JPH0832014A - Manufacture of ic package - Google Patents

Manufacture of ic package

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Publication number
JPH0832014A
JPH0832014A JP18894494A JP18894494A JPH0832014A JP H0832014 A JPH0832014 A JP H0832014A JP 18894494 A JP18894494 A JP 18894494A JP 18894494 A JP18894494 A JP 18894494A JP H0832014 A JPH0832014 A JP H0832014A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
lead frame
packaging
space
set space
package
Prior art date
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Pending
Application number
JP18894494A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Yamada
廣志 山田
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Daido Steel Co Ltd
Original Assignee
Daido Steel Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Daido Steel Co Ltd filed Critical Daido Steel Co Ltd
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Publication of JPH0832014A publication Critical patent/JPH0832014A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To prevent surface oxidation of a lead frame, when die bonding, wire bonding, and packaging like resin molding are performed. CONSTITUTION:One or more kinds of single substance metal or alloy out of Ta, Zr, Nb, W, Mo and Ti is arranged as getter material in a set space of a metal mold or a space linked with the set space. In this state, inert gas for preventing oxidation is blown into the set space. While the set space is shielded with the gas, die bonding, wire bonding and packaging are performed.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】この発明はICパッケージの製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing an IC package.

【0002】[0002]

【従来の技術】ICパッケージの製造工程においては、
一般にリードフレームのダイパット部にICチップをボ
ンディングするダイボンド工程、リードフレームにおけ
るリード部及びICチップ間をワイヤボンディングする
ワイヤボンド工程、樹脂をモールドするなどしてダイパ
ット部とICチップをパッケージするパッケージ工程を
含んでいる。通常、これらダイボンド工程,ワイヤボン
ド工程,パッケージ工程は、金型のセット空間にリード
フレームをセットした状態で行う。
2. Description of the Related Art In the process of manufacturing an IC package,
Generally, a die bonding process for bonding an IC chip to a die pad part of a lead frame, a wire bonding process for wire bonding between the lead part and the IC chip of the lead frame, and a packaging process for packaging the die pad part and the IC chip by molding resin. Contains. Usually, these die bonding process, wire bonding process, and packaging process are performed with the lead frame set in the mold setting space.

【0003】ところで、これらの工程においてはリード
フレームが400℃付近まで加熱されるため、一般には
これら工程においてはリードフレームの酸化防止用のア
ルゴンガス,窒素ガス等の不活性なガスを金型のセット
空間に吹き込み、同セット空間をこれらガスにてシール
ドした状態で上記各工程を実施しているのが実情であ
る。
By the way, since the lead frame is heated to about 400 ° C. in these steps, generally, in these steps, an inert gas such as argon gas or nitrogen gas for preventing oxidation of the lead frame is applied to the mold. Actually, the above steps are carried out in a state where the gas is blown into the set space and the set space is shielded by these gases.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながらこのよう
に不活性なガスを吹き込んでシールドを行っても完全に
は酸素を除去することはできず、このためCr等の酸化
されやすい元素を含んだ合金から成るリードフレームの
場合、これら工程において表面にCr等の酸化物を生成
してしまうのを避け得ない。
However, even if the inert gas is blown in and shielded as described above, oxygen cannot be completely removed. Therefore, an alloy containing an element such as Cr which is easily oxidized is used. In the case of a lead frame made of, it is inevitable that oxides such as Cr are generated on the surface in these steps.

【0005】而してリードフレームの表面に酸化物が生
成すると、樹脂等をモールドしたときにモールド材(パ
ッケージ材)との密着性が阻害され、またワイヤボンド
工程でのハンダ付け性が阻害されてしまう問題を生ず
る。
When an oxide is formed on the surface of the lead frame, the adhesion with the molding material (package material) is impaired when the resin or the like is molded, and the solderability in the wire bonding process is impaired. It causes the problem of being lost.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本願の発明はこのような
課題を解決するためになされたものである。而して本願
の発明は、リードフレームのダイパット部にチップをボ
ンディングするダイボンド工程、リードフレームのリー
ド部及びチップ間のワイヤボンド工程、該チップ及びダ
イパット部を樹脂等パッケージ材でパッケージするパッ
ケージ工程を、金型のセット空間に該リードフレームを
セットした状態で行うICパッケージの製造方法におい
て、前記金型のセット空間若しくはこれに連通する空間
内にTa,Zr,Nb,W,Mo,Tiの何れか一種又
は二種以上の単体金属若しくは合金をゲッター材として
配置した状態で、該セット空間内に酸化防止用の不活性
なガスを吹き込んで該セット空間を該ガスにてシールド
しつつ前記ダイボンド工程,ワイヤボンド工程,パッケ
ージ工程を行うことを特徴とする(請求項1)。
The invention of the present application has been made to solve such a problem. Thus, the invention of the present application includes a die bonding step of bonding a chip to the die pad portion of the lead frame, a wire bonding step between the lead portion of the lead frame and the chip, and a packaging step of packaging the chip and the die pad portion with a packaging material such as resin. In the method for manufacturing an IC package in which the lead frame is set in a mold setting space, any one of Ta, Zr, Nb, W, Mo and Ti is provided in the mold setting space or in a space communicating with the mold setting space. In the state where one or more kinds of single metals or alloys are arranged as a getter material, an inert gas for antioxidant is blown into the set space to shield the set space with the gas, and the die bonding step. , A wire bonding step and a packaging step are performed (claim 1).

【0007】本願の別の発明は、前記リードフレームが
Cr:5〜10重量%含有するFe−Cr系合金から成
るものであることを特徴とする(請求項2)。
Another aspect of the present invention is characterized in that the lead frame is made of an Fe-Cr alloy containing 5 to 10% by weight of Cr (claim 2).

【0008】[0008]

【作用及び発明の効果】以上のように本発明は、金型の
セット空間若しくはこれに連通する空間にTa,Zr,
Nb,W,Mo,Tiの何れか一種又は二種以上の単体
金属若しくは合金をゲッター材として配置した状態で、
同セット空間にシールドガスを吹き込みつつダイボンド
工程,ワイヤボンド工程,パッケージ工程等の工程を実
施するもので、本発明においては酸化性の強いTa,Z
r等のゲッター材が酸素と反応してこれを吸収する作用
を成すため、セット空間から酸素を良好に除去すること
ができ、従って上記工程においてリードフレームの表面
に酸化物が生成するのを防止することができる。
As described above, according to the present invention, Ta, Zr,
In a state in which any one of Nb, W, Mo, and Ti, or two or more kinds of single metals or alloys are arranged as a getter material,
Processes such as a die-bonding process, a wire-bonding process, and a packaging process are performed while blowing a shield gas into the set space.
Since the getter material such as r has a function of reacting with oxygen and absorbing it, oxygen can be satisfactorily removed from the set space, and thus oxides are prevented from being generated on the surface of the lead frame in the above process. can do.

【0009】これにより、酸化物生成によってリードフ
レームのハンダ付け性が阻害されたり、パッケージ材と
の密着性が阻害されたりするのを回避でき、良好にIC
パッケージを製造できる。
As a result, it is possible to prevent the solderability of the lead frame and the adhesiveness with the package material from being hindered by the generation of oxides, and it is possible to achieve good IC.
Can manufacture packages.

【0010】或いは従来リードフレーム材として使用す
ることが難しかった、酸化物の生成し易い元素を含んだ
材料であっても、良好にリードフレーム材として用いる
ことが可能となる効果が得られる。
Alternatively, even a material containing an element that easily forms an oxide, which has been difficult to use as a lead frame material, can be effectively used as a lead frame material.

【0011】本発明は、上記のように酸化し易い元素を
含む合金から成るリードフレーム、特にCrを5〜10
重量%含有するFe−Cr系合金から成るリードフレー
ムを用いたICパッケージの製造に適用して特に効果が
大きい(請求項2)。
According to the present invention, a lead frame made of an alloy containing an element that easily oxidizes as described above, particularly 5 to 10% Cr is used.
It is particularly effective when applied to the manufacture of an IC package using a lead frame made of a Fe-Cr alloy containing wt% (claim 2).

【0012】[0012]

【実施例】次に本発明の実施例を以下に詳述する。セッ
ト空間としての金型のキャビティ内面全面にTaをゲッ
ター材として張り付けた状態でFe−7%Crから成る
リードフレームをセットし、そしてキャビティ内に窒素
ガスを吹き込んでシールドしつつ、リードフレームを約
400℃で1分間加熱処理した。
EXAMPLES Examples of the present invention will be described in detail below. Set a lead frame made of Fe-7% Cr with Ta as a getter material stuck on the entire inner surface of the mold cavity as a set space, and blow nitrogen gas into the cavity to shield the lead frame. It heat-processed at 400 degreeC for 1 minute.

【0013】そしてその加熱処理したリードフレームの
表面の酸素をオージェにより分析した。結果がゲッター
材を使用しない場合との比較において図1に示してあ
る。但し同分析においてスパッタ速度は4nm/min
である。尚、図2中縦軸はOの相対強度を示している。
The oxygen on the surface of the heat-treated lead frame was analyzed by Auger. The results are shown in FIG. 1 in comparison with the case without the getter material. However, in the same analysis, the sputter rate was 4 nm / min.
Is. The vertical axis in FIG. 2 represents the relative intensity of O.

【0014】この結果に見られるように、ゲッター材を
使用しない場合には極表層のOの濃度が、ゲッター材を
使用したものに比べて約15%程度高くなっている。
As can be seen from these results, when the getter material is not used, the O concentration in the outer surface layer is about 15% higher than that when the getter material is used.

【0015】次にリードフレーム材としてFe−7%C
rとFe−42%Niから成るものを用い、これらを上
記と同様の加熱処理を施し、次いでハンダの濡れ力測定
を行った。また比較のために上記ゲッター材を使用しな
い状態で同様の加熱処理を施したものについても同じ濡
れ力測定を行った。
Next, as a lead frame material, Fe-7% C
Using r and Fe-42% Ni, these were subjected to the same heat treatment as above, and then the wettability of solder was measured. For comparison, the same wetting force was measured for the same heat-treated material without using the getter material.

【0016】ここでハンダの濡れ力測定は、ハンダを溶
かしておいてその中にリードフレームを浸漬し、次にこ
れを引き上げたときの引上力を測定することにより行っ
た。その結果が図2に示してある。
Here, the wetting force of the solder was measured by melting the solder, immersing the lead frame in the solder, and then measuring the pulling force when the lead frame was pulled up. The result is shown in FIG.

【0017】図2の結果から、Fe−7%Crの場合、
ゲッター材を使用することによりFe−42%Niとほ
ぼ同等の濡れ力が得られることが分る。尚、Fe−42
%Niでゲッター材の有無が殆ど影響していないのは、
Cr等の酸化しやすい元素を含んでいないからである。
From the results shown in FIG. 2, in the case of Fe-7% Cr,
It can be seen that by using the getter material, a wetting force almost equal to that of Fe-42% Ni can be obtained. In addition, Fe-42
The fact that the presence or absence of getter material has little effect on% Ni is
This is because it does not contain elements such as Cr that easily oxidize.

【0018】以上本発明の実施例を詳述したがこれはあ
くまで一例示である。例えば本発明はダイボンド工程,
ワイヤボンド工程,樹脂モールド等のパッケージ工程の
全てに適用するのが好ましいが、場合により何れかの工
程のみに適用しても良い。その他本発明はその主旨を逸
脱しない範囲において、種々変更を加えた態様で実施可
能である。
Although the embodiment of the present invention has been described in detail above, this is merely an example. For example, the present invention is a die bonding process,
It is preferable to apply it to all of the wire bonding process and the packaging process such as resin molding, but in some cases, it may be applied to only one of the processes. Others The present invention can be implemented in variously modified modes without departing from the spirit of the invention.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例の効果を確認するためのオー
ジェによるOの分析結果を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing an analysis result of O by Auger for confirming the effect of one embodiment of the present invention.

【図2】同実施例の効果を確認するために行ったリード
フレームのハンダの濡れ力測定の結果を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a result of a wetting force measurement of a solder of a lead frame performed for confirming an effect of the same example.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 リードフレームのダイパット部にチップ
をボンディングするダイボンド工程、リードフレームの
リード部及びチップ間のワイヤボンド工程、該チップ及
びダイパット部を樹脂等パッケージ材でパッケージする
パッケージ工程を、金型のセット空間に該リードフレー
ムをセットした状態で行うICパッケージの製造方法に
おいて前記金型のセット空間若しくはこれに連通する空
間内にTa,Zr,Nb,W,Mo,Tiの何れか一種
又は二種以上の単体金属若しくは合金をゲッター材とし
て配置した状態で、該セット空間内に酸化防止用の不活
性なガスを吹き込んで該セット空間を該ガスにてシール
ドしつつ前記ダイボンド工程,ワイヤボンド工程,パッ
ケージ工程を行うことを特徴とするICパッケージの製
造方法。
1. A die for a die bonding step of bonding a chip to a die pad portion of a lead frame, a wire bonding step between a lead portion of a lead frame and a chip, and a packaging step of packaging the chip and die pad portion with a packaging material such as resin. In the method for manufacturing an IC package in which the lead frame is set in the set space, any one or two of Ta, Zr, Nb, W, Mo, and Ti in the set space of the mold or the space communicating with the mold is set. The die-bonding step and the wire-bonding step while shielding the set space with the gas by injecting an inert gas for oxidation prevention into the set space while arranging at least one elemental metal or alloy as a getter material. , A method of manufacturing an IC package, characterized by performing a packaging process.
【請求項2】 前記リードフレームがCr:5〜10重
量%含有するFe−Cr系合金から成るものであること
を特徴とするICパッケージの製造方法。
2. A method of manufacturing an IC package, wherein the lead frame is made of a Fe—Cr alloy containing 5 to 10% by weight of Cr.
JP18894494A 1994-07-18 1994-07-18 Manufacture of ic package Pending JPH0832014A (en)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6404160B2 (en) 1998-12-24 2002-06-11 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Numerical control apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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