JPH08321655A - 半導体発光素子 - Google Patents

半導体発光素子

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JPH08321655A
JPH08321655A JP14953295A JP14953295A JPH08321655A JP H08321655 A JPH08321655 A JP H08321655A JP 14953295 A JP14953295 A JP 14953295A JP 14953295 A JP14953295 A JP 14953295A JP H08321655 A JPH08321655 A JP H08321655A
Authority
JP
Japan
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light emitting
chip
submount
electrode
semiconductor light
Prior art date
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Pending
Application number
JP14953295A
Other languages
English (en)
Inventor
Masayoshi Koike
正好 小池
Shiro Yamazaki
史郎 山崎
Seiji Nagai
誠二 永井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toyoda Gosei Co Ltd
Original Assignee
Toyoda Gosei Co Ltd
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Publication date
Application filed by Toyoda Gosei Co Ltd filed Critical Toyoda Gosei Co Ltd
Priority to JP14953295A priority Critical patent/JPH08321655A/ja
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Abstract

(57)【要約】 【目的】従来程度の構造、大きさで、放熱性の良い半導
体発光素子を得る。 【構成】熱伝導性の良いソルダによりフェイスダウンで
熱伝導性の良いサブマウント20にはんだ付けされた発光
素子のLDチップ10は、発熱領域である発光領域がはん
だ付けされた電極部分に近く、基板を介さずにヒートシ
ンク60に接近していることから、発光による熱エネルギ
ーは直ちに電極を介してサブマウント20に伝わり、そし
てヒートシンク60から放熱される。サブマウント20には
半導体チップ10の電極に通電するためのパターン202 が
設けてあり、半導体発光素子のチップ10の電極から取り
出された接続ランド部分にワイヤボンディングがなされ
て電極リード52が取り出される。サブマウント20は、熱
伝導性の良いソルダを用いてヒートシンク60に接着さ
れ、熱伝導率を良くしてある。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、絶縁性の基板上に作成
された窒化ガリウム系等の半導体発光素子に関し、特
に、発光素子の半導体チップを放熱板の上に配置させて
ケーシングする半導体発光素子に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、電気的絶縁性に優れたサファイア
基板上に窒化ガリウム系の発光素子を形成して、その半
導体チップ(GaN半導体チップ)のサファイア基板をヒー
トシンク(放熱板)に接着させ、ケーシングして利用す
るものがある。サファイア基板は絶縁体なので、直接ヒ
ートシンクに接着でき、放熱が容易に実施できる。サフ
ァイア基板をアルミニウムなどのヒートシンクに接着さ
せるには、電気伝導性があって熱伝導性の良い銀(Ag)エ
ポキシ等で接着させている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サファ
イア基板は熱伝導性が悪く、サファイア基板が薄く形成
されたとしても、放熱の効率が十分とは言いがたい、と
いう問題がある。
【0004】従って本発明の目的は、従来と同等の構
造、大きさで放熱性の良い半導体発光素子を提供するこ
とである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め本発明の構成は、絶縁性の基板上に形成された発光素
子の半導体チップを放熱板に装着させて放熱させる構成
の半導体発光素子において、基板とは反対側の面に両電
極を有して、該両電極をフェイスダウンとして、電極取
り出し用にパターン形成がなされた熱伝導性の良い電気
的絶縁板上にはんだ付けされ、電気的絶縁板が放熱板に
熱伝導性の良い接着剤またはソルダで接着されているこ
とを特徴とする。又、他の特徴は、電気的絶縁板を人工
ダイヤモンド薄板又は酸化ベリリウム薄板とし、さらに
他の特徴は、基板をサファイア基板とし、発光素子を窒
化ガリウム系発光素子としたことである。
【0006】
【作用】熱伝導性の良いソルダによりフェイスダウンで
はんだ付けされた発光素子の半導体チップは、発熱領域
である発光領域がはんだ付けされた電極部分に近く、放
熱板に接近していることから、発光による熱エネルギー
は直ちに電極を通じて、熱伝導性の良い電気的絶縁板に
伝わり、そして放熱板から放熱される。電気的絶縁板に
は半導体チップの電極に通電するためのパターンが設け
てあり、半導体チップの電極から取り出された接続ラン
ド部分にワイヤボンディングがなされて電極リードが取
り出される。電気的絶縁板は、やはり熱伝導性の良い接
着剤又はソルダを用いて放熱板に接着され、熱伝導を良
くしてある。
【0007】
【発明の効果】発熱部分となる発光領域が、熱伝導性の
良い電気的絶縁板および放熱板に近い配置となり、熱エ
ネルギーが絶縁性の基板を介さずに、電極のソルダ部
分、及び熱伝導性の良い電気的絶縁板を介して放熱板か
ら放熱されるので、放熱効率が向上し、半導体発光素子
の発光効率や寿命等を向上させる。また電気的絶縁板上
のパターンでワイヤボンディングして電極リードを取り
出すので、この領域における発熱も直ちに放熱板側に伝
わる。またボンディング時に発光素子自身を損傷させる
ことがなく、発光素子の寿命を延ばす効果がある。電気
的絶縁板として人工ダイヤモンド薄板を用いる場合は、
熱伝導性が最も良く、放熱特性が優れている効果があ
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明を具体的な実施例に基づいて説
明する。図1は、半導体発光素子100の外観図であ
る。ただし、図示しない最外の蓋ケースを外して窒化ガ
リウム系半導体レーザダイオードのチップ(以下、LD
チップと記す)10が直接見える状態として示してあ
る。LDチップ10は、基板にサファイア基板を用いた
ものである。図3に示すように、LDチップ10は人工
ダイヤモンド薄板のサブマウント(電気的絶縁板)20
にソルダ32で接着されており、ボンディングワイヤ4
0でステム50とサブマウント20とが接続されてい
る。又、サブマウント20はヒートシンク(放熱板)6
0にソルダ33で接合され、そのヒートシンク60がケ
ース70に接合されている。
【0009】ヒートシンク60が設置されているケース
70の基台部分にはハメチックシール51でステム50
が必要本数設けられていて、ケース外部のリード52か
らLDチップ10に通電されるようになっている。ヒー
トシンク60は放熱性の良いアルミニウムなどのブロッ
クでできており、その端面の一つにサブマウント20が
ソルダ33で固着されており、このサブマウント20の
上にLDチップ10が、LDチップ10からのレーザ光
が図1に示す矢印の方向に取り出せるように固定されて
いる。図2の(b)に示すように、サブマウント20の
上には所定パターンのメタル202が形成されており、
LDチップ10の電極31a、31bがサブマウント2
0に取り出されて、ボンディングワイヤ40でステム5
0と電気的に接続されている。
【0010】LDチップ10は図2(a) の斜視図に示す
ように、サファイア基板101の上に、ダブルヘテロ構
造のレーザダイオード102が形成され、図2(a) の端
面に示すように、層の半分を平面状に削ってn伝導型領
域103を露出させ、その露出面に金属のn電極31a
を形成し、レーザダイオード102の最上層に金属のp
電極31bが形成されている。そして、LDチップ10
の光軸方向の端面を共振反射面としてLDを構成してい
る。
【0011】以下、このLDチップ10を搭載した半導
体発光素子100の構成の組み立てを説明する。 (1) 先ず、サファイア基板101上にAlGaInN 半導体層
を形成してLDチップ10を形成した。光軸に垂直な端
面が研磨、アルミニウム(Al)蒸着により鏡面となり、フ
ァブリペロー共振器を形成し発光させるようになってい
る。
【0012】(2) LDチップ10の半導体層の表面に
は、p電極31bとn電極31aとが設けられており、
それぞれの面にはAu-Sn(金錫)合金等のソルダ34a、
34bが2 〜3 μmの厚さに予め塗布されている。LD
チップ10はこのソルダ34a、34bを下側にしてフ
ェイスダウンの状態にして、図2(b) に示すサブマウン
ト20にはんだ付けされている。
【0013】(3) サブマウント20は人工ダイヤモンド
で形成されており、LDチップ10をマウントする側の
表面に所定形状にパターンニングされたメタル202が
形成されている。このメタル202のLDチップ10の
電極31a、31bとはんだ付けされる領域に予めAu-S
n(金錫)合金等のソルダ32が配設されている。また、
サブマウント20の下面は、そのサブマウント20をヒ
ートシンク60にはんだ付けさせるためにソルダ33が
塗布されている。
【0014】(4) サブマウント20は、ソルダ33でヒ
ートシンク60にはんだ付けされて固定される。そして
サブマウント20上のそれぞれのメタル202にワイヤ
40がワイヤボンディングされ、LDチップ10とステ
ム50とが電気的に接続される。ここで、ワイヤは金(A
u)線で50μmφが用いられている。
【0015】LDチップ10のレーザダイオード102
からは、レーザ光が発せられるとともに発熱する。図3
の構造断面図に示すように、この熱エネルギーはレーザ
ダイオード102の上面、下面に伝達される。下面に伝
達された熱は、n電極31a、p電極31b、ソルダ3
1a、31b、ソルダ32、メタル202を介して、サ
ブマウント20に伝達され、さらにソルダ33を介して
ヒートシンク60に伝達される。この結果、レーザダイ
オード102で発生した熱は、効率良くヒートシンク6
0に伝達される。
【0016】また、LDチップ10は、ヒートシンク6
0に比べて十分小さく、また、発熱するレーダダイオー
ド102とヒートシンク60との間にはサファイア基板
101が介在しないので、熱の伝導性が良く、レーダダ
イオード102の昇温が防止される。
【0017】ここで用いたサブマウント20の厚さは3
00μmのものである。ダイヤモンドは硬質であり、容
易には壊れない上、熱伝導性が最も良い材料であるの
で、ベリリア(酸化ベリリウム)板よりも十分薄くさせ
ることができ、発熱部分を放熱性の最も良いアルミニウ
ムのヒートシンク60により接近させることができる。
【0018】また、ボンディングワイヤ40を直接LD
チップ10上の半導体層にボンディングする構造ではな
いため、LDチップ10のレーザダイオード102に対
してダメージを与えず、LDチップ10の寿命を増大さ
せることができる。
【0019】なお、サブマウント20としてベリリア
(酸化ベリリウム)の薄い板を利用してもよい。この材
料は熱伝導性が高く電気的絶縁性が良好なものである。
【0020】尚、上記の実施例では、発光素子はレーザ
ダイオードであるが、発光ダイオードであっても良い。
発光ダイオードの場合は光の取り出し側はチップのサフ
ァイア基板面を通して、基板に垂直な方向となる。その
ため、LED チップの取り付けは図1の場合と異なり、図
1におけるケース70基台面と平行なヒートシンク60
上の面となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】LDチップを搭載した半導体発光素子100の
外観図。
【図2】LDチップ及びサブマウントの構造を示した斜
視図。
【図3】LDチップのサブマウントへの取付構造を示し
た断面図。
【符号の説明】
100…半導体発光素子 10…LDチップ(半導体チップ) 20…サブマウント(電気的絶縁板、人工ダイヤモンド
薄板) 40…ボンディングワイヤ 60…ヒートシンク(放熱板)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】絶縁性の基板上に形成された発光素子の半
    導体チップを放熱板に装着させて放熱させる構成の半導
    体発光素子において、 前記基板とは反対側の面に両電極を有して、該両電極を
    フェイスダウンとして、電極取り出し用にパターン形成
    がなされた熱伝導性の良い電気的絶縁板上にはんだ付け
    され、前記電気的絶縁板が前記放熱板に熱伝導性の良い
    接着剤またはソルダで接着されていることを特徴とする
    半導体発光素子。
  2. 【請求項2】前記電気的絶縁板が人工ダイヤモンド薄板
    もしくは酸化ベリリウム薄板であることを特徴とする請
    求項1に記載の半導体発光素子。
  3. 【請求項3】前記基板がサファイア基板であり、前記発
    光素子が窒化ガリウム系発光素子であることを特徴とす
    る請求項1または2に記載の半導体発光素子。
JP14953295A 1995-05-24 1995-05-24 半導体発光素子 Pending JPH08321655A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001168444A (ja) * 1999-12-09 2001-06-22 Sony Corp 半導体発光素子、その製造方法および配設基板
JP2013084672A (ja) * 2011-10-06 2013-05-09 Mitsubishi Electric Corp 多波長半導体レーザ装置及び多波長半導体レーザ装置の製造方法

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