JPH08335780A - Production of multilayer ceramic wiring board - Google Patents

Production of multilayer ceramic wiring board

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Publication number
JPH08335780A
JPH08335780A JP17534795A JP17534795A JPH08335780A JP H08335780 A JPH08335780 A JP H08335780A JP 17534795 A JP17534795 A JP 17534795A JP 17534795 A JP17534795 A JP 17534795A JP H08335780 A JPH08335780 A JP H08335780A
Authority
JP
Japan
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conductor
photosensitive paste
green sheet
wiring
wiring board
Prior art date
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Pending
Application number
JP17534795A
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Japanese (ja)
Inventor
Kazunari Tanaka
一成 田中
Sumio Nakano
澄夫 中野
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Original Assignee
Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
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Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc filed Critical Sumitomo Metal SMI Electronics Device Inc
Priority to JP17534795A priority Critical patent/JPH08335780A/en
Publication of JPH08335780A publication Critical patent/JPH08335780A/en
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    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/09Use of materials for the conductive, e.g. metallic pattern
    • H05K1/092Dispersed materials, e.g. conductive pastes or inks
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/02Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which the conductive material is applied to the surface of the insulating support and is thereafter removed from such areas of the surface which are not intended for current conducting or shielding
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/46Manufacturing multilayer circuits
    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
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    • H05K3/4611Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards
    • H05K3/4626Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials
    • H05K3/4629Manufacturing multilayer circuits by laminating two or more circuit boards characterised by the insulating layers or materials laminating inorganic sheets comprising printed circuits, e.g. green ceramic sheets

Abstract

PURPOSE: To enhance the migration resistance while satisfying the requirements of conduction resistance, metallization strength and solder wettability by coating a ceramic green sheet with a plurality of kinds of photosensitive paste composed of conductor composition powder such that the coatings are overlapped in the range for forming each wiring and then exposing the photosensitive paste. CONSTITUTION: A ceramic green sheet is coated uniformly with two kinds or more of photosensitive paste composed, respectively, of conductor compositions while filling the range for forming each conductor wiring such that coatings of respective photosensitive paste are overlapped. The conductor wiring part of photosensitive paste coating is then irradiated selectively with ultraviolet rays through a shade mask and the unirradiated part is dissolved using a specified developer and removed. Subsequently, a first layer green sheet 4 and a third layer green sheet 5 are thermocompressed to the upper and lower sides of the green sheet 3 on which conductor patterns 1, 2 are formed. Finally, it is fired and brazed with I/O pins 7.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、電子回路部品として使
用される多層セラミック配線基板の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board used as an electronic circuit component.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、ICパッケージ、多層配線基板等
の高機能化、高密度化、小型化に伴い多層セラミック配
線基板を形成するセラミックグリーンシート上への導体
配線も狭ピッチで微細な導体配線が必要となってきてい
る。一方、導体配線の導通抵抗やメタライズ強度および
半田濡れ性等の要求特性はより一層厳しいものとなって
きている。
2. Description of the Related Art In recent years, conductor wiring on a ceramic green sheet forming a multilayer ceramic wiring substrate has become fine and fine conductor wiring with a narrow pitch as IC packages, multilayer wiring substrates, etc. have become higher in function, higher in density and smaller in size. Is needed. On the other hand, the required characteristics such as conduction resistance, metallization strength and solder wettability of the conductor wiring are becoming more severe.

【0003】狭ピッチで微細な導体配線を形成する方法
として、通常の厚膜印刷法に替わりフォトリソグラフィ
ー法を応用した導体配線形成法が提案されている。例え
ば、感光性ペーストをセラミックグリーンシートに全面
塗布し、導体配線部に紫外線を選択的に照射した後、所
定の現像液を用いて現像し、グリーンシート上に導体配
線を得るものである。
As a method for forming a fine conductor wiring with a narrow pitch, a conductor wiring forming method applying a photolithography method in place of the usual thick film printing method has been proposed. For example, a photosensitive paste is applied to the entire surface of a ceramic green sheet, and the conductor wiring portion is selectively irradiated with ultraviolet rays, followed by development using a predetermined developing solution to obtain a conductor wiring on the green sheet.

【0004】また導体配線の導通抵抗やメタライズ強度
および半田濡れ性等の要求特性を満足させる方法とし
て、セラミックグリーンシート上に形成される導体配線
を部分的に組成を異にする2種以上の導体配線より形成
し、各部分における導体配線を要求特性に合うように工
夫している。この例として、800〜1000℃の低温
で焼成可能な多層セラミック配線基板に於いて、セラミ
ック基板の内層に安価なAgを主体とする導体を配置
し、表層にはAg−Pdを主体とし、導通抵抗がAg導
体よりも低い耐マイグレーション性に優れた導体を配置
した低温焼成セラミック基板がある。これを構成する積
層前の表層セラミックグリーンシートは、Ag導体とA
g−Pd導体を連結した導体配線構造となっている。ま
た他の例として、アルミナ系の高温焼成基板に於いて
は、セラミック基板の内層にWまたはMoを主体とする
導体を配置し、表層のワイヤーボンディング性や半田付
け性等のメタライズ強度を必要とする部分には、ガラス
や共材等を添加したWまたはMoを配置した多層セラミ
ック基板がある。これを構成する積層前の表層セラミッ
クグリーンシートは、WまたはMo導体とWまたはMo
にガラスや共材等を添加した導体を連結した導体配線構
造となっている。
Further, as a method for satisfying the required characteristics such as conduction resistance, metallization strength, and solder wettability of the conductor wiring, two or more kinds of conductors having partially different compositions for the conductor wiring formed on the ceramic green sheet are used. The wiring is formed and the conductor wiring in each part is devised so as to meet the required characteristics. As an example of this, in a multilayer ceramic wiring board that can be fired at a low temperature of 800 to 1000 ° C., an inexpensive conductor containing Ag as a main component is arranged in the inner layer of the ceramic substrate, and Ag-Pd as the main component is used as the surface layer to conduct electricity. There is a low-temperature fired ceramic substrate in which a conductor having a resistance lower than that of an Ag conductor and excellent in migration resistance is arranged. The surface layer ceramic green sheet before lamination constituting this is composed of Ag conductor and A
It has a conductor wiring structure in which g-Pd conductors are connected. As another example, in an alumina-based high temperature fired substrate, a conductor mainly composed of W or Mo is arranged in the inner layer of the ceramic substrate, and metallization strength such as wire bonding property and solderability of the surface layer is required. In the portion to be formed, there is a multilayer ceramic substrate in which W or Mo added with glass or a common material is arranged. The surface layer ceramic green sheet before lamination which constitutes this is composed of a W or Mo conductor and a W or Mo conductor.
It has a conductor wiring structure in which conductors to which glass or common material is added are connected.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】[Problems to be Solved by the Invention]

【0006】しかし、前述した多層セラミック配線基板
の製造方法では、フォトリソグラフィー法を応用して導
体配線を形成した場合、狭ピッチで微細な導体配線を形
成できるものの、微細な導体は導通抵抗やメタライズ強
度を劣らせる。また低温焼成基板におけるAg導体は、
配線間隔が狭くなると湿度下で表面のAg導体が、低温
焼成基板に含まれるガラス中を容易にマイグレーション
(拡散)する性質があり、湿度下で電圧を印加すると絶
縁層の絶縁の劣化が起こる。このように導体配線の微細
化あるいは狭ピッチ化により要求特性が満足できなくな
ってきている。
However, in the above-mentioned method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board, when the conductor wiring is formed by applying the photolithography method, fine conductor wiring can be formed with a narrow pitch, but the fine conductor has conductive resistance and metallization. Inferior strength. The Ag conductor in the low temperature fired substrate is
When the wiring interval becomes narrow, the surface Ag conductor has the property of easily migrating (diffusing) in the glass contained in the low temperature fired substrate under humidity, and the insulation of the insulating layer deteriorates when a voltage is applied under humidity. As described above, the required characteristics cannot be satisfied due to the miniaturization or narrow pitch of the conductor wiring.

【0007】一方、導体配線の導通抵抗やメタライズ強
度および半田濡れ性等の要求特性を満足させるために、
セラミックグリーンシート上に形成される導体配線を部
分的に組成を異にする2種以上の導体より形成する場
合、従来の厚膜印刷法では各々の導体の連結は非常に困
難であり位置ズレが発生する。さらに印刷用スクリーン
の伸縮や印刷ペーストの滲みが発生するため導体配線の
微細化あるいは狭ピッチ化に限界があった。
On the other hand, in order to satisfy required characteristics such as conduction resistance of conductor wiring, metallizing strength and solder wettability,
When the conductor wiring formed on the ceramic green sheet is formed of two or more kinds of conductors having partially different compositions, it is very difficult to connect the conductors by the conventional thick film printing method, and the positional deviation occurs. appear. Further, expansion and contraction of the printing screen and bleeding of the printing paste have been a limitation in miniaturizing the conductor wiring or narrowing the pitch.

【0008】本発明は、上記した課題に対処して創案し
たものであって、多層セラミック配線基板の微細配線導
体を、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法
により形成し、さらにその際の狭ピッチ、微細配線に係
わる耐マイグレーション性の改善や導通抵抗、メタライ
ズ強度および半田濡れ性等の要求特性を満足する多層セ
ラミック配線基板の製造方法を提供するものである。
The present invention was devised in response to the above-mentioned problems, in which a fine wiring conductor of a multilayer ceramic wiring substrate is formed by a photolithography method using a photosensitive paste, and a narrow pitch at that time is formed. The present invention provides a method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board that satisfies the required characteristics such as improvement of migration resistance related to fine wiring, conduction resistance, metallization strength and solder wettability.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】そして、上記課題を解決
するための手法として、本発明に係る多層セラミック配
線基板の製造方法は、部分的に組成を異にする2種以上
の導体配線を有するグリーンシートと、他のグリーンシ
ートを各々1枚以上積層した後、焼成して得られる多層
セラミック配線基板の製造方法において、セラミックグ
リーンシート上に各々の導体組成粉末よりなる2種以上
の感光性ペーストを各々の導体配線が形成される範囲を
満たすように均一に、かつ各々の感光性ペースト塗布膜
が互いに重なり合うように塗布する感光性ペースト塗布
工程と、該感光性ペースト塗布膜の導体配線部に、遮光
マスクにより紫外線を選択的に照射する露光工程と、該
感光性ペースト塗布膜の紫外線が照射されていない部分
を、所定の現像液により溶解除去する現像工程と、これ
により得られた部分的に組成を異にする2種以上の導体
配線を有するグリーンシートを、他のグリーンシートと
積層した後、焼成する工程を有することを特徴とする多
層セラミック配線基板の製造方法である。
As a method for solving the above problems, the method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board according to the present invention has two or more kinds of conductor wirings partially different in composition. In a method of manufacturing a multilayer ceramic wiring board obtained by laminating one or more green sheets and one or more other green sheets respectively, and firing the same, two or more kinds of photosensitive pastes made of respective conductor composition powders on the ceramic green sheets. And a photosensitive paste coating step of uniformly coating the photosensitive paste coating film so as to fill the area where each conductor wiring is formed, and a conductive paste portion of the photosensitive paste coating film. An exposure step of selectively irradiating ultraviolet rays with a light-shielding mask, and a portion of the photosensitive paste coating film which is not irradiated with ultraviolet rays, with a predetermined developing solution. The method further includes a developing step of further dissolving and removing, and a step of firing a green sheet having two or more kinds of conductor wirings having partially different compositions, laminated with another green sheet, and then fired. And a method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board.

【0010】また、本発明の他の多層セラミック配線基
板の製造方法は、前記塗布工程において、各々の感光性
ペースト塗布膜が互いに重なり合う部分をメカニカルプ
レスにより加圧して平坦にし、露光工程における遮光マ
スクとの密着を向上させることを特徴とする多層セラミ
ック配線基板の製造方法である。
Further, in another method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board according to the present invention, in the coating step, the portions where the respective photosensitive paste coating films overlap with each other are pressed by a mechanical press to be flat, and a light-shielding mask in the exposure step. And a method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board, which is characterized by improving adhesion with

【0011】[0011]

【作用】本発明の多層セラミック配線基板の製造方法
は、感光性ペーストを用いたフォトリソグラフィー法に
より導体配線を形成するため、従来の厚膜印刷法にみら
れるようなペースト粘度によるパターンの滲みが発生し
ない。よって寸法精度に優れた狭ピッチで微細な導体形
成が可能となる。さらに厚膜印刷法にみられるようなス
クリーン版の伸びがないため位置精度良く導体形成が可
能となる。一方、導通抵抗、メタライズ強度等の改善お
よびマイグレーションを対策するために、部分的に組成
を異にする2種以上の導体配線を形成する方法として、
感光性ペーストを各々の導体が形成される範囲を満たす
ように均一に、かつ各々の感光性ペースト塗布膜が互い
に重なり合うようにした塗布工程を経て1回のフォトリ
ソ工程(露光〜現像)により導体配線を得るため、厚膜
印刷法で必要とされる各々の導体を連結させる難しい位
置合わせが不要となる。よって2種以上の異なる導体の
位置合わせが完壁となり、微細化の限界が向上し、導体
としての信頼性も得られるように作用する。また各々の
導体間の位置合わせが不要となることから作業効率と歩
留りが向上できるように作用する。
In the method for manufacturing a multilayer ceramic wiring board of the present invention, the conductor wiring is formed by a photolithography method using a photosensitive paste, so that the pattern bleeding due to the paste viscosity as seen in the conventional thick film printing method is prevented. Does not occur. Therefore, it is possible to form fine conductors with a narrow pitch and excellent dimensional accuracy. Furthermore, since there is no stretching of the screen plate as seen in the thick film printing method, the conductor can be formed with high positional accuracy. On the other hand, as a method of forming two or more kinds of conductor wirings having partially different compositions in order to improve conduction resistance, metallization strength and the like and to prevent migration,
Conductor wiring is performed by one photolithography process (exposure to development) through a coating process in which the photosensitive paste is uniformly filled so as to fill the area where each conductor is formed, and the photosensitive paste coating films are overlapped with each other. Therefore, the difficult alignment for connecting the conductors, which is required in the thick film printing method, is unnecessary. Therefore, the positioning of two or more different conductors is completed, the limit of miniaturization is improved, and reliability as a conductor is also obtained. Further, since it is not necessary to align the conductors with each other, the working efficiency and the yield can be improved.

【0012】さらに、前記塗布工程において各々の感光
性ペースト塗布膜が互いに重なり合う部分をメカニカル
プレスで平坦にすることにより露光工程における遮光マ
スクとの密着が向上し、紫外線の漏れによるパターン寸
法の拡大を抑制でき、寸法精度および狭ピッチ、微細化
の限界がさらに向上できるように作用する。また、グリ
ーンシート積層時に内層される導体連結部のデラミを抑
えるように作用する。
Further, in the coating step, the areas where the respective photosensitive paste coating films overlap each other are flattened by a mechanical press to improve the close contact with the light-shielding mask in the exposure step, and increase the pattern size due to the leakage of ultraviolet rays. It is possible to suppress, and it works so as to further improve the dimensional accuracy, the narrow pitch, and the limit of miniaturization. Also, it acts to suppress the delamination of the conductor connecting portion which is an inner layer when the green sheets are laminated.

【0013】[0013]

【実施例】以下、本発明の具体的な実施例を図面を参照
にして詳細に説明する。図1は本発明の一実施例のセラ
ミックパッケージの概略断面図、図2は本発明の一実施
例の第1の導体パターンと第2の導体パターンからなる
平面図、図3は本発明の一実施例を示し、(a)は第1
の導体パターン部に感光性ペーストaを、(b)は第2
の導体パターン部に感光性ペーストbを塗布する範囲を
示す平面図、図4は本発明の一実施例を示し、(a)は
感光性ペーストaと感光性ペーストbの塗布膜の重なり
部分を説明する断面図、(b)はメカニカルプレスで平
坦にされた重なり部分の断面図、図5はセラミックパッ
ケージの積層例を示す分解斜視図である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Specific embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the drawings. 1 is a schematic cross-sectional view of a ceramic package of an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a first conductor pattern and a second conductor pattern of an embodiment of the present invention, and FIG. An example is shown, (a) is the first
Photosensitive paste a on the conductor pattern portion of the
FIG. 4 is a plan view showing a range in which the photosensitive paste b is applied to the conductor pattern portion of FIG. 4, FIG. 4 shows an embodiment of the present invention, and (a) shows an overlapping portion of the coating films of the photosensitive paste a and the photosensitive paste b. FIG. 5B is a cross-sectional view to be described, FIG. 5B is a cross-sectional view of an overlapping portion flattened by a mechanical press, and FIG. 5 is an exploded perspective view showing an example of stacking ceramic packages.

【0014】まず、図5を参照にして多層セラミック配
線基板の例としてセラミックパッケージ100(PG
A)の積層例について説明する。セラミックパッケージ
100の導体配線系統は、電源供給ライン、接地ライン
および信号ラインから構成される。微細配線はワイヤー
ボンド部等の表層配線105として使われることが多
く、同時に一部の導体は内層配線104となる。よって
以下の実施例では、この表層配線105を第1の導体パ
ターンとし、内層配線104を第2の導体パターンとし
て、各々を同時に連結された微細配線をグリーンシート
上に形成する方法について説明する。
First, referring to FIG. 5, a ceramic package 100 (PG
An example of stacking A) will be described. The conductor wiring system of the ceramic package 100 is composed of a power supply line, a ground line and a signal line. The fine wiring is often used as the surface wiring 105 such as a wire bond portion, and at the same time, a part of the conductor becomes the inner wiring 104. Therefore, in the following embodiments, a method of forming fine wirings, which are simultaneously connected to each other, using the surface wiring 105 as the first conductor pattern and the inner wiring 104 as the second conductor pattern will be described.

【0015】次に、図1を参照にして本実施例における
セラミックパッケージの断面構造を説明する。第1の導
体パターン1および第2の導体パターン2を形成した2
層目のグリーンシート3の上下に、1層目のグリーンシ
ート4および3層目のグリーンシート5となるように3
枚のセラミックグリーンシートを熱圧着して積層品を得
る。次いで800〜1000℃で焼成した後、入出力ピ
ン7をロウ付することによりセラミックパッケージが得
られる。ここで第1の導体パターン1と第2の導体パタ
ーン2の導体連結部14は内層配線となるように構成さ
れている。
Next, the sectional structure of the ceramic package of this embodiment will be described with reference to FIG. 2 in which the first conductor pattern 1 and the second conductor pattern 2 are formed
Above and below the green sheet 3 of the third layer, the green sheet 4 of the first layer and the green sheet 5 of the third layer are arranged in three layers.
A ceramic green sheet is thermocompression bonded to obtain a laminated product. Next, after firing at 800 to 1000 ° C., the input / output pin 7 is brazed to obtain a ceramic package. Here, the conductor connecting portion 14 of the first conductor pattern 1 and the second conductor pattern 2 is configured to be an inner layer wiring.

【0016】次に、図2を参照にして本実施例の第1の
導体パターン1と第2の導体パターン2からなる導体配
線の平面図を説明する。第1の導体パターン1は、ワイ
ヤーボンディングされる表層配線であり、最も微細な配
線が集中する部分である。また先に述べた耐マイグレー
ション性やメタライズ強度等の厳しい要求特性が必要と
なる部分でもある。第2の導体パターン2は、内層配線
であり、導通抵抗が低い導体が好ましい。
Next, with reference to FIG. 2, a plan view of the conductor wiring composed of the first conductor pattern 1 and the second conductor pattern 2 of this embodiment will be described. The first conductor pattern 1 is a surface wiring that is wire-bonded, and is a portion where the finest wiring is concentrated. It is also a part where strict required characteristics such as migration resistance and metallization strength described above are required. The second conductor pattern 2 is an inner layer wiring and is preferably a conductor having low conduction resistance.

【0017】さらに図3を参照にして本実施例の第1の
導体パターン1と第2の導体パターン2の各々の感光性
ペーストを塗布する範囲を説明する。感光性ペーストを
各々塗布する範囲は、各々の導体配線が形成される範囲
を満たすように均一に塗布されるべきである。またペー
ストの節約の観点から必要最小限の範囲が望ましい。本
実施例では一般的な厚膜印刷法により第1の導体パター
ン部に感光性ペーストaを図3中12の範囲で、第2の
導体パターン部に感光性ペーストbを図中13の範囲で
塗布した。塗布範囲の寸法は、感光性ペーストaの外形
寸法は規定の位置(内層配線と表層配線の境界)から1
0μm〜3mm大きくする。これは上述した如く第1の
導体パターン1(表層配線)の一部が内層配線として第
2の導体パターン2と連結部をもつことを意味してお
り、耐マイグレーション性やメタライズ強度等を安定し
て得られるようにするためである。よって10μm以丁
では、感光性ペーストbが滲みやズレによって表層部に
はみ出す恐れがあり、耐マイグレーション性やメタライ
ズ強度が安定的に得られない。また3mm以上では、不
要なペーストを多く必要とし、導通抵抗が高い第1の導
体パターン1が多くなり導通抵抗も悪くなるので好まし
くない。望ましくは50μm〜500μmが良い。さら
に感光性ペーストaの内形寸法は第1の導体パターン1
の先端部より10μm〜500μm大きくする。10μ
m以下では感光性ペーストaの滲みやズレによって、第
1の導体パターン1を欠損させる恐れがあり、500μ
m以上では不要なペーストを多く必要とするので好まし
くない。望ましくは50μm〜100μmが良い。次い
で感光性ペーストbの外形寸法は第2の導体パターン2
の先端部より10μm〜500μm大きくする。10μ
m以下では感光性ペーストbの印刷やズレによって、第
2の導体パターン2を欠損させる恐れがあり、500μ
m以上では不要なペーストを多く必要とするので好まし
くない。望ましくは50μm〜100μmが良い。さら
に感光性ペーストbの内形寸法は規定の位置(内層配線
と表層配線の境界)から10μm〜3mm小さくする。
これは上述した如く第1の導体パターン1(表層配線)
の一部が内層配線として第2の導体パターン2と連結部
をもつことを意味しており、耐マイグレーション性やメ
タライズ強度等を安定して得られるようにするためであ
る。よって10μm以下では、感光性ペーストbが印刷
やズレによって表層部にはみ出す恐れがあり、耐マイグ
レーション性やメタライズ強度導が安定的に得られな
い。また3mm以上では、不要なペーストを多く必要と
し導通抵抗も悪くなるので好ましくない。望ましくは5
0μm〜500μmが良い。さらに感光性ペーストaと
感光性ペーストbの重なり部分11は5μm〜1mm必
要である。重なり部分11が5μm以下では、感光性ペ
ーストの印刷滲みやズレおよびカスレなどにより断線の
恐れがあるためである。また1mm以上では、第1の導
体パターン1が多くなるため導通抵抗が悪くなるので好
ましくない。望ましくは20μm〜100μmである。
Further, referring to FIG. 3, a description will be given of the range in which the photosensitive paste of each of the first conductor pattern 1 and the second conductor pattern 2 of this embodiment is applied. The area where each photosensitive paste is applied should be applied uniformly so as to fill the area where each conductor wiring is formed. Also, from the viewpoint of saving paste, the minimum necessary range is desirable. In this embodiment, the photosensitive paste a is applied to the first conductor pattern portion in the range 12 in FIG. 3 and the photosensitive paste b is applied to the second conductor pattern portion in the range 13 in the figure by a general thick film printing method. Applied. The size of the coating range is 1 from the specified position (the boundary between the inner layer wiring and the surface layer wiring) for the outer dimension of the photosensitive paste a.
Increase by 0 μm to 3 mm. This means that a part of the first conductor pattern 1 (surface layer wiring) has a connecting portion with the second conductor pattern 2 as an inner layer wiring, as described above, and stabilizes the migration resistance and the metallization strength. This is because it is obtained. Therefore, if the thickness is 10 μm or more, the photosensitive paste b may squeeze out or shift to the surface layer portion, and migration resistance and metallization strength cannot be stably obtained. On the other hand, if it is 3 mm or more, a large amount of unnecessary paste is required, the number of the first conductor patterns 1 having high conduction resistance increases, and the conduction resistance also deteriorates, which is not preferable. Desirably, the thickness is 50 μm to 500 μm. Further, the inner dimension of the photosensitive paste a is the first conductor pattern 1
10 μm to 500 μm larger than the tip portion of. 10μ
If the thickness is less than m, the first conductive pattern 1 may be damaged due to bleeding or deviation of the photosensitive paste a.
If it is more than m, a large amount of unnecessary paste is required, which is not preferable. Desirably, the thickness is 50 μm to 100 μm. Next, the external dimensions of the photosensitive paste b are the same as those of the second conductor pattern 2
10 μm to 500 μm larger than the tip portion of. 10μ
If the thickness is less than m, the second conductive pattern 2 may be damaged due to printing or displacement of the photosensitive paste b.
If it is more than m, a large amount of unnecessary paste is required, which is not preferable. Desirably, the thickness is 50 μm to 100 μm. Furthermore, the inner dimension of the photosensitive paste b is made smaller by 10 μm to 3 mm from the specified position (the boundary between the inner layer wiring and the surface layer wiring).
This is the first conductor pattern 1 (surface wiring) as described above.
This means that a part of the above has a connecting portion with the second conductor pattern 2 as an inner layer wiring, and is for ensuring stable migration resistance and metallization strength. Therefore, when the thickness is 10 μm or less, the photosensitive paste b may be squeezed out to the surface layer portion due to printing or misalignment, and migration resistance and metallization strength guidance cannot be stably obtained. On the other hand, if the thickness is 3 mm or more, a large amount of unnecessary paste is required and the conduction resistance becomes poor, which is not preferable. Preferably 5
0 μm to 500 μm is preferable. Further, the overlapping portion 11 of the photosensitive paste a and the photosensitive paste b needs to be 5 μm to 1 mm. This is because if the overlapped portion 11 is 5 μm or less, there is a risk of wire breakage due to printing bleeding of the photosensitive paste, misalignment, scraping, and the like. On the other hand, if the thickness is 1 mm or more, the number of the first conductor patterns 1 increases and the conduction resistance deteriorates, which is not preferable. It is preferably 20 μm to 100 μm.

【0018】−実施例1− 第1の実施例は、800〜1000℃の低温で焼成可能
なセラミックパッケージ(PGA)において、表層には
第1の導体パターンであるAg−Pdを主体とした耐マ
イグレーション性に優れた導体を配置し、内層には第2
の導体パターンであるAgを主体とする導体を配置した
例である。まず、本発明に用いる低温焼成セラミック材
料は、SiO−B系からPbO−SiO−A
−B系ガラス、CaO−SiO−Al
−B系ガラス等にAl、SiO
の骨材成分を加えたガラス−セラミック複合系やMgO
−Al−SiO系結晶化ガラスなどである。次
いで、この粉末と有機バインダー、可塑剤、溶剤等とを
ボールミル内で混合してスラリーとした後、ドクターブ
レード法によりグリーンシートを得る。また、導体ペー
ストは、AgあるいはAg−Pd粉末をネガ型フォトレ
ジストと共に3本ロールでよく混合して作製される。A
g−Pdペースト中のPdはAgのエレクトロマイグレ
ーションを抑える目的に5重量部以上用いられる。しか
し導通抵抗が高い為30重量部以下が好ましい。本実施
例1では第1の導体パターンは、Ag−20wt%Pd
を使用した。以下に第1の導体パターン1および第2の
導体パターン2を前記の構造および寸法で低温焼成セラ
ミックグリーンシート上に形成する工程を述べる。
Example 1 The first example is a ceramic package (PGA) that can be fired at a low temperature of 800 to 1000 ° C., and the surface layer is made of Ag-Pd, which is the first conductor pattern, and is durable. A conductor with excellent migration properties is placed, and the second layer is used for the inner layer.
2 is an example in which a conductor mainly composed of Ag, which is the conductor pattern of FIG. First, the low temperature fired ceramic materials used in the present invention are SiO 2 -B 2 O 3 based to PbO-SiO 2 -A.
l 2 O 3 -B 2 O 3 based glass, CaO-SiO 2 -Al
2 O 3 -B 2 O 3 based glass or the like Al 2 O 3, glass was added aggregate component such as SiO 2 - ceramic composite system or MgO
-Al 2 O 3 -SiO 2 based crystallized glass, and the like. Next, this powder is mixed with an organic binder, a plasticizer, a solvent and the like in a ball mill to form a slurry, and then a green sheet is obtained by a doctor blade method. The conductor paste is prepared by thoroughly mixing Ag or Ag-Pd powder with a negative photoresist on a three-roll mill. A
Pd in the g-Pd paste is used in an amount of 5 parts by weight or more for the purpose of suppressing electromigration of Ag. However, since the conduction resistance is high, it is preferably 30 parts by weight or less. In the first embodiment, the first conductor pattern is Ag-20 wt% Pd.
It was used. The process of forming the first conductor pattern 1 and the second conductor pattern 2 on the low temperature fired ceramic green sheet with the above-described structure and dimensions will be described below.

【0019】−感光性ペースト塗布工程− 本工程は、グリーンシート上に感光性ペーストを塗り分
ける工程である。必要に応じてスルーホールを形成し導
体が穴埋めされたグリーンシート上に、厚膜印刷法で第
1の導体パターン部に感光性ペーストaを図3(a)の
範囲で、第2の導体パターン部に感光性ペーストbを図
3(b)の範囲で塗布し、厚さ20μmの塗布膜を得
た。塗布範囲の寸法は、前記図3で述べた範囲内であっ
て、感光性ペーストaの外形寸法は規定の位置(内層配
線と表層配線の境界)から200μm大きくし、内形寸
法は第1の導体パターンの先端部より100μm大きく
した。また感光性ペーストbの外形寸法は第2の導体パ
ターンの先端部より100μm大きくし、内形寸法は規
定の位置(内層配線と表層配線の境界)より100μm
小さくした。このときの感光性ペーストaと感光性ペー
ストbの重なり部分は100μmであった。なお感光性
ペーストaと感光性ペーストbの塗布順は特に限定され
るものではないが、感光性ペーストbを塗布した後、感
光性ペーストaを塗布する方が滲みが少なく有利であっ
た。
-Photosensitive Paste Coating Step-This step is a step of separately coating the green sheet with the photosensitive paste. On the green sheet in which the through holes are formed as necessary and the conductors are filled, the photosensitive paste a is applied to the first conductor pattern portion by the thick film printing method within the range of FIG. The photosensitive paste b was applied to the area within the range of FIG. 3 (b) to obtain a coating film having a thickness of 20 μm. The size of the coating range is within the range described in FIG. 3, the outer dimension of the photosensitive paste a is increased by 200 μm from the specified position (the boundary between the inner layer wiring and the surface layer wiring), and the inner dimension is the first dimension. It was made 100 μm larger than the tip of the conductor pattern. Further, the outer dimension of the photosensitive paste b is 100 μm larger than the tip of the second conductor pattern, and the inner dimension is 100 μm from the specified position (the boundary between the inner layer wiring and the surface layer wiring).
I made it smaller. At this time, the overlapping portion of the photosensitive paste a and the photosensitive paste b was 100 μm. The order in which the photosensitive paste a and the photosensitive paste b are applied is not particularly limited, but it is advantageous to apply the photosensitive paste a after applying the photosensitive paste b, because bleeding is small.

【0020】−露光工程− 本工程は、感光性ペーストの塗布膜に紫外線を選択的に
照射する工程である。前工程で塗布した感光性ペースト
を乾燥した後、グリーンシートと遮光マスクを位置合わ
せし、導体パターン部(図2配線部)に遮光マスクを介
して紫外線を選択的に照射する。
-Exposure Step-This step is a step of selectively irradiating the coating film of the photosensitive paste with ultraviolet rays. After the photosensitive paste applied in the previous step is dried, the green sheet and the light shielding mask are aligned with each other, and the conductor pattern portion (wiring portion in FIG. 2) is selectively irradiated with ultraviolet rays through the light shielding mask.

【0021】−現像工程− 本工程は、紫外線が照射されていない感光性ペーストの
塗布膜を現像除去し、導体パターンを得る工程である。
前工程で導体パターン部に選択的に紫外線が照射された
感光性ペーストの塗布膜を所定の現像液中で浸漬揺動
し、導体パターン部以外を溶解除去する。
-Developing Step-This step is a step of developing and removing the coating film of the photosensitive paste which is not irradiated with ultraviolet rays to obtain a conductor pattern.
The coating film of the photosensitive paste in which the conductor pattern portion is selectively irradiated with ultraviolet light in the previous step is immersed and shaken in a predetermined developing solution to dissolve and remove the portion other than the conductor pattern portion.

【0022】こうして得られたグリーンシート上の所望
の導体パターンを、他のグリーンシートと熱間圧着法に
より圧着して積層化する。そして、この積層体を大気中
900℃で焼成した後、42合金(Ni−CoーFe)
あるいはCover製の入出力ピンをリードロー付部に
接着して208ピンのセラミックピングリッドアレイパ
ッケージ(PGA)を作製した。
The desired conductor pattern on the green sheet thus obtained is pressure-bonded to another green sheet by the hot pressure bonding method to be laminated. And after baking this laminated body at 900 degreeC in the atmosphere, 42 alloy (Ni-Co-Fe)
Alternatively, an I / O pin made by Cover was adhered to a portion with a lead wire to prepare a 208-pin ceramic pin grid array package (PGA).

【0023】次に本発明による低温焼成セラミック基板
の特性について従来のセラミック基板と比較しながら説
明する。表1は表層配線としてAg−Pdを用い、導体
連結部14の状態を観察した評価結果および85℃湿度
80%の高温、高湿にさらし50V・DCの電圧を印加
したときのマイグレーションの発生状況を示す。また本
発明による表層配線の比較例として厚膜印刷法により形
成した表層配線について測定した結果を合わせて示すも
のである。
Next, characteristics of the low temperature fired ceramic substrate according to the present invention will be described in comparison with a conventional ceramic substrate. Table 1 shows the evaluation results of observing the state of the conductor connecting portion 14 using Ag-Pd as the surface wiring, and the occurrence of migration when a voltage of 50V DC is applied after exposure to high temperature and high humidity of 85 ° C and 80% humidity. Indicates. Further, as a comparative example of the surface wiring according to the present invention, the measurement results of the surface wiring formed by the thick film printing method are also shown together.

【表1】 以上の評価結果からも明らかな通り、本発明の表層配線
では導体連結部に位置ズレや滲みが全くみられない。ま
た導体間隔を狭くしても耐マイグレーション性に非常に
良好な結果が得られた。
[Table 1] As is clear from the above evaluation results, in the surface wiring of the present invention, no displacement or bleeding is observed in the conductor connecting portion. Even if the conductor interval is narrowed, very good migration resistance was obtained.

【0024】−実施例2− 第2の実施例は、アルミナグリーンシート上に、高融点
金属材料であるMo(融点2622℃)、W(融点33
82℃)等からなる導体配線を形成し、セラミックパッ
ケージ(PGA)を作製する方法について説明する。本
実施例では表層配線に第1の導体パターンであるWと共
材(アルミナ、ガラスまたはアルミナとガラスの混合
粉)を主体としたメタライズ強度に優れた導体を配置
し、内層には第2の導体パターンである導通抵抗の低減
を目的としたW単味からなる導体を配置した例である。
本発明に用いたアルミナセラミック材料は、92%アル
ミナセラミックスであり、このアルミナ粉末と有機バイ
ンダー、可塑剤、溶剤等をボールミル内で混合してスラ
リーとした後、ドクターブレード法によりグリーンシー
トを得る。また、導体ペーストは、WあるいはWと共材
(アルミナ、ガラスまたはアルミナとガラスの混合粉)
を主体とした粉末をネガ型フォトレジストと共に3本ロ
ールでよく混合して作製される。第1の導体パターン中
の共材は、メタライズ強度を確保するために1重量部以
上用いられる。しかしその割合が増えると導通抵抗が高
くなるため20重量部以下が好ましい。本実施例2では
第1の導体パターンは、W粉末中に5重量部の共材を添
加した。なお第1の導体パターンおよび第2の導体パタ
ーンを形成する工程、構造および寸法は、前記の実施例
1においてグリーンシートをアルミナとしたこと、第1
の導体パターンをWと共材の混合粉としたこと、さらに
第2の導体パターンをWとしたこと以外は同じである。
EXAMPLE 2 In the second example, Mo (melting point 2622 ° C.) and W (melting point 33), which are refractory metal materials, are formed on an alumina green sheet.
A method of forming a conductor wiring made of, for example, 82 ° C.) and manufacturing a ceramic package (PGA) will be described. In this embodiment, a conductor having excellent metallization strength, which is mainly composed of W which is the first conductor pattern and a co-material (alumina, glass or a mixed powder of alumina and glass), is arranged on the surface wiring, and a second conductor is formed on the inner layer. This is an example in which a conductor made of pure W is arranged for the purpose of reducing conduction resistance which is a conductor pattern.
The alumina ceramic material used in the present invention is 92% alumina ceramics. This alumina powder, an organic binder, a plasticizer, a solvent and the like are mixed in a ball mill to form a slurry, and a green sheet is obtained by a doctor blade method. Further, the conductor paste is W or a co-material with W (alumina, glass or a mixed powder of alumina and glass).
Is mainly mixed with a negative photoresist by a three-roll process. The co-material in the first conductor pattern is used in an amount of 1 part by weight or more in order to secure metallization strength. However, since the conduction resistance increases as the proportion increases, it is preferably 20 parts by weight or less. In Example 2, the first conductor pattern was prepared by adding 5 parts by weight of the common material to W powder. The steps, structure, and dimensions for forming the first conductor pattern and the second conductor pattern are the same as those in Example 1 except that the green sheet is alumina.
The same is the same except that the conductor pattern is a mixed powder of W and the co-material, and the second conductor pattern is W.

【0025】次に本発明によるアルミナセラミック基板
のメタライズ特性について従来のセラミック基板と比較
しながら説明する。表2は、導体連結部14の状態およ
びボンディング性の評価を示す。本発明による導体配線
と、比較例として厚膜印刷法により形成した表層配線に
ついて測定した評価結果を示すものである。
Next, the metallization characteristics of the alumina ceramic substrate according to the present invention will be described in comparison with a conventional ceramic substrate. Table 2 shows the state of the conductor connecting portion 14 and the evaluation of the bondability. 3 shows evaluation results obtained by measuring a conductor wiring according to the present invention and a surface wiring formed by a thick film printing method as a comparative example.

【表2】 以上の測定結果からも明かな通り本発明のアルミナセラ
ミック基板では、導体連結部14に位置ズレや滲みが全
くみられず導体幅25μm、ピッチ50μmまで狭ピッ
チ化が可能であった。さらに導体幅50μmまでの微細
配線においても良好なボンディング性が得られた。
[Table 2] As is clear from the above measurement results, in the alumina ceramic substrate of the present invention, there was no displacement or bleeding in the conductor connecting portion 14, and it was possible to narrow the conductor width to 25 μm and the pitch to 50 μm. Further, good bonding property was obtained even in fine wiring with a conductor width of up to 50 μm.

【0026】−実施例3− 第3の実施例は、実施例1の感光性ペースト塗布工程に
おいて、各々の感光性ペースト塗布膜の互いの重なり部
分11をメカニカルプレスにより加圧する工程を経るこ
とである。実施例1において、感光性ペーストaと感光
性ペーストbの塗布膜の互いの重なり部分11をメカニ
カルプレスにより80℃×20kg/cmで平面加圧
した。こうすることにより図4(b)で示される様に感
光性ペーストの重なり部分が平坦化する。よって後の露
光工程における遮光マスクとの密着性が向上し、紫外線
の漏れによるパターン寸法の拡大が抑制できる。さらに
形成された表層配線を有するグリーンシートと他のグリ
ーンシートを積層圧着した際に連結部におけるデラミの
発生を抑えることができた。
Example 3 In the third example, in the photosensitive paste coating step of Example 1, a step of pressing the overlapping portions 11 of the photosensitive paste coating films with each other by a mechanical press is performed. is there. In Example 1, the overlapping portions 11 of the coating films of the photosensitive paste a and the photosensitive paste b were flatly pressed at 80 ° C. × 20 kg / cm 2 by a mechanical press. By doing so, the overlapping portion of the photosensitive paste is flattened as shown in FIG. Therefore, the adhesion with the light-shielding mask in the subsequent exposure step is improved, and the expansion of the pattern dimension due to the leakage of ultraviolet rays can be suppressed. Further, when the green sheet having the formed surface wiring and another green sheet were laminated and pressure-bonded, it was possible to suppress the occurrence of delamination at the connecting portion.

【0027】次に本発明により形成された導体幅および
バラツキσについて実施例1のメカニカルプレスを施し
ていない導体と比較しながら説明する。表3は、導体幅
およびバラツキσを示す。本発明による導体配線と、比
較例として実施例1のメカニカルプレスを施していない
導体配線および厚膜印刷法によって得られた従来の導体
配線について測定した結果を示すものである。
Next, the width and variation σ of the conductor formed according to the present invention will be described in comparison with the conductor of Example 1 which is not subjected to mechanical pressing. Table 3 shows the conductor width and the variation σ. 1 shows the results of measurement of a conductor wiring according to the present invention, a conductor wiring not subjected to mechanical pressing of Example 1 as a comparative example, and a conventional conductor wiring obtained by a thick film printing method.

【表3】 以上の測定結果からも明かな通り本発明の導体配線で
は、微細配線形成の限界が向上し、その寸法精度も改善
された導体配線が得られた。
[Table 3] As is clear from the above measurement results, with the conductor wiring of the present invention, the limit of fine wiring formation was improved, and the conductor wiring with improved dimensional accuracy was obtained.

【0028】[0028]

【発明の効果】本発明によれば、感光性ペーストを用い
たフォトリソグラフィー法により導体配線を形成するた
め、狭ピッチで微細な導体を寸法精度よく形成できるよ
うになり、多層セラミック配線基板の高機能化、高密度
化、小型化の対応が可能となる。また、本発明の導体配
線は狭ピッチで微細な導体において問題となる耐マイグ
レーション性やメタライズ強度等の導体特性の改善に対
し、部分的に組成を異にする2種以上の導体配線を位置
精度良く連結できるため、これを用いた多層セラミック
配線基板を歩留良く安価に製作できる。更に、感光性ペ
ーストの塗布工程において、塗布膜の重なりあう部分を
メカニカルプレスにより平坦にすることにより、狭ピッ
チで微細な配線形成の限界が向上する。よって多層セラ
ミック配線基板の高機能化、高密度化、小型化の対応が
さらに可能となる。
According to the present invention, since the conductor wiring is formed by the photolithography method using the photosensitive paste, it becomes possible to form fine conductors with a narrow pitch with high dimensional accuracy, and to improve the performance of the multilayer ceramic wiring board. It is possible to support functionalization, high density, and miniaturization. Further, in the conductor wiring of the present invention, in order to improve conductor characteristics such as migration resistance and metallization strength, which are problems in a fine conductor with a narrow pitch, two or more kinds of conductor wirings having partially different compositions are positioned with high positional accuracy. Since they can be well connected, a multilayer ceramic wiring board using them can be manufactured at a good yield and at a low cost. Further, in the step of applying the photosensitive paste, the overlapping portions of the coating films are flattened by a mechanical press, whereby the limit of fine wiring formation with a narrow pitch is improved. Therefore, it is possible to further increase the functionality, increase the density, and reduce the size of the multilayer ceramic wiring board.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例のセラミックパッケージの概
略断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a ceramic package according to an embodiment of the present invention.

【図2】本発明の一実施例の第1の導体パターンと第2
の導体パターンからなる平面図である。
FIG. 2 is a first conductor pattern and a second conductor pattern according to an embodiment of the present invention.
3 is a plan view of the conductor pattern of FIG.

【図3】本発明の一実施例を示し、(a)は第1の導体
パターン部に感光性ペーストaを、(b)は第2の導体
パターン部に感光性ペーストbを塗布する範囲を示す平
面図である。
FIG. 3 shows an embodiment of the present invention, in which (a) shows a range in which the first conductive pattern portion is coated with the photosensitive paste a and (b) shows a range in which the second conductive pattern portion is coated with the photosensitive paste b. It is a top view shown.

【図4】本発明の一実施例を示し、(a)は感光性ペー
ストaと感光性ペーストbの塗布膜の重なり部分を説明
する断面図、(b)はメカニカルプレスで平坦にされた
重なり部分の断面図である。
FIG. 4 shows an embodiment of the present invention, (a) is a cross-sectional view for explaining an overlapping portion of coating films of a photosensitive paste a and a photosensitive paste b, and (b) is an overlapping flattened by a mechanical press. It is a sectional view of a part.

【図5】セラミックパッケージの積層例を示す分解斜視
図である。
FIG. 5 is an exploded perspective view showing an example of stacking ceramic packages.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1・・・第1の導体パターン、2・・・第2の導体パタ
ーン、3・・・2層目のグリーンシート、4・・・1層
目のグリーンシート、5・・・3層目のグリーンシー
ト、6・・・スルーホール、7・・・入出力ピン、8・
・・ボンディングワイヤ、9・・・半導体素子、10・
・・接着剤、11・・・重なり部分、12・・・感光性
ペーストa、13・・・感光性ペーストb、14・・・
導体連結部、100・・・セラミックパッケージ、10
3・・・入出力ピン、104・・・内層配線、105・
・・表層配線
1 ... 1st conductor pattern, 2 ... 2nd conductor pattern, 3 ... 2nd layer green sheet, 4 ... 1st layer green sheet, 5 ... 3rd layer Green sheet, 6 ... through hole, 7 ... input / output pin, 8 ...
..Bonding wires, 9 ... Semiconductor elements, 10.
..Adhesive, 11 ... Overlapping part, 12 ... Photosensitive paste a, 13 ... Photosensitive paste b, 14 ...
Conductor connection part, 100 ... Ceramic package, 10
3 ... I / O pins, 104 ... Inner layer wiring, 105 ...
..Surface layer wiring

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 部分的に組成を異にする2種以上の導
体配線を有するグリーンシートと、他のグリーンシート
を各々1枚以上積層した後、焼成して得られる多層セラ
ミック配線基板の製造方法において、セラミックグリー
ンシート上に各々の導体組成粉末よりなる2種以上の感
光性ペーストを各々の導体配線が形成される範囲を満た
すように均一に、かつ各々の感光性ペースト塗布膜が互
いに重なり合うように塗布する感光性ペースト塗布工程
と、該感光性ペースト塗布膜の導体配線部に、遮光マス
クにより紫外線を選択的に照射する露光工程と、該感光
性ペースト塗布膜の紫外線が照射されていない部分を、
所定の現像液により溶解除去する現像工程と、これによ
り得られた部分的に組成を異にする2種以上の導体配線
を有するグリーンシートを、他のグリーンシートと積層
した後、焼成する工程を有することを特徴とする多層セ
ラミック配線基板の製造方法。
1. A method for producing a multilayer ceramic wiring board obtained by stacking one or more green sheets having two or more kinds of conductor wirings partially different in composition and another green sheet and firing the laminated layers. In order to uniformly fill the ceramic green sheet with two or more kinds of photosensitive pastes made of the respective conductor composition powders so as to fill the area where the respective conductor wirings are formed, and to make the respective photosensitive paste coating films overlap each other. A photosensitive paste coating step, an exposing step of selectively irradiating the conductive wiring portion of the photosensitive paste coating film with ultraviolet rays by a light-shielding mask, and a portion of the photosensitive paste coating film not irradiated with ultraviolet rays To
A developing step of dissolving and removing with a predetermined developing solution, and a step of laminating a green sheet having two or more kinds of conductor wirings having partially different compositions, which is obtained thereby, with another green sheet and then firing. A method of manufacturing a multi-layer ceramic wiring board, which comprises:
【請求項2】 各々の感光性ペースト塗布膜が互いに重
なり合う部分をメカニカルプレスにより加圧して平坦に
し、露光工程における遮光マスクとの密着を向上させる
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の多層セラ
ミック配線基板の製造方法。
2. The method according to claim 1, wherein the portions where the respective photosensitive paste coating films are overlapped with each other are pressed by a mechanical press to be flattened to improve the adhesion with the light shielding mask in the exposure step. For manufacturing a multilayer ceramic wiring board.
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EP1120796A2 (en) * 2000-01-26 2001-08-01 TDK Corporation Electronic component and manufacturing method thereof

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