JPH0831569A - Amorphous metal thin film-layered sheet - Google Patents

Amorphous metal thin film-layered sheet

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JPH0831569A
JPH0831569A JP2686195A JP2686195A JPH0831569A JP H0831569 A JPH0831569 A JP H0831569A JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP H0831569 A JPH0831569 A JP H0831569A
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metal thin
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Tsutomu Obayashi
勉 大林
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Hiraoka & Co Ltd
平岡織染株式会社
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y25/00Nanomagnetism, e.g. magnetoimpedance, anisotropic magnetoresistance, giant magnetoresistance or tunneling magnetoresistance
    • HELECTRICITY
    • H01BASIC ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
    • H01F10/3204Exchange coupling of amorphous multilayers

Abstract

PURPOSE:To provide an amorphous metal thin film-layered sheet which has excellent shielding effect against static electricity and electromagnetic waves and sufficiently high impact resistance and strength, high bending resistance and strength for practrical use. CONSTITUTION:An amorphous metal thin film-layered sheet is composed of at least one layered body produced by laminating a plurality of amorphous metal thin films and at least one flexible resin coating layer formed on the layered body. The amorphous metal thin films in the layered body are distributed in not less than one line- or island-like state by an adhesive or a gluing agent and the total surface area of the lines and islands is set to be 1.0-90% of the total sticking surface area. The flexible resin coating layer is put in either one surface among the outermost surface and interfaces of the amorphous metal thin film-layered body.

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アモルファス金属薄膜積層シートに関するものである、更に詳しく述べるならば、本発明は、積層一体化された複数層のアモルファス金属薄膜からなる積層体を含むアモルファス金属薄膜積層シートに関するものである。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention relates to amorphous metal thin sheet of laminate More particularly, the present invention is an amorphous metal containing laminate of amorphous metal film of the laminated integrated multiple layers the present invention relates to thin film laminated sheet. これらは電磁波に対してすぐれたシールド効果を有する。 It has excellent shielding effect against electromagnetic waves.

【0002】 [0002]

【従来の技術】近年エレクトロニクス機器の発達および普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、 With the Background of the Invention Development and the recent spread of electronic devices, these devices and magnetic recording medium and the like,
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きくなってきている。 Static electricity, and it is required to protect against electromagnetic waves adversely, as the protective material, sheet material, for example, the demand for coating sheet material and the packaging sheet material has been increased.

【0003】従来エレクトロニクス機器を静電気の影響から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性シートが用いられている。 [0003] The conventional electronic equipment to protect from the effects of static electricity, carbon powder, carbon fiber, metal foil, or conductive sheet containing a conductive material containing metal powder is used. しかし、このような従来の導電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響から保護する目的には十分に効果があるとは云えないものである。 However, such conventional conductive sheet, the fully effective for the purpose of protecting the electronic equipment from the effects of electromagnetic waves is intended not be said. 例えば、MRI(核磁気共鳴診断装置)などにおいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやすく、このためMRIは厚さ2cmの鉄板でシールドされている。 For example, in such MRI (magnetic resonance imaging apparatus) are susceptible to strong disorder by external electromagnetic waves and thus MRI is shielded by iron plates with a thickness of 2 cm. このような厚いシールド材料を用いると、装置の重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工に困難を生ずる。 The use of such a thick shielding material, the weight of the device becomes extremely large, and produce difficulties in the manufacture and processing. 更に、上記鉄板シールドの最も重大な欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。 Furthermore, the most serious drawback of the above iron plate shield, iron itself is in that easily magnetized.

【0004】上記のような従来の電磁波シールド材料の欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みられた。 [0004] Use of amorphous metal has been attempted to overcome the problems of electromagnetic wave shielding material as described above. アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有している。 Amorphous metals have a shielding effect against excellent electromagnetic wave, and excluding the load, immediately returns to its original state, has an advantage that is not tinged magnetic.

【0005】しかしながら、アモルファス金属は、従来の電磁波シールド材料(例えば鉄板)に対し、下記のような問題点を有している。 However, amorphous metal is to conventional electromagnetic wave shielding material (e.g. iron), and has the following problems. (イ)一般にアモルファス金属材料の厚さは、100μ (B) generally in a thickness of the amorphous metallic material, 100 microns
m以下( 市販アモルファス金属薄膜の大部分は50μm m or less (Most commercial amorphous metal thin film 50μm
以下の厚さを有する) に限定され、これ以上の厚さを有するアモルファス金属材料を得ることが困難である。 Limited to the following with the thickness), it is difficult to obtain the amorphous metallic material having more thickness.

【0006】(ロ)一般に、アモルファス金属材料は1 [0006] (b) In general, amorphous metal material 1
00mm以下の幅(最も一般には20mm以下)で供給されており、これ以上に広い幅を有するものを入手することが困難である。 (Most commonly 20mm or less) 300 mm wide or less is supplied with, it is difficult to obtain those having a wide width further. (ハ)従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、1 (C) Accordingly, wide and quite thick, for example, 1
00μmより大きな厚さを有するアモルファス金属材料を得ることは困難である。 It is difficult to obtain the amorphous metallic material having a thickness greater than 00μm. (ニ)アモルファス金属薄膜を積層接着して得られる積層体は、屈曲しにくゝ、かつ破断しやすいという問題点を有している。 (D) the laminate obtained by the amorphous metal thin films are laminated adhesive has a problem that was difficulty ゝ, and easy to break bent.

【0007】 [0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アモルファス金属薄膜を用いて、屈曲しやすく、かつ破断しにくいアモルファス金属薄膜積層シートを提供しようとするものである。 [SUMMARY OF THE INVENTION The present invention uses an amorphous metal thin film, easy to bend, and is intended to provide a breaking hard amorphous metal film laminate sheets.

【0008】 [0008]

【課題を解決するための手段】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは、少なくとも1層のアモルファス金属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層とを含み、前記アモルファス金属薄膜積層体において、複数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着剤又は粘着剤により接着されており、前記アモルファス金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布しており、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90 Means for Solving the Problems] amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, including at least an amorphous metal thin film laminate of at least one layer, are stacked in this laminate, and the flexible resin as a main component and a one coating layer, in the amorphous metal thin film lamination, a plurality of amorphous metal thin film is laminated to each other, and are bonded by adhesive or pressure-sensitive adhesive, on the adhesive surface of the amorphous metal thin film, wherein adhesive or pressure-sensitive adhesive, one or more linear or is distributed to one or more islands, the total distribution area of ​​the adhesive or pressure-sensitive adhesive, with respect to the area of ​​the bonding surface of the amorphous metal thin film , 1.0 to 90
%の範囲内にあり、かつ前記可撓性樹脂被覆層が、前記アモルファス金属薄膜の最外表面、および前記複数のアモルファス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置されていることを特徴とするものである。 % In the range of, and the flexible resin coating layer, and characterized in that it is arranged In any one place between the outermost surface, and the plurality of amorphous metal thin film lamination of the amorphous metal thin film it is intended to.

【0009】 [0009]

【作用】最近アモルファス金属を、その特性に基いて、 [Action] recently the amorphous metal, based on its characteristics,
種々の用途に使用することが試みられている。 It has been attempted to use a variety of applications. 一般にアモルファス金属薄膜は、幅:2.54〜10.16cmのリボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関しては近い将来、幅:20.32cmの小幅シートが、供給されることが期待されている程度である。 In general amorphous metal thin film, width: 2.54~10.16Cm of is supplied as a ribbon-like material, in the near future with respect to the expansion of its width, width: narrow sheet of 20.32cm are expected to be supplied it is the degree to which has been. また、供給されているアモルファス金属薄膜は、一般に5〜50μ Also, amorphous metal thin film is supplied, generally 5~50μ
mの厚さを有するもので、極く稀に100μm程度の厚さを有するものがあるに過ぎない。 Those having a thickness of m, only those having a thickness of about very rarely 100 [mu] m.

【0010】従来は、上述のようなリボン状、又は小(細)幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材料としてのみ使用可能であって、これを100〜300 [0010] Conventionally, the above-described ribbon, or small (narrow) width material, card case, or a available only as a packaging housing material for accessories, which 100-300
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは殆んど不可能と考えられていた。 It was thought to be impossible almost to be used, such as the cover sheet to wide cm is required.

【0011】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートに用いられるアモルファス金属薄膜は、その供給幅のまゝ、または、必要に応じ、これを所望の幅に接合して使用される。 [0011] Amorphous metallic thin film used in the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, or ゝ the feed width, or, if necessary, be used so joined to the desired width.

【0012】上述のエレクトロニクス機器の保護効果とは、電磁波シールド手段により電磁波エネルギーを吸収したり、或は反射したりして、エレクトロニクス機器に電磁波エネルギーの影響が及ばないようにする効果を云う。 [0012] The protective effect of the above-mentioned electronic devices, or to absorb electromagnetic energy by an electromagnetic wave shielding means, or by or reflected, refers to the effect of so do not span the influence of electromagnetic energy to the electronics. この電磁波シールド手段による電磁波エネルギー減衰の程度は単位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シールド材料としてはこの数値が大きい程減衰効果が大きく、好ましいことになる。 The degree of electromagnetic energy attenuation due to the electromagnetic wave shielding means is expressed in decibel (dB), a large attenuation effect larger the numerical value as an electromagnetic wave shielding material, the preferable.

【0013】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて、その電磁波シールド効果は、それに含まれている金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、3 [0013] In the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, the electromagnetic shielding effect is substantially dependent on the shielding effect of the metal thin film that it contains, in general, 3
0dB以上であることが好ましく、60dB以上であることが更に好ましく、90dB以上であることがより一層好ましい。 Is preferably 0dB or more, further preferably 60dB or more, and more preferably 90dB or more.

【0014】本発明において有用なアモルファス金属薄膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、 [0014] As the amorphous metal thin films useful in the present invention, generally a main component of iron, boron thereto,
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデンなどから選ばれた1種以上を添加して得られるアモルファス合金から選ばれることが好ましい。 Silicon, carbon, nickel, cobalt, and is preferably selected from amorphous alloy obtained by adding one or more selected from molybdenum. 例えば、アライド社の商品名METGLAS No. For example, Allied under the trade name METGLAS No. 2605SC(F 2605SC (F
e:81%、B:13.5%、Si:3.5 %、C: e: 81%, B: 13.5%, Si: 3.5%, C:
2%のアモルファス合金)、No. 2% of the amorphous alloy), No. 2605S−2(F 2605S-2 (F
e:78%、B:13%、Si:9%のアモルファス合金)、No. e: 78%, B: 13%, Si: 9% of the amorphous alloy), No. 2605−Co(Fe:87部、B:14 2605-Co (Fe: 87 parts, B: 14
部、Si:1部、Co:18部のアモルファス合金) Part, Si: 1 parts, Co: 18 parts of amorphous alloy)
、No. , No. 2826−MB(Fe:40%、Ni:38 2826-MB (Fe: 40%, Ni: 38
%、Mo:4%、B:18%のアモルファス合金)などを用いることができる。 %, Mo: 4%, B: 18% of the amorphous alloy) or the like can be used.

【0015】また、上記の鉄を主成分とする合金系の外に、コバルトを主成分とする合金系(例えばCo 90 Zr Further, out of the alloy system as a main component the above iron alloy system mainly composed of cobalt (e.g. Co 90 Zr
10 ,Co 78 Si 1012, Co 56 Cr 2618 ,CO 44 Mo 10, Co 78 Si 10 B 12 , Co 56 Cr 26 C 18, CO 44 Mo
36 36 C 20 ,Co 34 Cr 28 Mo 2018 )、ニッケルを主成分とする合金系(例えばNi 90 Zr 10 ,Ni 78 Si 20, Co 34 Cr 28 Mo 20 C 18), an alloy system based on nickel (e.g., Ni 90 Zr 10, Ni 78 Si
1012 ,Ni 34 Cr 24 Mo 2418 )およびその他の金属を主成分とする合金系(例えばPd 80 Si 20 ,Cu 80 10 B 12, Ni 34 Cr 24 Mo 24 C 18) and other metal alloy system as a main component (for example, Pd 80 Si 20, Cu 80 Z
20 ,Nb 50 Ni 50 ,Ti 50 Cu 50 )等も利用できる。 r 20, Nb 50 Ni 50, Ti 50 Cu 50) and the like can also be used.

【0016】また、アモルファス金属薄膜は、その電磁波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜であってもよい。 Further, the amorphous metal thin film, in a range not a substantial effect on the electromagnetic shielding may be perforated film.

【0017】これらのアモルファス金属薄膜は、前述のようにリボン又は細幅シートの形状で供給されている場合が多いので、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートに、これらを使用するとき、必要に応じて複数のリボン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属薄膜を互に並列に配列して、広幅薄膜とするか、または、必要によりそれらの対向する側縁部を導電性接着剤又は半田により接合して、所望の幅を有する広幅薄膜とする。 [0017] These amorphous metal thin film, since in many cases are supplied in the form of a ribbon or narrow sheets, as described above, the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, when using these, as required Te plurality of ribbon-like, or, by arranging each other in parallel narrow sheet of amorphous metal thin film, or a wide thin film, or the side edges of their faces with a conductive adhesive or solder the necessary bonding to, a wide thin film having a desired width. 複数のリボンから広幅薄膜を作成するとき、リボンは、得られる積層体の長手軸方向に平行に伸びるように配置されてもよいし、或は、これに直角な方向に伸びるように配置されていてもよい。 When creating a wide thin film from a plurality of ribbons, ribbons may be arranged to extend parallel to the longitudinal axis of the obtained laminate, or, to which are arranged so as to extend in a direction perpendicular it may be. また、アモルファス金属薄膜は、 Also, amorphous metal thin film,
アモルファス金属の粉末を利用して形成してもよい。 The powder of the amorphous metal may be formed by using. 或は、アモルファス金属からなる細線から編織物状、又は不織布状シートとして、これをアモルファス金属薄膜として用いてもよい。 Alternatively, thin line from knitted woven made of amorphous metal or a non-woven sheet may be used as the amorphous metal thin films.

【0018】アモルファス金属薄膜は電界に対するシールド効果を有するが、特に磁界に対しすぐれたシールド効果を有している。 [0018] Although the amorphous metal film has a shielding effect against an electric field, in particular it has excellent shielding effect against magnetic fields.

【0019】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートに用いられるアモルファス金属薄膜は、アモルファス金属薄膜単独から形成されたものであってもよいし、或は、アモルファス金属薄膜からなる基体と、その少なくとも一面を被覆している導電性金属メッキ層とからなるものであってもよい。 The amorphous metal film stacked amorphous metal thin film used in the sheet of the present invention, which is formed from an amorphous metal thin film alone may be, or a substrate made of amorphous metal thin film, the at least one surface it is comprised of a coating to have a conductive metal plating layer may be.

【0020】メッキ用導電性金属としては、例えば銅、 [0020] As the plating conductive metal, such as copper,
ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、 Nickel, cobalt, iron, aluminum, gold, silver, tin,
亜鉛およびこれらから選ばれた2種以上の合金などを用いることができる。 Or the like can be used zinc and two or more alloys selected from these. このようにして、アモルファス金属薄膜からなる基体の少なくとも一面上に導電性金属をメッキすると、得られるアモルファス金属薄膜は前記磁界シールド性に、メッキ層による電界シールド性が加算され、アモルファス金属薄膜全体として、低周波から高周波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効果を示すことができる。 Thus, when plating the conductive metal on at least one surface of a substrate made of an amorphous metal film, the resulting amorphous metal thin film is the magnetic field shielding properties, electric field shielding properties are added by the plating layer, as a whole the amorphous metal thin film , for a wide range of electromagnetic waves from low frequency to high frequency, it is possible to exhibit excellent shielding effect. また、導電性金属メッキ層は、 The conductive metal plating layer,
アモルファス金属薄膜の半田接合性を向上させ、アモルファス金属薄膜リボンから、広幅薄膜の形成を容易にする効果もある。 To improve the solder joint of the amorphous metal thin film, an amorphous metal thin ribbon, also has the effect of facilitating the formation of wide films.

【0021】また、アモルファス金属薄膜中に含まれる導電性金属メッキ層は、0.1μm以上の厚さを有することが好ましく、0.1〜5μm程度の厚さを有することがより好ましい。 [0021] The conductive metal plating layer included in the amorphous metal thin film preferably has a higher 0.1μm thick, and more preferably has a thickness of about 0.1 to 5 [mu] m. またアモルファス金属薄膜又はその金属メッキ層表面に、防錆剤その他の薄い保護膜を形成してもよい。 The amorphous metal film or a metal plating layer surface, may form a rust inhibitor other thin protective film.

【0022】アモルファス金属薄膜は、前述のようにそれぞれ5〜50μmの厚さを有するものであるが、本発明のアモルファス金属薄膜の積層体は全体として50μ The amorphous metal film is one having a thickness of, respectively, as described above 5 to 50 [mu] m, 50.mu. as a whole stack of amorphous metal thin film of the present invention
m以上の厚さを有することが好ましく、100〜5,0 Preferably has a thickness of more than m, 100~5,0
00μmの厚さを有することがより好ましい。 And more preferably has a thickness of 00μm. このために、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいては好ましくは2〜200枚のアモルファス金属薄膜が厚さ方向に積層一体化されている。 Therefore, in the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention preferably 2-200 sheets of amorphous metal thin films are laminated and integrated in the thickness direction. 本発明のアモルファス金属薄膜積層シートのシールド効果を強化し、安定化させるためには、多数のアモルファス金属薄膜を積層することが望ましい。 Strengthen amorphous metal thin laminated sheet shielding effect of the present invention, in order to stabilize, it is desirable to laminate a large number of amorphous metal thin films. すなわち、アモルファス金属薄膜を広く大きな面積に接合して使用する場合、面積が大きくなればなる程、シールド効果に不均一を生じ、効果が低下し、或は不安定になるおそれがある。 That is, when using the amorphous metal thin films widely joined to large area, as the area becomes the greater, produce a non-uniform shielding effect, the effect is reduced, or may become unstable. このような問題点を解消し、安定したシールド効果を得るためには、多数の薄膜を積層することが望ましい。 To solve such problems, in order to obtain a stable shielding effect, it is preferable to laminate a plurality of thin films.

【0023】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄膜と、少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファス金属薄膜とを含むものであってもよい。 The amorphous metal film laminate sheet of the present invention, the amorphous metal thin film with at least one plating layer, may include an amorphous metal thin film having no at least one plating layer. このようにアモルファス金属薄膜の一部からメッキ層を省略することにより製品コストを低下させながら、所要の電磁波シールド性を得ることができる。 While reducing the product cost By thus omitting the plating layer from a portion of the amorphous metal thin film, it is possible to obtain the required electromagnetic wave shielding property.

【0024】多数のアモルファス金属薄膜を積層し接着する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互に重複して、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分が形成されないように、接着剤又は粘着剤の接着域が互に重複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、それによって厚さ、風合の均一性を維持することが好ましい。 [0024] When a large number of amorphous metal thin film is laminated and adhered, as by adhesive areas are mutually overlapped with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, different portions of locally thick in the obtained laminate is not formed, so that the adhesive region of the adhesive or pressure-sensitive adhesive does not mutually overlap, Ho during laminate Isuzu uniformly distributed, whereby the thickness, it is preferred to maintain the homogeneity of the texture.

【0025】接着剤又は粘着剤は、積層された複数のアモルファス金属薄膜を電気的に互に連結させるために、 The adhesive or pressure-sensitive adhesive, in order to electrically mutually connecting a plurality of amorphous metal thin films are laminated,
導電性、又は半導電性であることが好ましく、更にそれが防錆性を有することができる。 Conductive, or is preferably a semiconductive, further it may have a corrosion resistance. このような接着剤、又は粘着剤の種類には格別の限定はなく使用目的に応じて、既存のものから任意に選択して使用することができる。 Such adhesives, or the kind of the pressure-sensitive adhesive in accordance with the special limitation is not intended use, it can be used by selecting from existing ones arbitrarily. 例えば、使用環境に応じて耐寒性の高いもの、或は耐熱性の高いものなどを選択して使用すればよい。 For example, having a high cold resistance in accordance with the use environment, or may be selected and used such as high heat resistance.

【0026】一般に、積層体中における複数のアモルファス金属薄膜は互に接着剤又は粘着剤により接着又は粘着される。 [0026] Generally, a plurality of amorphous metal thin film in the laminate is mutually adhering or tacking with an adhesive or pressure-sensitive adhesive. この接着又は粘着において、互に上下に隣接し、重なり合うアモルファス金属薄膜の全面に接着剤又は粘着剤が塗布固着されている場合、積層体が折曲げられたとき、互に接着又は粘着されたアモルファス金属薄膜間の相互変位の自由度が不十分となる。 In the adhesive or cohesive, mutually adjacent in the vertical direction, if the entire surface adhesive or adhesive of the overlap amorphous metal thin film is applied fixed, when the laminate is folded, amorphous, which is mutually adhering or tacking freedom of mutual displacement between the metal thin film becomes insufficient. この問題は、 This problem,
特に接着剤が用いられたときに顕著である。 Particularly noticeable when the adhesive is used. このような問題点を解決するためには、複数のアモルファス金属薄膜が互に接着又は粘着されていないことが好ましいが、 To solve such a problem, it is preferable that a plurality of amorphous metal thin film is not mutually bonded or adhesive,
この場合複数のアモルファス金属薄膜の一体化が困難になる。 In this case the integration of multiple amorphous metal thin film becomes difficult.

【0027】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート内において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接し重なり合って部分的に接着又は粘着され、このため接着又は粘着部分以外の部分では、互に相対的変位が可能である。 [0027] In the amorphous metal thin films stacked in the sheet of the present invention, the amorphous metal film partially adhered or is adhered overlap adjacent above and below, in a portion other than the for tacking or adhering portion, mutually relative displacement it is possible. すなわち、本発明において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接し重なり合っている部分に対し、少なくとも1個の線状、又は島状に配置された接着剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されている。 That is, in the present invention, with respect to the portion where each amorphous metal film overlaps adjacent the top and bottom, at least one linear or island shape disposed adhesive or glued or adhesive with a layer of adhesive there. 例えば複数のアモルファス金属薄膜からなる積層体中において、その構成アモルファス金属薄膜は、少なくとも1個の線状又は島状に或は、これらの混合状態に、または塗布線が交叉した状態に分布させた接着剤又は粘着剤の層により接着又は粘着される。 For example in the laminate in comprising a plurality of amorphous metal film, its structure amorphous metal thin films, or at least one linear or islands, these mixed state, or coating line were distributed in a state of cross It is bonded or adhesive with a layer of adhesive or pressure-sensitive adhesive. このような態様の接着又は粘着により複数のアモルファス金属薄膜は、互に接着され一体化される。 A plurality of amorphous metal thin film by adhering or tacking such embodiments are are mutually bonded and integrated. しかしアモルファス金属薄膜の非接着部分は屈曲に応じて互に相対的に変位することができ、 However unglued part of the amorphous metal thin film can be mutually relatively displaced in response to bending,
これにより積層体の屈曲が容易になり、また屈曲に伴う積層体の破断が防止される。 Thus it facilitates the bending of the laminate, also breaking of the laminate due to bending is prevented.

【0028】接着部分の形状は、1個以上の直線、曲線、又はこれらの混合線状であってもよく、これらが交叉していてもよい。 [0028] The shape of the bonded portion is 1 or more straight lines, curves, or may be a mixture of these linear, it may be cross. 或は1個以上の島状の点からなるものであってもよいが、これらの接着剤塗布面積の合計は、当該アモルファス金属薄膜の接着面積に対し1〜9 Or may be made in terms of one or more islands, but the sum of these adhesive application area, 1-9 to the bonding area of ​​the amorphous metal thin film
0%の範囲内にあることが必要である。 It should be in the range of 0%. この接着剤塗布面積比が1%未満のときは、アモルファス金属薄膜の接着強度が不十分になり、またそれが90%を超過すると、屈曲性および耐屈曲破断性が不十分になる。 When the adhesive coating area ratio is less than 1%, the adhesive strength of the amorphous metal thin film becomes insufficient, and when it exceeds 90%, flexibility and flex fracture resistance becomes insufficient.

【0029】アモルファス金属薄膜積層体に含まれる島状、又は線状の接着剤又は粘着剤の塗布域は、積層体に局部的に厚さの不均一を生じないように、互に重複しないよう、ほゞ均一に分布させることが好ましく、これによってほゞ均一の充実度を有する積層体が得られる。 The islands contained in the amorphous metal thin film stack, or the coating area of ​​the linear adhesive or pressure-sensitive adhesive, so as not to cause nonuniformity of locally thick in the laminate, so as not to mutually overlap , preferably to Ho Isuzu uniformly distributed laminate having this by Ho Isuzu uniform adequacy is obtained.

【0030】上記複数のアモルファス金属薄膜リボンから、アモルファス金属薄膜が形成されている場合、そのリボン接合域が互に重複しないように積層されることが好ましい。 [0030] From the plurality of amorphous metal thin ribbon, if the amorphous metal thin films are formed, it is preferred that the ribbon adhesive zones are laminated each other so as not to overlap.

【0031】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは、複数のアモルファス金属薄膜を、前述のように積層接着してなる少なくとも1個の積層体と、この積層体に積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層とを含むものである。 The amorphous metal film laminate sheet of the present invention, a plurality of amorphous metal thin film, and at least one laminate stack adhered comprising as described above, are laminated on the laminate, and flexible it is intended to include at least one coating layer comprising a resin as a main component. このような可撓性樹脂被覆層は、複数のアモルファス金属薄膜積層体の間に形成されていてもよく、また任意の間隔をおいて形成されていてもよく、或は積層体の少なくとも一つの最外表面上に配置されていてもよい。 Such flexible resin coating layer may be formed between the plurality of amorphous metal thin film stack, also may be formed at arbitrary intervals, or at least one of the laminate it may be disposed on the outermost surface.

【0032】この可撓性樹脂被覆層が導電性又は半導電性であることが望ましい。 [0032] It is desirable the flexible resin coating layer is conductive or semi-conductive. 複数のアモルファス金属薄膜積層体の間に導電性又は半導電性可撓性樹脂被覆層が設けられると、複数のメッキされた又はメッキされていないアモルファス金属薄膜積層体の全体が導電性となり好まし結果が得られる。 When the conductive or semiconductive flexible resin coating layer is provided between the plurality of amorphous metal thin film stack, preferably the whole of the amorphous metal thin film stack that is not more plated or plated becomes conductive results are obtained. 特に、メッキしていないアモルファス金属薄膜が用いられる場合、積層体間に導電性又は半導電性可撓性樹脂被覆層を設けることにより、磁界シールド性とともに電界シールド性も改善され、性能の良好なアモルファス金属薄膜積層シートが得られる。 In particular, if the amorphous thin metal film is not plating is used, by providing a conductive or semiconductive flexible resin coating layer between the laminate, electric field shielding properties with magnetic shielding properties are also improved, good performance amorphous metal thin laminated sheet is obtained.

【0033】上記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1層が、可撓性樹脂からなるフィルム、又はシートを貼着することにより形成されていてもよく、このようなフィルム又はシートは多孔質であってもよく、或は非多孔質であってもよい。 [0033] At least one layer of the flexible resin coating layer, a film made of a flexible resin, or a sheet may be formed by pasting a, such a film or sheet was a porous at best, or it may be non-porous.

【0034】可撓性樹脂被覆層は、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、および衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与えることができる。 [0034] The flexible resin coating layer, the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, the desired flexibility, cushioning against compressive elasticity, and impact and pressing, can give like breaking resistance. すなわち、アモルファス金属薄膜積層シートに屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂被覆層が、変形することによってこの外力を吸収し、アモルファス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なくし、これによってアモルファス金属薄膜の裂断や折損を防止し、 That is, when an external force such as bending the amorphous metal thin film-laminated sheet is applied, the flexible resin coating layer, absorbs the external force by deformation, to reduce the elongation and compression of the amorphous metal thin films, whereby amorphous to prevent tearing or breakage of the metal thin film,
かつ永久変形(折れ目の形成)を防止するという緩衝作用を発揮する。 And it exerts a buffering action of preventing permanent deformation (fold formation). このようなアモルファス金属薄膜積層シートは、核磁気共鳴診断装置(MRI)などの磁気シールドシート、エレクトロニクス機器の被覆シート、包装収納用シート、床シート、壁シート、或は建築用シート等として有用なものである。 Such amorphous metallic thin film laminate sheet useful magnetic shield sheet such as nuclear magnetic resonance imaging apparatus (MRI), the cover sheet of the electronic equipment, packaging accommodating sheets, bed sheets, a wall sheet, or building sheets it is intended.

【0035】本発明に用いられる可撓性樹脂としては、 [0035] As a flexible resin used in the present invention,
天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコーンゴム、ハイパロンその他の合成ゴム、またはPVC Natural rubber, neoprene rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, Hypalon other synthetic rubber or PVC,
樹脂、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(P Resins, ethylene - vinyl acetate copolymer (EVA) resins, acrylic resins, silicone resins, polyurethane resins, polyethylene (PE) resin, polypropylene (P
P)樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素含有樹脂その他の合成樹脂を用いることができる。 P) resin, a polyester resin, fluorine-containing resin other synthetic resin. このような樹脂材料は、また、良好な防水性を有し、得られるアモルファス金属薄膜積層シートに所望の防水性並びに難燃性や機械的強度を与えることができる。 Such resin material also has good waterproof, desired waterproof obtain amorphous metal thin film-laminated sheet and flame retardancy and mechanical strength can be given. 可撓性樹脂被覆層は、 Flexible resin coating layer,
0.05mm以上の、より好ましくは0.05〜1.0mm Of more than 0.05mm, more preferably 0.05~1.0mm
の厚さを有することが好ましく、また導電性物質を含んでいることが好ましい。 It is preferred that has a thickness of which preferably also contains a conductive material.

【0036】これらの可撓性樹脂被覆層は、上記の如きゴム又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はストレートなどを用い、公知の方法、例えば、トッピング、カレンダリング、コーティング、ディッピングなどの方法によって、アモルファス金属薄膜積層体の表面上に形成することができる。 [0036] These flexible resin coating layer, a film of the such rubber or resin, the solution, such as using a paste or straight, a known method, for example, topping, calendering, coating, by methods such as dipping, it can be formed on the surface of the amorphous metal thin film stack. これらのゴム又は樹脂中には、可塑剤、安定剤、着色剤、紫外線吸収剤などや他の機能付与剤、例えば防炎剤、難燃化剤などが含まれていてもよい。 During these rubbers or resins, plasticizers, stabilizers, colorants, ultraviolet absorbers, etc. and other functions imparting agents, for example, flameproofing agents, may be included, such as a flame retardant.

【0037】従来、金属箔の表面に対し、防錆、および腐食防止の目的で1〜10μm程度の厚さの樹脂層を形成することが知られているが、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいては、可撓性樹脂被覆層は一般に50μm以上の厚さに形成され、この厚さは、好ましくは50〜5000μmであり、更に好ましくは100 [0037] Conventionally, with respect to the surface of the metal foil, rust, and the purpose of corrosion prevention to form a resin layer of 1~10μm a thickness of about known, amorphous metal thin laminated sheet of the present invention in the flexible resin coating layer is generally formed on at least 50μm thick, the thickness is preferably 50~5000Myuemu, more preferably 100
〜3000μmであり、より一層好ましくは200〜2 Is a ~3000μm, even more preferably 200-2
000μmである。 It is 000μm. また、本発明に用いられる可撓性樹脂被覆層は、上記の厚さを有していても使用上十分な可撓性を示すことができる。 Also, flexible resin coating layer used in the present invention can exhibit Usage sufficient flexibility have a thickness of the.

【0038】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて、可撓性樹脂被覆層は、多孔質、すなわち発泡層であってもよい。 [0038] In the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, a flexible resin coating layer, the porous, i.e. it may be a foam layer. このような発泡多孔質層は所望の可撓性を有する限り硬質フォームであってもよいが、一般には軟質フォームであることが好ましい。 Such foamed porous layer may be a rigid foam as long as they have the desired flexibility, it is generally preferred are flexible foams.

【0039】発泡多孔質層の気孔率は、50〜99% The porosity of the foamed porous layer, 50 to 99%
(発泡倍率:2〜100倍)であることが好ましく、8 Is preferably: (expansion ratio 2 to 100 times), 8
0〜98%( 発泡倍率:5〜50倍)であることがより好ましい。 0-98%: more preferably (expansion ratio 5-50 times). 通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられる。 Normally those expansion ratio of 20 to 60 times is used. また、発泡多孔質層の圧縮抵抗は、25%圧縮において、10kg/cm 2以下であれば用途によっては実用可能であるが、一般に0.5kg/cm 2以下であることが好ましく、0.1kg/cm 2以下であることがより好ましい。 The compression resistance of the foamed porous layer, at 25% compression, although in some applications if 10 kg / cm 2 or less is practicable, preferably generally at 0.5 kg / cm 2 or less, 0.1 kg / cm is more preferably 2 or less. 発泡多孔質層の厚さには、格別の制限はなく、アモルファス金属薄膜積層シートの用途に応じて任意に設定することができるが、一般に、0.5〜100mmの範囲内にあることが好ましく、1〜50mmの範囲内にあることがより好ましい。 The thickness of the foamed porous layer, special restrictions are not, can be arbitrarily set according to the amorphous metal thin films laminated sheet applications, generally, is preferably in the range of 0.5~100mm , and more preferably in the range of 1 to 50 mm.

【0040】発泡多孔質層は、アモルファス金属薄膜積層体に結着されているが、発泡多孔質シートを予じめ作成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよく、或は、発泡多孔質シートの接着表面部分を熱溶融して、融着してもよい。 The foamed porous layer has been bound to the amorphous metal thin film laminate, a foamed porous sheets leave create pre Ji fit, which may be bound with adhesives, certain is a bonding surface portion of the foamed porous sheet is thermally melted, may be fused. また、発泡多孔質層は、アモルファス金属薄膜積層体上で化学発泡させて形成してもよいし、或は、気泡を含有する重合体塗料をアモルファス金属薄膜積層体上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発泡法により形成してもよい。 Further, the foamed porous layer, to on the amorphous metal thin film stack may be formed by chemical foaming, or is coated with a polymer coating containing bubbles on the amorphous metal thin film stack, solidifying it to so-called may be formed by a mechanical foaming method.

【0041】上述のような可撓性樹脂発泡多孔質層を含む被覆層は、アモルファス金属薄膜積層体の両面に形成されてもよく、或は、その片面のみに、或は中間に形成されてもよい。 The coating layer containing a flexible resin foamed porous layer as described above, it may be formed on both sides of the amorphous metal thin film stack, or the only one side, or is formed in the intermediate it may be. 片面のみに形成された場合、アモルファス金属薄膜積層体の他の片面に、或は任意の部分に、前述のような可撓性樹脂の非多孔質層を含む被覆層が結着されていてもよい。 When it is formed on only one side, the other side of the amorphous metal thin film stack, or any part, be covered layer binder comprising a non-porous layer of flexible resin as described above good.

【0042】一般にアモルファス金属薄膜の引裂き強さは殆んど0に等しい程低く、低い負荷で容易に裂断する。 [0042] Generally tear strength of amorphous metal film has a low enough equals 殆Ndo 0, easily torn with a low load. またこのようなアモルファス金属薄膜は引張り強さにおいても比較的弱く、かつ、強度のバラツキが大きい。 The relatively weaker in such amorphous metal thin film tensile strength, and a large variation in the strength. 例えば厚さ25μmのアモルファス金属薄膜の引張り強さをJIS−L−1096(1979). For example, the thickness 25μm of the tensile amorphous metal film strength of the JIS-L-1096 (1979). 「一般織物試験方法」の6.12、引張り強さ及び伸び率6.1 6.12, tensile strength and elongation of the "general fabric test method" 6.1
2.1(1)A法(ストリップ法)に準拠し、幅:3c 2.1 (1) complies with the A method (strip method), Width: 3c
m、把み間隔:20cm、引張りスピード:200mm/分での条件で測定すると、その引張り強さは、65〜12 m, pinch interval: 20cm, tensile speed: When measured under the conditions of at 200mm / min, the tensile strength, 65-12
5kg/3cm、平均100kg/3cm程度の比較的弱いものであり、また測定値にバラツキが大きい、また、アモルファス金属薄膜は、一般に幅の狭いリボン状で提供されているので、これらを並列に配列してシート状にすると、たとえ、これらを、その対向している側縁部で、 5 kg / 3 cm, is intended average 100 kg / 3 cm approximately relatively weak, also a large variation in the measured value, also an amorphous metal thin film, since generally provided in a narrow ribbon-like, arranged them in parallel When the sheet by, for example, these, the side edges being the opposite,
半田により、或は接着剤で接合しても、このシートの横方向の引張り強さは不十分であり、しかもそのバラツキが大きいという問題がある。 By soldering, or be bonded with adhesive, transverse tensile strength of this sheet is insufficient, there is moreover a problem that the variation is large. そこで、包装用、被覆用に使用される場合、或は局部的に摩擦されたり、局部的に外力が作用する用途に用いられる場合においても、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは、可撓性樹脂被覆層により補強されているため十分な実用性を有しいる。 Therefore, packaging, when used for coating, or or is locally friction, even when the locally external force is used in applications that act, amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, flexible and it has sufficient practicality because it is reinforced by the resin coating layer.

【0043】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて、可撓性樹脂被覆層は、壁紙シートを構成する壁紙状シート層であってもよい。 [0043] In the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, a flexible resin coating layer may be a picture sheet layer constituting the wallpaper sheet. この場合、得られるアモルファス金属薄膜積層シートは電磁波シールド性壁紙として有用である。 In this case, the amorphous metal thin laminated sheet obtained is useful as an electromagnetic wave shielding property wallpaper. 本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて、その最外表面の少なくとも1つが、可撓性樹脂被覆層により被覆されていてもよい。 In the amorphous metal thin laminated sheet of the present invention, at least one of the outermost surface, it may be covered by a flexible resin-coated layer.

【0044】 [0044]

【実施例】以下に本発明のアモルファス金属薄膜積層シートを実施例により更に説明する。 Further illustrated by EXAMPLES amorphous metal thin laminated sheet embodiment of the present invention are described below. 実施例1アモルファス合金(Fe:81%、B:13.5%、S Example 1 Amorphous alloy (Fe: 81%, B: 13.5%, S
i:3.5%、C:2%、商標:METGLAS N i: 3.5%, C: 2%, trademark: METGLAS N
o. o. 2605SC、アライド社製、幅7.62cm、厚2 2605SC, Allied Corp., width 7.62cm, thickness 2
5μm)のリボン状体の全表面に、厚さ1μmの銅メッキを施した。 The entire surface of the ribbon-like body 5 [mu] m), was subjected to copper plating with a thickness of 1 [mu] m. このアモルファス金属薄膜リボンを13枚並列し、それぞれの側縁端を半田接合して幅約95cmの広幅薄膜を作成した。 The amorphous metal thin ribbon was parallel 13 sheets to prepare a wide film having a width of about 95cm of each of the side edges solder joint to.

【0045】上記幅95cmの広幅メッキ層付きアモルファス金属薄膜の10枚を積層し、その長さ方向の両端部のみを線状(幅10mm)に、合成ゴム系接着剤(商標: [0045] Ten amorphous metal thin film with wide plating layer of the width 95cm stacked, only the both end portions of the longitudinal direction linearly (width 10 mm), synthetic rubber adhesive (trademark:
SC12N、ソニーケルミル社製)を用いて互に接着し一体のアモルファス金属薄膜積層体を得た。 SC12N, and mutually bonded using manufactured Sonikerumiru Co.) to obtain an amorphous metal thin film laminate together. 接着剤の塗布面積比は2%であった。 Coating area ratio of the adhesive was 2%. この積層体は、90dBの電磁波シールド効果を示した。 The laminate showed the electromagnetic wave shielding effect of 90 dB.

【0046】別に、下記組成: ポリ塩化ビニル樹脂 100重量部 D. [0046] Separately, the following composition: polyvinyl chloride resin 100 parts by weight of D. O. O. P. P. (可塑剤) 70 〃 ホウ酸バリウム(減煙剤) 20 〃 水酸化アルミニウム(難燃剤) 100 〃 硫酸バリウム(難燃剤) 200 〃 バリウム−亜鉛系安定剤 2 〃 ケチンブラックEC 3 〃 の樹脂組成物から、幅100cm、厚さ0.3mmのフィルムを作成した。 (Plasticizer) 70 〃 barium borate (Genkemurizai) 20 〃 aluminum hydroxide (a flame retardant) 100 〃 barium sulfate (flame retardant) 200 〃 barium - zinc stabilizer 2 〃 stingy down Black EC 3 〃 resin composition from, you create the width 100cm, with a thickness of 0.3mm film.

【0047】上記ポリ塩化ビニル樹脂フィルムの2枚を、上記のアモルファス金属薄膜積層体の両面に、カレンダーにより貼着し、アモルファス金属薄膜積層体の両耳部よりはみ出している部分を互に接着して、2枚のフィルムの間に、アモルファス金属薄膜積層体をパックし、かつシールした。 [0047] The two above-mentioned polyvinyl chloride resin film, on both surfaces of the amorphous metal thin laminate, bonded by a calender, mutually bonding the portion which protrudes from both ears of the amorphous metal thin film stack Te, between the two films, it packs amorphous metal thin film stack, and sealed.

【0048】得られたアモルファス金属薄膜積層シートは、多数のアモルファス金属薄膜を含んでいるにも拘らず、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性を有し、かつ、90dBの電磁波シールド効果を示した。 The resulting amorphous metal thin film multilayer sheet, despite containing a large number of amorphous metal film has practically sufficient flexibility, flexibility, strength, and workability, and, 90 dB of It showed the electromagnetic wave shielding effect.

【0049】 実施例2実施例1と同様の操作を行った。 [0049] Various operations were performed as in Example 1. 但し、接着剤として、 However, as an adhesive,
導電性を有するドータイトFE−102(藤倉化成社製、Ag−Cu含有、電磁波シールド用アクリル系樹脂接着剤、体積抵抗:10 -4 Ω−cm)を用いた。 DOTITE FE-102 having conductivity (manufactured by Fujikura Kasei Co., Ltd., Ag-Cu-containing, acrylic resin adhesives for electromagnetic shielding, volume resistivity: 10 -4 Ω-cm) was used. 得られたアモルファス金属薄膜積層シートは、50dBの電磁波シールド性を示した。 The resulting amorphous metal thin film laminate sheet showed electromagnetic shielding property of 50 dB.

【0050】 実施例3実施例1と同様の操作を行った。 [0050] The procedure is as in Example 3 Example 1. 但し、接着剤の代りにアクリル樹脂系粘着剤を用いた。 However, using an acrylic resin-based adhesive in place of the adhesive. 得られたアモルファス金属薄膜積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例1と同様の電磁波シールド性を示した。 The resulting amorphous metal thin film laminate sheet exhibited good flexibility, showed similar electromagnetic shielding property as in Example 1.

【0051】 実施例4実施例1と同様の操作を行った。 [0051] The procedure is as in Example 4 Example 1. 但し、先ずメッキされたアモルファス金属薄膜の広幅シートを作成し、その両面上に、メッキされていないアモルファス金属薄膜リボンを、そのタテ方向に1.2cm間隔で粘着剤を幅3mmに直線状に塗布したものを積層貼着して、3層構造の積層体を形成した。 However, first create a wide sheet of plated amorphous metal thin film, coated on both sides, the amorphous metal thin ribbon which has not been plated, straight adhesive width 3mm at 1.2cm intervals in its longitudinal direction was a laminated adhered as to form a laminate of three-layer structure. (接着剤の塗布面積比は約20%であった。) 上記のようにして、メッキを省略したアモルファス金属薄膜を積層して安価に得られた積層体は、40dBのすぐれた電磁波シールド性を示した。 (Coating area ratio of the adhesive was about 20%.) As described above, inexpensively obtained laminate by laminating an amorphous metal thin film is omitted plating, excellent electromagnetic shielding property of 40dB Indicated.

【0052】このように、メッキを省略したアモルファス金属細幅リボン状薄膜を広幅基材をベースとして、その全面上に順次、粘着剤又は接着剤で接合して広幅化し、かつ、多層化することも、簡単な方法で可能になり安価にアモルファス金属薄膜積層体および積層シートを製造することができ、特にアモルファス金属薄膜を含む広幅シートの商品化の道が開けた。 [0052] In this manner, the amorphous metal narrow ribbon film is omitted plated wide substrate as a base, that the entire surface sequentially, and broadened by joining with an adhesive or an adhesive, and a multilayer structure also allows in a simple manner at low cost can be amorphous metal thin film laminate and to produce a laminated sheet, in particular opened the way for commercialization of the wide sheet comprising amorphous metal thin films.

【0053】 実施例5実施例1で得られた広幅のメッキ層付きアモルファス金属薄膜の5枚からなる積層体を3組用意し、各組のアモルファス金属薄膜の間および最外表裏面上に、ほゞ0. [0053] Example 5 a stack of five plating layer with an amorphous metal thin film of the wide obtained in Example 1 were prepared three sets, on and between Saisotohyo rear surface of each set of the amorphous metal thin films, Ho Isuzu 0.
35mm、又はほゞ0.33mmの発泡ポリウレタンシートを挟み込み重ね合わせて、下記接着剤の1種を使用して積層接着してアモルファス金属薄膜積層シートを得た。 35 mm, or Ho Isuzu foamed polyurethane sheet was jamming overlapping of 0.33 mm, to obtain an amorphous metal thin laminated sheet by laminating adhesive using one the following adhesives. 接着剤 (イ)SC−12N (ロ)ドータイトFE−102 Adhesive (b) SC-12N (b) Dotite FE-102

【0054】得られたアモルファス金属薄膜積層シートは上記接着剤のいづれの場合も好ましい弾性を示し床シート(床材)として使用するに好ましいものが得られた。 [0054] The resulting amorphous metal thin film laminate sheet preferred for use as a floor sheet shows a preferred elastic case of Izure of the adhesive (flooring) was obtained. また、得られたアモルファス金属薄膜積層シートのシールド効果とクッション効果も良好であった。 The shield effect and cushioning effect of the resulting amorphous metal thin laminated sheet was good. これらは良好な電磁波シールド性と、好ましい弾性を有し、 It has a good electromagnetic shielding properties, a preferred elastic,
例えば電磁波シールド性敷物として有用なものであった。 It was such as those useful as electromagnetic wave shielding property rugs.

【0055】 実施例6実施例5と同様の操作を行った。 [0055] The operation was performed in the same manner as in Example 6 Example 5. 但しアモルファス金属薄膜積層体中の最外表裏両層のみを、メッキされたアモルファス金属薄膜により構成し、中間の3層を、メッキなしのアモルファス金属薄膜リボン(実施例1記載のものに同じ)を、隙間のないように並列配置し、表裏両層と、中間3層相互に粘着接着してアモルファス金属薄膜積層シートとした。 However only the outermost sides both layers of amorphous metal thin film stack in, constituted by plated amorphous metal thin films, the three layers of the intermediate, the amorphous metal thin ribbon without plating (as the same described in Example 1) , arranged in parallel so no gap, and the front and back both layers were then adhesive bonded to the intermediate 3-layer cross the amorphous metal thin laminate sheets. 得られたアモルファス金属薄膜積層シートは満足すべき電磁波シールド効果を示した。 The resulting amorphous metal thin film laminate sheet showed an electromagnetic wave shielding effect satisfactory.

【0056】 [0056]

【発明の効果】本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは、複数のアモルファス金属薄膜を積層してなるアモルファス金属薄膜積層体と、可撓性樹脂被覆層とを含むものであるが、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、衝撃緩衝性、および作業性を有し、更に、すぐれた電磁波シールド性を有しているので、電磁波シールド性の被覆、又は、包装シート、敷物、或は壁紙シートなどとして有用なものである。 Amorphous metal thin laminated sheet of the present invention exhibits, amorphous metal thin laminate formed by laminating a plurality of amorphous metal thin film, but is intended to include a flexible resin coating layer, a practically sufficient flexibility , flexibility, strength, impact cushioning, and has a workability, further since they have excellent electromagnetic shielding property, electromagnetic wave shielding property of the coating, or, wrapping sheets, rugs, or the like wallpaper sheet it is useful. また、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートは上記用途における中間体製品又は完成製品のいづれに組み合わせて使用することもできる。 Also, amorphous metal thin laminated sheet of the present invention can also be used in combination on any of the intermediate products or finished products in the above applications.

Claims (19)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 少なくとも1層のアモルファス金属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層とを含み、 前記アモルファス金属薄膜積層体において、複数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着剤又は粘着剤により接着されており、前記アモルファス金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布しており、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90%の範囲内にあり、かつ、前記可撓性樹脂被覆層が、前記アモルファス金属薄膜積層体の最外表面、および前記複数のアモルファス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置されていることを And 1. A at least one layer of amorphous metal thin film laminate is laminated to the laminate, and and at least one coating layer comprises a flexible resin as a main component, the amorphous metal film laminate in the body, a plurality of amorphous metal thin film is laminated to each other, and are bonded by adhesive or pressure-sensitive adhesive, on the adhesive surface of the amorphous metal thin film, the adhesive or pressure-sensitive adhesive, one or more linear, or are distributed to one or more islands, the total distribution area of ​​the adhesive or pressure-sensitive adhesive, to the area of ​​the bonding surface of the amorphous metal thin film is in the range of 1.0 to 90%, and , said flexible resin coating layer is disposed in any one place between the outermost surface of the amorphous metal thin film stack, and the plurality of amorphous metal thin film stack 徴とするアモルファス金属薄膜積層シート。 Amorphous metal thin film laminate sheet to symptoms.
  2. 【請求項2】 前記接着剤、又は粘着剤が導電性又は半導電性を有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Wherein said adhesive or pressure-sensitive adhesive having a conductive or semi-conductive, amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
  3. 【請求項3】 前記積層された複数のアモルファス金属薄膜間の接着剤又は粘着剤の塗布域が互いに重複しない位置に形成されている、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Wherein the coating region of the adhesive or pressure-sensitive adhesive between the plurality of stacked amorphous metal thin film is formed at a position not overlapping with each other, the amorphous metal thin films laminated sheet according to claim 1.
  4. 【請求項4】 前記アモルファス金属薄膜積層体中の、 Wherein the amorphous metal thin film stack in,
    少なくとも1個のアモルファス金属薄膜が、このアモルファス金属薄膜と、その少なくとも一面上に形成され、 At least one of the amorphous metal thin film, the amorphous metal film, is formed on at least one surface on,
    かつ少なくとも1種の導電性金属からなるメッキ層とを含むものである、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 And it is intended to include the plating layer composed of at least one conductive metal, an amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
  5. 【請求項5】 前記アモルファス金属薄膜積層体が、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄膜と、 Wherein said amorphous metal film laminate, and amorphous metal thin film with at least one plating layer,
    少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファス金属薄膜とを含む、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 And a amorphous metal thin film having no at least one plating layer, an amorphous metal thin film laminate sheet according to claim 1.
  6. 【請求項6】 前記導電性金属メッキ層が、銅、ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜鉛および上記金属から選ばれた少なくとも1種を含む合金から選ばれた少なくとも1種を含んでなる、請求項4に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Wherein said conductive metal plating layer, copper, nickel, cobalt, iron, aluminum, gold, silver, tin, at least one selected from an alloy containing at least one selected from zinc and the metals comprising the amorphous metal thin laminated sheet of claim 4.
  7. 【請求項7】 前記アモルファス金属薄膜が互いに平行に配置された複数のアモルファス金属薄膜リボンを含んでなる、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 7. A comprising a plurality of amorphous metal thin ribbon the amorphous metal thin film is parallel to each other, the amorphous metal thin films laminated sheet according to claim 1.
  8. 【請求項8】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、その長手縁端部において、互いに導電性接着剤又は半田により接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成されている、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Wherein said amorphous metal thin ribbon, in the longitudinal edge, is joined by a conductive adhesive or solder with each other, in the thin film integrated with a desired width, according to claim 7 amorphous metal thin film laminate sheets.
  9. 【請求項9】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、その長手縁端部において、互いに接着剤又は粘着剤により接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成されている、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Wherein said amorphous metal thin ribbon, in the longitudinal edge, is joined by adhesive or pressure-sensitive adhesive to each other, in the thin film integrated with a desired width, amorphous according to claim 7 metal thin film laminated sheet.
  10. 【請求項10】 前記接合されたアモルファス金属薄膜リボンからなる複数のアモルファス金属薄膜において、 10. A plurality of amorphous metal thin film made of the joined amorphous metal thin ribbon,
    前記リボン接合域が互に重複しないように積層されている、請求項4又は9に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 The ribbon bonding region are stacked each other so as not to overlap, the amorphous metal thin films laminated sheet according to claim 4 or 9.
  11. 【請求項11】 前記アモルファス金属薄膜が、Fe, Wherein said amorphous metal thin film, Fe,
    Co,Ni,Pd,Cu,NbおよびTiから選ばれた少なくとも1員からなる主成分と、B,Si,C,C Co, Ni, Pd, Cu, and a principal component composed of at least one member selected from Nb and Ti, B, Si, C, C
    o,Ni,Cr,Zr,Nb,Cu,Ti,およびMo o, Ni, Cr, Zr, Nb, Cu, Ti, and Mo
    から選ばれた少なくとも1員からなり、但し、前記主成分に含まれる金属を含まない添加成分とを含んでなる、 Consists of at least one member selected from, however, comprises an additive component which does not contain a metal contained in the main component,
    請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
  12. 【請求項12】 前記アモルファス金属薄膜が各々が、 12. The method of claim 11, wherein the amorphous metal thin film each,
    5〜100μmの厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Having a thickness of 5 to 100 [mu] m, the amorphous metal thin films laminated sheet according to claim 1.
  13. 【請求項13】 前記アモルファス金属薄膜積層体が5 Wherein said amorphous metal thin laminate 5
    0〜5,000μmの合計厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Having a total thickness of 0~5,000Myuemu, amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
  14. 【請求項14】 前記導電性金属メッキ層が、0.1μ 14. The method of claim 13, wherein the conductive metal plating layer, 0.1 [mu]
    m以上の厚さを有する、請求項4に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Has more than a thickness m, amorphous metal thin laminated sheet of claim 4.
  15. 【請求項15】 前記可撓性樹脂被覆層が、複数の前記アモルファス金属薄膜積層体の間に形成されている、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 15. The flexible resin coating layer is formed between a plurality of the amorphous metal thin film laminate, an amorphous metal thin film laminate sheet according to claim 1.
  16. 【請求項16】 前記可撓性樹脂被覆層が前記アモルファス金属薄膜積層体の少なくとも1つの最外表面上に配置されている、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 16. The flexible resin coating layer is disposed on at least one outermost surface of the amorphous metal thin film laminate, an amorphous metal thin film laminate sheet according to claim 1.
  17. 【請求項17】 前記可撓性樹脂被覆層が導電性又は半導電性である、請求項1〜16のいづれか1項に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 17. The flexible resin coating layer is conductive or semi-conductive, amorphous metal thin film laminate sheet according In any one of claims 1 to 16.
  18. 【請求項18】 前記可撓性樹脂被覆層が50μm以上の厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 18. The flexible resin coating layer has a greater than 50μm thick, the amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
  19. 【請求項19】 前記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1 19. at least one of said flexible resin coating layer
    層が多孔質である、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。 Layer is a porous, amorphous metal thin laminated sheet of claim 1.
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