JPH0632424B2 - Electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet - Google Patents
Electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheetInfo
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- JPH0632424B2 JPH0632424B2 JP61252017A JP25201786A JPH0632424B2 JP H0632424 B2 JPH0632424 B2 JP H0632424B2 JP 61252017 A JP61252017 A JP 61252017A JP 25201786 A JP25201786 A JP 25201786A JP H0632424 B2 JPH0632424 B2 JP H0632424B2
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層
シートに関するものである。更に詳しく述べるならば、
本発明は、柔軟でかつ適度な圧縮弾性を有する表面を有
し、かつ、電磁波シールド性にすぐれたアモルファス金
属薄膜積層シートに関するものである。The present invention relates to an electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet. More specifically,
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an amorphous metal thin film laminated sheet having a soft and surface having appropriate compression elasticity and excellent electromagnetic wave shielding properties.
近年エレクトロニクス機器の発達および普及に伴い、こ
れらの機器および、磁気記録体などを、静電気、および
電磁波の悪影響から保護することが必要になり、この保
護材料として、シート材料、例えば、被覆用シート材料
および包装用シート材料の需要が大きくなってきてい
る。With the recent development and popularization of electronic devices, it is necessary to protect these devices and magnetic recording bodies from the adverse effects of static electricity and electromagnetic waves. As this protective material, a sheet material, for example, a covering sheet material. And the demand for packaging sheet materials is increasing.
従来エレクトロニクス機器を静電気の影響から保護する
ために、カーボン粉末、カーボン繊維、金属箔、又は金
属粉末を含有する導電性材料を含む導電性シートが用い
られている。しかし、このような従来の導電性シート
は、エレクトロニクス機器を電磁波の影響から保護する
目的には十分に効果があるとは云えないものあり、か
つ、その変形（柔軟）性が不十分で、保護すべき機器の
形状にフィットしにくいものであった。In order to protect electronic devices from the influence of static electricity, a conductive sheet containing carbon powder, carbon fiber, metal foil, or a conductive material containing metal powder has been used. However, such a conventional conductive sheet cannot be said to be sufficiently effective for the purpose of protecting electronic equipment from the influence of electromagnetic waves, and its deformation (flexibility) is insufficient, so that protection is not possible. It was difficult to fit the shape of the device that should be.
また、電磁波シールド性を有する金属薄膜に、フィルム
を貼着した積層シートが、本発明の発明者らによって既
に開発されたが、従来の金属薄膜積層シートは、表面が
硬く弾性に乏しく、このため、この積層シートをエレク
トロニクス機器の被覆包装用に用いても、これらの機器
にフィットせず、また、ドレープ性やクッション性も不
十分であり、しかも屈曲、折り曲げにより金属薄膜が容
易に折損損したり、折り目が残留したり、積層成分層が
互に他から剥離したり、或は、部分的白化、筋むらを発
生するなどの問題点があった。Further, a laminated sheet obtained by pasting a film on a metal thin film having an electromagnetic wave shielding property has already been developed by the inventors of the present invention, but the conventional metal thin film laminated sheet has a hard surface and poor elasticity, and Even if this laminated sheet is used for covering packaging of electronic devices, it does not fit these devices, and the drape property and cushioning property are insufficient, and the metal thin film is easily broken or damaged by bending or bending. However, there are problems that creases remain, the laminated component layers are separated from each other, or partial whitening and streaks occur.
本発明は、従来の電磁波シールド性金属薄膜積層シート
の問題点、すなわち、表面の柔軟性および弾性の不足、
そのために発生する屈曲による金属薄膜の裂断・折損損
・および折れ目、折れ筋の形成、成分層間の剥離に伴う
白化、筋むらの発生などの問題点を解消し、形状変形に
対する柔軟な適応性、良好なドレープ性、表面の良好な
柔軟性および圧縮弾性を有し、機器被覆包装用として有
用な電磁波シールド性圧アモルファス金属薄膜層シート
を提供しようとするものである。The present invention has problems of the conventional electromagnetic wave shielding metal thin film laminated sheet, that is, lack of flexibility and elasticity of the surface,
Therefore, problems such as tearing / broken damage of metal thin film due to bending and folds, formation of fold lines, whitening due to peeling between component layers, and generation of streak are eliminated, and flexible adaptation to shape deformation The present invention aims to provide an electromagnetic wave-shielding pressure amorphous metal thin film layer sheet, which has good properties, good drapeability, good surface flexibility and compression elasticity, and is useful as a device coating packaging.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートは、上述の問題点を解消できるものであって、電磁
波シールド性金属薄膜層と、その少なくとも１面上に結
着され、かつ可撓性樹脂材料からなる１層以上の被覆層
からなり、 前記金属薄膜層が、アモルファス金属からなるリボン状
薄膜基体と、その少なくとも１面を被覆している導電性
金属メッキ層とからなる複数枚の導電性金属メッキアモ
ルファス金属薄膜リボンを、互に平行に配列して形成さ
れたものであり、 前記可撓性樹脂材料被覆層の少なくと１層が、0.5〜100
mmの厚さを有する可撓性発泡多孔質樹脂材料層である、
ことを特徴とするものである。The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention is capable of solving the above-mentioned problems, and is composed of an electromagnetic wave shielding metal thin film layer and a flexible resin material which is bound on at least one surface thereof. A plurality of conductive metal plating layers, wherein the metal thin film layer comprises a ribbon-shaped thin film substrate made of amorphous metal and a conductive metal plating layer coating at least one surface thereof. It is formed by arranging amorphous metal thin film ribbons in parallel with each other, and at least one layer of the flexible resin material coating layer is 0.5 to 100.
a flexible foamed porous resin material layer having a thickness of mm,
It is characterized by that.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、上記金属薄膜層の両面に可撓性樹脂材料
被覆層が結着され、この被覆層の少なくとも１層が、可
撓性発泡多孔質樹脂材料層であるものであってもよい。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, a flexible resin material coating layer is bound to both surfaces of the metal thin film layer, and at least one layer of the coating layer is a flexible foam porous resin material layer. May be
また、本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜
層シートは、上記金属薄膜層の１面上に結着された可撓
性樹脂材料被覆層が、可撓性発泡多孔質樹脂材料層であ
り、かつ、金属薄膜層の他の１面上に結着された可撓性
樹脂材料被覆層が、可撓性多孔質樹脂材料層であっても
よい。Further, in the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film layer sheet of the present invention, the flexible resin material coating layer bound on one surface of the metal thin film layer is a flexible foam porous resin material layer, and The flexible resin material coating layer bound to the other surface of the metal thin film layer may be a flexible porous resin material layer.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、電磁波シールド性金属薄膜層を形成する
ために導電性金属によりメッキされたアモルファス金属
薄膜が使用される。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, an amorphous metal thin film plated with a conductive metal is used to form the electromagnetic wave shielding metal thin film layer.
すなわち、この電磁波シールド性金属薄膜は、アモルフ
ァス金属からなるリボン状薄膜基体と、その少なくとも
１面を被覆している導電性金属のメッキ層とからなる複
数枚の導電性金属メッキアモルファス金属薄膜リボンか
らなり、かつこれらのリボンを互に平行に配列して形成
されたものある。That is, this electromagnetic wave shielding metal thin film is composed of a plurality of conductive metal-plated amorphous metal thin film ribbons including a ribbon-shaped thin film substrate made of amorphous metal and a conductive metal plating layer covering at least one surface thereof. And formed by arranging these ribbons in parallel with each other.
最近アモルファス金属を、その特性に基いて、種々の用
途に使用することが試みられている。一般にアモルファ
ス金属薄膜は、幅2.54〜10.16cmのリボン状材料として
供給されており、その幅の拡大に関しては近い将来、幅
20.32cmの小幅シートが、供給されることが期待されて
いる程度である。Recently, attempts have been made to use amorphous metals for various applications based on their properties. Amorphous metal thin films are generally supplied as ribbon-shaped materials with a width of 2.54 to 10.16 cm.
20.32 cm narrow sheet is expected to be supplied.
従来は、上述のようなリボン状、又は小（細）幅材料
は、カードケース、或は小物用包装収納材料としてのみ
使用可能であって、これを100〜300cmの広幅が要求され
る被覆がシートなどに利用することは殆んど不可能と考
えられていた。Conventionally, the ribbon-shaped or small (narrow) width material as described above can be used only as a card case or a packaging material for small items, and a covering material requiring a wide width of 100 to 300 cm is required. It was considered almost impossible to use it for seats.
上述のエレクトロニクス機器の保護効果とは、電磁波シ
ールド手段により電磁波エネルギーを吸収したり、或は
反射したりして、エレクトロニクス機器に電磁波エネル
ギーの影響が及ばないようにする効果を云う。この電磁
波シールド手段による電磁波エネルギー減衰の程度は単
位デシベル(dB)で表わされ、電磁波シールド材料として
はこの数値が大きい程減衰効果が大きく、好ましいこと
になる。The above-mentioned effect of protecting the electronic device means an effect that the electromagnetic wave energy is absorbed or reflected by the electromagnetic wave shield means so that the electronic device is not affected by the electromagnetic wave energy. The degree of electromagnetic wave energy attenuation by the electromagnetic wave shield means is expressed in a unit decibel (dB), and as the electromagnetic wave shield material has a larger value, the attenuation effect is larger, which is preferable.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、その電磁波シールド効果は、それに含ま
れている金属薄膜層のシールド効果にほぼ依存し、一般
に、10dB以上であることが好ましく、300dB以上である
ことがより好ましく、60dB以上であることが更に好まし
い。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the electromagnetic wave shielding effect is substantially dependent on the shielding effect of the metal thin film layer contained therein, and generally, it is preferably 10 dB or more, and 300 dB or more. Is more preferable, and 60 dB or more is further preferable.
本発明に用いられるアモルファス金属薄膜としては、一
般には鉄を主成分とし、これにホウ素、硅素、炭素、ニ
ッケル、コバルト、およびモリブデンなどから選ばれた
１種以上を添加して得られるアモルファス金属から選ば
れることが好ましい。例えば、アライド社の商標：METG
LAS No. 2605SC(Fe：81％、Ｂ：13.5％、Si：3,5％、
Ｃ：２％のアモルファス合金）、No.2605S-2(Fe：78
％、Ｂ：13％、Si：９％のアモルファス合金）、No.260
5-CO(Fe：87部、Ｂ：14部、Si：１部、Co：18部のアモ
ルファス合金）、No.2826-MB(Fe：40％、Ni：38％、M
o：４％、Ｂ：18％のアモルファス合金）なとを用いる
ことができる。The amorphous metal thin film used in the present invention is generally composed of iron as a main component, and an amorphous metal obtained by adding at least one selected from boron, silicon, carbon, nickel, cobalt, molybdenum, and the like to the amorphous metal. It is preferably selected. For example, Allied's trademark: METG
LAS No. 2605SC (Fe: 81%, B: 13.5%, Si: 3.5%,
C: 2% amorphous alloy), No. 2605S-2 (Fe: 78
%, B: 13%, Si: 9% amorphous alloy), No.260
5-CO (Fe: 87 parts, B: 14 parts, Si: 1 part, Co: 18 parts amorphous alloy), No.2826-MB (Fe: 40%, Ni: 38%, M
O: 4%, B: 18% amorphous alloy) can be used.
また、上記の鉄を主成分とするアモルファス合金系の外
に、コバルトを主成分とするアモルファス合金系（例え
ば、Co90Zr10,Co78Si10B12.Co56Cr26C18.Co44Mo36C20.C
o34Cr28Mo20C18）、ニッケルを主成分とするアモルファ
ス合金系（例えばNi90Zr10.Ni78Si10B12.Ni34Cr24Mo24C
18）、およびその他の金属を主成分とするアモルファス
合金系（例えばPd80Si20.Cu80Zr20.Nb50Ni50.Ti50C
u50）等も利用できる。In addition to the above-mentioned amorphous alloy system containing iron as a main component, an amorphous alloy system containing cobalt as a main component (for example, Co 90 Zr 10 , Co 78 Si 10 B 12 .Co 56 Cr 26 C 18 .Co 44 Mo 36 C 20 .C
o 34 Cr 28 Mo 20 C 18 ), an amorphous alloy based on nickel (for example, Ni 90 Zr 10 .Ni 78 Si 10 B 12 .Ni 34 Cr 24 Mo 24 C
18 ), and amorphous alloys based on other metals (eg Pd 80 Si 20 .Cu 80 Zr 20 .Nb 50 Ni 50 .Ti 50 C
u 50 ) etc. are also available.
また、アモルファス金属薄膜基体は、その電磁波シール
ド性に実質的な影響のない範囲内で、有孔薄膜であって
もよい。Further, the amorphous metal thin film substrate may be a perforated thin film as long as it does not substantially affect the electromagnetic wave shielding property.
これらのアモルファス金属薄膜基体は、前述のようにリ
ボン又は細幅シートの形状で供給されているので、本発
明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート
に、これらを使用するとき、複数個のリボン状、又は、
細幅シート状のアモルファス金属薄膜基体の片面又は両
面に導電性金属メッキを施した後、得られた導電性金属
メッキアモルファス金属薄膜リボンを互いに並列に配列
して、広幅シート状体として使用する。この場合、必要
によりそれらの対向する側縁部を重ね合わせてもよく、
また接着剤又は半田により接合して、所望の幅を有する
広幅シート状体としてもよい。また、アモルファス金属
薄膜体は、アモルファス金属の粉末を利用して形成して
もよい。 前述のようなアモルファス金属薄膜基体は磁
界に対し特にすぐれたシールド効果を有している。Since these amorphous metal thin film substrates are supplied in the form of ribbons or narrow sheets as described above, when they are used in the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, a plurality of ribbon-shaped substrates are used. Or
After conducting a conductive metal plating on one or both sides of a narrow sheet-shaped amorphous metal thin film substrate, the obtained conductive metal-plated amorphous metal thin film ribbons are arranged in parallel with each other and used as a wide sheet body. In this case, if necessary, those opposite side edges may be overlapped,
Alternatively, they may be joined together with an adhesive or solder to form a wide sheet body having a desired width. Further, the amorphous metal thin film body may be formed by using amorphous metal powder. The amorphous metal thin film substrate as described above has a particularly excellent shield effect against a magnetic field.
本発明において、アモルファス金属薄膜基体をメッキす
るために用いられる導電性金属としては、例えば銅、ニ
ッケル、コバルト、鉄、アルミニウム、金、銀、錫、亜
鉛およびこれらから選ばれた２種以上の合金などを用い
ることができる。このようにして、アモルファス金属薄
膜からなる基体の少なくとも１面上に導電性金属をメッ
キすると、得られる導電性金属メッキアモルファス金属
薄膜層は、前述アモルファス金属薄膜基体のすぐれた磁
界シールド性に、導電性金属メッキ層によるすぐれた電
界シールド性が加算され、全体として、低周波から高周
波までの広範囲の電磁波に対して、すぐれたシールド効
果を示すことができる。また、導電性金属メッキ層は、
得られる導電性金属メッキアモルファス金属薄膜リボン
の半田接合性を向上させる効果も有している。In the present invention, the conductive metal used for plating the amorphous metal thin film substrate is, for example, copper, nickel, cobalt, iron, aluminum, gold, silver, tin, zinc, or an alloy of two or more selected from these. Etc. can be used. In this way, by plating a conductive metal on at least one surface of a substrate made of an amorphous metal thin film, the obtained conductive metal-plated amorphous metal thin film layer has the excellent magnetic field shielding property of the above-mentioned amorphous metal thin film substrate. The excellent electric field shielding property due to the conductive metal plating layer is added, and as a whole, an excellent shielding effect can be exhibited against a wide range of electromagnetic waves from low frequencies to high frequencies. In addition, the conductive metal plating layer,
It also has the effect of improving the solder bondability of the obtained conductive metal-plated amorphous metal thin film ribbon.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、アモルファス金属薄膜基本は、100μｍ
以下の厚さを有することが好ましく、１〜70μｍの厚さ
を有することがより好ましく、５〜50μｍの厚さを有す
ることが更に好ましく、10〜30μｍの厚さを有すること
が更に一層好ましい。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the basic thickness of the amorphous metal thin film is 100 μm.
It preferably has the following thickness, more preferably 1 to 70 μm, even more preferably 5 to 50 μm, and even more preferably 10 to 30 μm.
また、導電性金属メッキ層は、0.1μｍ以上の厚さを有
することが好ましく、0.1〜５μｍ程度の厚さを有する
ことがよるり好ましい。Further, the conductive metal plating layer preferably has a thickness of 0.1 μm or more, more preferably 0.1 to 5 μm.
アモルファス金属薄膜基体の厚さが100μｍより大きく
なると、その剛性が過大となり、変形しにくく、ドレー
プ性が不十分となり、鋭利な切断面を形成して作業上危
険を生ずることがある。また金属メッキ層の表面に、防
錆剤その他の薄い保護膜を形成してもよい。When the thickness of the amorphous metal thin film substrate is more than 100 μm, its rigidity becomes excessive, it is difficult to deform, drape property becomes insufficient, and a sharp cut surface may be formed, which may be dangerous in operation. Further, a rust preventive agent or other thin protective film may be formed on the surface of the metal plating layer.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜
層の少なくとも１面に、可撓性樹脂材料からなる被覆層
が結着され、その少なくとも１層は、可撓性発泡多孔質
樹脂材料層である。この可撓性発泡多孔質樹脂材料層
は、本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積
層層シートに、好ましい柔軟性、圧縮弾性、および衝撃
や押圧に対する緩衝性を付与するものである。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, a coating layer made of a flexible resin material is bonded to at least one surface of the conductive metal plated amorphous metal thin film layer, and at least one layer is flexible. It is a foamed porous resin material layer. This flexible foamed porous resin material layer imparts preferable flexibility, compressive elasticity, and shock absorbing and pressing shock absorbing properties to the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated layer sheet of the present invention.
すなわち、電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層
シートに屈曲などの外力が作用したとき、可撓性発泡多
孔質樹脂材料層が変形することによって、この外力を吸
収して導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層の伸び
および圧縮を少なくし、これによって導電性金属メッキ
アモルファス金属薄膜層の裂断や折損を防止し、かつ永
久変形（折れ目の形成）を防止するという緩衝作用を発
揮する。このような電磁波シールド性アモルファス金属
薄膜積層シートは、エレクトロニクス機器の被覆用シー
ト、或は、包装収納用シートとして有用なものである。That is, when an external force such as bending is applied to the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet, the flexible foamed porous resin material layer is deformed to absorb the external force and thus the conductive metal plating amorphous metal thin film layer The expansion and compression are reduced, whereby the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer is prevented from breaking or breaking, and permanent deformation (crease formation) is prevented. Such an electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet is useful as a sheet for covering electronic equipment or a sheet for packaging and storing.
可撓性発泡多孔質樹脂材料層を形成するに適した可撓性
重合体材料は、天然ゴム、合成ゴム（例えばSBR，NBR，
ニトリルゴム、ポリクロロプレンゴム、ポリイソブチレ
ンゴム、フッ素含有ゴム、およびシリコーンゴムなどで
あり、これらはラテックス状態で用いられることが多
い）、および可撓性合成樹脂（例えば、ポリエチレン、
ポリウレタン、ポリ塩化ビニル、およびポリスチレン）
などから、任意に選択することができる。この発泡多孔
質樹脂材料層は、それが可撓性である限り硬質フォーム
層であってもよいが、一般に軟質フォーム層であること
が好ましい。Suitable flexible polymeric materials for forming the flexible foamed porous resin material layer include natural rubber and synthetic rubber (eg, SBR, NBR,
Nitrile rubber, polychloroprene rubber, polyisobutylene rubber, fluorine-containing rubber, silicone rubber, etc., which are often used in the latex state), and flexible synthetic resins (eg polyethylene,
Polyurethane, polyvinyl chloride, and polystyrene)
It can be arbitrarily selected from the above. The foamed porous resin material layer may be a rigid foam layer as long as it is flexible, but it is generally preferred that it be a flexible foam layer.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜層シー
トにおいて、可撓性発泡多孔質樹脂材料層の気孔率は、
50〜99％（発泡倍率：２〜100倍）であることが好まし
く、80〜98％（発泡倍率：５〜50倍）であることがより
好ましい。通常は発泡倍率20〜60倍のものが用いられ
る。また、可撓性発泡多孔質樹脂材料層の圧縮抵抗は、
25％圧縮において、10kg/cm2以下であれば用途によって
は実用可能であるが、一般に0.5kg/cm2以下であること
が好ましく、0.1kg／cm2以下であることがより好まし
い。In the electromagnetic shielding amorphous metal thin film layer sheet of the present invention, the porosity of the flexible foam porous resin material layer is:
It is preferably 50 to 99% (foaming ratio: 2 to 100 times), and more preferably 80 to 98% (foaming ratio: 5 to 50 times). Usually, a foaming ratio of 20 to 60 times is used. The compression resistance of the flexible foamed porous resin material layer is
At 25% compression, although in some applications if 10 kg / cm 2 or less is practicable, preferably generally at 0.5 kg / cm 2 or less, more preferably 0.1 kg / cm 2 or less.
可撓性発泡多孔質樹脂材料層の厚さは、当該電磁波シー
ルド性アモルファス金属薄膜積層シートの用途に応じ
て、0.5〜100mmの範囲内にあることが好ましく、１〜50
mmの範囲内にあることがより好ましい。このような厚さ
を有する発泡多孔質樹脂材料層は、導電性金属メッキア
モルファス金属薄膜層の屈曲の際にその曲率を大きくし
て、それが局部的に伸長され、それによって裂断又は折
損することを防止し、かつ、本発明の電磁波シールド性
アモルファス金属薄膜層シートが全体としてすぐれた柔
軟性、圧縮弾性および緩衝性を示すことができるように
する。The thickness of the flexible foamed porous resin material layer is preferably in the range of 0.5 to 100 mm, depending on the use of the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet, 1 to 50.
More preferably within the range of mm. The foamed porous resin material layer having such a thickness has a large curvature when the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer is bent, so that it is locally elongated and thereby is torn or broken. In addition, the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film layer sheet of the present invention can exhibit excellent flexibility, compression elasticity and cushioning property as a whole.
本発明において、発泡多孔質樹脂層は、導電性金属メッ
キアモルファス金属薄膜層に直接、又は可撓性樹脂材料
を介して結着されているが、発泡多孔質樹脂シートを予
じめ作成しておき、これを接着剤を用いて結着してもよ
く、或は、発泡多孔質樹脂材料層の接着表面部分を熱溶
融して、融着してもよい。また、発泡多孔質樹脂材料層
は、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜上で可撓性
樹脂材料を化学発泡させて形成してもよいし、或は、気
泡を含有する重合体塗料を導電性金属メッキアモルファ
ス金属薄膜上に塗布し、これを固化する、所謂、機械発
泡法により形成してもよい。In the present invention, the foamed porous resin layer is bonded to the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer directly or via a flexible resin material. Then, this may be bound with an adhesive, or the adhesive surface portion of the foamed porous resin material layer may be heat-melted and fused. The foamed porous resin material layer may be formed by chemically foaming a flexible resin material on a conductive metal-plated amorphous metal thin film, or a polymer coating containing bubbles may be used as the conductive metal. It may be formed by a so-called mechanical foaming method in which the plated amorphous metal thin film is applied and solidified.
上述のような可撓性発泡多孔質樹脂材料層は、導電性金
属メッキアモルファス金属薄膜層の両面に形成されても
よく、或は、その片面のみに形成されてもよい。後者の
場合、この導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層の
他の片面に、前述のような可撓性非多孔質樹脂材料層を
含む被覆層が結着されていてもよい。The flexible foamed porous resin material layer as described above may be formed on both sides of the conductive metal plated amorphous metal thin film layer, or may be formed on only one side thereof. In the latter case, the coating layer containing the flexible non-porous resin material layer as described above may be bonded to the other surface of the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートにおいて、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜
層は、少なくとも１層の可撓性発泡多孔質樹脂材料層で
被覆されており、この可撓性発泡多孔質樹脂材料層は、
変形容易であり、かつ圧縮容易である。従って、例え
ば、この積層シートを屈曲変形させた場合、可撓性発泡
多孔質樹脂材料層が容易に変形して導電性金属メッキア
モルファス金属薄膜層の伸長および折損を防止し、か
つ、容易に圧縮変形して、被覆又は包装すべき機器の形
状にフィットすることができる。In the electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention, the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer is covered with at least one flexible foam porous resin material layer. The material layer is
It is easily deformable and easy to compress. Therefore, for example, when this laminated sheet is bent and deformed, the flexible foam porous resin material layer is easily deformed to prevent the conductive metal plated amorphous metal thin film layer from being stretched and broken, and is easily compressed. It can be deformed to fit the shape of the device to be coated or packaged.
以下に本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜
積層シートを実施例により更に説明する。The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention will be further described below with reference to examples.
実施例１ アモルファス合金薄膜(Fe：81％、Ｂ：13.5％、Si：3.5
％、Ｃ：２％、商標：METGLAS No.2605SC、アライド社
製、巾7.62cm、厚さ25μｍのリボン状体）の全表面に、
厚さ１μｍの銅メッキを施した。Example 1 Amorphous alloy thin film (Fe: 81%, B: 13.5%, Si: 3.5
%, C: 2%, trademark: METGLAS No.2605SC, manufactured by Allied, ribbon-shaped body having a width of 7.62 cm and a thickness of 25 μm),
Copper plating having a thickness of 1 μm was applied.
この銅メッキされたアモルファス合金薄膜リボンの13枚
を、互に並列に配列し、それぞれの側縁端を１cmづつ重
ね合わせ、接着することなくシート状に形成した。Thirteen sheets of the copper-plated amorphous alloy thin film ribbons were arranged in parallel with each other, and the side edges were overlapped by 1 cm, respectively, and formed into a sheet without adhering.
この巾広アモルファス合金シートの両面に合成ゴム系接
着剤（商標：SC 12N ソニーケミカル社製）を塗布し、
その上に、発泡倍率40倍、気孔率97.5％、厚さ５mmのポ
リウレタンフォームを貼着した。Apply synthetic rubber adhesive (trademark: SC 12N manufactured by Sony Chemicals) on both sides of this wide amorphous alloy sheet,
A polyurethane foam having a foaming ratio of 40 times, a porosity of 97.5%, and a thickness of 5 mm was adhered thereon.
得られた積層シートは、50dBの電磁波シールド性を示し
た。The obtained laminated sheet exhibited an electromagnetic wave shielding property of 50 dB.
この積層シートは、良好な柔軟性および適度の圧縮弾
性、緩衝性を示し、取り扱いの容易なものであった。This laminated sheet exhibited good flexibility, appropriate compression elasticity and cushioning properties, and was easy to handle.
実施例２ 実施例１と同様の操作を行った。但し、実施例１に記載
されたものと同一の銅メッキされたアモルファス合金薄
膜11枚を並列により配列し、その隣接する側縁部を半田
で接合して広幅シートを作成した。得られた積層シート
は、50dBのすぐれた電磁波シールド効果を示し、その柔
軟性、圧縮弾性および緩衝性は好ましいものであった。Example 2 The same operation as in Example 1 was performed. However, 11 same copper-plated amorphous alloy thin films as those described in Example 1 were arranged in parallel, and the adjacent side edges were joined by solder to form a wide sheet. The obtained laminated sheet exhibited an excellent electromagnetic wave shielding effect of 50 dB, and its flexibility, compressive elasticity and cushioning properties were favorable.
本発明の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シ
ートは、導電性金属メッキアモルファス金属薄膜層によ
り良好な電磁波シールド性を示すとともに、可撓性発泡
多孔質樹脂材料層を上記導電性金属メッキアモルファス
金属薄膜層に積層することによって、良好な柔軟性、圧
縮弾性およびそれに伴う緩衝性が得られる。このような
発泡多孔質樹脂材料層の緩衝作用および弾性により導電
性金属メッキアモルファス金属薄膜層が部分的に異常に
伸長されて裂断、折損したり、或は鋭く折り曲げられて
折れすじが発生したりすることがなく、被覆シートとし
て、或は、包装用シートとして、有用なものである。The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet of the present invention shows good electromagnetic wave shielding property due to the conductive metal plating amorphous metal thin film layer, and the flexible foamed porous resin material layer is the conductive metal plating amorphous metal thin film layer. Good flexibility, compression resilience and the associated cushioning properties can be obtained by laminating on. Due to the buffering action and elasticity of the foamed porous resin material layer, the conductive metal-plated amorphous metal thin film layer is partially abnormally elongated and tears, breaks, or is sharply bent to cause creases. Therefore, it is useful as a covering sheet or a packaging sheet.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭61−146536（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−159598（ＪＰ，Ａ) 特開 昭60−161699（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−23397（ＪＰ，Ａ) 特開 昭54−73300（ＪＰ，Ａ) 特開 昭59−113695（ＪＰ，Ａ) 実開 昭60−48290（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭59−171397（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭60−20195（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭58−81898（ＪＰ，Ｕ) 実開 昭61−192498（ＪＰ，Ｕ) 実公 昭55−6159（ＪＰ，Ｙ１) ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (56) Reference JP 61-146536 (JP, A) JP 59-159598 (JP, A) JP 60-161699 (JP, A) JP 61- 23397 (JP, A) JP 54-73300 (JP, A) JP 59-113695 (JP, A) Actually opened 60-48290 (JP, U) Actually opened 59-171397 (JP, U) Actual Open Sho 60-20195 (JP, U) Actual Open Sho 58-81898 (JP, U) Actual Open Sho 61-192498 (JP, U) Actual Public Sho 55-6159 (JP, Y1)
Claims (11)
くとも１面上に結着され、かつ可撓性樹脂材料からなる
１層以上の被覆層からなり、 前記金属薄膜層が、アモルファス金属からなるリボン状
薄膜基体と、その少なくとも１面を被覆している導電性
金属メッキ層とからなる複数枚の導電性金属メッキアモ
ルファス金属薄膜リボンを、互に並行に配列して形成さ
れたものであり、 前記可撓性樹脂材料被覆層の少なくとも１層が、0.5〜1
00mmの厚さを有する可撓性発泡多孔質樹脂材料層であ
る、ことを特徴とする電磁波シールド性アモルファス金
属薄膜積層シート。1. An electromagnetic wave shielding metal thin film layer and one or more coating layers made of a flexible resin material and bound to at least one surface thereof, wherein the metal thin film layer is made of an amorphous metal. A plurality of conductive metal-plated amorphous metal thin film ribbons each composed of a ribbon-shaped thin film substrate and a conductive metal plated layer covering at least one surface thereof are arranged in parallel with each other, At least one layer of the flexible resin material coating layer is 0.5 to 1
An electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet, which is a flexible foamed porous resin material layer having a thickness of 00 mm.
覆層が結着され、この被覆層の少なくとも１層が可撓性
発泡多孔質樹脂材料層である、特許請求の範囲第１項記
載の電磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シー
ト。2. A flexible resin material coating layer is bound to both surfaces of the metal thin film layer, and at least one layer of the coating layer is a flexible foam porous resin material layer. 6. An electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to the item.
性樹脂材料被覆層が発泡多孔質樹脂材料層であり、か
つ、前記金属薄膜層の他の１面上に結着された可撓性樹
脂材料被覆層が可撓性非多孔質樹脂材料層である、特許
請求の範囲第１項記載の電磁波シールド性アモルファス
金属薄膜積層シート。3. A flexible resin material coating layer bonded to one surface of the metal thin film layer is a foamed porous resin material layer, and is bonded to another surface of the metal thin film layer. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminate sheet according to claim 1, wherein the flexible resin material coating layer is a flexible non-porous resin material layer.
メッキアモルファス金属薄膜リボンが、その互に隣接対
向している側縁部において互に接合されている、特許請
求の範囲第１項記載の電磁波シールド性アモルファス金
属薄膜積層シート。4. The conductive metal-plated amorphous metal thin film ribbons arranged in parallel are joined to each other at their side edges that are adjacent to each other. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet described.
膜リボンの接合が半田によりなされている、特許請求の
範囲第４項記載の電磁波シールド性アモルファス金属薄
膜積層シート。5. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 4, wherein the conductive metal plated amorphous metal thin film ribbon is joined by soldering.
膜リボンの接合が導電性接着剤によりなされている、特
許請求の範囲第４項記載の電磁波シールド性アモルファ
ス金属薄膜積層シート。6. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 4, wherein the conductive metal plated amorphous metal thin film ribbon is bonded by a conductive adhesive.
以下の厚さを有する、特許請求の範囲第１項記載の電磁
波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。7. The amorphous metal thin film substrate is 100 μm
The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, which has the following thickness.
下の厚さを有する、特許請求の範囲第７項記載の電磁波
シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。8. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 7, wherein the amorphous metal thin film substrate has a thickness of 70 μm or less.
厚さを有する、特許請求の範囲第１項記載の電磁波シー
ルド性アモルファス金属薄膜積層シート。9. The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, wherein the conductive metal plating layer has a thickness of 0.1 μm or more.
成分とし、これにＢ，Si，Ｃ，Co，NiおよびMoから選ば
れた少なくとも１種が添加されたアモルファス金属から
なる、特許請求の範囲第１項記載の電磁波シールド性ア
モルファス金属薄膜積層シート。10. The amorphous metal thin film substrate is mainly composed of Fe, and is made of an amorphous metal to which at least one selected from B, Si, C, Co, Ni and Mo is added. An electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to item 1.
99％の気孔率を有する、特許請求の範囲第１項記載の電
磁波シールド性アモルファス金属薄膜積層シート。11. The flexible foamed porous resin material layer comprises 50 to 50.
The electromagnetic wave shielding amorphous metal thin film laminated sheet according to claim 1, which has a porosity of 99%.
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1986
- 1986-10-24 JP JP61252017A patent/JPH0632424B2/en not_active Expired - Fee Related
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