JPH08316779A - Surface acoustic wave element - Google Patents

Surface acoustic wave element

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JPH08316779A
JPH08316779A JP14131095A JP14131095A JPH08316779A JP H08316779 A JPH08316779 A JP H08316779A JP 14131095 A JP14131095 A JP 14131095A JP 14131095 A JP14131095 A JP 14131095A JP H08316779 A JPH08316779 A JP H08316779A
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JP
Japan
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acoustic wave
surface acoustic
propagation direction
cut
sapphire substrate
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JP14131095A
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Japanese (ja)
Inventor
Naoki Tanaka
直樹 田中
Hiroshi Okano
寛 岡野
Tatsuro Usuki
辰朗 臼杵
Kenichi Shibata
賢一 柴田
Taizo Kobayashi
泰三 小林
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Sanyo Electric Co Ltd
Original Assignee
Sanyo Electric Co Ltd
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  • Surface Acoustic Wave Elements And Circuit Networks Thereof (AREA)

Abstract

PURPOSE: To obtain the surface acoustic wave element having provision for high frequencies by selecting a cut face of a single crystal sapphire substrate and a surface acoustic wave propagation direction to be a prescribed angle in Euler angle representation and a range substantially equivalent thereto so as to find out the cut face and the surface acoustic wave propagation direction at which a higher sound velocity than that of a conventional element. CONSTITUTION: A piezoelectric film 6 made of an AlN is formed to a cut face of a sapphire substrate 5 cut with ϕ=0 deg. and θ=50 deg. in the surface acoustic wave resonator. Interdigital electrodes 7, 8 are arranged to the surface of the piezoelectric film 6 and interdigital reflectors 9, 10 are arranged to both sides of them. The electrodes 7, 8 and the reflectors 9, 10 are arranged so that the line width and the line interval are both 1.0μm and the propagation direction ϕof a surface acoustic wave is 90 deg.. The piezoelectric film 6 is formed by sputtering and the film thickness is selected to be 4000Å. Furthermore, the electrodes 7, 8 and the reflectors 9, 10 are patterned by forming an Al film of 2000Å with a sputtering device to be formed interdigitally.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、単結晶サファイア基板
上に圧電膜を形成してなる弾性表面波素子に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface acoustic wave device having a piezoelectric film formed on a single crystal sapphire substrate.

【0002】[0002]

【従来の技術】携帯用電話機等の通信機器に於いては、
共振器フィルター、信号処理用遅延線等の回路素子とし
て、弾性表面波素子が用いられている。弾性表面波素子
は、例えば圧電性を有する基板の表面に櫛形の電極や反
射器を形成し、電気信号と弾性表面波の相互の変換を行
なうものである。一般に、弾性表面波素子の圧電基板に
於いては、電気機械結合係数が大きいこと、伝搬損失が
小さいこと等が要求される。
2. Description of the Related Art In communication equipment such as portable telephones,
Surface acoustic wave devices are used as circuit devices such as resonator filters and signal processing delay lines. The surface acoustic wave element is one in which, for example, a comb-shaped electrode or a reflector is formed on the surface of a substrate having piezoelectricity, and an electric signal and a surface acoustic wave are mutually converted. Generally, the piezoelectric substrate of the surface acoustic wave device is required to have a large electromechanical coupling coefficient and a small propagation loss.

【0003】ところで、近年の通信機器の高周波化に伴
って、ギガヘルツ帯で使用可能な弾性表面波素子へのニ
ーズが高まっている。弾性表面波素子の中心周波数f0
は、弾性表面波の伝搬速度Vと波長λとの関係で次式に
よって表わされる。
By the way, with the recent increase in the frequency of communication equipment, there is an increasing need for a surface acoustic wave element that can be used in the gigahertz band. Center frequency f 0 of the surface acoustic wave element
Is expressed by the following equation in the relationship between the propagation velocity V of the surface acoustic wave and the wavelength λ.

【数3】f0=V/λ ここで、波長λは、電極のピッチdによって決まる(λ
=4d)。従って、弾性表面波素子の高周波化に対応す
るには、音速(弾性表面波伝搬速度)の大きな材料を使用
する方法や、電極ピッチを狭小化する方法が考えられ
る。
F 0 = V / λ where the wavelength λ is determined by the pitch d of the electrodes (λ
= 4d). Therefore, in order to cope with the higher frequency of the surface acoustic wave element, a method of using a material having a high sound velocity (surface acoustic wave propagation velocity) or a method of narrowing the electrode pitch can be considered.

【0004】従来は、弾性表面波素子の基板材料とし
て、タンタル酸リチウム(LiTaO3)や、ニオブ酸リチ
ウム(LiNbO3)などが用いられてきた。タンタル酸リ
チウム基板の36°Y−カットX伝搬では、音速が41
32m/s、ニオブ酸リチウム基板の64°Y−カット
X伝搬では、音速が4419m/sである。現在の量産
レベルでのパターニング技術の限界を電極ピッチ0.6
μmとすれば、これらの基板を用いた弾性表面波素子の
中心周波数は、夫々1.72GHz、1.84GHzが上
限となる。
Conventionally, lithium tantalate (LiTaO 3 ) or lithium niobate (LiNbO 3 ) has been used as a substrate material for surface acoustic wave devices. In the 36 ° Y-cut X propagation of the lithium tantalate substrate, the sound velocity is 41
The sound velocity is 4419 m / s in 32 m / s and 64 ° Y-cut X propagation of the lithium niobate substrate. The limit of patterning technology at the current mass production level is the electrode pitch of 0.6.
.mu.m, the center frequencies of the surface acoustic wave devices using these substrates have upper limits of 1.72 GHz and 1.84 GHz, respectively.

【0005】弾性表面波素子の高周波化に対する近年の
更なる要求に応じるには、更に高い音速の基板を開発す
ることが不可欠である。そこで、タンタル酸リチウムや
ニオブ酸リチウムよりも高音速が得られるサファイアを
基板として用いた弾性表面波素子の研究が行なわれてい
る。サファイアはそれ自身、圧電性を持たないため、酸
化亜鉛(ZnO)や窒化アルミニウム(AlN)などの圧電薄
膜を基板表面に1層あるいは数層成膜し、この圧電薄膜
によって弾性表面波を励振させる。現在、弾性表面波素
子の基板として使用されている単結晶サファイアのカッ
ト面は、主に図9に示すC面と図10に示すR面であ
る。
In order to meet the recent demands for higher frequency of surface acoustic wave devices, it is indispensable to develop a substrate with higher sound velocity. Therefore, studies have been conducted on surface acoustic wave devices using sapphire as a substrate, which has a higher acoustic velocity than lithium tantalate or lithium niobate. Since sapphire itself does not have piezoelectricity, one or several piezoelectric thin films such as zinc oxide (ZnO) and aluminum nitride (AlN) are formed on the substrate surface, and surface acoustic waves are excited by this piezoelectric thin film. . At present, the cut planes of single crystal sapphire used as the substrate of the surface acoustic wave device are mainly the C plane shown in FIG. 9 and the R plane shown in FIG.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、サファ
イア基板を用いた従来の弾性表面波素子においても、C
面およびR面での最大音速が夫々5700m/s及び5
880m/sであって(図3、図4参照)、更に高い音速
のカット面が存在する可能性がある。この様な最適なカ
ット面や弾性表面波伝搬方向については、未だ十分な研
究が為されていない。本発明の目的は、単結晶サファイ
ア基板を用いた弾性表面波素子に於いて、従来よりも高
音速が得られるカット面及び弾性表面波伝搬方向を見出
し、これによって高周波数対応の弾性表面波素子を提供
することである。
However, even in the conventional surface acoustic wave device using the sapphire substrate, the C
The maximum sound velocity on the surface and R surface is 5700 m / s and 5 respectively.
It is 880 m / s (see FIGS. 3 and 4), and there is a possibility that a cut surface having a higher sound velocity exists. Such an optimum cut surface and surface acoustic wave propagation direction have not been sufficiently studied. An object of the present invention is, in a surface acoustic wave element using a single crystal sapphire substrate, to find a cut surface and a surface acoustic wave propagation direction that can obtain a higher acoustic velocity than conventional ones, and thereby to detect a high frequency surface acoustic wave element. Is to provide.

【0007】[0007]

【課題を解決する為の手段】一般に単結晶基板に於いて
は、カット面或いは弾性表面波伝搬方向によって音速が
変化することが知られており、サファイア基板に於いて
も、C面およびR面よりも高音速を持つ面方位が存在す
るものと考えられる。そこで本発明では、サファイア基
板のカット面及び弾性表面波伝搬方向を種々に変えて、
夫々の伝搬速度を理論的に計算し、その結果に基づい
て、最適なカット面及び弾性表面波伝搬方向を有する弾
性表面波素子を完成した。
It is generally known that in a single crystal substrate, the speed of sound changes depending on the cut surface or the surface acoustic wave propagation direction, and also in the sapphire substrate, the C surface and the R surface. It is considered that there is a plane orientation with a higher sonic velocity than that. Therefore, in the present invention, the cut surface of the sapphire substrate and the surface acoustic wave propagation direction are variously changed,
The propagation velocity of each is theoretically calculated, and based on the result, the surface acoustic wave device having the optimum cut surface and the surface acoustic wave propagation direction is completed.

【0008】尚、弾性表面波伝搬速度の計算において
は、従来より知られている一般的な解法( 例えば、J.J.
Campbell, W.R.Jones,"A Method for Estimating Optim
al Crystal Cuts and Propagation Directions for Exc
itation of Piezoelectric Surface Waves", IEEE tran
saction on Sonics and Ultrasonics, vol.SU-15, No.
4, pp209-217,(1968)参照)を採用し、コンピュータシミ
ュレーションによって、カット面及び弾性表面波伝搬方
向の最適値を求めた。そして、最適なカット面及び弾性
表面波伝搬方向については、実際に弾性表面波素子を試
作して、その特性を実測したところ、シミュレーション
結果と符合する測定値が得られた。これによって、コン
ピュータシミュレーションの妥当性が裏付けられる。
In the calculation of the surface acoustic wave propagation velocity, a generally known general solution method (for example, JJ
Campbell, WRJones, "A Method for Estimating Optim
al Crystal Cuts and Propagation Directions for Exc
itation of Piezoelectric Surface Waves ", IEEE tran
saction on Sonics and Ultrasonics, vol.SU-15, No.
4, pp209-217, (1968)) was adopted, and the optimum values of the cut surface and the surface acoustic wave propagation direction were obtained by computer simulation. Regarding the optimum cut surface and the surface acoustic wave propagation direction, when a surface acoustic wave element was actually prototyped and the characteristics thereof were actually measured, a measured value that coincided with the simulation result was obtained. This supports the validity of computer simulation.

【0009】本発明に係る弾性表面波素子は、単結晶サ
ファイア基板のカット面及び弾性表面波伝搬方向を、オ
イラ角表示で(0°,θ,ψ)及びこれと実質的に等価な
範囲とするとき、θ及びψを下記数4の範囲に設定した
ものである。
In the surface acoustic wave device according to the present invention, the cut surface of the single crystal sapphire substrate and the surface acoustic wave propagation direction are (0 °, θ, ψ) in the Euler angle display and a range substantially equivalent thereto. At this time, θ and ψ are set in the range of the following Expression 4.

【数4】 32°+90°×m≦θ≦72°+90°×m 63°+180°×n≦ψ≦117°+180°×n 但し、m及びnは整数(0,1,2,3,…)である。32 ° + 90 ° × m ≦ θ ≦ 72 ° + 90 ° × m 63 ° + 180 ° × n ≦ ψ ≦ 117 ° + 180 ° × n where m and n are integers (0, 1, 2, 3, 3) …)

【0010】又、具体的構成に於いて、θ及びψは下記
数5の値に設定される。
Further, in the concrete construction, θ and ψ are set to the values of the following mathematical expression 5.

【数5】θ=50°+90°×m ψ=90°+180°×n 但し、m及びnは整数(0,1,2,3,…)である。## EQU5 ## θ = 50 ° + 90 ° × m ψ = 90 ° + 180 ° × n where m and n are integers (0, 1, 2, 3, ...).

【0011】[0011]

【作用及び効果】上記数4で表わされるカット面及び伝
搬方向を有する弾性表面波素子によれば、従来のR面に
おける音速の最大値(5880m/s)を越える音速が得
られる。更に上記数5で表わされるカット面及び伝搬方
向を有する弾性表面波素子によれば、最大の音速(60
60m/s)が得られることになる。従って、本発明に
よれば、従来の電極微細加工技術及び圧電体材料を用い
て、より高周波数帯域で使用可能な弾性表面波素子を実
現することが可能である。
According to the surface acoustic wave element having the cut surface and the propagation direction represented by the above-mentioned equation 4, a sound velocity exceeding the maximum value (5880 m / s) of the sound velocity on the conventional R surface can be obtained. Further, according to the surface acoustic wave element having the cut surface and the propagation direction expressed by the above-mentioned equation 5, the maximum sound velocity (60
60 m / s) will be obtained. Therefore, according to the present invention, it is possible to realize a surface acoustic wave element that can be used in a higher frequency band by using the conventional electrode fine processing technology and the piezoelectric material.

【0012】[0012]

【実施例】以下、本発明の一実施例につき、図面に沿っ
て詳述する。先ず、図6に基づいて、カット面及び弾性
表面波伝搬方向を特定するためのオイラー角(φ,θ,
ψ)について説明する。図示の如くサファイア単結晶の
結晶軸をa1軸、a2軸、及びc軸とするとき、c軸を回
転軸としてa1軸をa2軸側へ角度φだけ回転させて、こ
れを第1軸とする。次に第1軸を回転軸としてc軸を反
時計回りに角度θだけ回転させ、これを第2軸とする。
この第2軸を法線として第1軸を含む面方位でカット
し、基板とする。そして、該面方位にカットした基板に
おいて、第2軸を中心として第1軸を反時計回りに角度
ψだけ回転させた軸を第3軸とし、この第3軸を弾性表
面波伝搬方向とする。このとき、カット面及び弾性表面
波伝搬方向をオイラー角(φ,θ,ψ)と表わすのであ
る。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the drawings. First, based on FIG. 6, the Euler angles (φ, θ, for identifying the cut surface and the surface acoustic wave propagation direction)
ψ) will be described. As shown in the figure, when the crystal axes of the sapphire single crystal are the a 1 , a 2 and c axes, the c 1 axis is rotated about the a 1 axis toward the a 2 axis, and the One axis. Next, with the first axis as the rotation axis, the c-axis is rotated counterclockwise by the angle θ, and this is designated as the second axis.
A substrate is obtained by cutting the second axis as a normal line in a plane orientation including the first axis. Then, in the substrate cut in the plane orientation, an axis obtained by rotating the first axis counterclockwise by an angle ψ about the second axis is set as a third axis, and the third axis is set as a surface acoustic wave propagation direction. . At this time, the cut surface and the surface acoustic wave propagation direction are represented by Euler angles (φ, θ, ψ).

【0013】次に、シミュレーション結果について述べ
る。尚、音速の計算においては、サファイア基板の表面
に形成される圧電膜の存在は無視し、サファイア基板の
表面が自由面であると仮定した。この仮定の妥当性につ
いては後述する。
Next, the simulation result will be described. In the calculation of the sound velocity, the existence of the piezoelectric film formed on the surface of the sapphire substrate was ignored, and it was assumed that the surface of the sapphire substrate was a free surface. The validity of this assumption will be described later.

【0014】図1は、φ=0°、θ=50°でカットし
た本発明のサファイア基板の音速を、伝搬方向ψの関数
として表わしたものである。音速は180°の周期をも
って変動しており、ψ=−90°及び90°にて音速が
最大値6060m/sとなっている。一方、図3及び図
4は夫々、従来のサファイアC面及びR面における音速
を、伝搬方向ψの関数として表わしたものである。C面
及びR面での音速の最大値は夫々、5700m/s、5
880m/sである。
FIG. 1 shows the sound velocity of the sapphire substrate of the present invention cut at φ = 0 ° and θ = 50 ° as a function of the propagation direction ψ. The sound velocity fluctuates with a cycle of 180 °, and the maximum sound velocity is 6060 m / s at ψ = −90 ° and 90 °. On the other hand, FIG. 3 and FIG. 4 respectively show the sound velocity in the conventional sapphire C plane and R plane as a function of the propagation direction ψ. The maximum values of sound velocity on the C and R surfaces are 5700 m / s and 5 respectively.
It is 880 m / s.

【0015】本発明(図1)と従来(図3及び図4)の比較
から、本発明のカット面を有するサファイア基板におい
ては、63°≦ψ≦117°の範囲でR面の最大値58
80m/sよりも高い音速が得られることがわかる。
尚、図1から明らかな様に、本発明のカット面における
音速は、伝搬方向ψに対して180°の周期性をもって
いるので、ψの最適値は上記数4或いは数5の範囲で表
わすことが出来る。
From the comparison between the present invention (FIG. 1) and the conventional one (FIGS. 3 and 4), in the sapphire substrate having the cut surface of the present invention, the maximum value of the R surface is 58 in the range of 63 ° ≦ ψ ≦ 117 °.
It can be seen that a sound velocity higher than 80 m / s can be obtained.
As is clear from FIG. 1, since the sound velocity on the cut surface of the present invention has a periodicity of 180 ° with respect to the propagation direction ψ, the optimum value of ψ should be represented by the range of the above formulas 4 or 5. Can be done.

【0016】図2は、φ=0°、ψ=90°の条件で、
音速をθの関数として表わしたものである。音速は90
°の周期をもって変動しており、θ=−130°、−4
0°、50°及び140°にて音速が最大値6060m
/sとなっている。
FIG. 2 shows the condition of φ = 0 ° and ψ = 90 °.
The speed of sound is expressed as a function of θ. Speed of sound is 90
Fluctuates with a cycle of °, and θ = -130 °, -4
Maximum speed of sound is 6060m at 0 °, 50 ° and 140 °
/ S.

【0017】又、32°≦θ≦72°の範囲で、R面で
の最大値5880m/sよりも大きな音速が得られるこ
とがわかる。図2から明らかなように、音速は、φ=0
°、ψ=90°の条件では、θに対して90°の周期性
をもっているので、θの最適値は上記数4或いは数5の
範囲で表わすことが出来る。
Further, it can be seen that a sound velocity larger than the maximum value of 5880 m / s on the R surface can be obtained within the range of 32 ° ≦ θ ≦ 72 °. As is clear from FIG. 2, the sound velocity is φ = 0.
Under the condition of ° and ψ = 90 °, since it has a periodicity of 90 ° with respect to θ, the optimum value of θ can be expressed by the range of the above-mentioned formula 4 or formula 5.

【0018】最後に、本発明を弾性表面波共振器に適用
した実施例について説明する。図7に示す如く弾性表面
波共振器は、φ=0°、θ=50°でカットしたサファ
イア基板(5)のカット面に、窒化アルミニウム(AlN)
からなる圧電膜(6)を形成している。該圧電膜(6)の表
面には、図8に示す如く櫛形電極(7)(8)を配置すると
共に、その両側に櫛形反射器(9)(10)を配置している。
これらの電極及び反射器は、線幅及び線間が共に1.0
μmであって、弾性表面波の伝搬方向ψが90°となる
向きに配置されている。
Finally, an embodiment in which the present invention is applied to a surface acoustic wave resonator will be described. As shown in FIG. 7, the surface acoustic wave resonator has aluminum nitride (AlN) on the cut surface of the sapphire substrate (5) cut at φ = 0 ° and θ = 50 °.
To form a piezoelectric film (6). As shown in FIG. 8, comb electrodes (7) and (8) are arranged on the surface of the piezoelectric film (6), and comb reflectors (9) and (10) are arranged on both sides thereof.
These electrodes and reflectors have a line width and line spacing of 1.0.
The surface acoustic wave is arranged so that the propagation direction ψ of the surface acoustic wave is 90 °.

【0019】圧電膜(6)はECRデュアルイオンビーム
スパッタ装置を用いて成膜を行ない、本実施例では膜厚
を4000Åとした。また、電極(7)(8)及び反射器
(9)(10)は、圧電膜(6)と同じ装置を用いて2000Å
のアルミニウム膜を形成した後、フォトリソグラフィー
によってパターニングを行ない、櫛形に成形した。
The piezoelectric film (6) was formed by using an ECR dual ion beam sputtering apparatus, and the film thickness was 4000 Å in this embodiment. Also, the electrodes (7) (8) and the reflector
(9) (10) is 2000 Å using the same device as the piezoelectric film (6)
After the aluminum film was formed, it was patterned by photolithography and formed into a comb shape.

【0020】又、本発明と従来の比較のために、サファ
イアC面に上記と同じ構成の窒化アルミニウム圧電膜及
び櫛形電極を形成した従来の弾性表面波共振器を作製
し、両者の通過特性を実測した。
For comparison between the present invention and the prior art, a conventional surface acoustic wave resonator having an aluminum nitride piezoelectric film and a comb-shaped electrode having the same structure as described above formed on the sapphire C surface was prepared, and the pass characteristics of both were made. Actually measured.

【0021】図5は、上記本発明の基板を用いた弾性表
面波共振器の通過特性と、従来の弾性表面波共振器の通
過特性を表わしている。本発明の弾性表面波共振器は、
その中心周波数が1.56GHzであって、サファイア
C面を用いた従来の弾性表面波共振器の中心周波数1.
43GHzよりも高くなっており、より高い周波数帯域
で使用可能であることがわかる。
FIG. 5 shows the pass characteristics of the surface acoustic wave resonator using the substrate of the present invention and the pass characteristics of the conventional surface acoustic wave resonator. The surface acoustic wave resonator of the present invention is
The center frequency is 1.56 GHz, and the center frequency of the conventional surface acoustic wave resonator using the sapphire C plane is 1.
It is higher than 43 GHz, and it can be seen that it can be used in a higher frequency band.

【0022】尚、図1及び図2の結果からは、(0°,
50°,90°)カットのサファイア基板の音速は60
60m/sであって、この値からは中心周波数が1.5
2GHzとなるが、実測値と比べて大きな誤差のないこ
とがわかる。これより、圧電膜の存在を無視した上記コ
ンピュータシミュレーションの妥当性が裏付けられる。
From the results shown in FIGS. 1 and 2, (0 °,
50 °, 90 °) cut sapphire substrate has a sound velocity of 60
It is 60 m / s, and the center frequency is 1.5 from this value.
Although it is 2 GHz, it can be seen that there is no large error compared with the actually measured value. This supports the validity of the above computer simulation ignoring the existence of the piezoelectric film.

【0023】又、コンピュータシミュレーションによる
理論計算において、弾性表面波素子のモデル化に伴う多
少の誤差があったとしても、その誤差は図1乃至図4の
グラフの横軸方向には殆ど発生しないと考えられる。然
も、本発明の図1と従来の図3及び図4とを比較する上
では、両者に同じ大きさの誤差が含まれるから、上述の
角度範囲についての結論に影響はないと言える。
Further, in the theoretical calculation by computer simulation, even if there is some error due to modeling of the surface acoustic wave element, the error is hardly generated in the horizontal axis direction of the graphs of FIGS. 1 to 4. Conceivable. However, when comparing FIG. 1 of the present invention with FIGS. 3 and 4 of the related art, it can be said that there is no influence on the above-mentioned conclusion regarding the angle range, because both have the same magnitude of error.

【0024】上記実施例の説明は、本発明を説明するた
めのものであって、特許請求の範囲に記載の発明を限定
し、或は範囲を減縮する様に解すべきではない。又、本
発明の各部構成は上記実施例に限らず、特許請求の範囲
に記載の技術的範囲内で種々の変形が可能である。例え
ば、本発明は、図7及び図8に示す弾性表面波共振器に
限らず、フィルターや遅延線など、あらゆる構造の弾性
表面波素子に実施できるのは言うまでもない。
The above description of the embodiments is for explaining the present invention, and should not be construed as limiting the invention described in the claims or limiting the scope. Further, the configuration of each part of the present invention is not limited to the above embodiment, but various modifications can be made within the technical scope described in the claims. For example, it goes without saying that the present invention is not limited to the surface acoustic wave resonators shown in FIGS. 7 and 8 and can be implemented in surface acoustic wave elements of any structure such as filters and delay lines.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の弾性表面波素子におけるサファイア基
板の音速を、伝搬方向ψを関数として表わすグラフであ
る。
FIG. 1 is a graph showing a sound velocity of a sapphire substrate in a surface acoustic wave device of the present invention as a function of a propagation direction ψ.

【図2】本発明の弾性表面波素子におけるサファイア基
板の音速を、面方位θを関数として表わすグラフであ
る。
FIG. 2 is a graph showing the sound velocity of a sapphire substrate in the surface acoustic wave device of the present invention as a function of plane orientation θ.

【図3】サファイアC面での音速を、伝搬方向ψを関数
として表わすグラフである。
FIG. 3 is a graph showing the speed of sound on the C-plane of sapphire as a function of the propagation direction ψ.

【図4】サファイアR面での音速を、伝搬方向ψを関数
として表わすグラフである。
FIG. 4 is a graph showing the sound velocity on the sapphire R surface as a function of the propagation direction ψ.

【図5】本発明に係る弾性表面波共振器の通過特性と、
従来の弾性表面波共振器の通過特性を表わすグラフであ
る。
FIG. 5 is a characteristic of the surface acoustic wave resonator according to the present invention,
It is a graph showing the passage characteristic of the conventional surface acoustic wave resonator.

【図6】オイラー角表示を説明する図である。FIG. 6 is a diagram illustrating Euler angle display.

【図7】本発明を実施すべき弾性表面波共振器の構造を
表わす斜視図である。
FIG. 7 is a perspective view showing a structure of a surface acoustic wave resonator for implementing the present invention.

【図8】櫛形電極及び反射器のパターンを示す平面図で
ある。
FIG. 8 is a plan view showing patterns of comb-shaped electrodes and reflectors.

【図9】サファイアC面を示す斜視図である。FIG. 9 is a perspective view showing a sapphire C surface.

【図10】サファイアR面を示す斜視図である。FIG. 10 is a perspective view showing a sapphire R surface.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

(5) サファイア基板 (6) 圧電膜 (7) 櫛形電極 (8) 櫛形電極 (5) Sapphire substrate (6) Piezoelectric film (7) Comb-shaped electrode (8) Comb-shaped electrode

フロントページの続き (72)発明者 柴田 賢一 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内 (72)発明者 小林 泰三 大阪府守口市京阪本通2丁目5番5号 三 洋電機株式会社内Front page continuation (72) Kenichi Shibata 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture Sanyo Electric Co., Ltd. (72) Inventor Taizo Kobayashi 2-5-5 Keihan Hondori, Moriguchi City, Osaka Prefecture Sanyo Electric Co., Ltd.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 単結晶サファイア基板上に圧電膜を形成
してなる弾性表面波素子に於いて、単結晶サファイア基
板のカット面及び弾性表面波伝搬方向を、オイラ角表示
で(0°,θ,ψ)及びこれと実質的に等価な範囲とする
とき、θ及びψを下記数1の範囲に設定した弾性表面波
素子。 【数1】 32°+90°×m≦θ≦72°+90°×m 63°+180°×n≦ψ≦117°+180°×n 但し、m及びnは整数(0,1,2,3,…)
1. In a surface acoustic wave device having a piezoelectric film formed on a single crystal sapphire substrate, the cut surface of the single crystal sapphire substrate and the surface acoustic wave propagation direction are expressed as (0 °, θ , Ψ) and a range substantially equivalent thereto, a surface acoustic wave device in which θ and ψ are set in the range of the following mathematical expression 1. 32 ° + 90 ° × m ≦ θ ≦ 72 ° + 90 ° × m 63 ° + 180 ° × n ≦ ψ ≦ 117 ° + 180 ° × n where m and n are integers (0, 1, 2, 3, …)
【請求項2】 θ及びψは下記数2の値に設定される請
求項1に記載の弾性表面波素子。 【数2】θ=50°+90°×m ψ=90°+180°×n 但し、m及びnは整数(0,1,2,3,…)
2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein θ and ψ are set to values of the following mathematical expression 2. ## EQU2 ## θ = 50 ° + 90 ° × m ψ = 90 ° + 180 ° × n where m and n are integers (0, 1, 2, 3, ...)
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