形成するに際し、炭化水素のプラズ
マ原料ガスをメタンからエタン(実施例サンプル2)、
エチレン(実施例サンプル3)、プロピレン(実施例サ
ンプル4)、アセチレン(実施例サンプル5)に、それ
ぞれ変えた。
In this case, the frequency of the plasma discharge power supply is
The plasma output was 100 kHz and the plasma output was 1 W / cm 2 . The so-called plasma passage time for exposing the ferromagnetic metal thin film to the plasma atmosphere was set to 1 sec. After forming the plasma-polymerized film in this manner, slitting was performed to a width of 8 mm to fabricate Example Sample 1 (Production of Example Samples 2 to 5).
In forming the plasma polymerized film on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni, the plasma raw material gas of hydrocarbon is changed from methane to ethane (Example sample 2),
Ethylene (Example sample 3), propylene (Example sample 4), and acetylene (Example sample 5) were used, respectively.

【0040】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル2〜5を作製した。 (実施例サンプル6〜9の作製)上記実施例サンプル1
において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上
にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ原料ガス
の一部として導入したメタンガスのガス量を20SCCMか
ら、10SCCM(実施例サンプル6)、30SCCM/分(実
施例サンプル7)、40SCCM(実施例サンプル8)、5
0SCCM(実施例サンプル9)に、それぞれ変えた。
Other than the above, Example samples 2 to 5 were prepared in the same manner as Example sample 1 above. (Production of Example Samples 6 to 9) Example Sample 1 above
In forming the plasma polymerized film on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni, the gas amount of methane gas introduced as a part of the plasma raw material gas is changed from 20 SCCM to 10 SCCM (Example sample 6), 30 SCCM / Min (Example sample 7), 40 SCCM (Example sample 8), 5
It was changed to 0 SCCM (Example sample 9).

【0041】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル6〜9を作製した。 (実施例サンプル10〜13の作製)上記実施例サンプ
ル1において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15
の上にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ放電
電源の周波数を、100kHzから、50kHz(実施
例サンプル10)、200kHz(実施例サンプル1
1)、300kHz(実施例サンプル12)、400k
Hz(実施例サンプル13)にそれぞれ変えた。
Example samples 6 to 9 were produced in the same manner as the example sample 1 except the above. (Production of Example Samples 10 to 13) In the example sample 1 described above, the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co-Ni is used.
When the plasma polymerized film is formed on the substrate, the frequency of the plasma discharge power source is changed from 100 kHz to 50 kHz (Example sample 10) and 200 kHz (Example sample 1).
1), 300 kHz (Example sample 12), 400 k
Hz (example sample 13).

【0042】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル10〜13を作製した。 (実施例サンプル14〜17の作製)上記実施例サンプ
ル1において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15
の上にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ通過
時間を1secから、100msec(実施例サンプル
14)、500msec(実施例サンプル15)、5s
ec(実施例サンプル16)、10sec(実施例サン
プル17)に、それぞれ変えた。また、実施例サンプル
14、17においては、強磁性金属薄膜形成時に酸素ガ
スの供給量を変化させて予めTo値を変えた。
Example samples 10 to 13 were prepared in the same manner as the example sample 1 except the above. (Production of Example Samples 14 to 17) In the example sample 1 above, the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni was used.
When the plasma polymerized film is formed on the surface, the plasma passage time is changed from 1 sec to 100 msec (Example sample 14), 500 msec (Example sample 15), 5 s.
ec (Example sample 16) and 10 sec (Example sample 17), respectively. In the example samples 14 and 17, the To value was changed in advance by changing the supply amount of oxygen gas when the ferromagnetic metal thin film was formed.

【0043】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル14〜17を作製した。 (実施例サンプル18〜20の作製)上記実施例サンプ
ル1において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15
の上にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ出力
を1W/cm2 から、4W/cm2 (実施例サンプル1
8)、2W/cm2 (実施例サンプル19)、0.8W
/cm2 (実施例サンプル20)に、それぞれ変えた。
また、強磁性金属薄膜形成時に酸素ガスの供給量を変化
させて予めTo値を変えた。
Example samples 14 to 17 were produced in the same manner as the example sample 1 except the above. (Production of Example Samples 18 to 20) In the example sample 1 above, the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni is used.
When the plasma polymerized film was formed on the surface, the plasma output was changed from 1 W / cm 2 to 4 W / cm 2 (Example Sample 1
8) 2 W / cm 2 (Example sample 19), 0.8 W
/ Cm 2 (Example sample 20).
Further, the To value was changed in advance by changing the supply amount of oxygen gas when the ferromagnetic metal thin film was formed.

【0044】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル18〜20を作製した。 (実施例サンプル21の作製)上記実施例サンプル1に
おいて、2層構造からなるCo−Niの強磁性金属薄膜
13,15の下に、さらに強磁性金属薄膜13と同一の
強磁性金属薄膜を設け、3層構造の強磁性金属薄膜とし
た。
Example samples 18 to 20 were produced in the same manner as the example sample 1 except the above. (Preparation of Example Sample 21) In Example Sample 1 described above, the same ferromagnetic metal thin film as the ferromagnetic metal thin film 13 is further provided below the Co—Ni ferromagnetic metal thin films 13 and 15 having the two-layer structure. A ferromagnetic metal thin film having a three-layer structure was used.

【0045】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、実施例サンプル21を作製した。 (実施例サンプル22の作製)強磁性金属薄膜形成時に
酸素ガスの供給量を変化させてTu、To値をそれぞれ
変えた。それ以外は、上記実施例サンプル1と同様にし
て、実施例サンプル22を作製した。
Example sample 21 was prepared in the same manner as example sample 1 except for the above. (Preparation of Example Sample 22) When the ferromagnetic metal thin film was formed, the supply amount of oxygen gas was changed to change the Tu and To values. Except for this, the example sample 22 was manufactured in the same manner as the example sample 1 described above.

【0046】(実施例サンプル23の作製)強磁性金属
薄膜形成時に酸素ガスの供給量を変化させてTx値を変
えた。それ以外は、上記実施例サンプル1と同様にし
て、実施例サンプル23を作製した。 (比較例サンプル1,2の作製)上記実施例サンプル1
において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上
にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ原料ガス
の一部として導入したメタンガスのガス量を20SCCMか
ら、5SCCM(比較例サンプル1)、60SCCM(比較例サ
ンプル2)に、それぞれ変えた。
(Preparation of Example Sample 23) The Tx value was changed by changing the supply amount of oxygen gas when the ferromagnetic metal thin film was formed. Except for this, the example sample 23 was manufactured in the same manner as the example sample 1 described above. (Production of Comparative Example Samples 1 and 2) Above Example Sample 1
In forming the plasma polymerized film on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni, the amount of methane gas introduced as a part of the plasma raw material gas is changed from 20 SCCM to 5 SCCM (Comparative sample 1), 60 SCCM ( Comparative sample 2) was used instead.

【0047】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、比較例サンプル1,2をそれぞれ作製した。 (比較例サンプル3〜6の作製)上記実施例サンプル1
において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上
にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ放電電源
の周波数を、100kHzから、20kHz(比較例サ
ンプル3)、500kHz(比較例サンプル4)、1M
Hz(比較例サンプル5)、13.56MHz(比較例
サンプル6)にそれぞれ変えた。
Other than the above, Comparative Samples 1 and 2 were prepared in the same manner as in Example Sample 1 above. (Preparation of Comparative Example Samples 3 to 6) Above Example Sample 1
In forming the plasma polymerized film on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni, the frequency of the plasma discharge power supply was changed from 100 kHz to 20 kHz (Comparative sample 3), 500 kHz (Comparative sample 4), 1M.
Hz (Comparative sample 5) and 13.56 MHz (Comparative sample 6), respectively.

【0048】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、比較例サンプル3〜6を作製した。 (比較例サンプル7〜9の作製)上記実施例サンプル1
において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上
にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ通過時間
を1secから、0.5msec(比較例サンプル
7)、15sec(比較例サンプル8)、50msec
(実施例サンプル9)に、それぞれ変えた。
Other than the above, Comparative Samples 3 to 6 were prepared in the same manner as in the above Example Sample 1. (Production of Comparative Example Samples 7 to 9) The above-described example sample 1
In forming the plasma polymerized film on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni, the plasma passage time was changed from 1 sec to 0.5 msec (Comparative sample 7), 15 sec (Comparative sample 8), 50 msec.
(Example sample 9).

【0049】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、比較例サンプル7〜9を作製した。 (比較例サンプル10,11の作製)上記実施例サンプ
ル1において、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15
の上にプラズマ重合膜を形成するに際し、プラズマ出力
を1W/cm2 から、6W/cm2 (比較例サンプル1
0)、0.7W/cm2 (比較例サンプル11)に、そ
れぞれ変えた。
Other than the above, Comparative Samples 7 to 9 were prepared in the same manner as in Example Sample 1 above. (Preparation of Comparative Samples 10 and 11) In the above-described sample 1 of the example, the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni was used.
When the plasma polymerized film was formed on the surface, the plasma output was changed from 1 W / cm 2 to 6 W / cm 2 (Comparative Example Sample 1
0) and 0.7 W / cm 2 (Comparative sample 11).

【0050】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、比較例サンプル10,11をそれぞれ作製し
た。 (比較例サンプル12の作製)上記実施例サンプル1に
おいて、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上に
プラズマ重合膜を形成しなかった。
Other than the above, Comparative Samples 10 and 11 were prepared in the same manner as in Example Sample 1 above. (Production of Comparative Example Sample 12) In the above-described Example Sample 1, the plasma polymerized film was not formed on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni.

【0051】それ以外は、上記実施例サンプル1と同様
にして、比較例サンプル12を作製した。 (比較例サンプル13の作製)上記実施例サンプル1に
おいて、Co−Niからなる強磁性金属薄膜15の上に
プラズマ重合膜を設けなかった。ただし、強磁性金属薄
膜15の表面は水素ガスで還元処理を行った。それ以外
は、上記実施例サンプル1と同様にして、比較例サンプ
ル13を作製した。 (比較例サンプル14の作製)強磁性金属薄膜形成時に
酸素ガスの供給量を変化させてTu、To、Tx値をそ
れぞれ変えた(下記表3)。それ以外は、上記実施例サ
ンプル1と同様にして、比較例サンプル14を作製し
た。 (比較例サンプル15の作製)強磁性金属薄膜形成時に
酸素ガスの供給量を変化させてTu、To、Tx値をそ
れぞれ変えた(下記表3)。それ以外は、上記実施例サ
ンプル1と同様にして、比較例サンプル15を作製し
た。
A comparative sample 12 was prepared in the same manner as in the example sample 1 except for the above. (Production of Comparative Example Sample 13) In the above-described Example Sample 1, no plasma polymerized film was provided on the ferromagnetic metal thin film 15 made of Co—Ni. However, the surface of the ferromagnetic metal thin film 15 was reduced with hydrogen gas. A comparative example sample 13 was prepared in the same manner as the example sample 1 except the above. (Production of Comparative Example Sample 14) When the ferromagnetic metal thin film was formed, the amount of oxygen gas supplied was changed to change the values of Tu, To, and Tx (Table 3 below). A comparative example sample 14 was prepared in the same manner as the example sample 1 except the above. (Production of Comparative Example Sample 15) When the ferromagnetic metal thin film was formed, the amount of oxygen gas supplied was changed to change the values of Tu, To, and Tx (Table 3 below). A comparative sample 15 was manufactured in the same manner as the example sample 1 except the above.

【0052】このように作製した上記実施例サンプル1
〜23、比較例サンプル1〜15について以下に示すよ
うな測定ないしは評価を行った。
Sample 1 of the above-mentioned embodiment manufactured in this manner
.About.23 and Comparative Examples 1 to 15 were subjected to the following measurements or evaluations.

【0053】プラズマ重合膜の物性 (屈折率)予備実験として、Si−ウエーハをテープ上
に貼り付け、実施例のプラズマ条件にて成膜し、エリプ
ソメーターにて測定した。
As a preliminary experiment of the physical properties (refractive index) of the plasma polymerized film , a Si-wafer was adhered on a tape, a film was formed under the plasma conditions of the examples, and measured by an ellipsometer.

【0054】(接触角)8mm幅のテープサンプルを接
触角測定機(協和界面科学社製接触角測定装置)を用い
て測定した。
(Contact angle) A tape sample having a width of 8 mm was measured using a contact angle measuring device (contact angle measuring device manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.).

【0055】強磁性金属薄膜13,15中の酸素濃度 Auger分光法にてサンプルの膜厚方向にエッチング
しながら、強磁性金属薄膜13,15の膜厚方向の酸素
濃度プロファイルを作成し、最低酸素濃度値Tx(at
%)、最上層の強磁性金属薄膜15の最大酸素濃度Tu
(at%)、その下に位置する強磁性金属薄膜13の最
大酸素濃度Toをそれぞれ求めた。
Oxygen Concentration in Ferromagnetic Metal Thin Films 13 and 15 While etching in the film thickness direction of the sample by Auger spectroscopy, an oxygen concentration profile in the film thickness direction of the ferromagnetic metal thin films 13 and 15 is created to obtain the minimum oxygen content. Concentration value Tx (at
%), And the maximum oxygen concentration Tu of the uppermost ferromagnetic metal thin film 15
(At%), and the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film 13 located therebelow was determined.

【0056】酸素濃度(at%)=O/(Co+Ni+
O) × 100 として算出した。
Oxygen concentration (at%) = O / (Co + Ni +
It was calculated as O) × 100.

【0057】初期摩擦 摩擦測定機を用いて、テープを1passさせた時の摩
擦を測定した。すなわち、所定の回転ピンおよび固定ピ
ン(SUS306製、3mm直径)を介して20gの加
重が加えられたテープをロードセルで引き上げ(1pa
ss)、その時にロードセルにかかった加重を摩擦
(μ)に換算した。
Initial friction Using a friction measuring device, the friction when the tape was passed by 1 pass was measured. That is, the tape loaded with 20 g through a predetermined rotating pin and fixed pin (made of SUS306, 3 mm diameter) is pulled up by a load cell (1 pa
ss), and the load applied to the load cell at that time was converted into friction (μ).

【0058】耐久摩擦 上記の初期摩擦を測定する装置を用い、200pass
目の摩擦(μ)を測定した。
Endurance Friction Using the above-mentioned apparatus for measuring initial friction, 200 pass
Eye friction (μ) was measured.

【0059】スチル ソニー社製S1500デッキを用いて、出力が−5dB
になるまでの時間を測定した。
The output is -5 dB using a Still Sony S1500 deck.
The time to reach was measured.

【0060】電磁変換特性 ソニー社製S1500デッキにて7MHzの出力を測定
した。比較例12を0dBとして相対評価した。
Electromagnetic conversion characteristics An output of 7 MHz was measured with an S1500 deck manufactured by Sony Corporation. Relative evaluation was performed by setting Comparative Example 12 to 0 dB.

【0061】保存特性 80℃、90%RH環境下に1週間保存した後の飽和磁
束密度の変化量を測定した。
Storage characteristics The amount of change in saturation magnetic flux density after storage for 1 week in an environment of 80 ° C. and 90% RH was measured.

【0062】 Bm(%)=(Bb−Ba)/Bb × 100 Bbは保存前の飽和磁束密度、Baは保存後の飽和磁束
密度を表す。
Bm (%) = (Bb−Ba) / Bb × 100 Bb represents the saturation magnetic flux density before storage, and Ba represents the saturation magnetic flux density after storage.

【0063】これらの結果を下記表1、表2および表3
に示した。
The results are shown in Table 1, Table 2 and Table 3 below.
It was shown to.

【0064】[0064]

【表1】 [Table 1]

【0065】[0065]

【表2】 [Table 2]

【0066】[0066]

【表3】 [Table 3]

【0067】[0067]

【発明の効果】上記の結果より本発明の効果は明らかで
ある。すなわち、本発明は非磁性支持体上に少なくとも
2層以上の強磁性金属薄膜が形成され、さらに強磁性金
属薄膜の上に保護層が形成されている磁気記録媒体にお
いて、前記保護層は、炭化水素ガスと水素ガスを原料と
して形成されたプラズマ重合膜であり、屈折率1.9〜
2.15、接触角80度未満の物性を備え、前記強磁性
金属薄膜は、その膜中の厚さ方向に亘って渡って万遍な
く5at%以上の酸素を含有し、最上層の強磁性金属薄
膜の最大酸素濃度Tuが10〜30at%、その下に位
置する強磁性金属薄膜の最大酸素濃度Toが15〜50
at%であり、かつTu/To比が0.3以上0.8以
下であるように構成しているので、電磁変換特性が極め
て優れ、耐久性や耐食性等の信頼性にも優れるという効
果を奏する。
The effects of the present invention are clear from the above results. That is, the present invention provides a magnetic recording medium in which at least two ferromagnetic metal thin films are formed on a non-magnetic support, and a protective layer is further formed on the ferromagnetic metal thin film. It is a plasma-polymerized film formed from hydrogen gas and hydrogen gas as raw materials, and has a refractive index of 1.9 to
2.15, having a contact angle of less than 80 degrees, the ferromagnetic metal thin film uniformly contains 5 at% or more of oxygen throughout the thickness direction of the film, and the ferromagnetic material of the uppermost layer is ferromagnetic. The maximum oxygen concentration Tu of the metal thin film is 10 to 30 at%, and the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film located thereunder is 15 to 50
Since the composition is at% and the Tu / To ratio is 0.3 or more and 0.8 or less, the electromagnetic conversion characteristics are extremely excellent and the durability and corrosion resistance are also excellent. Play.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の断面図である。FIG. 1 is a sectional view of a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】強磁性金属薄膜中の厚さ方向に存在する所定の
酸素濃度分布を説明するための図である。
FIG. 2 is a diagram for explaining a predetermined oxygen concentration distribution existing in a thickness direction in a ferromagnetic metal thin film.

【図3】プラズマ重合膜形成装置の概略正面図である。FIG. 3 is a schematic front view of a plasma polymerized film forming apparatus.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…磁気記録媒体 10…非磁性支持体 13…強磁性金属薄膜 15…強磁性金属薄膜 18…保護層(プラズマ重合膜) DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Magnetic recording medium 10 ... Non-magnetic support body 13 ... Ferromagnetic metal thin film 15 ... Ferromagnetic metal thin film 18 ... Protective layer (plasma polymerization film)

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉成 次郎 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 (72)発明者 小林 康二 東京都中央区日本橋一丁目13番1号 ティ ーディーケイ株式会社内 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (72) Inventor Jiro Yoshinari 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDK Corporation (72) Inventor Koji Kobayashi 1-13-1 Nihonbashi, Chuo-ku, Tokyo TDC Within the corporation

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 非磁性支持体上に少なくとも2層以上の
強磁性金属薄膜が形成され、さらに強磁性金属薄膜の上
に保護層が形成されている磁気記録媒体において、 前記保護層は、炭化水素ガスと水素ガスを原料として形
成されたプラズマ重合膜であり、屈折率1.9〜2.1
5、接触角80度未満の物性を備え、 前記強磁性金属薄膜は、その膜中の厚さ方向に亘って万
遍なく5at%以上の酸素を含有し、最上層の強磁性金
属薄膜の最大酸素濃度Tuが10〜30at%、その下
に位置する強磁性金属薄膜の最大酸素濃度Toが15〜
50at%であり、かつTu/To比が0.3以上0.
8以下であることを特徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording medium in which at least two or more ferromagnetic metal thin films are formed on a non-magnetic support, and a protective layer is further formed on the ferromagnetic metal thin film. A plasma-polymerized film formed from hydrogen gas and hydrogen gas as a raw material, and having a refractive index of 1.9 to 2.1.
5, having a contact angle of less than 80 degrees, the ferromagnetic metal thin film uniformly contains 5 at% or more of oxygen throughout the thickness direction of the film, and the maximum ferromagnetic metal thin film of the uppermost layer is included. The oxygen concentration Tu is 10 to 30 at%, and the maximum oxygen concentration To of the ferromagnetic metal thin film located thereunder is 15 to 30 at%.
50 at%, and the Tu / To ratio is 0.3 or more and not more than 0.1.
A magnetic recording medium characterized by being 8 or less.
【請求項2】 前記保護膜としてのプラズマ重合膜は、
原料ガスとして炭化水素ガスと水素ガスの混合物を用い
て水素ガスに対する炭化水素ガスの流量比を1〜5と
し、放電周波数を50kHz〜450kHzにて成膜す
る請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法。
2. The plasma polymerized film as the protective film,
A magnetic recording medium according to claim 1, wherein a mixture of a hydrocarbon gas and a hydrogen gas is used as a source gas, the flow rate ratio of the hydrocarbon gas to the hydrogen gas is set to 1 to 5, and the film is formed at a discharge frequency of 50 kHz to 450 kHz. Method.
【請求項3】 前記強磁性金属薄膜は、コバルトまたは
コバルトを主成分とする合金からなり、蒸着法にて形成
される請求項2記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 2, wherein the ferromagnetic metal thin film is made of cobalt or an alloy containing cobalt as a main component and is formed by a vapor deposition method.
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