JPH08321258A - Manufacture of cell barrier of plasma display panel - Google Patents
Manufacture of cell barrier of plasma display panelInfo
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- JPH08321258A JPH08321258A JP15107095A JP15107095A JPH08321258A JP H08321258 A JPH08321258 A JP H08321258A JP 15107095 A JP15107095 A JP 15107095A JP 15107095 A JP15107095 A JP 15107095A JP H08321258 A JPH08321258 A JP H08321258A
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- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、セル障壁により形成さ
れた複数の放電用空間を備えてなるプラズマディスプレ
イパネル（以下、ＰＤＰと記す）のセル障壁製造方法に
関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a cell barrier of a plasma display panel (hereinafter referred to as PDP) having a plurality of discharge spaces formed by the cell barrier.
【０００２】[0002]
【従来の技術】従来、ＰＤＰの障壁製造方法について
は、ガラスパネル上にガラスペーストをスクリーン印刷
法によりパターニングした後、焼成する方法が用いられ
ており、障壁に必要な高さを得るために、印刷と乾燥を
繰返すことによって積層することが行われている。その
障壁形状の精度を向上させるために、印刷前にガラスパ
ネル上の障壁を設ける部分に親油性高分子層を設けてお
く方法（特開平５−１６６４６０）が知られている。2. Description of the Related Art Conventionally, as a method of manufacturing a barrier for a PDP, a method of patterning a glass paste on a glass panel by a screen printing method and then firing it is used, and in order to obtain a height required for the barrier, Lamination is performed by repeating printing and drying. In order to improve the accuracy of the barrier shape, a method is known in which a lipophilic polymer layer is provided on a portion of the glass panel where the barrier is provided before printing (Japanese Patent Laid-Open No. 5-166460).
【０００３】[0003]
【発明が解決しようする課題】上記の製造方法では、製
造装置が特殊ではなく工程が容易であるものの、印刷
と乾燥を繰り返し形成すため工程数が多くなることス
クリーン印刷による障壁の重ね刷りが繰り返されるに従
い、障壁の形状くずれ、印刷の検討ずれが起こり、所望
の形状に形成されず精巧さに劣るなどの欠点があり、そ
のために、高精細な画像を得にくいという問題があっ
た。In the above manufacturing method, although the manufacturing apparatus is not special and the process is easy, the number of steps is increased because the printing and drying are repeatedly formed, and the overprinting of barriers by screen printing is repeated. As a result, the shape of the barrier is deformed, the printing is misaligned, and there is a drawback that the desired shape is not formed and the elaboration is poor. Therefore, there is a problem that it is difficult to obtain a high-definition image.
【０００４】そこで、本発明は、上記のような従来技術
の欠点を解消し、さらに、精度の良い障壁を、簡便で迅
速に安定して製造しうる新たな製造方法を提供すること
を目的とする。Therefore, the present invention aims to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art and to provide a new manufacturing method capable of manufacturing a barrier with high accuracy simply, quickly and stably. To do.
【０００５】[0005]
【発明が解決しようとする課題】上記目的を達成するた
めに、本発明のプラズマディスプレイパネルのセル障壁
製造方法は、前面板と、複数の放電用空間を構成するセ
ル障壁を備えた基板とを互いに平行に対向するように配
設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁製造
方法において、次の〜より構成する。 上記セル障壁部の賦型用形状からなる版凹部を形成し
た凹版を使用し、該凹版の少なくとも版凹部にガラスフ
リットを含有する電離放射線硬化型樹脂を充填させると
共に、フィルム基材を接触させ、該フィルム基材が凹版
に接触している間に電離放射線を照射して該フィルム基
材と凹版との間に介在している上記電離放射線硬化型樹
脂を硬化させた後、該フィルム基材と該電離放射線硬化
型樹脂層を凹部から剥離する工程。 基板の表面に、上記該フィルム基材上にセル障壁部の
形状を有する硬化された電離放射線硬化型樹脂層面とを
密着した後、焼成する工程。In order to achieve the above object, a method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel according to the present invention comprises a front plate and a substrate having cell barriers constituting a plurality of discharge spaces. A method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel, which is arranged so as to face each other in parallel, comprises the following steps. Using an intaglio plate having a plate recess formed of the shape for imprinting the cell barrier portion, at least the plate recess of the intaglio plate is filled with an ionizing radiation curable resin containing a glass frit, and a film substrate is contacted, After the film substrate is in contact with the intaglio plate, ionizing radiation is applied to cure the ionizing radiation curable resin interposed between the film substrate and the intaglio plate, and then the film substrate A step of peeling the ionizing radiation curable resin layer from the recess. A step of bringing the surface of the substrate into close contact with the surface of a cured ionizing radiation-curable resin layer having the shape of the cell barrier portion on the film base material, and then firing.
【０００６】[0006]
【実施例】以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。第１図は本発明製造方法の一実施例を示す工程説
明図であり、図中１はセル障壁、２はセル障壁を有する
フィルム基材、２１はフィルム基材、３はガラスリット
を含有する電離放射線硬化型樹脂、４はロール凹版、４
１は版凹部、５１は押圧ロール、５２は剥離ロール、６
は塗工装置、７は電離放射線装置、８はガラス基板を示
す。本発明製造方法では、まずはじめに、ＰＤＰセル障
壁部の賦型用形状からなる版凹部４を型取りしてなるロ
ール凹版１を用意し、例えば図示の如く設置して使用す
る。図中５と６はロール凹版１と対に設置される押圧ロ
ールと送りロールであり、両ロールともクリアランス調
整等が可能になっている。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a process explanatory view showing one embodiment of the production method of the present invention, in which 1 is a cell barrier, 2 is a film base material having a cell barrier, 21 is a film base material, and 3 contains a glass rit. Ionizing radiation curable resin, 4 roll intaglio, 4
1 is a plate concave portion, 51 is a pressing roll, 52 is a peeling roll, 6
Is a coating device, 7 is an ionizing radiation device, and 8 is a glass substrate. In the manufacturing method of the present invention, first, a roll intaglio 1 is prepared by molding a plate indentation 4 having a shape for imprinting a PDP cell barrier portion, and is installed and used, for example, as illustrated. In the figure, 5 and 6 are a pressure roll and a feed roll which are installed in pairs with the roll intaglio 1, and both rolls are capable of clearance adjustment and the like.
【０００７】次いで、上記ロール凹版１に対して適宜移
送手段にてフィルム基材２を、該凹版面に当接するよう
に供給する。これと同時に、ガラスフリットを含有する
電離放射線硬化型樹脂３を凹版１の少なくとも版凹部に
充填すべく適宜手段により供給させる。そして、基材２
が凹版１に接触している間に電離放射線照射装置７によ
り電離放射線を照射して基材２と凹版１の間に介在して
いる上記樹脂を硬化させると同時に基材側に密着せしめ
る。最後に、基材２を凹版１から剥離する。この基材２
の剥離により、第２図に示すようにロール凹版１にて賦
型されたセル障壁８が基材２上に形成された。次に、ガ
ラス基板の表面と、上記該フィルム基材上にセル障壁の
形状を有する硬化された電離放射線硬化型樹脂層面とを
密着した後、焼成することにより、第３図に示すように
本発明方法によるＰＤＰのセル障壁が得られる。本発明
では、セル障壁８を有するＰＤＰの製造を上述のような
ような手段にて行っているため、ロール凹版に型取りし
た形状を忠実に再現した極めて精度良いセル障壁が得ら
れる。Next, the film base material 2 is supplied to the roll intaglio 1 by a proper transfer means so as to be in contact with the intaglio surface. At the same time, the ionizing radiation curable resin 3 containing the glass frit is supplied by an appropriate means so as to fill at least the plate recess of the intaglio 1. And the base material 2
While being in contact with the intaglio plate 1, the ionizing radiation is irradiated by the ionizing radiation irradiating device 7 to cure the above resin interposed between the substrate 2 and the intaglio plate 1, and at the same time, bring the resin into close contact with the substrate. Finally, the substrate 2 is peeled off from the intaglio 1. This base material 2
As a result, the cell barrier 8 shaped by the roll intaglio 1 was formed on the substrate 2 by peeling. Next, the surface of the glass substrate and the surface of a cured ionizing radiation curable resin layer having the shape of a cell barrier on the film substrate are brought into close contact with each other and then fired to form a sheet as shown in FIG. The cell barrier of PDP is obtained by the method of the invention. In the present invention, since the PDP having the cell barrier 8 is manufactured by the means as described above, it is possible to obtain an extremely accurate cell barrier that faithfully reproduces the shape stamped on the roll intaglio.
【０００８】上記ロール凹版１における版凹部４の形成
は、電子彫刻、エッチング法、ミル押し、電鋳法等の手
段にて行うことができる。また、版凹部４の形状は、セ
ル障壁の形状を賦型すべく形状であって、実際には凹状
形状部分がセル障壁形状を賦型することになる。The plate recess 4 in the roll intaglio 1 can be formed by means of electronic engraving, etching, mill pressing, electroforming or the like. The shape of the plate concave portion 4 is a shape for shaping the shape of the cell barrier, and in reality, the concave shaped portion shapes the shape of the cell barrier.
【０００９】本発明で製造すべきＰＤＰのセル障壁８
は、これによって放電用空間を形成する機能を果たすも
のであり、断面形状が長楕円、台形、又は長方形である
ものが好ましい。長楕円、台形の場合は、背面板側のセ
ル障壁は前面板側のセル障壁より幅があるため前面板と
接合させる部分のセル障壁前面の面積を小さくでき、ま
た、物理的に強靱であるため、輝度の向上がありかつプ
ラズマ発光させる際の真空圧着に耐えうるセル障壁を形
成することができる点で好ましい。さらに、セル障壁の
平面形状は縞状、格子状のものが挙げられる。ただし、
本発明によれば上記条件以外のセル障壁の形成も勿論可
能である。The cell barrier 8 of the PDP to be manufactured according to the present invention
Has a function of forming a discharge space by this, and preferably has a cross-sectional shape of an ellipse, a trapezoid, or a rectangle. In the case of oblong or trapezoidal shape, the cell barrier on the back plate side is wider than the cell barrier on the front plate side, so that the area of the front face of the cell barrier at the portion to be joined to the front plate can be made small and physically strong. Therefore, it is preferable because the cell barrier has improved brightness and can withstand the vacuum pressure bonding when plasma emission is performed. Further, the planar shape of the cell barrier may be striped or latticed. However,
According to the present invention, it is of course possible to form a cell barrier other than the above conditions.
【００１０】電離放射線硬化型樹脂の供給充填は、本実
施例の如くロール凹版に直接ロールコート法にて供給し
て行える他、Ｔダイ等のダイから供給したり基材２がロ
ール凹版１に当接する前に該基材上に予めロールコート
法等にて塗布形成して供給させて行ってもよい。また、
ロール凹版に限らず、版面が平面の凹版を使用してもよ
い。The ionizing radiation curable resin can be supplied and filled by directly supplying it to the roll intaglio plate by a roll coating method as in this embodiment, or by supplying from a die such as a T die or the substrate 2 to the roll intaglio plate 1. Before contacting, it may be applied and formed on the substrate in advance by a roll coating method or the like and supplied. Also,
Not limited to the roll intaglio, an intaglio having a flat plate surface may be used.
【００１１】本発明の電離放射線硬化型樹脂としては、
電離放射線により架橋重合反応を起こし固体化するポリ
マー、プレポリマー、或いはモノマーが用いられる。具
体的には、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル
ニトリル、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エ
ステルなどの（メタ）アクリロイル基をもつ化合物から
なるラジカル重合系（此処で、（メタ）アクリロイルと
はアクリロイル又はメタアクリロイルを意味する。以下
同様）、エポキシ、環状エーテル、環状アセタール、ラ
クトン、ビニルモノマー、環状シロキサンとアリールジ
アゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩などとの組合
せからなるカチオン重合系、チオール基を有する化合物
例えば、トリメチロールプロパントリチオグリコレー
ト、トリメチロールプロパントリチオプロピレート、ペ
ンタエリスリトールテトラチオグリコールとポリエン化
合物からなるポリエン・チオール系などが使用できる。The ionizing radiation curable resin of the present invention includes:
A polymer, a prepolymer, or a monomer that causes a cross-linking polymerization reaction by ionizing radiation to be solidified is used. Specifically, a radical polymerization system composed of a compound having a (meth) acryloyl group such as (meth) acrylamide, (meth) acrylonitrile, (meth) acrylic acid, (meth) acrylic acid ester (here, (meth)) Acryloyl means acryloyl or methacryloyl. The same shall apply hereinafter), epoxy, cyclic ether, cyclic acetal, lactone, vinyl monomer, cationic polymerization system composed of a combination of cyclic siloxane and aryldiazonium salt, diaryliodonium salt, thiol group. A compound having a compound such as trimethylolpropane trithioglycolate, trimethylolpropane trithiopropylate, pentaerythritol tetrathioglycol and a polyene / thiol system composed of a polyene compound can be used.
【００１２】ラジカル重合系の（メタ）アクリレート化
合物の単官能モノマーとしては、例えば、メチル（メ
タ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチ
ル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アク
リレート、メトキシブチル（メタ）アクリレート、ブト
キシエチル（メタ）アクリレート、２エチルヘキシル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノエチル
（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノプロピ
ル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジベンジルアミノエ
チル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレ
ート、イソボルニル（メタ）アクリレート、エチルカル
ビトール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メ
タ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール
（メタ）アクリレート、テトラヒドキシフルフリル（メ
タ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール
（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキ
シエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、２−
（メタ）アクリロイルオキシプロピルハイドロゲンフタ
レート等が挙げられる。Examples of the monofunctional monomer of the radical polymerization type (meth) acrylate compound include, for example, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, methoxyethyl (meth) acrylate, and methoxybutyl (meth) acrylate. ) Acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, 2 ethylhexyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminomethyl (meth) acrylate, N, N-dimethylaminoethyl (meth) acrylate, N, N-diethylaminoethyl (meth) Acrylate, N, N-diethylaminopropyl (meth) acrylate, N, N-dibenzylaminoethyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, isobornyl (meth) acrylate, ethylcarbitol (meth) acr Rate, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxypolyethylene glycol (meth) acrylate, tetrahydroxyfurfuryl (meth) acrylate, methoxytripropylene glycol (meth) acrylate, 2- (meth) acryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl phthalate , 2-
(Meth) acryloyloxypropyl hydrogen phthalate and the like can be mentioned.
【００１３】およびラジカル重合系の多官能モノマーと
しては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエ
チレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレン
グリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリ
コールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキシルジオール
ジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ
（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ
（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ
（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−ジ（メタ）
アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）ア
クリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイ
ドトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールト
リ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ
（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
（メタ）アクリレート、グリセリンポリエチレンオキサ
イドトリ（メタ）アクリレート、トリス（メタ）アクリ
ロイルオキシエチルフォスフェート等が挙げられる。As the polyfunctional monomer of the radical polymerization system, ethylene glycol di (meth) acrylate,
Diethylene glycol di (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, propylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexyldiol di ( (Meth) acrylate, 1,9-nonanediol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, bisphenol A-di (meth) acrylate
Acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolpropane ethylene oxide tri (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol Hexa (meth) acrylate, glycerin polyethylene oxide tri (meth) acrylate, tris (meth) acryloyloxyethyl phosphate and the like can be mentioned.
【００１４】プレポリマーとしてはアルキッド（メタ）
アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキ
シ（メタ）アクリレート、ポリエスル（メタ）アクリレ
ート、ポリブタジエン（メタ）アクリレート等の（メ
タ）アクリレート、不飽和ポリエステルなどがある。Alkyd (meta) as a prepolymer
There are (meth) acrylates such as acrylates, urethane (meth) acrylates, epoxy (meth) acrylates, polyester (meth) acrylates, polybutadiene (meth) acrylates, and unsaturated polyesters.
【００１５】これら（メタ）アクリロイル基を含む化合
物の中でも特にアクリロイル基を含む化合物、即ちアク
リレートの方がより重合反応速度が速い。その為、電離
放射線硬化型樹脂層を塗工形成する生産速度を重視する
場合はアクリレートの方がメタアクリレートより好まし
い。Among these compounds containing a (meth) acryloyl group, a compound containing an acryloyl group, that is, an acrylate has a higher polymerization reaction rate. Therefore, when importance is attached to the production rate of coating and forming the ionizing radiation-curable resin layer, acrylate is more preferable than methacrylate.
【００１６】以上の化合物を必要に応じて１種もしくは
２種以上混合して用いる。また混合された組成物の（メ
タ）アクリロイル基の総和が０．２〜１２ｍｍｏｌ／
ｇ、好ましくは、２〜１０ｍｍｏｌ／ｇがよい。The above compounds may be used alone or in admixture of two or more. Further, the total sum of (meth) acryloyl groups in the mixed composition is 0.2 to 12 mmol /
g, preferably 2 to 10 mmol / g.
【００１７】ここで、紫外線照射による硬化の場合の光
重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエ
ーテル、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ミヒラーケ
トン、ジフェニルサルファイド、ジベンジルジサルファ
イド、ジエチルオキサイト、トリフェニルビイミダゾー
ル、イソプロピル−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノベンゾエー
トなどの１種もしくは２種以上を該電離放射線硬化型樹
脂１００重量部に対して、０．１〜１０重量部を混合し
て用いることができる。Here, as a photopolymerization initiator in the case of curing by ultraviolet irradiation, benzoin, benzoin methyl ether, acetophenone, benzophenone, Michler's ketone, diphenyl sulfide, dibenzyl disulfide, diethyl oxite, triphenyl biimidazole, isopropyl One or two or more kinds of —N, N-dimethylaminobenzoate and the like can be used by mixing 0.1 to 10 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the ionizing radiation curable resin.
【００１８】此処で該電離放射線硬化型樹脂を含む組成
物中に、該電離放射線硬化型樹脂を溶解しその粘度など
を調整し塗工適性を持たせるための溶剤として、酢酸エ
チル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート等のエステル
類、アセトン、メチルエチルケトン、エチルイソブチル
ケトン等のケトン類、メチルアルコール、エチルアルコ
ール、イソプロピルアルコール等のアルコール類などの
１種または２種以上を任意に混合して使用することがで
きる。Here, ethyl acetate, butyl acetate, as a solvent for dissolving the ionizing radiation-curable resin in the composition containing the ionizing radiation-curable resin to adjust its viscosity and the like and to provide coating suitability, One or two or more of esters such as cellosolve acetate, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, ethyl isobutyl ketone, alcohols such as methyl alcohol, ethyl alcohol, isopropyl alcohol, etc. can be used in an arbitrary mixture. .
【００１９】電離放射線としては、可視光線、紫外線、
Ｘ線、電子線等の電磁波又は粒子線が用いられる。実用
上主に使用されるのは、紫外線又は電子線である。紫外
線源としては、高圧水銀燈、超高圧水銀燈、低圧水銀
燈、カーボンアーク、ブラックライト、メタルハライド
ランプ、などの光源が使用できる。The ionizing radiation includes visible light, ultraviolet light,
Electromagnetic waves such as X-rays and electron beams or particle beams are used. Ultraviolet rays or electron beams are mainly used in practice. As the ultraviolet ray source, a light source such as a high pressure mercury lamp, an ultrahigh pressure mercury lamp, a low pressure mercury lamp, a carbon arc, a black light, and a metal halide lamp can be used.
【００２０】電子線源としては、コックロフトワルトン
型、バンデグラフト型、共振変圧器型、絶縁コア変圧器
型、あるいは、直線型、ダイナミトロン型、高周波型な
どの各種電子線加速器を用い、１００〜１０００Ｋｅ
Ｖ、好ましくは、１００〜３０ＫｅＶのエネルギーをも
つ電子を照射するものを使用できる。通常照射線量は
０．５〜３０Ｍｒａｄ程度である。As the electron beam source, various electron beam accelerators such as Cockloft-Walton type, Van de Graft type, resonance transformer type, insulating core transformer type, linear type, dynamitron type and high frequency type are used. ~ 1000 Ke
Those which irradiate with electrons having an energy of V, preferably 100 to 30 KeV can be used. Usually, the irradiation dose is about 0.5 to 30 Mrad.
【００２１】尚電離放射線の照射方法として、まず紫外
線を照射して該電離放射線硬化型樹脂層を少なくとも表
面が指触乾燥する程度以上に硬化させ、而る後電子線で
完全の硬化させることも可能である。As a method of irradiating ionizing radiation, it is possible to first irradiate ultraviolet rays to cure the ionizing radiation-curable resin layer to such an extent that at least the surface of the resin layer is dry to the touch, and then complete curing with an electron beam. It is possible.
【００２２】本発明におけるガラスフリットの樹脂組成
としては、低融点ガラスフリット、耐熱顔料、充填剤を
有機系バインダーに分散させたものである。低融点ガラ
スフリットとしては、粒径０．１〜６０μｍであり、融
点が４００〜６００℃であるものが好ましく、Ｓｉ
Ｏ2 、ＰｂＯ、Ｂ2 Ｏ3 を主成分とするものである。As the resin composition of the glass frit in the present invention, a low melting point glass frit, a heat resistant pigment and a filler are dispersed in an organic binder. The low-melting glass frit preferably has a particle size of 0.1 to 60 μm and a melting point of 400 to 600 ° C.
It is mainly composed of O 2 , PbO and B 2 O 3 .
【００２３】フィルム基材２としては、可撓性があり、
電離放射線透過性があり、焼成後に灰化しやすいもので
あれば使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィル
ム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピリレンフィル
ム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィ
ルム、ポリカーボネートフィルム、ナイロンフィルム、
ポリイミドフィルム、ポリスチレンフィルム、エチレン
−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリビニルアルコー
ル、等を使用することができ、なかでも加工適性、強
度、コスト等の点に考慮した場合、特にポリエステルフ
ィルムが望ましい。The film substrate 2 has flexibility,
Any material that is transparent to ionizing radiation and that is easily ashed after firing can be used. For example, polyethylene terephthalate, polyester film such as polyethylene naphthalate, polyethylene film, polypropylene film, polyvinyl chloride film, polyvinylidene chloride film, polycarbonate film, nylon film,
Polyimide film, polystyrene film, ethylene-vinyl acetate copolymer film, polyvinyl alcohol, etc. can be used. Among them, polyester film is particularly preferable in consideration of processability, strength, cost and the like.
【００２４】次に、具体的実施例を挙げて本発明を更に
詳細に説明する。Next, the present invention will be described in more detail with reference to specific examples.
【００２５】（実施例１）厚さ２５μｍのポリエステル
フィルム（東レ製：Ｔ−６０）の片面に、第１図に図示
の如き製造装置と、下記のような版凹部が正四角錐形状
の凹部空間を有するロール凹版及び低融点ガラスフリッ
トを含有する電離放射線硬化型樹脂を使用して、かつ下
記の条件にて、上記ポリエステルフィルムの片面にセル
障壁部の形状を有する硬化された電離放射線硬化型樹脂
層を形成した。(Example 1) On one side of a polyester film (T-60 manufactured by Toray) having a thickness of 25 .mu.m, a manufacturing apparatus as shown in FIG. Using an ionizing radiation curable resin containing a roll intaglio and a low melting point glass frit, and under the following conditions, a cured ionizing radiation curable resin having the shape of a cell barrier portion on one surface of the polyester film. Layers were formed.
【００２６】ロール凹版 版面の断面形状：縦断面は分離した台形 〔図４参照〕 水平断面はストライプ状 セルピッチ ：２００μｍ セル溝幅Ｗ ：上底１８０μｍ、下底１５０μｍ セル深さＤ ：１５０μｍCross-sectional shape of roll intaglio plate surface: trapezoid with separated vertical section [see FIG. 4] Stripe horizontal section Cell pitch: 200 μm Cell groove width W: Upper bottom 180 μm, lower bottom 150 μm Cell depth D: 150 μm
【００２７】低融点ガラスフリットを含有する電離放射線硬化型樹脂 無機成分：二酸化化珪素 酸化鉛 ７５重量部 樹脂成分：ペンタエリスリトールトリアクリレート ２２重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー ２重量部 Ionizing radiation-curable resin containing low-melting glass frit Inorganic component: Silicon dioxide Lead oxide 75 parts by weight Resin component: Pentaerythritol triacrylate 22 parts by weight Urethane acrylate oligomer 2 parts by weight
【００２８】照射条件 カーテンビーム型線照射装置にて１０Ｍｒａｄの電子線
を照射。 Irradiation conditions Irradiate an electron beam of 10 Mrad with a curtain beam type line irradiation device.
【００２８】次に、上記で得たポリエステルフィルム上
に設けられたセル障壁をＰＤＰ用のガラス基板上に圧接
し、次いで、ピーク温度５８５℃、加熱時間１５分の条
件で焼成し、ＰＤＰガラス基板上にセル障壁を形成し
た。Next, the cell barrier provided on the polyester film obtained above was pressed onto a glass substrate for PDP, and then baked at a peak temperature of 585 ° C. for a heating time of 15 minutes to obtain a PDP glass substrate. A cell barrier was formed on top.
【００２９】（実施例２）実施例１において、ロール凹
版、ガラスフリットを含有した電離放射線硬化型樹脂、
照射条件を下記とした以外は、実施例１と同様にして、
セル障壁をガラス基板上に形成した。(Embodiment 2) In Embodiment 1, a roll intaglio, an ionizing radiation curable resin containing a glass frit,
In the same manner as in Example 1 except that the irradiation conditions were as follows,
A cell barrier was formed on the glass substrate.
【００３０】ロール凹版 版面の断面形状：縦断面は分離した台形 〔図５参照〕 水平断面は正方形 セルピッチＰ ：５００μｍ セル溝幅Ｗ ：上底４５０μｍ、下底１００μｍ セル深さＤ ：１５０μｍCross-sectional shape of roll intaglio plate surface: trapezoid with separated vertical section [see FIG. 5] Horizontal section is square Cell pitch P: 500 μm Cell groove width W: Upper bottom 450 μm, lower bottom 100 μm Cell depth D: 150 μm
【００３１】低融点ガラスフリットを含有する電離放射線硬化型樹脂 無機成分：二酸化珪素 酸化珪素 ７５重量部 樹脂成分：ペンタエリスリトールトリアクリレート ２２重量部 ウレタンアクリレートオリゴマー ２重量部 ２−ヒドロキシ−２メチル−１−フェニルプロパン−１オン （メルク製、ダロキュア１１７３） ０．２重量部照射条件 オゾン有りの高圧水銀灯、１６０Ｗ／ｃｍ×２灯 Ionizing radiation-curable resin containing low-melting glass frit Inorganic component: Silicon dioxide 75 parts by weight Resin component: Pentaerythritol triacrylate 22 parts by weight Urethane acrylate oligomer 2 parts by weight 2-hydroxy-2methyl-1- Phenylpropan-1one (Merck, Darocur 1173) 0.2 parts by weight Irradiation conditions High pressure mercury lamp with ozone, 160W / cm x 2 lamps
【００３２】[0032]
【発明の効果】本発明は、以上のように構成されている
ので、以下に記載されているような効果を奏する。セル
障壁の印刷と焼成を繰りし行う必要がなく、一度のセル
障壁の印刷および焼成でセル障壁が得られるため、これ
までのスクリーン印刷法による厚膜パターン積層法に比
べ、処理時間が短縮されるとともに、パターンの寸法精
度、整合性の向上を図ることができた。Since the present invention is constructed as described above, it has the following effects. Since it is not necessary to print and fire the cell barrier repeatedly, and the cell barrier can be obtained by printing and firing the cell barrier once, the processing time is shortened compared to the conventional thick film pattern laminating method using the screen printing method. In addition, the dimensional accuracy and consistency of the pattern could be improved.
【００３３】[0033]
【図１】本発明製造方法を示す概念図である。FIG. 1 is a conceptual diagram showing a manufacturing method of the present invention.
【図２】本発明製造方法により得られたセル障壁を有す
るフィルムの一実施例を示す縦断面図である。FIG. 2 is a longitudinal sectional view showing an example of a film having a cell barrier obtained by the manufacturing method of the present invention.
【図３】本発明製造方法により得られたセル障壁を持つ
背面板と前面板とを封着してパネルとした断面の概念
図。FIG. 3 is a conceptual diagram of a cross section of a panel obtained by sealing a back plate having a cell barrier and a front plate obtained by the manufacturing method of the present invention.
【図４】ロール凹版の版凹部形状の一例を示す断面図及
び斜視図。4A and 4B are a sectional view and a perspective view showing an example of a plate recess shape of a roll intaglio plate.
【図５】ロール凹版の版凹部形状の一例を示す断面図及
び斜視図。5A and 5B are a sectional view and a perspective view showing an example of a plate recess shape of a roll intaglio plate.
１． セル障壁 ２． セル障壁を有するフィルム基材 ２１．フィルム基材 ３． ガラスフリットを含有する電離放射線硬化型樹脂 ４． ロール凹版 ４１．版凹部 ５１．押圧ロール ５２．剥離ロール ６． 塗工装置 ７． 電離放射線照射装置 ８． ガラス基板 1. Cell barrier 2. A film base material having a cell barrier 21. Film substrate 3. Ionizing radiation curable resin containing glass frit 4. Roll intaglio 41. Plate recess 51. Pressure roll 52. Release roll 6. Coating device 7. Ionizing radiation irradiation device 8. Glass substrate
Claims (1)
セル障壁を備えた背面板とを互いに平行に対向するよう
に配設してなるプラズマディスプレイパネルのセル障壁
製造方法において、次の〜よりなることを特徴とす
るプラズマディスプレイパネルのセル障壁製造方法。 上記セル障壁部の賦型用形状からなる版凹部を形成し
た凹版を使用し、該凹版の少なくとも版凹部にガラスフ
リットを含有する電離放射線硬化型樹脂を充填させると
共に、フィルム基材を接触させ、該フィルム基材が凹版
に接触している間に電離放射線を照射して該フィルム基
材と凹版との間に介在している上記電離放射線硬化型樹
脂を硬化させた後、該フィルム基材と該電離放射線硬化
型樹脂層を凹部から剥離する工程。 基板の表面と、上記該フィルム基材上にセル障壁部の
形状を有する硬化された電離放射線硬化型樹脂層面とを
密着した後、焼成する工程。1. A method of manufacturing a cell barrier of a plasma display panel, comprising a front plate and a rear plate having cell barriers forming a plurality of discharge spaces arranged in parallel to each other. A method for manufacturing a cell barrier of a plasma display panel, comprising: Using an intaglio plate having a plate recess formed of the shape for imprinting the cell barrier portion, at least the plate recess of the intaglio plate is filled with an ionizing radiation curable resin containing a glass frit, and a film substrate is contacted, After the film substrate is in contact with the intaglio plate, ionizing radiation is applied to cure the ionizing radiation curable resin interposed between the film substrate and the intaglio plate, and then the film substrate A step of peeling the ionizing radiation curable resin layer from the recess. A step of bringing the surface of the substrate into close contact with the surface of a cured ionizing radiation curable resin layer having the shape of a cell barrier portion on the film base material, and then firing.
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