JPH0831569A - Amorphous metal thin film-layered sheet - Google Patents

Amorphous metal thin film-layered sheet

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JPH0831569A
JPH0831569A JP2686195A JP2686195A JPH0831569A JP H0831569 A JPH0831569 A JP H0831569A JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP 2686195 A JP2686195 A JP 2686195A JP H0831569 A JPH0831569 A JP H0831569A
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metal thin
amorphous metal
thin film
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Tsutomu Obayashi
勉 大林
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    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
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    • H01F10/00Thin magnetic films, e.g. of one-domain structure
    • H01F10/32Spin-exchange-coupled multilayers, e.g. nanostructured superlattices
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Abstract

PURPOSE:To provide an amorphous metal thin film-layered sheet which has excellent shielding effect against static electricity and electromagnetic waves and sufficiently high impact resistance and strength, high bending resistance and strength for practrical use. CONSTITUTION:An amorphous metal thin film-layered sheet is composed of at least one layered body produced by laminating a plurality of amorphous metal thin films and at least one flexible resin coating layer formed on the layered body. The amorphous metal thin films in the layered body are distributed in not less than one line- or island-like state by an adhesive or a gluing agent and the total surface area of the lines and islands is set to be 1.0-90% of the total sticking surface area. The flexible resin coating layer is put in either one surface among the outermost surface and interfaces of the amorphous metal thin film-layered body.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、アモルファス金属薄膜
積層シートに関するものである、更に詳しく述べるなら
ば、本発明は、積層一体化された複数層のアモルファス
金属薄膜からなる積層体を含むアモルファス金属薄膜積
層シートに関するものである。これらは電磁波に対して
すぐれたシールド効果を有する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an amorphous metal thin film laminated sheet. More specifically, the present invention relates to an amorphous metal containing a laminate composed of a plurality of amorphous metal thin films laminated and integrated. The present invention relates to a thin film laminated sheet. These have an excellent shielding effect against electromagnetic waves.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年エレクトロニクス機器の発達および
普及に伴い、これらの機器および、磁気記録体などを、
静電気、および電磁波の悪影響から保護することが必要
になり、この保護材料として、シート材料、例えば、被
覆用シート材料および包装用シート材料の需要が大きく
なってきている。
2. Description of the Related Art In recent years, with the development and popularization of electronic devices, these devices, magnetic recording media, etc.
It is necessary to protect against the adverse effects of static electricity and electromagnetic waves, and as this protective material, sheet materials such as covering sheet materials and packaging sheet materials are in great demand.

【0003】従来エレクトロニクス機器を静電気の影響
から保護するために、カーボン粉末、カーボン繊維、金
属箔、又は金属粉末を含有する導電性材料を含む導電性
シートが用いられている。しかし、このような従来の導
電性シートは、エレクトロニクス機器を電磁波の影響か
ら保護する目的には十分に効果があるとは云えないもの
である。例えば、MRI(核磁気共鳴診断装置)などに
おいては、外部の電磁波によって強い障害を受けやす
く、このためMRIは厚さ2cmの鉄板でシールドされて
いる。このような厚いシールド材料を用いると、装置の
重量が極めて大きなものとなり、かつ、その製作や加工
に困難を生ずる。更に、上記鉄板シールドの最も重大な
欠点は、鉄板自身が磁気を帯び易いという点にある。
In order to protect electronic equipment from the influence of static electricity, a conductive sheet containing a conductive material containing carbon powder, carbon fiber, metal foil or metal powder has been used. However, such a conventional conductive sheet cannot be said to be sufficiently effective for the purpose of protecting electronic devices from the influence of electromagnetic waves. For example, in an MRI (Nuclear Magnetic Resonance Diagnostic Device) or the like, it is easily damaged by external electromagnetic waves, and therefore the MRI is shielded by an iron plate having a thickness of 2 cm. If such a thick shield material is used, the weight of the device becomes extremely large, and the manufacturing and processing thereof are difficult. Further, the most serious drawback of the iron plate shield is that the iron plate itself is easily magnetized.

【0004】上記のような従来の電磁波シールド材料の
欠点を解消するためにアモルファス金属の利用が試みら
れた。アモルファス金属は、すぐれた電磁波に対するシ
ールド効果を有し、かつ負荷を除くと、直ちにもとの状
態に復帰し、磁気を帯びることがないという利点を有し
ている。
The use of amorphous metal has been attempted in order to overcome the above-mentioned drawbacks of conventional electromagnetic wave shielding materials. Amorphous metal has an excellent shield effect against electromagnetic waves, and has an advantage that when the load is removed, it immediately returns to its original state and is not magnetized.

【0005】しかしながら、アモルファス金属は、従来
の電磁波シールド材料(例えば鉄板)に対し、下記のよ
うな問題点を有している。 (イ)一般にアモルファス金属材料の厚さは、100μ
m以下( 市販アモルファス金属薄膜の大部分は50μm
以下の厚さを有する) に限定され、これ以上の厚さを有
するアモルファス金属材料を得ることが困難である。
However, the amorphous metal has the following problems with respect to the conventional electromagnetic wave shielding material (for example, iron plate). (A) Generally, the thickness of the amorphous metal material is 100 μm.
m or less (most commercial amorphous metal thin films are 50 μm
However, it is difficult to obtain an amorphous metal material having a thickness greater than that.

【0006】(ロ)一般に、アモルファス金属材料は1
00mm以下の幅(最も一般には20mm以下)で供給され
ており、これ以上に広い幅を有するものを入手すること
が困難である。 (ハ)従って、広幅の、かつかなりの厚さ、例えば、1
00μmより大きな厚さを有するアモルファス金属材料
を得ることは困難である。 (ニ)アモルファス金属薄膜を積層接着して得られる積
層体は、屈曲しにくゝ、かつ破断しやすいという問題点
を有している。
(B) Generally, the amorphous metal material is 1
It is supplied with a width of 00 mm or less (most commonly 20 mm or less), and it is difficult to obtain one having a width wider than this. (C) Therefore, a wide width and a considerable thickness, for example, 1
It is difficult to obtain an amorphous metal material having a thickness greater than 00 μm. (D) The laminated body obtained by laminating and bonding the amorphous metal thin films has problems that it is difficult to bend and is easily broken.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、アモルファ
ス金属薄膜を用いて、屈曲しやすく、かつ破断しにくい
アモルファス金属薄膜積層シートを提供しようとするも
のである。
DISCLOSURE OF THE INVENTION The present invention is intended to provide an amorphous metal thin film laminated sheet which is easily bent and is not easily broken by using an amorphous metal thin film.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートは、少なくとも1層のアモルファス金
属薄膜積層体と、この積層体に積層されており、かつ可
撓性樹脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層と
を含み、前記アモルファス金属薄膜積層体において、複
数のアモルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着
剤又は粘着剤により接着されており、前記アモルファス
金属薄膜の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤
が、1本以上の線状、又は1個以上の島状に分布してお
り、前記接着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモ
ルファス金属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90
%の範囲内にあり、かつ前記可撓性樹脂被覆層が、前記
アモルファス金属薄膜の最外表面、および前記複数のア
モルファス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置
されていることを特徴とするものである。
The amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention is composed of at least one amorphous metal thin film laminated body, and is laminated on this laminated body and contains at least a flexible resin as a main component. In the amorphous metal thin film laminate, including a single coating layer, a plurality of amorphous metal thin films are laminated on each other and adhered by an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, and on the adhesion surface of the amorphous metal thin film, The adhesive or pressure-sensitive adhesive is distributed in one or more lines or in one or more islands, and the total distribution area of the adhesive or pressure-sensitive adhesive is relative to the area of the adhesive surface of the amorphous metal thin film. , 1.0 to 90
%, And the flexible resin coating layer is arranged at any one of the outermost surface of the amorphous metal thin film and the plurality of amorphous metal thin film laminates. To do.

【0009】[0009]

【作用】最近アモルファス金属を、その特性に基いて、
種々の用途に使用することが試みられている。一般にア
モルファス金属薄膜は、幅:2.54〜10.16cmの
リボン状材料として供給されており、その幅の拡大に関
しては近い将来、幅:20.32cmの小幅シートが、供
給されることが期待されている程度である。また、供給
されているアモルファス金属薄膜は、一般に5〜50μ
mの厚さを有するもので、極く稀に100μm程度の厚
さを有するものがあるに過ぎない。
[Action] Recently, amorphous metals have been
Attempts have been made to use it in various applications. Amorphous metal thin films are generally supplied as ribbon-shaped materials with a width of 2.54 to 10.16 cm, and it is expected that small width sheets with a width of 20.32 cm will be supplied in the near future for expanding the width. It has been done. The supplied amorphous metal thin film is generally 5 to 50 μm.
Some have a thickness of m and very rarely have a thickness of about 100 μm.

【0010】従来は、上述のようなリボン状、又は小
(細)幅材料は、カードケース、或は小物用包装収納材
料としてのみ使用可能であって、これを100〜300
cmの広幅が要求される被覆シートなどに利用することは
殆んど不可能と考えられていた。
Conventionally, the ribbon-shaped or small (narrow) width material as described above can be used only as a card case or as a packaging material for small articles, which is 100 to 300.
It was thought that it would be almost impossible to use it for a covering sheet that requires a wide width of cm.

【0011】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、その供給幅のま
ゝ、または、必要に応じ、これを所望の幅に接合して使
用される。
The amorphous metal thin film used for the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention is used until the supply width thereof, or if necessary, by bonding it to a desired width.

【0012】上述のエレクトロニクス機器の保護効果と
は、電磁波シールド手段により電磁波エネルギーを吸収
したり、或は反射したりして、エレクトロニクス機器に
電磁波エネルギーの影響が及ばないようにする効果を云
う。この電磁波シールド手段による電磁波エネルギー減
衰の程度は単位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シ
ールド材料としてはこの数値が大きい程減衰効果が大き
く、好ましいことになる。
The above-mentioned effect of protecting the electronic equipment means the effect of absorbing or reflecting the electromagnetic wave energy by the electromagnetic wave shield means so that the electronic equipment is not affected by the electromagnetic wave energy. The degree of electromagnetic wave energy attenuation by the electromagnetic wave shield means is expressed in a unit decibel (dB). As the electromagnetic wave shield material, the larger this value is, the larger the attenuation effect is, which is preferable.

【0013】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、その電磁波シールド効果は、それに含まれて
いる金属薄膜のシールド効果にほぼ依存し、一般に、3
0dB以上であることが好ましく、60dB以上である
ことが更に好ましく、90dB以上であることがより一
層好ましい。
In the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, its electromagnetic wave shielding effect depends substantially on the shielding effect of the metal thin film contained therein, and is generally 3
It is preferably 0 dB or more, more preferably 60 dB or more, and even more preferably 90 dB or more.

【0014】本発明において有用なアモルファス金属薄
膜としては、一般には鉄を主成分とし、これにホウ素、
珪素、炭素、ニッケル、コバルト、および、モリブデン
などから選ばれた1種以上を添加して得られるアモルフ
ァス合金から選ばれることが好ましい。例えば、アライ
ド社の商品名METGLAS No.2605SC(F
e:81%、B:13.5%、Si:3.5 %、C:
2%のアモルファス合金)、No.2605S−2(F
e:78%、B:13%、Si:9%のアモルファス合
金)、No.2605−Co(Fe:87部、B:14
部、Si:1部、Co:18部のアモルファス合金)
、No.2826−MB(Fe:40%、Ni:38
%、Mo:4%、B:18%のアモルファス合金)など
を用いることができる。
The amorphous metal thin film useful in the present invention generally contains iron as a main component, boron,
It is preferably selected from amorphous alloys obtained by adding one or more selected from silicon, carbon, nickel, cobalt, molybdenum and the like. For example, Allied's trade name METGLAS No. 2605SC (F
e: 81%, B: 13.5%, Si: 3.5%, C:
2% amorphous alloy), No. 2605S-2 (F
e: 78%, B: 13%, Si: 9% amorphous alloy), No. 2605-Co (Fe: 87 parts, B: 14
Part, Si: 1 part, Co: 18 parts amorphous alloy)
, No. 2826-MB (Fe: 40%, Ni: 38
%, Mo: 4%, B: 18% amorphous alloy) and the like.

【0015】また、上記の鉄を主成分とする合金系の外
に、コバルトを主成分とする合金系(例えばCo90Zr
10,Co78Si1012, Co56Cr2618,CO44Mo
36 20,Co34Cr28Mo2018)、ニッケルを主成分
とする合金系(例えばNi90Zr10,Ni78Si
1012,Ni34Cr24Mo2418)およびその他の金属
を主成分とする合金系(例えばPd80Si20,Cu80
20,Nb50Ni50,Ti50Cu50)等も利用できる。
In addition to the above-mentioned alloys containing iron as a main component,
Alloy system containing cobalt as a main component (for example, Co90Zr
Ten, Co78SiTenB12,Co56Cr26C18, CO44Mo
36C 20, Co34Cr28Mo20C18), The main component is nickel
Alloy system (for example, Ni90ZrTen, Ni78Si
TenB12, Ni34Crtwenty fourMotwenty fourC18) And other metals
Alloys containing as a main component (for example, Pd80Si20, Cu80Z
r20, Nb50Ni50, Ti50Cu50) Etc. can also be used.

【0016】また、アモルファス金属薄膜は、その電磁
波シールド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜
であってもよい。
The amorphous metal thin film may be a perforated thin film as long as it does not substantially affect the electromagnetic wave shielding property.

【0017】これらのアモルファス金属薄膜は、前述の
ようにリボン又は細幅シートの形状で供給されている場
合が多いので、本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トに、これらを使用するとき、必要に応じて複数のリボ
ン状、又は、細幅シート状のアモルファス金属薄膜を互
に並列に配列して、広幅薄膜とするか、または、必要に
よりそれらの対向する側縁部を導電性接着剤又は半田に
より接合して、所望の幅を有する広幅薄膜とする。複数
のリボンから広幅薄膜を作成するとき、リボンは、得ら
れる積層体の長手軸方向に平行に伸びるように配置され
てもよいし、或は、これに直角な方向に伸びるように配
置されていてもよい。また、アモルファス金属薄膜は、
アモルファス金属の粉末を利用して形成してもよい。或
は、アモルファス金属からなる細線から編織物状、又は
不織布状シートとして、これをアモルファス金属薄膜と
して用いてもよい。
Since these amorphous metal thin films are often supplied in the form of ribbons or narrow sheets as described above, when they are used in the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, they may be used as needed. A plurality of ribbon-shaped or narrow sheet-shaped amorphous metal thin films arranged in parallel with each other to form a wide thin film, or if necessary, their opposing side edges are formed by a conductive adhesive or solder. Bonded to form a wide thin film having a desired width. When forming a wide thin film from a plurality of ribbons, the ribbons may be arranged to extend parallel to the longitudinal axis of the resulting laminate, or they may be arranged to extend in a direction perpendicular to this. May be. In addition, the amorphous metal thin film is
You may form using the powder of an amorphous metal. Alternatively, it may be used as a knitted woven fabric-like or non-woven fabric-like sheet from thin wires made of amorphous metal, and this sheet may be used as an amorphous metal thin film.

【0018】アモルファス金属薄膜は電界に対するシー
ルド効果を有するが、特に磁界に対しすぐれたシールド
効果を有している。
The amorphous metal thin film has a shielding effect against an electric field, but particularly an excellent shielding effect against a magnetic field.

【0019】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
に用いられるアモルファス金属薄膜は、アモルファス金
属薄膜単独から形成されたものであってもよいし、或
は、アモルファス金属薄膜からなる基体と、その少なく
とも一面を被覆している導電性金属メッキ層とからなる
ものであってもよい。
The amorphous metal thin film used in the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention may be formed of an amorphous metal thin film alone, or a substrate composed of an amorphous metal thin film and at least one surface thereof. It may be composed of a conductive metal plating layer covering the layer.

【0020】メッキ用導電性金属としては、例えば銅、
ニッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、
亜鉛およびこれらから選ばれた2種以上の合金などを用
いることができる。このようにして、アモルファス金属
薄膜からなる基体の少なくとも一面上に導電性金属をメ
ッキすると、得られるアモルファス金属薄膜は前記磁界
シールド性に、メッキ層による電界シールド性が加算さ
れ、アモルファス金属薄膜全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
アモルファス金属薄膜の半田接合性を向上させ、アモル
ファス金属薄膜リボンから、広幅薄膜の形成を容易にす
る効果もある。
As the conductive metal for plating, for example, copper,
Nickel, cobalt, iron, aluminum, gold, silver, tin,
Zinc and two or more alloys selected from these can be used. In this way, when a conductive metal is plated on at least one surface of the substrate made of an amorphous metal thin film, the obtained amorphous metal thin film has the electric field shielding property of the plating layer added to the magnetic field shielding property, so that the entire amorphous metal thin film is obtained. It is possible to show an excellent shielding effect against a wide range of electromagnetic waves from low frequency to high frequency. In addition, the conductive metal plating layer,
It also has the effect of improving the solder bondability of the amorphous metal thin film and facilitating the formation of a wide thin film from the amorphous metal thin film ribbon.

【0021】また、アモルファス金属薄膜中に含まれる
導電性金属メッキ層は、0.1μm以上の厚さを有する
ことが好ましく、0.1〜5μm程度の厚さを有するこ
とがより好ましい。またアモルファス金属薄膜又はその
金属メッキ層表面に、防錆剤その他の薄い保護膜を形成
してもよい。
The conductive metal plating layer contained in the amorphous metal thin film preferably has a thickness of 0.1 μm or more, more preferably 0.1 to 5 μm. Further, a thin protective film such as a rust preventive may be formed on the surface of the amorphous metal thin film or its metal plating layer.

【0022】アモルファス金属薄膜は、前述のようにそ
れぞれ5〜50μmの厚さを有するものであるが、本発
明のアモルファス金属薄膜の積層体は全体として50μ
m以上の厚さを有することが好ましく、100〜5,0
00μmの厚さを有することがより好ましい。このため
に、本発明のアモルファス金属薄膜積層シートにおいて
は好ましくは2〜200枚のアモルファス金属薄膜が厚
さ方向に積層一体化されている。本発明のアモルファス
金属薄膜積層シートのシールド効果を強化し、安定化さ
せるためには、多数のアモルファス金属薄膜を積層する
ことが望ましい。すなわち、アモルファス金属薄膜を広
く大きな面積に接合して使用する場合、面積が大きくな
ればなる程、シールド効果に不均一を生じ、効果が低下
し、或は不安定になるおそれがある。このような問題点
を解消し、安定したシールド効果を得るためには、多数
の薄膜を積層することが望ましい。
The amorphous metal thin films each have a thickness of 5 to 50 μm as described above, but the amorphous metal thin film laminate of the present invention has a total thickness of 50 μm.
It is preferable to have a thickness of m or more, and 100 to 5,0
More preferably it has a thickness of 00 μm. Therefore, in the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, preferably 2 to 200 amorphous metal thin films are laminated and integrated in the thickness direction. In order to enhance and stabilize the shielding effect of the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, it is desirable to laminate a large number of amorphous metal thin films. That is, when the amorphous metal thin film is bonded to a wide area and used, the larger the area, the more uneven the shielding effect, and the lower the effect or the more unstable. In order to solve such problems and obtain a stable shield effect, it is desirable to stack a large number of thin films.

【0023】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、少なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄
膜と、少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファ
ス金属薄膜とを含むものであってもよい。このようにア
モルファス金属薄膜の一部からメッキ層を省略すること
により製品コストを低下させながら、所要の電磁波シー
ルド性を得ることができる。
The amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention may include at least one amorphous metal thin film with a plating layer and at least one amorphous metal thin film having no plating layer. Thus, by omitting the plating layer from a part of the amorphous metal thin film, it is possible to obtain the required electromagnetic wave shielding property while reducing the product cost.

【0024】多数のアモルファス金属薄膜を積層し接着
する場合、接着剤又は粘着剤による接着域が互に重複し
て、得られる積層体中に局部的に厚さの異なる部分が形
成されないように、接着剤又は粘着剤の接着域が互に重
複しないように、積層体中にほゞ均一に分布させ、それ
によって厚さ、風合の均一性を維持することが好まし
い。
When a large number of amorphous metal thin films are laminated and adhered to each other, the adhesion regions formed by the adhesive or the pressure-sensitive adhesive do not overlap each other, so that a portion having a locally different thickness is not formed in the obtained laminate. It is preferable that the adhesives or the adhesives are distributed almost evenly in the laminate so that the adhesive areas of the adhesives do not overlap each other, thereby maintaining the uniformity of thickness and texture.

【0025】接着剤又は粘着剤は、積層された複数のア
モルファス金属薄膜を電気的に互に連結させるために、
導電性、又は半導電性であることが好ましく、更にそれ
が防錆性を有することができる。このような接着剤、又
は粘着剤の種類には格別の限定はなく使用目的に応じ
て、既存のものから任意に選択して使用することができ
る。例えば、使用環境に応じて耐寒性の高いもの、或は
耐熱性の高いものなどを選択して使用すればよい。
The adhesive or pressure-sensitive adhesive is used to electrically connect a plurality of laminated amorphous metal thin films to each other.
It is preferably electrically conductive or semi-conductive, and it can also be rustproof. There is no particular limitation on the type of such an adhesive or pressure-sensitive adhesive, and any of the existing ones can be arbitrarily selected and used according to the purpose of use. For example, a material having high cold resistance or a material having high heat resistance may be selected and used according to the use environment.

【0026】一般に、積層体中における複数のアモルフ
ァス金属薄膜は互に接着剤又は粘着剤により接着又は粘
着される。この接着又は粘着において、互に上下に隣接
し、重なり合うアモルファス金属薄膜の全面に接着剤又
は粘着剤が塗布固着されている場合、積層体が折曲げら
れたとき、互に接着又は粘着されたアモルファス金属薄
膜間の相互変位の自由度が不十分となる。この問題は、
特に接着剤が用いられたときに顕著である。このような
問題点を解決するためには、複数のアモルファス金属薄
膜が互に接着又は粘着されていないことが好ましいが、
この場合複数のアモルファス金属薄膜の一体化が困難に
なる。
In general, a plurality of amorphous metal thin films in the laminate are adhered or adhered to each other with an adhesive or a tackifier. In this adhesion or adhesion, when an adhesive or an adhesive is applied and fixed to the entire surfaces of the amorphous metal thin films which are vertically adjacent to each other and overlap each other, when the laminated body is bent, the amorphous materials adhered or adhered to each other. The degree of freedom of mutual displacement between the metal thin films becomes insufficient. This problem,
This is especially noticeable when an adhesive is used. In order to solve such a problem, it is preferable that a plurality of amorphous metal thin films are not adhered or adhered to each other,
In this case, it becomes difficult to integrate a plurality of amorphous metal thin films.

【0027】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
内において、各アモルファス金属薄膜がその上下に隣接
し重なり合って部分的に接着又は粘着され、このため接
着又は粘着部分以外の部分では、互に相対的変位が可能
である。すなわち、本発明において、各アモルファス金
属薄膜がその上下に隣接し重なり合っている部分に対
し、少なくとも1個の線状、又は島状に配置された接着
剤又は粘着剤の層により接着又は粘着されている。例え
ば複数のアモルファス金属薄膜からなる積層体中におい
て、その構成アモルファス金属薄膜は、少なくとも1個
の線状又は島状に或は、これらの混合状態に、または塗
布線が交叉した状態に分布させた接着剤又は粘着剤の層
により接着又は粘着される。このような態様の接着又は
粘着により複数のアモルファス金属薄膜は、互に接着さ
れ一体化される。しかしアモルファス金属薄膜の非接着
部分は屈曲に応じて互に相対的に変位することができ、
これにより積層体の屈曲が容易になり、また屈曲に伴う
積層体の破断が防止される。
In the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the respective amorphous metal thin films are vertically adjacent to each other and overlap each other to be partially adhered or adhered to each other, so that the parts other than the adhered or adhered parts are relatively displaced from each other. Is possible. That is, in the present invention, each amorphous metal thin film is adhered or adhered to at least one linear or island-shaped adhesive or pressure-sensitive adhesive layer with respect to the vertically adjacent and overlapping portions thereof. There is. For example, in a laminated body composed of a plurality of amorphous metal thin films, the constituent amorphous metal thin films are distributed in at least one linear or island shape, or in a mixed state of these, or in a state in which coating lines intersect. It is adhered or tacked by a layer of adhesive or cohesive. A plurality of amorphous metal thin films are adhered to each other and integrated by the adhesion or adhesion in this manner. However, the non-bonded parts of the amorphous metal thin film can be displaced relative to each other in response to bending,
This facilitates bending of the laminate and prevents breakage of the laminate due to bending.

【0028】接着部分の形状は、1個以上の直線、曲
線、又はこれらの混合線状であってもよく、これらが交
叉していてもよい。或は1個以上の島状の点からなるも
のであってもよいが、これらの接着剤塗布面積の合計
は、当該アモルファス金属薄膜の接着面積に対し1〜9
0%の範囲内にあることが必要である。この接着剤塗布
面積比が1%未満のときは、アモルファス金属薄膜の接
着強度が不十分になり、またそれが90%を超過する
と、屈曲性および耐屈曲破断性が不十分になる。
The shape of the adhesive portion may be one or more straight lines, curved lines, or a mixed line of these, and these may intersect. Alternatively, it may consist of one or more island-shaped points, but the total adhesive application area is 1 to 9 with respect to the adhesion area of the amorphous metal thin film.
It is necessary to be within the range of 0%. When the adhesive application area ratio is less than 1%, the adhesive strength of the amorphous metal thin film becomes insufficient, and when it exceeds 90%, the bending property and the bending rupture resistance become insufficient.

【0029】アモルファス金属薄膜積層体に含まれる島
状、又は線状の接着剤又は粘着剤の塗布域は、積層体に
局部的に厚さの不均一を生じないように、互に重複しな
いよう、ほゞ均一に分布させることが好ましく、これに
よってほゞ均一の充実度を有する積層体が得られる。
The island-shaped or linear-shaped adhesive or pressure-sensitive adhesive application areas contained in the amorphous metal thin film laminate do not overlap with each other so that the laminate does not have uneven thickness locally. It is preferable that the layered product is distributed almost uniformly, whereby a laminate having a substantially uniform solidity can be obtained.

【0030】上記複数のアモルファス金属薄膜リボンか
ら、アモルファス金属薄膜が形成されている場合、その
リボン接合域が互に重複しないように積層されることが
好ましい。
When an amorphous metal thin film is formed from the plurality of amorphous metal thin film ribbons, it is preferable to stack the amorphous metal thin film ribbons so that the ribbon bonding areas do not overlap each other.

【0031】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
は、複数のアモルファス金属薄膜を、前述のように積層
接着してなる少なくとも1個の積層体と、この積層体に
積層されており、かつ可撓性樹脂を主成分として含む少
なくとも1個の被覆層とを含むものである。このような
可撓性樹脂被覆層は、複数のアモルファス金属薄膜積層
体の間に形成されていてもよく、また任意の間隔をおい
て形成されていてもよく、或は積層体の少なくとも一つ
の最外表面上に配置されていてもよい。
The amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention is laminated on at least one laminated body obtained by laminating a plurality of amorphous metal thin films as described above, and is laminated on this laminated body, and is flexible. And at least one coating layer containing a resin as a main component. Such a flexible resin coating layer may be formed between a plurality of amorphous metal thin film laminates, may be formed at arbitrary intervals, or at least one of the laminates may be formed. It may be arranged on the outermost surface.

【0032】この可撓性樹脂被覆層が導電性又は半導電
性であることが望ましい。複数のアモルファス金属薄膜
積層体の間に導電性又は半導電性可撓性樹脂被覆層が設
けられると、複数のメッキされた又はメッキされていな
いアモルファス金属薄膜積層体の全体が導電性となり好
まし結果が得られる。特に、メッキしていないアモルフ
ァス金属薄膜が用いられる場合、積層体間に導電性又は
半導電性可撓性樹脂被覆層を設けることにより、磁界シ
ールド性とともに電界シールド性も改善され、性能の良
好なアモルファス金属薄膜積層シートが得られる。
It is desirable that the flexible resin coating layer be conductive or semiconductive. When a conductive or semi-conductive flexible resin coating layer is provided between a plurality of amorphous metal thin film laminates, the whole of the plurality of plated or unplated amorphous metal thin film laminates becomes conductive and is preferable. The result is obtained. In particular, when an unplated amorphous metal thin film is used, by providing a conductive or semi-conductive flexible resin coating layer between the laminates, the magnetic field shielding property as well as the electric field shielding property is improved, resulting in good performance. An amorphous metal thin film laminated sheet is obtained.

【0033】上記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1層
が、可撓性樹脂からなるフィルム、又はシートを貼着す
ることにより形成されていてもよく、このようなフィル
ム又はシートは多孔質であってもよく、或は非多孔質で
あってもよい。
At least one layer of the flexible resin coating layer may be formed by sticking a film or sheet made of a flexible resin, and such a film or sheet is porous. Or it may be non-porous.

【0034】可撓性樹脂被覆層は、本発明のアモルファ
ス金属薄膜積層シートに、所望の柔軟性、圧縮弾性、お
よび衝撃や押圧に対する緩衝性、耐破断性などを与える
ことができる。すなわち、アモルファス金属薄膜積層シ
ートに屈曲などの外力が作用したとき、この可撓性樹脂
被覆層が、変形することによってこの外力を吸収し、ア
モルファス金属薄膜の伸びおよび圧縮を少なくし、これ
によってアモルファス金属薄膜の裂断や折損を防止し、
かつ永久変形(折れ目の形成)を防止するという緩衝作
用を発揮する。このようなアモルファス金属薄膜積層シ
ートは、核磁気共鳴診断装置(MRI)などの磁気シー
ルドシート、エレクトロニクス機器の被覆シート、包装
収納用シート、床シート、壁シート、或は建築用シート
等として有用なものである。
The flexible resin coating layer can provide the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention with desired flexibility, compressive elasticity, shock absorbing property, shock absorbing property, rupture resistance and the like. That is, when an external force such as bending is applied to the amorphous metal thin film laminated sheet, the flexible resin coating layer absorbs this external force by deforming, and the expansion and compression of the amorphous metal thin film is reduced. Prevents the metal thin film from breaking and breaking,
In addition, it exerts a buffering effect of preventing permanent deformation (crease formation). Such an amorphous metal thin film laminated sheet is useful as a magnetic shield sheet such as a nuclear magnetic resonance diagnostic apparatus (MRI), a covering sheet for electronic equipment, a sheet for packaging and storing, a floor sheet, a wall sheet, or a construction sheet. It is a thing.

【0035】本発明に用いられる可撓性樹脂としては、
天然ゴム、ネオプレンゴム、クロロプレンゴム、シリコ
ーンゴム、ハイパロンその他の合成ゴム、またはPVC
樹脂、エチレン−酢酸ビニルコポリマー(EVA)樹
脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリエチレン(PE)樹脂、ポリプロピレン(P
P)樹脂、ポリエステル樹脂、フッ素含有樹脂その他の
合成樹脂を用いることができる。このような樹脂材料
は、また、良好な防水性を有し、得られるアモルファス
金属薄膜積層シートに所望の防水性並びに難燃性や機械
的強度を与えることができる。可撓性樹脂被覆層は、
0.05mm以上の、より好ましくは0.05〜1.0mm
の厚さを有することが好ましく、また導電性物質を含ん
でいることが好ましい。
The flexible resin used in the present invention includes
Natural rubber, neoprene rubber, chloroprene rubber, silicone rubber, Hypalon and other synthetic rubber, or PVC
Resin, ethylene-vinyl acetate copolymer (EVA) resin, acrylic resin, silicone resin, polyurethane resin, polyethylene (PE) resin, polypropylene (P
P) resin, polyester resin, fluorine-containing resin and other synthetic resins can be used. Such a resin material also has good waterproofness and can impart desired waterproofness, flame retardancy and mechanical strength to the obtained amorphous metal thin film laminated sheet. The flexible resin coating layer is
0.05 mm or more, more preferably 0.05 to 1.0 mm
It is preferable to have a thickness of 1 and to contain a conductive substance.

【0036】これらの可撓性樹脂被覆層は、上記の如き
ゴム又は樹脂のフィルム、溶液、ペースト又はストレー
トなどを用い、公知の方法、例えば、トッピング、カレ
ンダリング、コーティング、ディッピングなどの方法に
よって、アモルファス金属薄膜積層体の表面上に形成す
ることができる。これらのゴム又は樹脂中には、可塑
剤、安定剤、着色剤、紫外線吸収剤などや他の機能付与
剤、例えば防炎剤、難燃化剤などが含まれていてもよ
い。
These flexible resin coating layers may be formed by a known method such as topping, calendering, coating or dipping using the above-mentioned rubber or resin film, solution, paste or straight. It can be formed on the surface of the amorphous metal thin film stack. These rubbers or resins may contain a plasticizer, a stabilizer, a colorant, an ultraviolet absorber and the like, and other function-imparting agents such as a flameproofing agent and a flame retardant.

【0037】従来、金属箔の表面に対し、防錆、および
腐食防止の目的で1〜10μm程度の厚さの樹脂層を形
成することが知られているが、本発明のアモルファス金
属薄膜積層シートにおいては、可撓性樹脂被覆層は一般
に50μm以上の厚さに形成され、この厚さは、好まし
くは50〜5000μmであり、更に好ましくは100
〜3000μmであり、より一層好ましくは200〜2
000μmである。また、本発明に用いられる可撓性樹
脂被覆層は、上記の厚さを有していても使用上十分な可
撓性を示すことができる。
Conventionally, it has been known to form a resin layer having a thickness of about 1 to 10 μm on the surface of a metal foil for the purpose of rust prevention and corrosion prevention, but the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention is formed. In, the flexible resin coating layer is generally formed to have a thickness of 50 μm or more, and this thickness is preferably 50 to 5000 μm, and more preferably 100.
To 3000 μm, and more preferably 200 to 2
It is 000 μm. Further, the flexible resin coating layer used in the present invention can exhibit sufficient flexibility in use even if it has the above thickness.

【0038】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、可撓性樹脂被覆層は、多孔質、すなわち発泡
層であってもよい。このような発泡多孔質層は所望の可
撓性を有する限り硬質フォームであってもよいが、一般
には軟質フォームであることが好ましい。
In the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the flexible resin coating layer may be porous, that is, a foam layer. Such a foamed porous layer may be a rigid foam as long as it has the desired flexibility, but it is generally preferred that it is a flexible foam.

【0039】発泡多孔質層の気孔率は、50〜99%
(発泡倍率:2〜100倍)であることが好ましく、8
0〜98%( 発泡倍率:5〜50倍)であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、発泡多孔質層の圧縮抵抗は、25%圧縮にお
いて、10kg/cm2 以下であれば用途によっては実用可
能であるが、一般に0.5kg/cm2 以下であることが好
ましく、0.1kg/cm2以下であることがより好まし
い。発泡多孔質層の厚さには、格別の制限はなく、アモ
ルファス金属薄膜積層シートの用途に応じて任意に設定
することができるが、一般に、0.5〜100mmの範囲
内にあることが好ましく、1〜50mmの範囲内にあるこ
とがより好ましい。
The foamed porous layer has a porosity of 50 to 99%.
(Foaming ratio: 2 to 100 times), preferably 8
It is more preferably 0 to 98% (foaming ratio: 5 to 50 times). Usually, a foaming ratio of 20 to 60 times is used. The compression resistance of the foamed porous layer at 25% compression is 10 kg / cm 2 or less, which is practical for some applications, but generally 0.5 kg / cm 2 or less, preferably 0.1 kg / cm 2 or less. / Cm 2 or less is more preferable. The thickness of the foamed porous layer is not particularly limited and can be arbitrarily set according to the application of the amorphous metal thin film laminated sheet, but generally it is preferably in the range of 0.5 to 100 mm. , 1 to 50 mm is more preferable.

【0040】発泡多孔質層は、アモルファス金属薄膜積
層体に結着されているが、発泡多孔質シートを予じめ作
成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよく、或
は、発泡多孔質シートの接着表面部分を熱溶融して、融
着してもよい。また、発泡多孔質層は、アモルファス金
属薄膜積層体上で化学発泡させて形成してもよいし、或
は、気泡を含有する重合体塗料をアモルファス金属薄膜
積層体上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発泡法
により形成してもよい。
The foamed porous layer is bonded to the amorphous metal thin film laminate, but a foamed porous sheet may be prepared in advance and bonded with an adhesive, or For, the adhesive surface portion of the foamed porous sheet may be heat-melted and fused. Further, the foamed porous layer may be formed by chemically foaming on the amorphous metal thin film laminate, or a polymer coating containing bubbles may be applied on the amorphous metal thin film laminate and solidified. Alternatively, it may be formed by a so-called mechanical foaming method.

【0041】上述のような可撓性樹脂発泡多孔質層を含
む被覆層は、アモルファス金属薄膜積層体の両面に形成
されてもよく、或は、その片面のみに、或は中間に形成
されてもよい。片面のみに形成された場合、アモルファ
ス金属薄膜積層体の他の片面に、或は任意の部分に、前
述のような可撓性樹脂の非多孔質層を含む被覆層が結着
されていてもよい。
The coating layer containing the flexible resin foam porous layer as described above may be formed on both sides of the amorphous metal thin film laminate, or may be formed on only one side or in the middle. Good. When it is formed only on one side, even if the coating layer containing the non-porous layer of the flexible resin as described above is bound to the other side of the amorphous metal thin film laminate or to any part. Good.

【0042】一般にアモルファス金属薄膜の引裂き強さ
は殆んど0に等しい程低く、低い負荷で容易に裂断す
る。またこのようなアモルファス金属薄膜は引張り強さ
においても比較的弱く、かつ、強度のバラツキが大き
い。例えば厚さ25μmのアモルファス金属薄膜の引張
り強さをJIS−L−1096(1979).「一般織
物試験方法」の6.12、引張り強さ及び伸び率6.1
2.1(1)A法(ストリップ法)に準拠し、幅:3c
m、把み間隔:20cm、引張りスピード:200mm/分
での条件で測定すると、その引張り強さは、65〜12
5kg/3cm、平均100kg/3cm程度の比較的弱い
ものであり、また測定値にバラツキが大きい、また、ア
モルファス金属薄膜は、一般に幅の狭いリボン状で提供
されているので、これらを並列に配列してシート状にす
ると、たとえ、これらを、その対向している側縁部で、
半田により、或は接着剤で接合しても、このシートの横
方向の引張り強さは不十分であり、しかもそのバラツキ
が大きいという問題がある。そこで、包装用、被覆用に
使用される場合、或は局部的に摩擦されたり、局部的に
外力が作用する用途に用いられる場合においても、本発
明のアモルファス金属薄膜積層シートは、可撓性樹脂被
覆層により補強されているため十分な実用性を有しい
る。
In general, the tear strength of an amorphous metal thin film is so low that it is almost equal to 0, and the thin film easily tears at a low load. Further, such an amorphous metal thin film is relatively weak in tensile strength and has a large variation in strength. For example, the tensile strength of an amorphous metal thin film having a thickness of 25 μm is measured according to JIS-L-1096 (1979). 6.12 of "General textile test method", Tensile strength and elongation 6.1
Compliant with 2.1 (1) A method (strip method), width: 3c
When measured under the conditions of m, gripping interval: 20 cm, and pulling speed: 200 mm / min, the tensile strength is 65 to 12
5 kg / 3 cm, average of about 100 kg / 3 cm, which is relatively weak, and the measured values vary widely. Amorphous metal thin films are generally provided in a narrow ribbon shape, so these are arranged in parallel. Then, if they are made into a sheet shape, even if these are at the opposite side edges,
There is a problem in that the tensile strength in the lateral direction of this sheet is insufficient even if it is joined with solder or with an adhesive, and the variation is large. Therefore, the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention has flexibility even when it is used for packaging or coating, or when it is used for a purpose where it is locally rubbed or an external force acts locally. Since it is reinforced by the resin coating layer, it has sufficient practicality.

【0043】本発明のアモルファス金属薄膜積層シート
において、可撓性樹脂被覆層は、壁紙シートを構成する
壁紙状シート層であってもよい。この場合、得られるア
モルファス金属薄膜積層シートは電磁波シールド性壁紙
として有用である。本発明のアモルファス金属薄膜積層
シートにおいて、その最外表面の少なくとも1つが、可
撓性樹脂被覆層により被覆されていてもよい。
In the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the flexible resin coating layer may be a wallpaper sheet layer constituting a wallpaper sheet. In this case, the obtained amorphous metal thin film laminated sheet is useful as an electromagnetic wave shielding wallpaper. In the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, at least one of the outermost surfaces thereof may be covered with a flexible resin coating layer.

【0044】[0044]

【実施例】以下に本発明のアモルファス金属薄膜積層シ
ートを実施例により更に説明する。実施例1 アモルファス合金(Fe:81%、B:13.5%、S
i:3.5%、C:2%、商標:METGLAS N
o.2605SC、アライド社製、幅7.62cm、厚2
5μm)のリボン状体の全表面に、厚さ1μmの銅メッ
キを施した。このアモルファス金属薄膜リボンを13枚
並列し、それぞれの側縁端を半田接合して幅約95cmの
広幅薄膜を作成した。
EXAMPLES The amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention will be further described below with reference to examples. Example 1 Amorphous alloy (Fe: 81%, B: 13.5%, S
i: 3.5%, C: 2%, trademark: METGLAS N
o. 2605SC, Allied, width 7.62 cm, thickness 2
The entire surface of the ribbon-shaped body having a thickness of 5 μm was plated with copper having a thickness of 1 μm. Thirteen amorphous metal thin film ribbons were arranged in parallel and the side edges of the ribbons were soldered together to form a wide thin film having a width of about 95 cm.

【0045】上記幅95cmの広幅メッキ層付きアモルフ
ァス金属薄膜の10枚を積層し、その長さ方向の両端部
のみを線状(幅10mm)に、合成ゴム系接着剤(商標:
SC12N、ソニーケルミル社製)を用いて互に接着し
一体のアモルファス金属薄膜積層体を得た。接着剤の塗
布面積比は2%であった。この積層体は、90dBの電
磁波シールド効果を示した。
Ten amorphous metal thin films with a wide plating layer having a width of 95 cm are laminated, and only the both ends in the length direction are linear (width 10 mm), and a synthetic rubber adhesive (trademark:
SC12N, manufactured by Sony Kelmir Co., Ltd.) was adhered to each other to obtain an integrated amorphous metal thin film laminate. The application area ratio of the adhesive was 2%. This laminate exhibited an electromagnetic wave shielding effect of 90 dB.

【0046】別に、下記組成: ポリ塩化ビニル樹脂 100重量部 D.O.P.(可塑剤) 70 〃 ホウ酸バリウム(減煙剤) 20 〃 水酸化アルミニウム(難燃剤) 100 〃 硫酸バリウム(難燃剤) 200 〃 バリウム−亜鉛系安定剤 2 〃 ケチンブラックEC 3 〃 の樹脂組成物から、幅100cm、厚さ0.3mmのフィル
ムを作成した。
Separately, the following composition: Polyvinyl chloride resin 100 parts by weight D. O. P. (Plasticizer) 70 〃 Barium borate (smoke reducing agent) 20 〃 Aluminum hydroxide (flame retardant) 100 〃 Barium sulfate (flame retardant) 200 〃 Barium-zinc stabilizer 2 〃 Ketin black EC 3 〃 resin composition From the above, a film having a width of 100 cm and a thickness of 0.3 mm was prepared.

【0047】上記ポリ塩化ビニル樹脂フィルムの2枚
を、上記のアモルファス金属薄膜積層体の両面に、カレ
ンダーにより貼着し、アモルファス金属薄膜積層体の両
耳部よりはみ出している部分を互に接着して、2枚のフ
ィルムの間に、アモルファス金属薄膜積層体をパック
し、かつシールした。
Two sheets of the above polyvinyl chloride resin film were attached to both sides of the above-mentioned amorphous metal thin film laminate by a calendar, and the portions protruding from both ears of the amorphous metal thin film laminate were adhered to each other. Then, the amorphous metal thin film laminate was packed and sealed between two films.

【0048】得られたアモルファス金属薄膜積層シート
は、多数のアモルファス金属薄膜を含んでいるにも拘ら
ず、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、および作業性
を有し、かつ、90dBの電磁波シールド効果を示し
た。
The obtained amorphous metal thin film laminated sheet has practically sufficient flexibility, flexibility, strength, and workability, even though it contains a large number of amorphous metal thin films, and has 90 dB. The electromagnetic wave shielding effect was shown.

【0049】実施例2 実施例1と同様の操作を行った。但し、接着剤として、
導電性を有するドータイトFE−102(藤倉化成社
製、Ag−Cu含有、電磁波シールド用アクリル系樹脂
接着剤、体積抵抗:10-4Ω−cm)を用いた。得られた
アモルファス金属薄膜積層シートは、50dBの電磁波
シールド性を示した。
Example 2 The same operation as in Example 1 was performed. However, as an adhesive
Dotite FE-102 (manufactured by Fujikura Kasei Co., containing Ag-Cu, acrylic resin adhesive for electromagnetic wave shielding, volume resistance: 10 -4 Ω-cm) having conductivity was used. The obtained amorphous metal thin film laminated sheet exhibited an electromagnetic wave shielding property of 50 dB.

【0050】実施例3 実施例1と同様の操作を行った。但し、接着剤の代りに
アクリル樹脂系粘着剤を用いた。得られたアモルファス
金属薄膜積層シートは良好な柔軟性を示し、実施例1と
同様の電磁波シールド性を示した。
Example 3 The same operation as in Example 1 was performed. However, an acrylic resin adhesive was used instead of the adhesive. The obtained amorphous metal thin film laminated sheet exhibited good flexibility and electromagnetic wave shielding properties similar to those of Example 1.

【0051】実施例4 実施例1と同様の操作を行った。但し、先ずメッキされ
たアモルファス金属薄膜の広幅シートを作成し、その両
面上に、メッキされていないアモルファス金属薄膜リボ
ンを、そのタテ方向に1.2cm間隔で粘着剤を幅3mmに
直線状に塗布したものを積層貼着して、3層構造の積層
体を形成した。(接着剤の塗布面積比は約20%であっ
た。) 上記のようにして、メッキを省略したアモルファス金属
薄膜を積層して安価に得られた積層体は、40dBのす
ぐれた電磁波シールド性を示した。
Example 4 The same operation as in Example 1 was performed. However, first, make a wide sheet of plated amorphous metal thin film, and apply non-plated amorphous metal thin film ribbons on both sides of the adhesive in a straight line with a width of 3 mm at 1.2 cm intervals. The thus-obtained product was laminated and adhered to form a laminate having a three-layer structure. (The coating area ratio of the adhesive was about 20%.) As described above, the layered product obtained by laminating the amorphous metal thin films without plating has an excellent electromagnetic wave shielding property of 40 dB. Indicated.

【0052】このように、メッキを省略したアモルファ
ス金属細幅リボン状薄膜を広幅基材をベースとして、そ
の全面上に順次、粘着剤又は接着剤で接合して広幅化
し、かつ、多層化することも、簡単な方法で可能になり
安価にアモルファス金属薄膜積層体および積層シートを
製造することができ、特にアモルファス金属薄膜を含む
広幅シートの商品化の道が開けた。
As described above, the amorphous metal thin ribbon-shaped thin film without plating is sequentially bonded on the entire surface of the wide base material with a pressure sensitive adhesive or an adhesive to widen it and to form a multi-layer. Also, an amorphous metal thin film laminate and a laminated sheet can be manufactured at a low cost by a simple method, and in particular, a road to commercialization of a wide sheet containing an amorphous metal thin film has been opened.

【0053】実施例5 実施例1で得られた広幅のメッキ層付きアモルファス金
属薄膜の5枚からなる積層体を3組用意し、各組のアモ
ルファス金属薄膜の間および最外表裏面上に、ほゞ0.
35mm、又はほゞ0.33mmの発泡ポリウレタンシート
を挟み込み重ね合わせて、下記接着剤の1種を使用して
積層接着してアモルファス金属薄膜積層シートを得た。 接着剤 (イ)SC−12N (ロ)ドータイトFE−102
Example 5 Three sets of laminated bodies each consisting of five sheets of the amorphous metal thin film with a wide plating layer obtained in Example 1 were prepared, and between each set of amorphous metal thin films and on the outermost front and back surfaces, there were approximately three sets.ゞ 0.
A 35 mm or approximately 0.33 mm foamed polyurethane sheet was sandwiched and overlapped, and laminated and adhered using one of the following adhesives to obtain an amorphous metal thin film laminated sheet. Adhesive (a) SC-12N (b) Dauite FE-102

【0054】得られたアモルファス金属薄膜積層シート
は上記接着剤のいづれの場合も好ましい弾性を示し床シ
ート(床材)として使用するに好ましいものが得られ
た。また、得られたアモルファス金属薄膜積層シートの
シールド効果とクッション効果も良好であった。 これ
らは良好な電磁波シールド性と、好ましい弾性を有し、
例えば電磁波シールド性敷物として有用なものであっ
た。
The obtained amorphous metal thin film laminated sheet showed preferable elasticity in any of the above-mentioned adhesives, and a preferable sheet for use as a floor sheet (floor material) was obtained. The shielding effect and cushioning effect of the obtained amorphous metal thin film laminated sheet were also good. These have good electromagnetic wave shielding properties and favorable elasticity,
For example, it was useful as an electromagnetic wave shielding rug.

【0055】実施例6 実施例5と同様の操作を行った。但しアモルファス金属
薄膜積層体中の最外表裏両層のみを、メッキされたアモ
ルファス金属薄膜により構成し、中間の3層を、メッキ
なしのアモルファス金属薄膜リボン(実施例1記載のも
のに同じ)を、隙間のないように並列配置し、表裏両層
と、中間3層相互に粘着接着してアモルファス金属薄膜
積層シートとした。得られたアモルファス金属薄膜積層
シートは満足すべき電磁波シールド効果を示した。
Example 6 The same operation as in Example 5 was performed. However, only the outermost front and back layers in the amorphous metal thin film laminate are composed of plated amorphous metal thin films, and the middle three layers are formed by an amorphous metal thin film ribbon without plating (same as that in Example 1). The sheets were arranged side by side so that there were no gaps, and the front and back layers and the intermediate three layers were adhesively bonded to each other to obtain an amorphous metal thin film laminated sheet. The obtained amorphous metal thin film laminated sheet exhibited a satisfactory electromagnetic wave shielding effect.

【0056】[0056]

【発明の効果】本発明のアモルファス金属薄膜積層シー
トは、複数のアモルファス金属薄膜を積層してなるアモ
ルファス金属薄膜積層体と、可撓性樹脂被覆層とを含む
ものであるが、実用上十分な柔軟性、屈曲性、強度、衝
撃緩衝性、および作業性を有し、更に、すぐれた電磁波
シールド性を有しているので、電磁波シールド性の被
覆、又は、包装シート、敷物、或は壁紙シートなどとし
て有用なものである。また、本発明のアモルファス金属
薄膜積層シートは上記用途における中間体製品又は完成
製品のいづれに組み合わせて使用することもできる。
The amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention includes an amorphous metal thin film laminated body formed by laminating a plurality of amorphous metal thin films, and a flexible resin coating layer, but it has practically sufficient flexibility. Since it has flexibility, strength, shock absorption, workability, and excellent electromagnetic wave shielding property, it is used as an electromagnetic wave shielding coating, or as a packaging sheet, rug, or wallpaper sheet. It is useful. Further, the amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention can be used in combination with any of the intermediate products or finished products in the above applications.

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも1層のアモルファス金属薄膜
積層体と、この積層体に積層されており、かつ可撓性樹
脂を主成分として含む少なくとも1個の被覆層とを含
み、 前記アモルファス金属薄膜積層体において、複数のアモ
ルファス金属薄膜が互いに積層され、かつ接着剤又は粘
着剤により接着されており、前記アモルファス金属薄膜
の接着面上において、前記接着剤又は粘着剤が、1本以
上の線状、又は1個以上の島状に分布しており、前記接
着剤又は粘着剤の合計分布面積が、前記アモルファス金
属薄膜の接着面の面積に対し、1.0〜90%の範囲内
にあり、かつ、前記可撓性樹脂被覆層が、前記アモルフ
ァス金属薄膜積層体の最外表面、および前記複数のアモ
ルファス金属薄膜積層体の間のいづれか1ヶ所に配置さ
れていることを特徴とするアモルファス金属薄膜積層シ
ート。
1. An amorphous metal thin film laminate comprising at least one layer of an amorphous metal thin film laminate and at least one coating layer laminated on the laminate and containing a flexible resin as a main component. In the body, a plurality of amorphous metal thin films are laminated on each other, and adhered by an adhesive or a pressure-sensitive adhesive, and on the bonding surface of the amorphous metal thin film, the adhesive or pressure-sensitive adhesive is one or more linear, Or, it is distributed in one or more islands, and the total distribution area of the adhesive or pressure-sensitive adhesive is within the range of 1.0 to 90% with respect to the area of the adhesive surface of the amorphous metal thin film, and The flexible resin coating layer is arranged on any one of the outermost surface of the amorphous metal thin film laminate and the plurality of amorphous metal thin film laminates. Amorphous metal thin film laminate sheet to symptoms.
【請求項2】 前記接着剤、又は粘着剤が導電性又は半
導電性を有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。
2. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the adhesive or pressure-sensitive adhesive has conductivity or semi-conductivity.
【請求項3】 前記積層された複数のアモルファス金属
薄膜間の接着剤又は粘着剤の塗布域が互いに重複しない
位置に形成されている、請求項1に記載のアモルファス
金属薄膜積層シート。
3. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the adhesive or pressure-sensitive adhesive application areas between the plurality of laminated amorphous metal thin films are formed at positions that do not overlap each other.
【請求項4】 前記アモルファス金属薄膜積層体中の、
少なくとも1個のアモルファス金属薄膜が、このアモル
ファス金属薄膜と、その少なくとも一面上に形成され、
かつ少なくとも1種の導電性金属からなるメッキ層とを
含むものである、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。
4. In the amorphous metal thin film laminate,
At least one amorphous metal thin film is formed on the at least one surface of the amorphous metal thin film,
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, further comprising a plating layer made of at least one kind of conductive metal.
【請求項5】 前記アモルファス金属薄膜積層体が、少
なくとも1個のメッキ層付きアモルファス金属薄膜と、
少なくとも1個のメッキ層を有しないアモルファス金属
薄膜とを含む、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜
積層シート。
5. The amorphous metal thin film laminate has at least one amorphous metal thin film with a plated layer,
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, comprising an amorphous metal thin film having no at least one plating layer.
【請求項6】 前記導電性金属メッキ層が、銅、ニッケ
ル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜鉛お
よび上記金属から選ばれた少なくとも1種を含む合金か
ら選ばれた少なくとも1種を含んでなる、請求項4に記
載のアモルファス金属薄膜積層シート。
6. The conductive metal plating layer is at least one selected from copper, nickel, cobalt, iron, aluminum, gold, silver, tin, zinc, and an alloy containing at least one selected from the above metals. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 4, which comprises:
【請求項7】 前記アモルファス金属薄膜が互いに平行
に配置された複数のアモルファス金属薄膜リボンを含ん
でなる、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シ
ート。
7. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the amorphous metal thin film comprises a plurality of amorphous metal thin film ribbons arranged in parallel with each other.
【請求項8】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、そ
の長手縁端部において、互いに導電性接着剤又は半田に
より接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成され
ている、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シ
ート。
8. The amorphous metal thin film ribbon according to claim 7, wherein the amorphous metal thin film ribbons are joined to each other at their longitudinal edges by a conductive adhesive or solder to form an integrated thin film having a desired width. Amorphous metal thin film laminated sheet.
【請求項9】 前記アモルファス金属薄膜リボンが、そ
の長手縁端部において、互いに接着剤又は粘着剤により
接合され、所望の幅を有する一体の薄膜に形成されてい
る、請求項7に記載のアモルファス金属薄膜積層シー
ト。
9. The amorphous metal thin film ribbon according to claim 7, wherein the amorphous metal thin film ribbons are bonded to each other at their longitudinal edges by an adhesive or a pressure sensitive adhesive to form an integral thin film having a desired width. Metal thin film laminated sheet.
【請求項10】 前記接合されたアモルファス金属薄膜
リボンからなる複数のアモルファス金属薄膜において、
前記リボン接合域が互に重複しないように積層されてい
る、請求項4又は9に記載のアモルファス金属薄膜積層
シート。
10. A plurality of amorphous metal thin films comprising the joined amorphous metal thin film ribbons,
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 4 or 9, wherein the ribbon bonding regions are laminated so as not to overlap each other.
【請求項11】 前記アモルファス金属薄膜が、Fe,
Co,Ni,Pd,Cu,NbおよびTiから選ばれた
少なくとも1員からなる主成分と、B,Si,C,C
o,Ni,Cr,Zr,Nb,Cu,Ti,およびMo
から選ばれた少なくとも1員からなり、但し、前記主成
分に含まれる金属を含まない添加成分とを含んでなる、
請求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。
11. The amorphous metal thin film comprises Fe,
A main component having at least one member selected from Co, Ni, Pd, Cu, Nb and Ti, and B, Si, C, C
o, Ni, Cr, Zr, Nb, Cu, Ti, and Mo
At least one member selected from the group consisting of metal-containing additive components contained in the main component,
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1.
【請求項12】 前記アモルファス金属薄膜が各々が、
5〜100μmの厚さを有する、請求項1に記載のアモ
ルファス金属薄膜積層シート。
12. Each of the amorphous metal thin films comprises:
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, which has a thickness of 5 to 100 μm.
【請求項13】 前記アモルファス金属薄膜積層体が5
0〜5,000μmの合計厚さを有する、請求項1に記
載のアモルファス金属薄膜積層シート。
13. The amorphous metal thin film laminate has 5 layers.
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, having a total thickness of 0 to 5,000 μm.
【請求項14】 前記導電性金属メッキ層が、0.1μ
m以上の厚さを有する、請求項4に記載のアモルファス
金属薄膜積層シート。
14. The conductive metal plating layer has a thickness of 0.1 μm.
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 4, which has a thickness of m or more.
【請求項15】 前記可撓性樹脂被覆層が、複数の前記
アモルファス金属薄膜積層体の間に形成されている、請
求項1に記載のアモルファス金属薄膜積層シート。
15. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the flexible resin coating layer is formed between a plurality of the amorphous metal thin film laminated bodies.
【請求項16】 前記可撓性樹脂被覆層が前記アモルフ
ァス金属薄膜積層体の少なくとも1つの最外表面上に配
置されている、請求項1に記載のアモルファス金属薄膜
積層シート。
16. The amorphous metal thin film laminate sheet according to claim 1, wherein the flexible resin coating layer is disposed on at least one outermost surface of the amorphous metal thin film laminate.
【請求項17】 前記可撓性樹脂被覆層が導電性又は半
導電性である、請求項1〜16のいづれか1項に記載の
アモルファス金属薄膜積層シート。
17. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the flexible resin coating layer is conductive or semiconductive.
【請求項18】 前記可撓性樹脂被覆層が50μm以上
の厚さを有する、請求項1に記載のアモルファス金属薄
膜積層シート。
18. The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the flexible resin coating layer has a thickness of 50 μm or more.
【請求項19】 前記可撓性樹脂被覆層の少なくとも1
層が多孔質である、請求項1に記載のアモルファス金属
薄膜積層シート。
19. At least one of the flexible resin coating layers.
The amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the layer is porous.
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