JPH0833992A - Laser beam processing method and device therefor - Google Patents
Laser beam processing method and device thereforInfo
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- JPH0833992A JPH0833992A JP6171233A JP17123394A JPH0833992A JP H0833992 A JPH0833992 A JP H0833992A JP 6171233 A JP6171233 A JP 6171233A JP 17123394 A JP17123394 A JP 17123394A JP H0833992 A JPH0833992 A JP H0833992A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、レーザ光を照射するこ
とにより、例えばフレーム材を切断加工してリードフレ
ームを作製するレーザ加工方法及びその装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a laser processing method and apparatus for producing a lead frame by cutting a frame material by irradiating it with a laser beam.
【0002】[0002]
【従来の技術】リードフレームの作製は、パンチング
(プレス)加工、或いはエッチング加工により行われて
いる。このうちパンチング加工はリードフレームの大量
生産に適した加工であり、他方のエッチング加工は中小
量生産に適した加工である。2. Description of the Related Art A lead frame is manufactured by punching (pressing) or etching. Among them, the punching process is a process suitable for mass production of lead frames, and the other etching process is a process suitable for small and medium volume production.
【0003】このような事から現在、リードフレームの
開発、試作段階では、エッチング加工を採用してリード
フレームが作製されている。この開発、試作段階におけ
るリードフレームの作製では、パターン設計からリード
フレーム作製までのスルータイムの短縮が開発期間の短
縮につながる。Under the circumstances described above, at the present stage of the development and trial production of the lead frame, the lead frame is manufactured by adopting the etching process. In the production of lead frames at the development and trial production stages, reduction of the through time from pattern design to production of lead frames leads to a reduction in development period.
【0004】特にASIC(特定用途向け集積回路)の
製造においては、そのリードフレームの開発期間の短縮
が製品の競争力強化の最も重要なファクタとなる。この
ような現状下において、エッチング加工によるリードフ
レームの作製工程は、図4に示すように、先ず図面や仕
様といった形で提示されたリードフレームの形状に基づ
いてリードフレームのパターン設計を行い、この設計さ
れたパターンデータに従ってマスクパターンを作成し、
露光マスクを作製する。Particularly in the manufacture of ASICs (application specific integrated circuits), shortening the lead frame development period is the most important factor for enhancing the competitiveness of products. Under the present circumstances, in the lead frame manufacturing process by etching, as shown in FIG. 4, first, the lead frame pattern is designed based on the lead frame shape presented in the form of drawings and specifications. Create a mask pattern according to the designed pattern data,
Make an exposure mask.
【0005】この後、露光マスクを用いてフレーム材に
対して露光処理を行い、次に現像処理、エッチング処理
を行ってリードフレームを作製している。従って、開
発、試作段階のリードフレーム作製では、パターン設計
の後からリードフレーム完成までに、露光マスクの作製
をはじめ、露光処理等の幾つもの工程を経なければなら
ず、リードフレーム開発の期間を短縮するにあたって制
限となっている。After that, the frame material is exposed using an exposure mask, and then developed and etched to produce a lead frame. Therefore, in lead frame production at the development and trial production stage, several steps such as exposure mask production and exposure processing must be performed after the pattern design until the lead frame is completed. There is a limit to shortening.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】以上のようにリードフ
レームの開発、試作段階において、リードフレーム作製
は、パターン設計の後、露光マスクの作製をはじめ、幾
つもの工程を経なければならず、リードフレーム開発の
期間を短縮することに制限がある。そこで本発明は、被
加工体の加工処理終了までの期間を短縮できるレーザ加
工方法及びその装置を提供することを目的とする。As described above, at the stage of lead frame development and trial production, lead frame production must go through a number of steps including pattern mask design, exposure mask production, and so on. There are restrictions on shortening the frame development period. SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to provide a laser processing method and apparatus capable of shortening the period until the processing of a workpiece is completed.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】請求項1によれば、被加
工体に対する加工パターンを示す設計パターンデータか
ら制御コードを生成する第1のステップと、この第1の
ステップで生成された制御コードに従って被加工体とレ
ーザ光とを相対的に移動制御して被処理体をレーザ加工
処理する第2のステップと、を有して上記目的を達成し
ようとするレーザ加工方法である。According to a first aspect of the present invention, there is provided a first step of generating a control code from design pattern data indicating a machining pattern for a workpiece, and a control code generated in the first step. And a second step of performing laser processing on the object to be processed by controlling the relative movement of the object to be processed and the laser light according to the method.
【0008】請求項2によれば、設計パターンデータの
うち設計変更のない部分のデータに従ってレーザ光を被
加工体に照射してレーザ加工処理する第1の加工工程
と、この第1の加工ステップで加工処理された被加工体
に対し、設計パターンデータの設計変更を行った部分の
データに従ってレーザ光を照射してレーザ加工処理する
第2の加工工程と、を有して上記目的を達成しようとす
るレーザ加工方法である。According to a second aspect of the present invention, a first processing step of irradiating a laser beam onto a workpiece according to the data of a portion of the design pattern data where there is no design change and performing a laser processing, and the first processing step. And a second processing step of performing a laser processing by irradiating a laser beam according to the data of the portion where the design pattern data is changed in design, to achieve the above object. Laser processing method.
【0009】請求項3によれば、リードフレーム作製の
加工パターンを示す設計パターンデータを用いている。
請求項4によれば、レーザ光を出力するレーザ発振装置
と、レーザ光の照射によりレーザ加工処理される被加工
体を載置する加工ステージと、この加工ステージとレー
ザ光照射位置とを相対的に移動させる移動手段と、被加
工体に対する加工パターンを示す設計パターンデータか
ら制御コードを生成し、この制御コードに従って移動手
段を移動制御する移動制御手段と、を備えて上記目的を
達成しようとするレーザ加工装置である。According to the third aspect, the design pattern data indicating the processing pattern for manufacturing the lead frame is used.
According to the fourth aspect, the laser oscillation device that outputs laser light, the processing stage on which the workpiece to be laser-processed by the laser light irradiation is placed, and the processing stage and the laser light irradiation position are relative to each other. In order to achieve the above-mentioned object, there are provided a moving means for moving the moving means and a moving control means for generating a control code from design pattern data indicating a working pattern for the workpiece and controlling the moving of the moving means according to the control code. It is a laser processing device.
【0010】請求項5によれば、移動制御手段は、設計
パターンデータのうち設計変更のない部分のデータに従
って移動手段を移動制御して被加工体をレーザ加工処理
する第1の加工制御部と、この第1の加工制御部で加工
処理された被加工体に対し、設計パターンデータの設計
変更を行った部分のデータに従って移動手段を移動制御
して被加工体をレーザ加工処理する第2の加工制御部
と、を有して上記目的を達成しようとするレーザ加工装
置である。According to a fifth aspect of the present invention, the movement control means includes a first processing control section which controls the movement of the movement means in accordance with the data of a portion of the design pattern that has no design change to perform laser processing on the workpiece. The second processing unit performs laser processing on the object to be processed by the first processing control unit in accordance with the data of the portion of the design pattern data whose design has been changed. A laser processing apparatus which has a processing control unit and is intended to achieve the above object.
【0011】請求項6によれば、移動制御手段は、設計
パターンデータから生成されたNCコードを受け、この
NCコードに従って移動手段を移動制御するNCコント
ローラである。請求項7によれば、設計パターンデータ
は、リードフレーム作製の加工パターンを示す。According to the sixth aspect, the movement control means is an NC controller that receives the NC code generated from the design pattern data and controls the movement of the movement means in accordance with the NC code. According to the seventh aspect, the design pattern data indicates a processing pattern for manufacturing the lead frame.
【0012】[0012]
【作用】請求項1によれば、設計パターンデータから制
御コードを生成し、この制御コードに従って被加工体と
レーザ光とを相対的に移動制御して被処理体をレーザ加
工処理する。これにより、パターン設計から被加工体の
加工処理終了までの期間が短縮される。According to the first aspect of the present invention, the control code is generated from the design pattern data, and the object to be processed is subjected to the laser processing by relatively controlling the movement of the object to be processed and the laser beam according to the control code. This shortens the period from the pattern design to the end of the processing of the workpiece.
【0013】請求項2によれば、設計パターンデータの
うち設計変更のない部分のデータに従ってレーザ光を被
加工体に照射してレーザ加工処理し、この後に、設計パ
ターンデータの設計変更を行った部分のデータに従って
レーザ光を、先に加工処理された被加工体に対し照射し
てレーザ加工処理を行う。これにより、例えば各種の被
加工体をレーザ加工する場合、各種被加工体のパターン
設計から加工処理終了までの期間が短縮される。According to the second aspect of the present invention, the object to be processed is irradiated with the laser beam according to the data of the portion of the design pattern data where the design is not changed to perform the laser processing, and thereafter, the design of the design pattern data is changed. Laser processing is performed by irradiating the object to be processed previously with laser light according to the data of the part. Thus, for example, when laser processing various types of workpieces, the period from the pattern design of the various workpieces to the end of the processing is shortened.
【0014】請求項3によれば、リードフレーム作製の
加工パターンを示す設計パターンデータを用いて被加工
体に対するレーザ加工を行う。請求項4によれば、レー
ザ発振装置から出力されたレーザ光を加工ステージ上に
載置された被加工体に照射してレーザ加工する場合、設
計パターンデータから制御コードを生成し、この制御コ
ードに従って移動手段を移動制御することにより、加工
ステージとレーザ光照射位置とを相対的に移動させて被
加工体をレーザ加工処理する。According to the third aspect, the laser processing is performed on the object to be processed using the design pattern data indicating the processing pattern for manufacturing the lead frame. According to the fourth aspect, when the laser beam output from the laser oscillator is applied to the workpiece placed on the processing stage for laser processing, a control code is generated from the design pattern data, and the control code is generated. By performing movement control of the moving means in accordance with the above, the processing stage and the laser light irradiation position are relatively moved to perform laser processing on the workpiece.
【0015】請求項5によれば、レーザ発振装置から出
力されたレーザ光を加工ステージ上に載置された被加工
体に照射してレーザ加工する場合、先ず、設計パターン
データのうち設計変更のない部分のデータに従って加工
ステージとレーザ光照射位置とを相対的に移動させて被
加工体をレーザ加工処理し、この後、この加工処理され
た被加工体に対し、設計変更を行った部分のデータに従
って加工ステージとレーザ光照射位置とを相対的に移動
させて被加工体をレーザ加工処理する。According to the fifth aspect, when the laser beam output from the laser oscillating device is applied to the object to be processed placed on the processing stage to perform the laser processing, first, the design pattern data of the design change is changed. The processing stage and the laser beam irradiation position are moved relative to each other in accordance with the data of the non-processed portion to perform the laser processing on the workpiece, and thereafter, the design of the processed workpiece is changed. According to the data, the processing stage and the laser light irradiation position are relatively moved to perform laser processing on the workpiece.
【0016】請求項6によれば、NCコントローラにお
いて設計パターンデータのNCコードを受け、このNC
コードに従って加工ステージとレーザ光照射位置とを相
対的に移動制御する。According to the sixth aspect, the NC controller receives the NC code of the design pattern data, and the NC code is received.
The processing stage and the laser beam irradiation position are relatively controlled according to the code.
【0017】請求項7によれば、設計パターンデータは
リードフレーム作製の加工パターンであり、このデータ
に従って加工ステージとレーザ光照射位置とを相対的に
移動制御することにより、被加工体をレーザ加工処理し
てリードフレームを作製する。According to the seventh aspect, the design pattern data is a processing pattern for manufacturing the lead frame, and the processing stage and the laser light irradiation position are relatively controlled in accordance with the data to perform laser processing on the workpiece. Process to produce lead frame.
【0018】[0018]
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
して説明する。図1はリードフレーム作製用のレーザ加
工装置の構成図である。XYステージから成る加工テー
ブル1上には、Θステージから成る傾き補正機構2が設
けられ、さらにこの傾き補正機構2上に加工ステージ3
が設けられている。そして、この加工ステージ3上に被
加工体としてのフレーム材4が載置される。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a configuration diagram of a laser processing apparatus for producing a lead frame. A tilt correction mechanism 2 composed of a Θ stage is provided on a machining table 1 composed of an XY stage, and the machining stage 3 is mounted on the tilt correction mechanism 2.
Is provided. Then, the frame material 4 as a workpiece is placed on the processing stage 3.
【0019】これら加工テーブル1及び傾き補正機構2
は、NC(数値制御)コントローラ6により動作制御さ
れる。又、フレーム供給機構7は、加工ステージ3上の
フレーム材4に対するレーザ加工処理が終了する毎に、
加工ステージ3上にフレーム材4をロードする機能を有
している。The processing table 1 and the tilt correction mechanism 2
Is controlled by an NC (numerical control) controller 6. In addition, the frame supply mechanism 7 sets the frame material 4 on the processing stage 3 each time the laser processing is completed.
It has a function of loading the frame material 4 on the processing stage 3.
【0020】なお、レーザ加工処理の終了したフレーム
材4、すなわちリードフレームは別途設置されたアンロ
ード機構によりアンロードされる。一方、レーザ発振装
置8は、レーザ発振制御装置9により発振動作が制御さ
れる。The frame material 4 after the laser processing, that is, the lead frame is unloaded by a separately installed unload mechanism. On the other hand, the laser oscillation device 8 is controlled by the laser oscillation control device 9 in oscillation operation.
【0021】このレーザ発振装置8の出力レーザ光路に
は、このレーザ光8aをフレーム材4上に導くためのレ
ーザ伝送光学系を構成する各ミラー10a〜10cが配
置されている。In the output laser optical path of the laser oscillator 8, mirrors 10a to 10c constituting a laser transmission optical system for guiding the laser light 8a onto the frame member 4 are arranged.
【0022】これらミラー10a〜10cのうち最終の
ミラー10cの光路上には、レーザ光をフレーム材4の
面上に集光する集光光学系11が配置されている。又、
フレーム材4の上方には、加工ノズル12がレーザ光軸
を中心軸として配置されている。この加工ノズル12
は、アシストガス供給機構13からレーザ加工のアシス
トガスの供給を受け、このアシストガスをレーザ光と同
軸にフレーム材4に吹付ける機能を有している。On the optical path of the final mirror 10c of the mirrors 10a to 10c, a condensing optical system 11 for condensing the laser light on the surface of the frame member 4 is arranged. or,
A processing nozzle 12 is arranged above the frame member 4 with the laser optical axis as the central axis. This processing nozzle 12
Has a function of receiving an assist gas for laser processing from the assist gas supply mechanism 13 and blowing the assist gas onto the frame member 4 coaxially with the laser light.
【0023】ホストコンピュータ14は、NCコントロ
ーラ6、フレーム供給機構7、レーザ発振制御装置9、
及びアシストガス供給機構13を動作制御する機能を有
している。The host computer 14 includes an NC controller 6, a frame supply mechanism 7, a laser oscillation controller 9,
It also has a function of controlling the operation of the assist gas supply mechanism 13.
【0024】具体的にホストコンピュータ14は、次の
各機能を有している。すなわち、CAD等からフレーム
材4に対する加工パターンを示す設計パターンデータを
受け、この設計パターンデータからNCコードを生成し
てNCコントローラ6に送信する機能を有している。Specifically, the host computer 14 has the following functions. That is, it has a function of receiving design pattern data indicating a processing pattern for the frame material 4 from CAD or the like, generating an NC code from the design pattern data, and transmitting the NC code to the NC controller 6.
【0025】より具体的には、CAD等から送られてく
る設計パターンデータのうち設計変更のない部分のデー
タを受け、このデータからNCコードを生成してNCコ
ントローラ6に送信し、かつレーザ発振制御装置9に発
振指令を送信し、これにより加工テーブル1を移動制御
してフレーム材4をレーザ加工処理する第1の加工制御
部としての機能、この第1の加工制御部で加工処理され
たフレーム材4に対し、CAD等から送られてくる設計
パターンデータの設計変更を行った部分のデータを受
け、このデータからNCコードを生成してNCコントロ
ーラ6に送信し、かつレーザ発振制御装置9に発振指令
を送信し、これにより加工テーブル1を移動制御してフ
レーム材4をレーザ加工処理する第2の加工制御部とし
ての機能を有している。More specifically, of the design pattern data sent from CAD or the like, the data of the portion having no design change is received, an NC code is generated from this data and sent to the NC controller 6, and laser oscillation is performed. A function as a first processing control unit that transmits an oscillation command to the control device 9 to control the movement of the processing table 1 to perform laser processing of the frame material 4, by which processing processing is performed by the first processing control unit. The frame material 4 receives the data of the portion of the design pattern data, which has been subjected to design change, sent from CAD or the like, generates an NC code from this data, transmits the NC code to the NC controller 6, and the laser oscillation control device 9 Has a function as a second processing control section that transmits an oscillation command to the laser beam and controls the movement of the processing table 1 to perform laser processing on the frame material 4. .
【0026】又、ホストコンピュータ14は、NCコー
ドをNCコントローラ6に送信し、かつレーザ発振制御
装置9に発振指令を送信するとともに、アシストガス供
給機構13に対してガス供給指令を送信する機能を有し
ている。Further, the host computer 14 has a function of transmitting the NC code to the NC controller 6 and the oscillation command to the laser oscillation controller 9 and the gas supply command to the assist gas supply mechanism 13. Have
【0027】又、ホストコンピュータ14は、位置決め
認識機構15からのフレーム材4の傾き・位置の補正量
を受け、この補正量に従って加工テーブル1及び傾き補
正機構2を動作制御してフレーム材4の位置決めを行う
機能を有している。The host computer 14 receives the tilt / position correction amount of the frame member 4 from the positioning recognition mechanism 15, and controls the operation of the machining table 1 and the tilt correction mechanism 2 in accordance with this correction amount to control the movement of the frame member 4. It has the function of positioning.
【0028】次に上記の如く構成された装置を用いてリ
ードフレーム作製について図2に示すリードフレーム作
製工程図を参照して説明する。CAD等において、図面
や仕様といった形で提示されたリードフレームの形状に
基づいてリードフレームの設計パターンデータが作成さ
れる。Next, production of a lead frame using the apparatus constructed as described above will be described with reference to the lead frame production process chart shown in FIG. In CAD or the like, design pattern data of the lead frame is created based on the shape of the lead frame presented in the form of drawings or specifications.
【0029】このCADは、作成された設計パターンデ
ータをホストコンピュータ14に送る。ここで、リード
フレームは、例えば図3(a) に示す形状をしており、こ
のリードフレームには、同図(b) に示す開発、試作段階
で設計変更のないリードフレーム部分と、同図(c) に示
す開発、試作段階で設計変更の可能性のあるリードフレ
ームとがある。This CAD sends the created design pattern data to the host computer 14. Here, the lead frame has, for example, the shape shown in FIG. 3 (a). This lead frame has the same lead frame portion as shown in FIG. There is a lead frame whose design may be changed at the development and prototype stages shown in (c).
【0030】従って、ホストコンピュータ14には、先
ず、リードフレーム全体形状のうち図3(b) に示す開
発、試作段階で設計変更のないリードフレーム部分のデ
ータが送られる。Therefore, first of all, data of the lead frame portion of the entire shape of the lead frame which is not changed in design at the development and trial production stage shown in FIG. 3B is sent to the host computer 14.
【0031】このホストコンピュータ14は、設計変更
のないリードフレーム部分のデータを受け、このデータ
からNCコードを生成してNCコントローラ6に送信す
る。又、ホストコンピュータ14は、NCコード送信と
ともに、レーザ発振制御装置9に発振指令を送信し、ア
シストガス供給機構13に対してガス供給指令を送信す
る。The host computer 14 receives the data of the lead frame portion which has no design change, generates an NC code from this data, and transmits it to the NC controller 6. Further, the host computer 14 sends an oscillation command to the laser oscillation control device 9 as well as the NC code, and sends a gas supply command to the assist gas supply mechanism 13.
【0032】これら指令を送信されることによりフレー
ム材4に対するレーザ加工が行われる。すなわち、レー
ザ発振装置8はレーザ光を出力し、このレーザ光は、各
ミラー10a〜10cにより集光光学系11に導かれ、
この集光光学系11により集光されてフレーム材4に照
射される。Laser processing is performed on the frame member 4 by transmitting these commands. That is, the laser oscillator 8 outputs a laser beam, and the laser beam is guided to the condensing optical system 11 by the mirrors 10a to 10c,
It is condensed by the condensing optical system 11 and is applied to the frame member 4.
【0033】これと共にアシストガス供給機構13は、
アシストガスを加工ノズル12に供給するので、この加
工ノズル12からアシストガスがレーザ光と同軸でフレ
ーム材4に吹付けられる。At the same time, the assist gas supply mechanism 13
Since the assist gas is supplied to the processing nozzle 12, the assist gas is sprayed from the processing nozzle 12 onto the frame member 4 coaxially with the laser light.
【0034】又、このときNCコントローラ6は、設計
変更のないリードフレーム部分のデータのNCコードに
従って加工テーブル1をXY軸方向に移動制御する。従
って、フレーム材4は、レーザ光の照射による切断加工
が行われて図3(b)に示す設計変更のないリードフレー
ム部分のみが形成される。Further, at this time, the NC controller 6 controls the movement of the machining table 1 in the XY axis directions in accordance with the NC code of the data of the lead frame portion whose design is not changed. Therefore, the frame member 4 is cut by laser light irradiation to form only the lead frame portion having no design change shown in FIG. 3B.
【0035】これ以降、設計変更のないリードフレーム
部分のみのレーザ加工が終了する毎に、このフレーム材
4がアンロードされ、次のフレーム材4がフレーム供給
機構7によりロードされ、上記設計変更のないリードフ
レーム部分のレーザ加工処理が繰り返される。After that, each time the laser processing of only the lead frame portion without design change is completed, this frame material 4 is unloaded, the next frame material 4 is loaded by the frame supply mechanism 7, and the above-mentioned design change is performed. The laser processing of the unleaded frame portion is repeated.
【0036】これによって設計変更のないリードフレー
ム部分が予め作製される。次に、ホストコンピュータ1
4には、リードフレーム全体形状のうち図3(c)に示す
開発、試作段階で設計変更の可能性のあるリードフレー
ム部分のデータ、その大部分は設計変更されたデータが
送られる。As a result, the lead frame portion having no design change is manufactured in advance. Next, the host computer 1
Data of the lead frame portion of which the design is likely to be changed in the development and trial production stage shown in FIG. 3 (c) of the entire shape of the lead frame, most of which is the design changed data is sent to 4.
【0037】このホストコンピュータ14は、設計変更
されたリードフレーム部分のデータを受け、このデータ
からNCコードを生成してNCコントローラ6に送信す
る。又、ホストコンピュータ14は、上記同様にNCコ
ード送信とともに、レーザ発振制御装置9に発振指令を
送信し、アシストガス供給機構13に対してガス供給指
令を送信する。The host computer 14 receives the data of the redesigned lead frame portion, generates an NC code from this data, and transmits it to the NC controller 6. Further, the host computer 14 transmits the NC code as well as the oscillation command to the laser oscillation control device 9 and transmits the gas supply command to the assist gas supply mechanism 13 in the same manner as described above.
【0038】一方、フレーム供給機構7は、先に設計変
更のないリードフレーム部分を形成したフレーム材4を
加工ステージ3上に載置する。しかるに、この状態に設
計変更のないリードフレーム部分を形成したフレーム材
4対してレーザ加工が行われる。On the other hand, the frame supply mechanism 7 places the frame material 4 on which the lead frame portion having no design change is formed, on the processing stage 3. However, laser processing is performed on the frame member 4 on which the lead frame portion having no design change is formed in this state.
【0039】すなわち、レーザ発振装置8はレーザ光を
出力し、このレーザ光は、各ミラー10a〜10cによ
り集光光学系11に導かれ、この集光光学系11により
集光されてフレーム材4に照射される。That is, the laser oscillating device 8 outputs a laser beam, and this laser beam is guided to the condensing optical system 11 by each of the mirrors 10a to 10c and is condensed by the condensing optical system 11 to be made into the frame member 4. Is irradiated.
【0040】これと共にアシストガス供給機構13は、
アシストガスを加工ノズル12に供給するので、この加
工ノズル12からアシストガスがレーザ光と同軸でフレ
ーム材4に吹付けられる。At the same time, the assist gas supply mechanism 13
Since the assist gas is supplied to the processing nozzle 12, the assist gas is sprayed from the processing nozzle 12 onto the frame member 4 coaxially with the laser light.
【0041】又、このときNCコントローラ6は、設計
変更されたリードフレーム部分のデータのNCコードに
従って加工テーブル1をXY軸方向に移動制御する。従
って、図3(b) に示す既に設計変更のないリードフレー
ム部分が形成したフレーム材4に対し、レーザ加工処理
により同図(c) に示す設計変更されたリードフレーム部
分が形成される。At this time, the NC controller 6 controls the movement of the machining table 1 in the XY axis directions according to the NC code of the data of the lead frame portion whose design has been changed. Therefore, the redesigned leadframe portion shown in FIG. 3C is formed by the laser processing on the frame material 4 on which the leadframe portion having no design modification shown in FIG. 3B is already formed.
【0042】この結果として最終的なリードフレームの
作製が終了する。これ以降、最終的なリードフレームの
作製が終了する毎に、このリードフレームがアンロード
され、次のフレーム材4がフレーム供給機構7によりロ
ードされ、上記設計変更されたリードフレーム部分のレ
ーザ加工処理が繰り返されて最終的なリードフレームの
作製が終了する。As a result, the production of the final lead frame is completed. Thereafter, each time the final production of the lead frame is completed, this lead frame is unloaded, the next frame material 4 is loaded by the frame supply mechanism 7, and the laser processing of the lead frame portion whose design has been changed is performed. Is repeated to complete the production of the final lead frame.
【0043】なお、リードフレームの作製において、設
計変更の可能性がなければ、リードフレーム全体の設計
パターンデータが、ホストコンピュータ14に送られ
る。そして、このホストコンピュータ14は、リードフ
レーム全体の設計パターンデータからNCコードを生成
し、このNCコードをNCコントローラ6に送信するこ
とにより、フレーム材4に対するレーザ加工処理が行わ
れる。In the production of the lead frame, if there is no possibility of design change, the design pattern data of the entire lead frame is sent to the host computer 14. Then, the host computer 14 generates an NC code from the design pattern data of the entire lead frame, and transmits this NC code to the NC controller 6 to perform the laser processing process on the frame material 4.
【0044】このように上記一実施例においては、設計
パターンデータからNCコードを生成し、このNCコー
ドに従ってフレーム材4を移動制御してフレーム材4を
レーザ加工処理するようにしたので、エッチング処理に
よりリードフレームを作製する場合と比較して遥かにフ
レーム材4からリードフレームを作製するまでの期間を
短縮できる。As described above, in the above-described embodiment, since the NC code is generated from the design pattern data and the frame material 4 is controlled to move according to the NC code to perform the laser processing on the frame material 4, the etching processing is performed. Thus, compared with the case of manufacturing a lead frame, the period from the frame material 4 to manufacturing of the lead frame can be much shortened.
【0045】そのうえ、設計パターンデータのうち設計
変更のない部分のデータに従って加工ステージ1を移動
制御してフレーム材4をレーザ加工処理し、この後、こ
の加工処理されたフレーム材4に対し、設計変更を行っ
た部分のデータに従って加工ステージ1を移動制御して
フレーム材4をレーザ加工処理して最終的なリードフレ
ームを作製するようにしたので、開発、試作段階にある
各種リードフレームを作製する場合、設計変更した部分
のデータのみのレーザ加工処理だけで済み、これによ
り、パターン設計から各種リードフレーム作製までのス
ルータイムを短縮でき、特にASICの製造において
は、その各種リードフレームの開発期間の短縮により製
品の競争力強化を図ることができる。Further, the machining stage 1 is controlled to move in accordance with the data of the portion of the design pattern where the design is not changed, and the frame material 4 is subjected to the laser processing. Thereafter, the frame material 4 subjected to the processing is designed. Since the processing stage 1 is controlled to move according to the data of the changed portion and the frame material 4 is subjected to the laser processing to produce the final lead frame, various lead frames in the development and trial production stages are produced. In this case, it is only necessary to perform laser processing only on the data of the part whose design has been changed, and this makes it possible to reduce the through time from the pattern design to the production of various lead frames. By shortening the product competitiveness can be strengthened.
【0046】なお、本発明は、上記一実施例に限定され
るものでなく次の通り変更してもよい。例えば、フレー
ム材4に対するレーザ加工処理を行う場合、加工テーブ
ル1をNC制御により移動させているが、これを加工テ
ーブル1を固定し、レーザ光の照射位置をNC制御によ
り移動させる構成としてもよい。又、NC制御に限ら
ず、設計パターンデータからある種の制御コードを生成
し、この制御コードに従って加工ステージ1を移動制御
するようにしてもよい。The present invention is not limited to the above-mentioned one embodiment but may be modified as follows. For example, when performing the laser processing on the frame material 4, the processing table 1 is moved by NC control, but the processing table 1 may be fixed and the irradiation position of the laser light may be moved by NC control. . Further, not only the NC control but also a kind of control code may be generated from the design pattern data and the movement of the machining stage 1 may be controlled according to this control code.
【0047】[0047]
【発明の効果】以上詳記したように本発明によれば、被
加工体の加工処理終了までの期間を短縮できるレーザ加
工方法及びその装置を提供できる。As described in detail above, according to the present invention, it is possible to provide a laser processing method and apparatus capable of shortening the period until the end of the processing of the workpiece.
【図1】本発明に係わるレーザ加工装置をリードフレー
ム作製に適用した場合の一実施例を示す構成図。FIG. 1 is a configuration diagram showing an embodiment in which a laser processing apparatus according to the present invention is applied to manufacturing a lead frame.
【図2】同装置によるリードフレーム作製の工程図。FIG. 2 is a process diagram of manufacturing a lead frame by the same apparatus.
【図3】設計変更のない部分及びその可能性のある部分
を示すリードフレームの形状図。FIG. 3 is a shape view of a lead frame showing a portion where there is no design change and a portion which may possibly change.
【図4】従来のリードフレーム作製を示す工程図。FIG. 4 is a process drawing showing the production of a conventional lead frame.
1…加工テーブル、2…傾き補正機構、3…加工ステー
ジ、4…フレーム材、6…NCコントローラ、7…フレ
ーム供給機構、8…レーザ発振装置、9…レーザ発振制
御装置、10a〜10c…ミラー、11…集光光学系、
12…加工ノズル、13…アシストガス供給機構、14
…ホストコンピュータ、15…位置決め認識機構。1 ... Machining table, 2 ... Tilt correction mechanism, 3 ... Machining stage, 4 ... Frame material, 6 ... NC controller, 7 ... Frame supply mechanism, 8 ... Laser oscillation device, 9 ... Laser oscillation control device, 10a-10c ... Mirror , 11 ... Focusing optical system,
12 ... Machining nozzle, 13 ... Assist gas supply mechanism, 14
... host computer, 15 ... positioning recognition mechanism.
Claims (7)
計パターンデータから制御コードを生成する第1のステ
ップと、 この第1のステップで生成された制御コードに従って前
記被加工体とレーザ光とを相対的に移動制御して前記被
処理体をレーザ加工処理する第2のステップと、を有す
ることを特徴とするレーザ加工方法。1. A first step of generating a control code from design pattern data indicating a processing pattern for a workpiece, and the workpiece and the laser beam relative to each other according to the control code generated in the first step. Second step of controlling the movement of the object to be laser-processed by subjecting the object to laser-processing, the laser-processing method.
い部分のデータに従って前記レーザ光を前記被加工体に
照射してレーザ加工処理する第1の加工工程と、 この第1の加工ステップで加工処理された前記被加工体
に対し、前記設計パターンデータの設計変更を行った部
分のデータに従って前記レーザ光を照射してレーザ加工
処理する第2の加工工程と、を有することを特徴とする
レーザ加工方法。2. A first processing step of irradiating the laser beam onto the object to be processed and performing a laser processing according to data of a portion of the design pattern data where there is no design change, and a processing processing in the first processing step. A second processing step of performing laser processing by irradiating the laser beam on the processed object subjected to design change of the design pattern data. Method.
す設計パターンデータを用いることを特徴とする請求項
1又は2記載のレーザ加工方法。3. The laser processing method according to claim 1, wherein design pattern data indicating a processing pattern for manufacturing the lead frame is used.
体を載置する加工ステージと、 この加工ステージと前記レーザ光の照射位置とを相対的
に移動させる移動手段と、 前記被加工体に対する加工パターンを示す設計パターン
データから制御コードを生成し、この制御コードに従っ
て前記移動手段を移動制御する移動制御手段と、を具備
したことを特徴とするレーザ加工装置。4. A laser oscillating device for outputting a laser beam, a processing stage on which a workpiece to be laser-processed by the irradiation of the laser beam is placed, and the processing stage and the irradiation position of the laser beam are relative to each other. And a movement control unit that generates a control code from design pattern data indicating a processing pattern for the workpiece and that controls the movement of the movement unit according to the control code. Laser processing equipment.
うち設計変更のない部分のデータに従って移動手段を移
動制御して被加工体をレーザ加工処理する第1の加工制
御部と、 この第1の加工制御部で加工処理された前記被加工体に
対し、前記設計パターンデータの設計変更を行った部分
のデータに従って前記移動手段を移動制御して前記被加
工体をレーザ加工処理する第2の加工制御部と、を有す
ることを特徴とする請求項4記載のレーザ加工装置。5. The movement control means includes a first processing control section that controls the movement of the movement means according to the data of a portion of the design pattern data where there is no design change to perform laser processing on the workpiece, and the first processing control section. Second processing for performing laser processing on the object to be processed by the processing control unit according to data of a portion of the design pattern data whose design has been changed to perform laser processing on the object to be processed. The laser processing apparatus according to claim 4, further comprising a control unit.
ら生成されたNCコードを受け、このNCコードに従っ
て前記移動手段を移動制御するNCコントローラである
ことを特徴とする請求項4記載のレーザ加工装置。6. The laser processing apparatus according to claim 4, wherein the movement control means is an NC controller that receives an NC code generated from the design pattern data, and controls the movement of the movement means according to the NC code. .
作製の加工パターンを示すことを特徴とする請求項4、
5又は6記載のレーザ加工装置。7. The design pattern data indicates a processing pattern for manufacturing a lead frame.
The laser processing apparatus according to 5 or 6.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6171233A JPH0833992A (en) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | Laser beam processing method and device therefor |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP6171233A JPH0833992A (en) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | Laser beam processing method and device therefor |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0833992A true JPH0833992A (en) | 1996-02-06 |
Family
ID=15919519
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP6171233A Pending JPH0833992A (en) | 1994-07-22 | 1994-07-22 | Laser beam processing method and device therefor |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0833992A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6084204A (en) * | 1997-04-21 | 2000-07-04 | Samsung Aerospace Industries, Ltd. | Leadframe manufacturing apparatus using laser beams |
-
1994
- 1994-07-22 JP JP6171233A patent/JPH0833992A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6084204A (en) * | 1997-04-21 | 2000-07-04 | Samsung Aerospace Industries, Ltd. | Leadframe manufacturing apparatus using laser beams |
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