JPH0831189A - 不揮発性半導体メモリのテスト方法 - Google Patents

不揮発性半導体メモリのテスト方法

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JPH0831189A
JPH0831189A JP6162468A JP16246894A JPH0831189A JP H0831189 A JPH0831189 A JP H0831189A JP 6162468 A JP6162468 A JP 6162468A JP 16246894 A JP16246894 A JP 16246894A JP H0831189 A JPH0831189 A JP H0831189A
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JP
Japan
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erasing
test
erase
dut
under test
Prior art date
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JP6162468A
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Inventor
Toshihiro Koyama
利弘 小山
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 消去テスト時間の大幅短縮が可能でテスト効
率の向上を図ることができる不揮発性半導体メモリのテ
スト方法を得る。 【構成】 不揮発性半導体メモリの消去テストを複数個
同時処理する不揮発性半導体メモリのテスト方法におい
て、同時測定するn個の被測定デバイスのうち、いずれ
か1被測定デバイス以上がある注目した特定の1アドレ
スの消去が完了するまでの消去処理を被測定デバイスパ
ラレルテストで実行する前半ステップ(S100)と、
残る全アドレスの消去が完了するまでの消去処理を被測
定デバイスシリアルテストで実行する後半ステップ(S
200)とに2分割して実現する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、不揮発性半導体メモ
リであるフラッシュメモリのテスト方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】NOR型フラッシュメモリの消去につい
ては、デバイス外部より、アルゴリズミックイレーズと
呼ぶフローチャートに規定されている手順に従って処理
する必要がある。このフローチャートは、1個のデバイ
スを処理することを前提としたものであり、デバイス製
造メーカにおけるスクリーニングテストなどで、複数個
の被測定デバイス(:Device Under Test 、以下、DU
Tと記す)を同時測定する場合、消去テスト項目のみ各
DUTのシリアルテストが必要で、テスト処理効率が低
下するという問題点がある。
【0003】図5はフラッシュメモリのアルゴリズミッ
クイレーズフローチャートである。図5において、各処
理ステップをSとそれに続く3桁の数値で表しており、
添字aとbが付加されている場合は、添字aの方が処理
ステップを、添字bの方がその補足説明を意味してい
る。補足説明では、変数の内容証明や標準的な値を記述
している。フラッシュメモリの消去テストを行う手順と
しては、まず、最初に、ステップS301aで電源ピン
VccとVppに所定の電圧を印加し、ステップS302a
で、アドレスピンへの入力信号ADRSを先頭アドレス
0番地に設定し、消去パルスカウンタERAcntの値を
ゼロにクリアする。
【0004】続いて、ステップS303〜S306で、
1パルス回数分の消去を行う。すなわち、ステップS3
03、S304の2回消去コマンドとしてデータ20H
をデータピンへ入力すると、DUTは、内部タイマで決
まるTDE時間の消去動作を行うので、ステップS30
5でその時間を待ち、ステップS306で消去パルスカ
ウンタERAcntを1つカウントアップする。
【0005】次に、ステップS307〜S310におい
て、ADRSで指定した1アドレス(=1バイト)分の
出力データを読み出し、消去できたかどうかをチェック
する。ステップS307で消去ベリファイコマンドとし
て、データA0Hをデータピンへ入力すると、ステップ
S308aでライトリカバリ時間TWRR時間待った
後、ステップS309でデータを読み出すことができ
る。ADRSが消去できてる場合はデータFFH、消去
できていない場合はデータFFH以外が出力されるの
で、ステップS310では、期待値データをFFHとし
て、出力データと一致するかどうかを比較する。ステッ
プS310で比較OKの場合、ステップS311へ、比
較NGの場合ステップS316aへ分岐する。
【0006】フラッシュメモリの消去は、チップ一括ま
たはあるアドレス範囲で決められたブロック一括で処理
され、多数ビットが同時に消去される。ここで、ステッ
プS310でOKの場合、ステップS311でADRS
が消去単位のアドレスの最後かどうかをチェックして、
最後でなければ、ステップS312でADRSを1つカ
ウントアップして、次のアドレスについて、ステップS
307〜S310で消去できたかをチェックする。この
ようにして、消去単位のアドレスの最後まで、ステップ
S307〜S312のループを繰返し実行する。
【0007】また、上記ステップS310でNGの場
合、ステップS316aで、消去パルスカウンタERA
cntの値が消去パルスカウントリミットERAlimitに達
していないかをチェックして、達していなければ、ステ
ップS303に戻り、再度消去(S303〜S306)
と消去ベリファイ(S307〜S312)を繰返す。消
去パルスカウンタERAcntがERAlimit未満となる消
去回数で、消去単位内の全アドレスの消去が完了した場
合は、ステップS313でリードコマンドを入力した
後、ステップS314で電源ピンVccとVppへの電圧印
加をオフして、ステップS315でこのDUTは良品と
判定して、消去を完了する。他方、全アドレスの消去が
完了する以前に、ERAcntがERAlimit以上になって
しまった場合、ステップS317で電源ピンVccとVpp
への電圧印加をオフして、ステップS318でこのDU
Tは不良と判定して、消去を完了する。
【0008】以上のように、フラッシュメモリの消去
は、DUT1個1個が製造ばらつきによって、消去に必
要な消去パルス回数が異なること、及びDUTに必要以
上の消去パルスを与えて過消去状態にすると書換え不良
になってしまうことから、DUT1個1個の消去特性に
応じて最適な消去パルス回数を与えるフローチャートに
よって実行される。
【0009】特に、ステップS310での消去できたか
どうかの比較判定による分岐があることが多数個同時測
定の障害になる。例えば、消去が速い(=少ない消去パ
ルス回数で消去可能なことを意味する)DUTと消去が
遅い(=消去に多い消去パルス回数が必要なことを意味
する)DUTを同時に消去する場合を考えてみる。消去
が速いDUTに合せて図5のフローチャートを実行すれ
ば、すなわち、ステップS310の比較判定を、1DU
T以上消去できたかというように処理すれば、消去の遅
いDUTは、少ない消去パルス回数しか与えられないの
で、消去不十分の状態で消去完了となり、通常、消去後
に実行される消去チェックのための読出しテストで不良
になってしまう。逆に、消去が遅いDUTに合せて図5
のフローチャートを実行すれば、すなわち、ステップS
310の比較判定を全DUT消去できたかというように
処理すれば、消去の速いDUTは、過剰の消去パルス回
数を与えられるので、過消去状態で消去完了となり、通
常消去後に実行される次の書込みテストで不良になって
しまう。
【0010】また、図6は消去テスト項目のみについて
DUT完全パラレルテストの場合の各DUTの処理フロ
ーと消去テスト時間の関係を示す図である。図6におい
て、ステップS400のアルゴリズミックイレーズ動作
は、図5に示すフローチャートを各DUT独立に、全D
UT同時に処理することを示す。図6は、消去が各DU
Tについて、それぞれDUT独立に図5のフローチャー
トが実行可能とする理想的な場合を示し、この時、消去
テスト時間TERAは、各DUTn(nは整数で、同時
測定数)の消去テスト時間をTERA(n)とすれば、 TERA=Maximum[TERA(1)、TERA(2)、・・
・、TERA(n)] TERA=Average[TERA(1)、TERA(2)、・・
・、TERA(n)]+α となる。すなわち、消去テスト時間TERAは、一番消
去が遅いDUTの消去テスト時間となり、これは、各D
UTの消去テスト時間の平均値より若干(+α)大きな
値となる理想的な最短時間と言える。
【0011】しかしながら、図6に示すDUT完全パラ
レルテストを実現するためには、測定するメモリテスタ
に、各DUT別に独立したアルゴリズミックパターンジ
ェネレータとCPUを備える必要があり、メモリテスタ
が非常に高価となってしまうので、テストコスト削減と
いう多数個同時測定の目的に反してしまう。よって、従
来は、図7に示すように、消去テスト項目のみについて
は、各DUTをシリアルテストとしている。図7におい
て、ステップS300のアルゴリズミックイレーズ動作
は、図5に示すフローチャートを1DUTずつシリアル
に処理することを示す。
【0012】この時の消去テスト時間TERAは、 TERA=Sum[TERA(1)、TERA(2)、・・・、
TERA(n)] TERA=Average[TERA(1)、TERA(2)、・・
・、TERA(n)]×n となる。すなわち、消去テスト時間TERAは、各DU
Tの消去テスト時間の総和となり、これは、各DUTの
消去テスト時間の平均値のn倍となるので最長時間と言
える。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】以上のように、図6に
示すDUT完全パラレルテストを実現するためには、測
定するメモリテスタに、各DUT別に独立したアルゴリ
ズミックパターンジェネレータとCPUを備える必要
で、メモリテスタが非常に高価となってしまうので、図
7に示すように、消去テスト項目のみについては、各D
UTをシリアルテストとしており、テストコスト削減の
ために多数個同時測定を導入しても、シングル測定時に
全テスト時間の約1/3を占める消去テスト項目につい
て、DUTシリアルテストとなるために、テスト効率の
向上を阻害するという問題点がある。
【0014】この発明は上述した従来例に係る問題点を
解消するためになされたもので、消去テスト時間の大幅
短縮が可能で、テスト効率の向上を図ることができる不
揮発性半導体メモリのテスト方法を得ることを目的とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】この発明の請求項1に係
る不揮発性半導体メモリのテスト方法は、不揮発性半導
体メモリの消去テストを複数個同時処理する不揮発性半
導体メモリのテスト方法において、同時測定するn個の
被測定デバイスのうち、いずれか1被測定デバイス以上
がある注目した特定の1アドレスの消去が完了するまで
の消去処理を被測定デバイスパラレルテストで実行する
前半ステップと、残る全アドレスの消去が完了するまで
の消去処理を被測定デバイスシリアルテストで実行する
後半ステップとに2分割して実現することを特徴とする
ものである。
【0016】また、請求項2に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法は、同時測定するn個の全被測定デバイ
スがある注目した特定の1アドレスの消去が完了するま
での消去処理を過消去プロテクト機能を有する被測定デ
バイスパラレルテストで実行する前半ステップと、残る
全アドレスの消去が完了するまでの消去処理を被測定デ
バイスシリアルテストで実行する後半ステップとに2分
割して実現することを特徴とするものである。
【0017】また、請求項3に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法は、請求項2において、上記過消去プロ
テクト機能として、上記前半ステップにおける被測定デ
バイスの消去ループリミットを消去が一番速い被測定デ
バイスの消去テスト時間より小さく設定して被測定デバ
イスを過消去状態にさせないよう制限することを特徴と
するものである。
【0018】さらに、請求項4に係る不揮発性半導体メ
モリのテスト方法は、請求項2において、上記過消去プ
ロテクト機能として、上記前半ステップにおける被測定
デバイスの消去ループで消去ベリファイがOKとなった
場合に次の消去コマンドを受け付けないようにすること
を特徴とするものである。
【0019】
【作用】この発明の請求項1に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法においては、不揮発性半導体メモリの消
去テストを複数個同時処理する不揮発性半導体メモリの
テスト方法において、同時測定するn個の被測定デバイ
スのうち、いずれか1被測定デバイス以上がある注目し
た特定の1アドレスの消去が完了するまでの消去処理を
被測定デバイスパラレルテストで実行する前半ステップ
と、残る全アドレスの消去が完了するまでの消去処理を
被測定デバイスシリアルテストで実行する後半ステップ
とに2分割して実現することにより、各被測定デバイス
別に独立したアルゴリズミックパターンジェネレータと
CPUを備える必要なく、被測定デバイスのパラレルテ
ストを実現することが可能となり、複数個同時測定時の
消去テスト時間を大幅に短縮することを可能にする。
【0020】また、請求項2に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法においては、同時測定するn個の全被測
定デバイスがある注目した特定の1アドレスの消去が完
了するまでの消去処理を過消去プロテクト機能を有する
被測定デバイスパラレルテストで実行する前半ステップ
と、残る全アドレスの消去が完了するまでの消去処理を
被測定デバイスシリアルテストで実行する後半ステップ
とに2分割して実現することにより、過消去プロテクト
機能によって全被測定デバイスのある注目した特定の1
アドレスの消去が完了するまでの消去処理のパラレルテ
ストを、各被測定デバイス別に独立したアルゴリズミッ
クパターンジェネレータとCPUを備える必要なく実現
することが可能となり、複数個同時測定時の消去テスト
時間を大幅に短縮することを可能にする。
【0021】また、請求項3に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法においては、請求項2において、上記過
消去プロテクト機能として、上記前半ステップにおける
被測定デバイスの消去ループリミットを消去が一番速い
被測定デバイスの消去テスト時間より小さく設定するこ
とにより、被測定デバイスを過消去状態にさせないよう
制限することが可能となり、良品か不良品かの比較判定
を全被測定デバイス同時に測定可能にする。
【0022】さらに、請求項4に係る不揮発性半導体メ
モリのテスト方法においては、請求項2において、上記
過消去プロテクト機能として、上記前半ステップにおけ
る被測定デバイスの消去ループで消去ベリファイがOK
となった場合に次の消去コマンドを受け付けないように
することにより、被測定デバイスを過消去状態にさせな
いよう制限することが可能となり、良品か不良品かの比
較判定を全被測定デバイス同時に測定可能にする。
【0023】
【実施例】
実施例1.以下、この発明を図示実施例に基づいて説明
する。図1は実施例1に係る不揮発性半導体メモリのテ
スト方法を説明するためのもので、消去テスト項目につ
いて、DUTパラレルテストとする前半のステップS1
00と、DUTシリアルテストとする後半のステップS
200とに2分割したDUT部分パラレルテストとする
場合の各DUTの処理フローと消去テスト時間の関係を
示す図である。
【0024】図1において、ステップS100のアルゴ
リズミックイレーズXの動作では、同時測定するn個の
DUTのうち、いずれか1DUT以上がある注目した特
定の1アドレス(図1の例ではアドレス0番地)の消去
が完了するまでの処理をDUTパラレルテストで行う。
そのステップS100の詳細を示すフローチャートが図
2である。また、ステップS200のアルゴリズミック
イレーズYの動作では、消去単位の全アドレスの消去が
完了するまでの残りの消去処理をDUTシリアルテスト
で行う。そのステップS200の各DUT処理の詳細を
示すフローチャートが図3である。
【0025】これらの処理を図4のフラッシュメモリ消
去時のメモリセルのしきい値Vth分布を用いて説明す
る。図4において、縦軸はメモリセルのビット数、横軸
はメモリセルのしきい値Vthであり、しきい値Vthは一
般にVccに比例するので、ここでは、Vth=Vccとして
いる。フラッシュメモリでは、一般的に、全メモリセル
がデータ1になった状態を消去状態と呼んでおり、消去
する場合は前処理として全メモリセルにデータ0を書き
込む必要がある。
【0026】そこで、書き込み後、すなわち、消去前の
しきい値Vth分布は、全ビットがVccmax値(例えば6.
5V)以上であり、分布Aとなる。しきい値Vthは各メ
モリセルの製造ばらつきにより、ある範囲幅を持つ分布
となり、図4の例では、最小値6.5V、最大値9.5
V、平均値8.0Vと示している。消去完了後のしきい
値Vth分布は、全ビットがVccmin値(例えば3.5V)
以下であり、分布Cとなる。消去完了後のしきい値Vth
も各メモリセルの製造ばらつきにより、ある範囲幅を持
つ分布となり、図4の例では最小値0.5V、最大値3.
5V、平均値2.0Vを示している。
【0027】フラッシュメモリの消去処理において、消
去パルスを与えるのに比例して、メモリセルのしきい値
Vth分布は、分布Aから分布Cに向ってだんだん遷移し
ていく。その消去途中の状態が分布B3、分布B1、分
布B2である。分布B3は、1ビットのみ消去完了、残
り大多数ビットが消去途中の状態であり、図4の例で
は、最小値3.5V、最大値6.5V、平均値5.0Vを
示している。分布B1は50%のビットが消去完了、残
り50%のビットが消去途中の状態であり、図4の例で
は、最小値2.0V、最大値5.0V、平均値3.5Vを
示している。分布B2は全ビット消去完了した状態であ
り、分布Cと一致する。
【0028】特定の1アドレスが消去完了した状態とい
うのは、図4において、分布B3〜B1〜B2の間にあ
る状態を示し、約75%(最小50%〜最大100%)
消去完了した状態と言え、消去テスト時間からみても約
75%経過した時間と言え、約25%分の消去時間を残
すのみである。
【0029】また、特定の1アドレスが消去完了という
条件に、多数個同時測定時にn個のうち1DUT以上と
いう制約条件を付加することによって、消去の速いDU
Tでも分布Cを越えて過消去状態にならないように工夫
している。図1において、消去テスト時間TERAは、
ステップS100の平均消去テスト時間をTERAX、
ステップS200の各DUTnの消去テスト時間TER
AY(n)とすれば、 TERA=TERAX+TERAY TERAX≒Minimum[TERAX(1)、TERAX
(2)、・・・、TERAX(n)] TERA(1)=TERAX+TERAY(1) TERA(2)=TERAX+TERAY(2) ・・・ TERA(n)=TERAX+TERAY(n) TERAY=Sum[TERAY(1)、TERAY(2)、・
・・、TERAY(n)] となる。
【0030】すなわち、消去テスト時間TERAXは一
番消去が速いDUTで決まる消去テスト時間となり、ス
テップS100をDUTパラレルテストとすることによ
る時間短縮分はTERAXに(n−1)を乗じた値とな
る。例えば、TERAXを平均消去時間Average[TE
RA(1)、TERA(2)、・・・、TERA(n)]の75%
と仮定すれば、 TERAX=Average[TERA(1)、TERA(2)、・
・・、TERA(n)]×0.75 TERAY(n)≒TERA(n)×0.25 TERAY=Sum[TERA(1)、TERA(2)、・・
・、TERA(n)]×0.25 ≒Average[TERA(1)、TERA(2)、・・・、TE
RA(n)]×0.25×n となる。よって、 TERA=Average[TERA(1)、TERA(2)、・・
・、TERA(n)]×(0.75+0.25n) となり、消去テスト時間は従来方法と比較して、 8個同時測定時: 約34%(2.75/8) 16個同時測定時: 約30%(4.75/16) 32個同時測定時: 約27%(8.75/32) に短縮できる。
【0031】次に、図2、図3について詳細に説明す
る。これらの図において、各処理ステップのSに続く3
桁の数値で、下2桁の数値が図5と同じ場合、それぞれ
のステップ間で処理内容が同等か類似かであることを意
味する。よって、図5と同等のステップについては、適
宜説明を省略する。まず、図2について説明する。図2
において、ステップS101a、S103〜S105
a、S107〜S109、S114は、それぞれ図5の
S301a、S303〜S305a、S307〜S30
9、S314と、n個のDUTについて、同時に処理す
るという点を除いて、全く同じ処理である。
【0032】次に、図5と処理が異なるステップについ
て説明する。ステップS102aでは、アドレスADR
Sを注目するある特定アドレス(例えば0番地)に設定
し、前半ステップS100における消去パルスカウンタ
ERAcnt Xの値をゼロにクリアする。ステップS10
6では、消去パルスカウンタERAcntXを1つカウン
トアップする。ステップS110aでは、ステップS1
09でデータを読出し消去ベリファイした結果によって
分岐するわけだが、この時の比較判定条件を同時測定す
るn個のDUTのうち、1DUT以上が消去できたかど
うかを条件とし、OKならばステップS114、NGな
らばステップS116aへ分岐する。
【0033】ステップS116aでは、前半ステップS
100における消去パルスカウントリミットERAlimi
tXを消去全体の消去パルスカウントリミットERAlim
itのX%(例えばX=75)に設定して、ERAcntX
がERAlimitXに達していないかをチェックして、達
してればステップS114へ、達してなければステップ
S103に戻る。よって、前半ステップS100におい
ては、全DUT同時にステップS103〜S106で消
去を行い、ステップS107〜S110aで注目するあ
る特定の1アドレスの消去ベリファイを行い、同時測定
するn個のDUTのうち、1DUT以上が消去できる
か、または、ERAcntXがERAlimitXに達するまで
ループS103〜S110aを繰返し、どちらかの条件
が満足した時点で、全DUT、ステップS114でVcc
とVppの電源印加をオフして、良品と不良の判定をしな
いで完了し、後半ステップS200へ進む。
【0034】次に、図3について説明する。図3におい
て、ステップS201a、S203〜S205a、S2
07〜S215、S217〜S218は、それぞれ図5
のステップS301a、S303〜S305a、S30
7〜S315、S317〜S318と全く同じ処理であ
る。ステップS202aでは、アドレスADRSを先頭
アドレス0番地に設定し、後半ステップS200におけ
る消去パルスカウンタERAcntY の値をゼロにクリア
する。ステップS206では、消去パルスカウンタER
AcntYを1つカウントアップする。ステップS216
aでは、後半ステップS200における消去パルスカウ
ンタERAlimitの値をERAlimit−ERAcntXの値
に設定して、ERAcntYがERAlimitYに達していな
いかをチェックして、達してればステップS217へ、
達してなければステップS203へ戻る。
【0035】このようにして、後半ステップS200に
おいては、各DUTシリアルに図3に示すフローS20
1a〜S218を実行する。すなわち、前半ステップS
100では不十分な消去の残りを実行するわけで、ステ
ップS203〜S206で消去を行い、ステップS20
7〜S212で消去ベリファイして、全アドレスが消去
できたかどうかをチェックしながら、消去が完了するか
(=良品)または消去パルス回数ERAcntYがERAl
imitYに達するか(=不良品)まで、処理ループS20
3〜S212とS216aを繰返す。
【0036】以上のように、同時測定するn個のDUT
のうち、いずれか1DUT以上がある注目した特定の1
アドレスの消去が完了するまでの処理をDUTパラレル
テストで行う図1〜図3に示すアルゴリズムフローチャ
ートを用いることによって、消去テスト時間の大幅短縮
が可能になる。
【0037】実施例2.また、図1〜図3に示すアルゴ
リズムフローチャートにおいて、ステップS100の中
のステップS110aの比較判定条件を、DUTを過消
去状態にさせない制限付で、注目したある特定の1アド
レスを同時測定する全DUTが消去完了するまでという
条件に変形しても、実施例1と同様の効果を得られる。
DUTを過消去状態にさせない制限としては、ステップ
S116aの消去ループリミットERAlimitXを、ば
らつきを考慮の上、消去テスト時間TERAXが消去の
速いDUTのTERAより小さくなるように設定(例え
ばステップS116bのX%を50%に設定)する方法
をとるか、またはDUTに消去ベリファイでOKとなっ
た場合には次の消去コマンドを受け付けないようにする
等の過消去プロテクトを設ける。
【0038】この方法のメリットは、時間短縮効果は実
施例1より若干劣るけれども、ステップS110aの比
較判定条件が全DUTパスかどうかであり、一般的なメ
モリテスタに具備された機能によって実現が比較的容易
なことである。
【0039】
【発明の効果】以上のように、この発明の請求項1に係
る不揮発性半導体メモリのテスト方法によれば、不揮発
性半導体メモリの消去テストを複数個同時処理する不揮
発性半導体メモリのテスト方法において、同時測定する
n個の被測定デバイスのうち、いずれか1被測定デバイ
ス以上がある注目した特定の1アドレスの消去が完了す
るまでの消去処理を被測定デバイスパラレルテストで実
行する前半ステップと、残る全アドレスの消去が完了す
るまでの消去処理を被測定デバイスシリアルテストで実
行する後半ステップとに2分割して実現することによ
り、各被測定デバイス別に独立したアルゴリズミックパ
ターンジェネレータとCPUを備える必要なく、被測定
デバイスのパラレルテストを実現することが可能とな
り、複数個同時測定時の消去テスト時間を大幅に短縮す
ることができるという効果がある。
【0040】また、請求項2に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法によれば、同時測定するn個の全被測定
デバイスがある注目した特定の1アドレスの消去が完了
するまでの消去処理を過消去プロテクト機能を有する被
測定デバイスパラレルテストで実行する前半ステップ
と、残る全アドレスの消去が完了するまでの消去処理を
被測定デバイスシリアルテストで実行する後半ステップ
とに2分割して実現することにより、過消去プロテクト
機能によって全被測定デバイスのある注目した特定の1
アドレスの消去が完了するまでの消去処理のパラレルテ
ストを、各被測定デバイス別に独立したアルゴリズミッ
クパターンジェネレータとCPUを備える必要なく実現
することが可能となり、複数個同時測定時の消去テスト
時間を大幅に短縮することができるという効果がある。
【0041】また、請求項3に係る不揮発性半導体メモ
リのテスト方法によれば、請求項2において、上記過消
去プロテクト機能として、上記前半ステップにおける被
測定デバイスの消去ループリミットを消去が一番速い被
測定デバイスの消去テスト時間より小さく設定すること
により、被測定デバイスを過消去状態にさせないよう制
限することが可能となり、良品か不良品かの比較判定を
全被測定デバイス同時に測定可能にすることができると
いう効果がある。
【0042】さらに、請求項4に係る不揮発性半導体メ
モリのテスト方法によれば、請求項2において、上記過
消去プロテクト機能として、上記前半ステップにおける
被測定デバイスの消去ループで消去ベリファイがOKと
なった場合に次の消去コマンドを受け付けないようにす
ることにより、被測定デバイスを過消去状態にさせない
よう制限することが可能となり、良品か不良品かの比較
判定を全被測定デバイス同時に測定可能にすることがで
きるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】 この発明の実施例1に係るもので、DUT部
分パラレルテストの場合の各DUTの消去処理フローと
消去テスト時間の関係を示す説明図である。
【図2】 図1のアルゴリズミックイレーズフローチャ
ートS100の詳細なフローチャートである。
【図3】 図1のアルゴリズミックイレーズフローチャ
ートS200の詳細なフローチャートである。
【図4】 この発明を説明するフラッシュメモリ消去時
のしきい値電圧Vth分布の変遷図である。
【図5】 従来のアルゴリズミックイレーズフローチャ
ートである。
【図6】 従来のDUT完全パラレルテストの場合の各
DUTの消去処理フローと消去テスト時間の関係を示す
説明図である。
【図7】 従来のDUT完全シリアルテストの場合の各
DUTの消去処理フローと消去テスト時間の関係を示す
説明図である。
【符号の説明】
DUT1〜DUTn 被測定デバイス、TERAX、T
ERAY、TERAY(1)〜TERAY(n) 消去
テスト時間。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 不揮発性半導体メモリの消去テストを複
    数個同時処理する不揮発性半導体メモリのテスト方法に
    おいて、同時測定するn個の被測定デバイスのうち、い
    ずれか1被測定デバイス以上がある注目した特定の1ア
    ドレスの消去が完了するまでの消去処理を被測定デバイ
    スパラレルテストで実行する前半ステップと、残る全ア
    ドレスの消去が完了するまでの消去処理を被測定デバイ
    スシリアルテストで実行する後半ステップとに2分割し
    て実現することを特徴とする不揮発性半導体メモリのテ
    スト方法。
  2. 【請求項2】 不揮発性半導体メモリの消去テストを複
    数個同時処理する不揮発性半導体メモリのテスト方法に
    おいて、同時測定するn個の全被測定デバイスがある注
    目した特定の1アドレスの消去が完了するまでの消去処
    理を過消去プロテクト機能を有する被測定デバイスパラ
    レルテストで実行する前半ステップと、残る全アドレス
    の消去が完了するまでの消去処理を被測定デバイスシリ
    アルテストで実行する後半ステップとに2分割して実現
    することを特徴とする不揮発性半導体メモリのテスト方
    法。
  3. 【請求項3】 上記過消去プロテクト機能は、上記前半
    ステップにおける被測定デバイスの消去ループリミット
    を消去が一番速い被測定デバイスの消去テスト時間より
    小さく設定して被測定デバイスを過消去状態にさせない
    よう制限することを特徴とする請求項2記載の不揮発性
    半導体メモリのテスト方法。
  4. 【請求項4】 上記過消去プロテクト機能は、上記前半
    ステップにおける被測定デバイスの消去ループで消去ベ
    リファイがOKとなった場合に次の消去コマンドを受け
    付けないようにすることを特徴とする請求項2記載の不
    揮発性半導体メモリのテスト方法。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7359251B2 (en) 2006-05-24 2008-04-15 Fujitsu Limited Non-volatile semiconductor memory device, erase method for same, and test method for same
JP2013137845A (ja) * 2011-12-28 2013-07-11 Fujitsu Semiconductor Ltd 半導体記憶装置の試験方法及び半導体記憶装置

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