JPH08311798A - Cast coated paper having high gloss - Google Patents
Cast coated paper having high glossInfo
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- JPH08311798A JPH08311798A JP12276595A JP12276595A JPH08311798A JP H08311798 A JPH08311798 A JP H08311798A JP 12276595 A JP12276595 A JP 12276595A JP 12276595 A JP12276595 A JP 12276595A JP H08311798 A JPH08311798 A JP H08311798A
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は電子線硬化樹脂被覆層を
有する光沢の高いキャストコート紙に関するものであ
る。更に詳しく述べるならば、本発明は、印刷が可能で
電子線照射により硬化し得る不飽和有機化合物を主成分
として含む組成物（以下、電子線硬化性樹脂組成物とい
う）からなる電子線硬化樹脂被覆層をキャスト法により
製造し、ピット等の欠陥がなく、平滑性が優れ、光沢度
の非常に高いキャストコート紙に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to high-gloss cast coated paper having an electron beam curable resin coating layer. More specifically, the present invention is an electron beam curable resin comprising a composition containing an unsaturated organic compound as a main component, which is printable and can be cured by electron beam irradiation (hereinafter referred to as an electron beam curable resin composition). The present invention relates to a cast-coated paper having a coating layer produced by a casting method, having no defects such as pits, excellent in smoothness, and extremely high in gloss.
【０００２】[0002]
【従来の技術】近年、電子線硬化を利用し、紙やフィル
ムなどに高平滑性、高光沢性、耐溶剤性など機能を持た
せた材料の開発が盛んに行われている。2. Description of the Related Art In recent years, the development of materials having functions such as high smoothness, high glossiness and solvent resistance for papers and films by utilizing electron beam curing has been actively conducted.
【０００３】従来のキャストコート紙は、高光沢の印刷
用コート紙で、クレーなどの顔料およびＳＢＲラテック
スなどの接着剤を主成分とする塗液を原紙に塗布し、水
を含んで前記塗被層が可塑状態にある間に加熱された鏡
面仕上げ面に圧接して乾燥仕上げして強光沢塗被層が設
けられるが、キャストコート紙としての光沢度および王
研式平滑度は満足ゆくものではなく、印刷における画像
再現性および光沢感をさらに上げるためには、より平滑
性が高く、高い光沢のものが望まれている。Conventional cast-coated paper is a high-gloss printing coated paper, which is prepared by coating a base paper with a coating liquid containing a pigment such as clay and an adhesive such as SBR latex as a main component and containing water. While the layer is in the plastic state, it is pressed against the heated mirror-finished surface and dry-finished to form a high-gloss coating layer, but the glossiness as cast coated paper and the Oken type smoothness are not satisfactory. In order to further improve the image reproducibility and glossiness in printing, it is desired to have higher smoothness and higher gloss.
【０００４】より高い光沢度、より高い王研式平滑度を
得るために電子線硬化技術の利用が挙げられる。電子線
硬化性樹脂組成物を利用し、紙やフィルムなどのシート
状基体上に電子線硬化樹脂被覆層を設ける技術において
も、通常のキャストコート紙と同様に平滑な表面を得る
ために、ドラムキャスト法やフィルムキャスト法のよう
な平滑な表面を有する成型体を用いる方法が知られてい
る。例えば、特公昭５５−１０３０２号公報には、移動
するシート状基体上に電子線硬化性樹脂組成物を塗布
し、前記塗布液層に金属製円筒型回転体（以下、ドラム
という）を圧着し、シート状基体の背面から電子線を照
射して電子線硬化性樹脂組成物を硬化させた後、ドラム
から剥離する方法、または特公昭６０−１７１０５号公
報や特開昭５９−２０６０４３号公報には、ドラム表面
に電子線硬化性樹脂組成物を塗布し、シート状基体の表
面とを貼り合わせた後、シート状基体の背面から電子線
を照射して塗布液層を硬化させた後、ドラムから剥離す
る方法、特開平５−９３９８４号公報では、成型面提供
用のドラムを用いてキャストする方法において、シート
状基体に電子線硬化性樹脂組成物を塗布し、一方ドラム
表面にも別の電子線硬化性樹脂組成物を塗布し、第１の
電子線照射装置で硬化後、シート状基体に塗布した塗布
液層と貼合わせ、積層し、第２の電子線照射装置で硬化
後、剥離する方法などの技術が開示されている。The use of electron beam curing technology can be mentioned in order to obtain higher gloss and higher Oken type smoothness. Even in the technology of providing an electron beam curable resin coating layer on a sheet-shaped substrate such as paper or film using an electron beam curable resin composition, in order to obtain a smooth surface like ordinary cast coated paper, a drum is used. A method using a molded body having a smooth surface such as a casting method and a film casting method is known. For example, in Japanese Examined Patent Publication No. 55-10302, an electron beam curable resin composition is applied onto a moving sheet-shaped substrate, and a metallic cylindrical rotary member (hereinafter referred to as a drum) is pressure-bonded to the coating liquid layer. A method of irradiating an electron beam from the back surface of a sheet-like substrate to cure an electron beam curable resin composition and then peeling it from a drum, or Japanese Patent Publication No. 60-17105 and Japanese Patent Publication No. 59-206043. Is an electron beam curable resin composition applied to the surface of the drum, the surface of the sheet-shaped substrate is bonded to the surface of the sheet-shaped substrate, an electron beam is irradiated from the back surface of the sheet-shaped substrate to cure the coating liquid layer, In Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-93984, a method of casting using a drum for providing a molding surface is applied to a sheet-shaped substrate with an electron beam curable resin composition, and the surface of the drum is also subjected to another method. Electron beam curing A method in which a resin composition is applied, cured by a first electron beam irradiation apparatus, then laminated with a coating liquid layer applied on a sheet-shaped substrate, laminated, cured by a second electron beam irradiation apparatus, and then peeled off. The technology is disclosed.
【０００５】従来のキャストコート紙の製造方法におけ
る問題点としてキャストドラム表面と塗布液との間に空
気が内包されることによって塗膜表面に微小なクレータ
ー状の凹み欠陥（以下、ピットという）が発生がある。
このピット部分は塗膜欠陥となり、光沢が低下する。A problem with the conventional method for producing cast-coated paper is that air is included between the surface of the cast drum and the coating liquid, causing minute crater-like dent defects (hereinafter referred to as pits) on the surface of the coating film. There is an occurrence.
The pit portion becomes a coating film defect and the gloss is reduced.
【０００６】このピット防止対策として、 ドラム表面との接触点において塗工液の小さな溜まり
を作り、ドラム表面との接点で塗工液がロールで延ばさ
れて内包された空気を追い出す。 塗膜表面とドラム表面がニップされる部分に水溜め部
を作る。 塗膜表面とドラム表面がニップされる直前に塗膜表面
に水蒸気を吹き付ける。などの方法がある。ここで用い
るシート状基体としては、水分を通過しやすく通気性が
高いことが好ましい。As a countermeasure against this pit, a small pool of the coating liquid is formed at the contact point with the drum surface, and the coating liquid is rolled out at the contact point with the drum surface to expel the air contained therein. A water reservoir is created at the portion where the coating surface and the drum surface are nipped. Immediately before the coating surface and the drum surface are nipped, steam is sprayed on the coating surface. There is a method such as. It is preferable that the sheet-shaped substrate used here has a high air permeability because it can easily pass moisture.
【０００７】一方、前記の電子線硬化技術を利用したキ
ャスト方法においても、ピットが発生する。ピットが多
発すると、塗工面が荒れ、平滑性および光沢が低下す
る。On the other hand, pits also occur in the casting method using the electron beam curing technique described above. When many pits occur, the coated surface becomes rough and the smoothness and gloss deteriorate.
【０００８】このピットの対策として、従来のキャスト
コートにおける前記ピット対策を利用することはできな
い。As a countermeasure against this pit, it is not possible to utilize the above-mentioned pit countermeasure in the conventional cast coat.
【０００９】[0009]
【発明が解決しようとする課題】本発明は、従来技術の
前記の問題点を解決し、ピットの発生がなく、表面平滑
性が優れ、高い光沢を有し、かつ印刷適性に優れた電子
線硬化樹脂被覆層を有するキャストコート紙を提供する
ものである。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention solves the above-mentioned problems of the prior art, has no pits, has an excellent surface smoothness, has a high gloss, and has excellent printability. A cast coated paper having a cured resin coating layer is provided.
【００１０】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明に係る強光沢キャ
ストコート紙は、シート状基体の１面上と、電子線硬化
性樹脂組成物よりなる塗布液層を介して平滑な成型面と
が圧着され、電子線照射により該塗布液層を硬化して電
子線硬化樹脂被覆層が形成され、次いで成型面から剥離
してなる強光沢キャストコート紙において、前記電子線
硬化樹脂被覆層の被覆量が１〜２０ｇ／ｍ2であり、か
つ前記電子線硬化樹脂被覆層を設ける側のシート状基体
の表面の王研式平滑度が５００秒以上であることを特徴
とするものである。The strong gloss cast coated paper according to the present invention has one surface of a sheet-like substrate and a smooth molding surface with a coating liquid layer made of an electron beam curable resin composition interposed therebetween. The coating amount of the electron beam-curable resin coating layer in a high-gloss cast coated paper which is pressure-bonded, the electron-beam irradiation cures the coating liquid layer to form an electron beam-curable resin coating layer, and then peels from the molding surface. Is 1 to 20 g / m 2 , and the Oken type smoothness of the surface of the sheet-shaped substrate on the side where the electron beam curable resin coating layer is provided is 500 seconds or more.
【００１１】本発明の強光沢キャストコート紙は、シー
ト状基体の１面が王研式平滑度５００秒以上を有し、シ
ート状基体の前記１面上に電子線硬化性樹脂被覆層を１
〜２０ｇ／ｍ2設けるものである。前記被覆層は、電子
線照射下で、成型面として平滑な鏡面を有するドラムを
用いたドラムキャスト法、あるいは平滑な表面を有する
成型フィルムを用いたフィルムキャスト法にて形成する
ことにより、平滑性が優れ、光沢度の高いものである。In the strong gloss cast coated paper of the present invention, one surface of the sheet-like substrate has Oken type smoothness of 500 seconds or more, and an electron beam curable resin coating layer is formed on the one surface of the sheet-like substrate.
-20 g / m 2 is provided. The coating layer is formed by a drum cast method using a drum having a smooth mirror surface as a molding surface under electron beam irradiation or a film casting method using a molding film having a smooth surface to obtain a smooth surface. Is excellent and has high gloss.
【００１２】本発明のシート状基体表面の王研式平滑度
は、５００秒以上であることが好ましい。５００秒に満
たないと、シート状基体の表面と成型面の表面との圧着
時、空気の巻き込みが多くなり、電子線硬化樹脂被覆層
の表面にピットが多く発生し、表面の平滑性が低下し、
光沢度も低下する。シート状基体の王研式平滑度に特に
上限はないが、１００００秒を越えると、成型面として
用いるドラムやフィルムとブロッキングを起こし、通紙
が困難となったり、電子線硬化樹脂被覆層が塗工されて
いない基体表面の両端部分が成型面と密着し、シート破
れが発生するなど、操業面で支障をきたす。シート状基
体の表面の王研式平滑度の好ましい範囲は、６００〜８
０００秒である。The Oken type smoothness of the surface of the sheet-shaped substrate of the present invention is preferably 500 seconds or more. If it is less than 500 seconds, air is often entrained during pressure bonding between the surface of the sheet-like substrate and the surface of the molding surface, many pits are generated on the surface of the electron beam curing resin coating layer, and the surface smoothness deteriorates. Then
The glossiness also decreases. There is no particular upper limit to the Oken type smoothness of the sheet substrate, but if it exceeds 10,000 seconds, blocking may occur with the drum or film used as the molding surface, making it difficult to pass the paper or coating the electron beam curable resin coating layer. Both ends of the surface of the unprocessed base material are in close contact with the molding surface, which causes sheet breakage and other problems in operation. The preferred range of Oken type smoothness of the surface of the sheet-like substrate is 600 to 8
It is 000 seconds.
【００１３】本発明において、王研式平滑度は、Ｊ．Ｔ
ＡＰＰＩ紙パルプ試験方法 Ｎｏ．５ｍ−７４「空気マ
イクロメーター型試験機による紙および板紙の平滑度、
透気度試験方法」の王研式平滑度、透気度試験器（加圧
式）による方法に準じて測定した。In the present invention, the Oken type smoothness is defined by J. T
APPI paper pulp test method No. 5m-74 "Smoothness of paper and board by air micrometer type tester,
It was measured according to the method using the Oken type smoothness and air permeability tester (pressurized type) in "Air permeability test method".
【００１４】本発明の電子線硬化樹脂被覆層の被覆量
は、１〜２０ｇ／ｍ2であり、好ましくは、３〜１８ｇ
／ｍ2である。被覆量が１ｇ／ｍ2に満たない場合は、ピ
ットの発生が多く、均一な塗膜が得られず、塗工欠陥も
多くなり、表面が荒れ、光沢度が低下する。被覆量が２
０ｇ／ｍ2を越えると、ピットの発生はなくなるが、高
価な電子線硬化性不飽和有機化合物を多量必要となるた
め、コストが高くなる。The coating amount of the electron beam curable resin coating layer of the present invention is 1 to 20 g / m 2 , and preferably 3 to 18 g.
/ M 2 . If the coating amount is less than 1 g / m 2 , pits are often generated, a uniform coating film cannot be obtained, coating defects also increase, the surface becomes rough, and the glossiness decreases. The coating amount is 2
When it exceeds 0 g / m 2 , pits are not generated, but a large amount of expensive electron beam-curable unsaturated organic compound is required, resulting in high cost.
【００１５】本発明のシート状基体は、表面の王研式平
滑度が５００秒以上を満たすものであれば、特にその素
材を限定するものではない。例えば、コート紙やアート
紙のような紙基体、高光沢グレード合成紙、ポリエチレ
ン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリアミド、ポリ
塩化ビニルのような合成樹脂フィルム、ポリエチレンな
どのポリオレフィン樹脂で片面あるいは両面にラミネー
トを施したラミネート紙があり、紙基体を使用する場合
は、別途、電子線硬化性樹脂組成物の浸透を防止するた
めのアンダーコート層を設けたものでもよい。The sheet-shaped substrate of the present invention is not particularly limited as long as it has a surface smoothness of 500 seconds or more. For example, a paper substrate such as coated paper or art paper, high gloss grade synthetic paper, synthetic resin film such as polyethylene, polypropylene, polyester, polyamide, polyvinyl chloride, and polyolefin resin such as polyethylene are laminated on one or both sides. When a laminated paper is used and a paper substrate is used, an undercoat layer for preventing the penetration of the electron beam curable resin composition may be separately provided.
【００１６】また、電子線硬化樹脂被覆層を形成する際
に、下記に示すようなドラムキャスト法あるいはフィル
ムキャスト法のような成型面を利用する方法により優れ
た平滑性および光沢が得られる。 （１）シート状基体表面に電子線硬化性樹脂組成物を塗
布し、ドラムあるいはフィルムの表面に貼り合わせ、電
子線を照射し、硬化させ、成型面より剥離する。 （２）成型面のドラムあるいはフィルムに電子線硬化性
樹脂組成物を塗布し、シート状基体と貼り合わせて、電
子線を照射し、硬化し、電子線硬化樹脂被覆層を形成
し、成型面より剥離する。 （３）シート状基体表面上に電子線硬化性樹脂組成物を
塗布し、一方、成型面のドラムあるいはフィルムの表面
上にも別の電子線硬化性樹脂組成物を塗布し、貼り合わ
せて、電子線を照射し、硬化し、電子線硬化樹脂被覆層
を形成し、成型面より剥離する。 （４）シート状基体表面上に電子線硬化性樹脂組成物を
塗布し、一方、成型面のドラムあるいはフィルムの表面
上にも別の電子線硬化性樹脂組成物を塗布し、電子線照
射し、予備硬化後、シート状基体表面上に電子線硬化性
樹脂組成物を塗布した塗布液層とを貼り合わせて、別の
電子線照射装置にて電子線照射し、硬化し、電子線硬化
樹脂被覆層を形成し、成型面より剥離する。Further, when forming the electron beam curable resin coating layer, excellent smoothness and gloss can be obtained by a method utilizing a molding surface such as a drum casting method or a film casting method as shown below. (1) An electron beam curable resin composition is applied to the surface of a sheet-like substrate, laminated on the surface of a drum or film, irradiated with an electron beam, cured, and peeled from the molding surface. (2) The electron beam curable resin composition is applied to the drum or film on the molding surface, is bonded to a sheet-like substrate, is irradiated with an electron beam, and is cured to form an electron beam curable resin coating layer. Peel more. (3) An electron beam curable resin composition is applied on the surface of a sheet-shaped substrate, while another electron beam curable resin composition is applied on the surface of a drum or a film on the molding surface, and laminated. It is irradiated with an electron beam and cured to form an electron beam cured resin coating layer, which is peeled off from the molding surface. (4) An electron beam curable resin composition is applied on the surface of the sheet-shaped substrate, while another electron beam curable resin composition is applied on the surface of the drum or the film on the molding surface and is irradiated with the electron beam. After pre-curing, the surface of the sheet-shaped substrate is pasted with a coating liquid layer coated with an electron beam curable resin composition, and the electron beam is irradiated with another electron beam irradiation device to cure the resin. A coating layer is formed and peeled off from the molding surface.
【００１７】また、電子線の照射は、フィルムキャスト
法の場合は、フィルムを通過して照射してもよく、シー
ト状基体の背面より、照射してよい。ドラムキャスト法
の場合は、シート状基体の背面より照射される。In the case of the film casting method, the electron beam may be irradiated through the film or may be irradiated from the back surface of the sheet-shaped substrate. In the case of the drum cast method, irradiation is performed from the back surface of the sheet-shaped substrate.
【００１８】成型面として用いるドラムは、その材質形
状を特に限定するものではないが、ステンレススチー
ル、銅、クロム等で鏡面仕上げされた平滑な周面を有し
ているものが好ましい。また、必要に応じて硬化した樹
脂被覆層の剥離を容易にするために、ドラムの表面にシ
リコーンオイルやワックスなどの剥離助剤を供給するこ
ともできる。The material of the drum used as the molding surface is not particularly limited, but a drum having a smooth peripheral surface mirror-finished with stainless steel, copper, chrome or the like is preferable. If necessary, a peeling aid such as silicone oil or wax may be supplied to the surface of the drum to facilitate peeling of the cured resin coating layer.
【００１９】成型面として用いるフィルムは、その材質
形状を限定するものではないが、具体的には紙、プラス
チック、布、不織布、またはアルミニウム箔のような金
属箔等比較的薄いものが好ましい。厚くなると柔軟性が
乏しくなり、貼り合わせや剥離の工程で折れ曲がりやす
くなる。また、成型面として使用するフィルムの表面
は、平滑な表面であることが好ましい。また、前記表面
は、硬化した樹脂被覆層の剥離を容易にするために、そ
の表面にシリコーンやワックスなどの剥離助剤を供給し
てもよい。さらにフィルム表面にシリコーン処理のよう
な剥離処理を施して、硬化した樹脂被覆層の剥離を容易
にしてもよい。成型面として使用するフィルムは、エン
ドレスベルト状に加工して使用したり、繰り返して使用
しても差し支えない。The film used as the molding surface is not limited in its material shape, but specifically, a relatively thin film such as paper, plastic, cloth, non-woven fabric, or metal foil such as aluminum foil is preferable. The thicker it becomes, the less flexible it becomes and the more likely it is to bend during the steps of bonding and peeling. The surface of the film used as the molding surface is preferably a smooth surface. Further, the surface may be supplied with a release aid such as silicone or wax in order to facilitate the release of the cured resin coating layer. Further, the film surface may be subjected to a peeling treatment such as a silicone treatment to facilitate peeling of the cured resin coating layer. The film used as the molding surface may be processed into an endless belt and used, or may be used repeatedly.
【００２０】成型面として用いるフィルムあるいはドラ
ムの表面は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に基づく最大高さの
最大値表示で０．４Ｓ以下、つまり０μｍＲmax≦０．
４Ｓ≦０．４μｍＲmaxであることが好ましい。The surface of the film or drum used as the molding surface is 0.4 S or less in the maximum value display of the maximum height based on JIS B 0601, that is, 0 μm Rmax ≦ 0.
It is preferable that 4S ≦ 0.4 μmRmax.
【００２１】本発明の製造方法において、電子線硬化性
樹脂組成物の塗布方法には制限がなく、例えばバーコー
ト法、ロールコート法、エアードクターコート法、ブレ
ードコート法、スクイズコート法、エアーナイフコート
法、リバースロールコート法、グラビアコート法、トラ
ンスファーコート法、ファウンテンコート法、あるいは
スリットダイコート法等の方法を用いることができる。
特にドラムの表面を成型面として使用する場合には、表
面に傷を付けないための配慮からゴムロールを使用する
ロールコート法あるいはオフセットグラビアコート法が
用いられ、さらには非接触タイプのファウンテンコータ
ーやスリットダイコーターが好ましい。In the production method of the present invention, the method of applying the electron beam curable resin composition is not limited, and examples thereof include bar coating method, roll coating method, air doctor coating method, blade coating method, squeeze coating method and air knife. A method such as a coating method, a reverse roll coating method, a gravure coating method, a transfer coating method, a fountain coating method, or a slit die coating method can be used.
Especially when the surface of the drum is used as the molding surface, a roll coating method using a rubber roll or an offset gravure coating method is used to prevent scratches on the surface, and a non-contact type fountain coater or slit is used. A die coater is preferred.
【００２２】本発明に用いられる電子線照射装置は特に
その方式を限定するものではなく、例えばバンデグラー
フ型スキャニング方式、ダブルスキャニング方式、およ
びカーテンビーム方式等の電子線照射装置を使用するこ
とができ、これらの中でも比較的安価で大出力の得られ
るカーテンビーム方式のものが有効に用いられる。The electron beam irradiation apparatus used in the present invention is not particularly limited in its method and, for example, an electron beam irradiation apparatus such as a Van de Graaff scanning method, a double scanning method, and a curtain beam method can be used. Among these, the curtain beam type, which is relatively inexpensive and can obtain a large output, is effectively used.
【００２３】電子線照射の際の加速電圧は１００〜５０
０ＫＶ程度が好ましい。電子線の透過率を上げるため、
２５０ＫＶ以上の方がより好ましい。電子線の吸収線量
は、電子線硬化性樹脂組成物に所望の硬化を施すことが
できるものであればよく、特に限定するものではない
が、一般的には、０．１〜６Ｍｒａｄであり、好ましく
は０．２〜４Ｍｒａｄである。吸収線量が０．１Ｍｒａ
ｄ未満の場合には、電子線照射による電子線硬化性樹脂
組成物の硬化が不十分になることがある。また吸収線量
が６Ｍｒａｄを越えると電子線の衝撃によりシート状基
体を劣化させたり、変色させることがあり、エネルギー
の無駄でもある。The accelerating voltage during electron beam irradiation is 100 to 50.
About 0 KV is preferable. To increase the electron beam transmittance,
250 KV or more is more preferable. The absorbed dose of the electron beam is not particularly limited as long as it can apply desired curing to the electron beam curable resin composition, but is generally 0.1 to 6 Mrad, It is preferably 0.2 to 4 Mrad. Absorbed dose is 0.1Mra
When it is less than d, the electron beam curable resin composition may be insufficiently cured by electron beam irradiation. If the absorbed dose exceeds 6 Mrad, the sheet-like substrate may be deteriorated or discolored by the impact of electron beams, which is a waste of energy.
【００２４】電子線照射時における雰囲気中の酸素濃度
は５００ｐｐｍ以下であることが好ましい。酸素濃度が
５００ｐｐｍを越えると、酸素が重合反応の抑制剤とし
て働き、電子線硬化性樹脂組成物の硬化が不十分になる
ことがある。また、酸素濃度を下げる目的で窒素ガス等
の不活性ガスを使用することが好ましい。The oxygen concentration in the atmosphere during electron beam irradiation is preferably 500 ppm or less. If the oxygen concentration exceeds 500 ppm, oxygen may act as a polymerization reaction inhibitor and the electron beam curable resin composition may be insufficiently cured. Further, it is preferable to use an inert gas such as nitrogen gas for the purpose of reducing the oxygen concentration.
【００２５】本発明に用いられる、電子線硬化性不飽和
有機化合物は下記化合物を例示できる。 （１）脂肪族、脂環族、および芳香脂肪族の、１〜６価
のアルコール及びポリアルキレングリコールのアクリレ
ート化合物類 （２）脂肪族、脂環族、および芳香脂肪族の、１〜６価
のアルコールにアルキレンオキサイドを付加させたもの
のアクリレート化合物類 （３）ポリアクリロイルアルキルリン酸エステル類 （４）カルボン酸と、ポリオールと、アクリル酸との反
応生成物 （５）イソシアネートと、ポリオールと、アクリル酸と
の反応生成物 （６）エポキシ化合物とアクリル酸との反応生成物 （７）エポキシ化合物と、ポリオールと、アクリル酸と
の反応生成物 （８）ビニルエーテル化合物 等を挙げることができる。Examples of the electron beam-curable unsaturated organic compound used in the present invention include the following compounds. (1) Aliphatic, alicyclic and araliphatic acrylate compounds of 1 to 6 valent alcohol and polyalkylene glycol (2) Aliphatic, alicyclic and araliphatic 1 to 6 valent Acrylate compounds obtained by adding alkylene oxide to alcohol of (3) Polyacryloylalkyl phosphates (4) Reaction product of carboxylic acid, polyol and acrylic acid (5) Isocyanate, polyol and acrylic Reaction products with acids (6) Reaction products with epoxy compounds and acrylic acid (7) Reaction products with epoxy compounds, polyols and acrylic acid (8) Vinyl ether compounds and the like.
【００２６】更に具体的には、電子線硬化性不飽和有機
化合物として、ポリオキシエチレンエピクロルヒドリン
変性ビスフェノールＡジアクリレート、ジシクロヘキシ
ルアクリレート、エピクロルヒドリン変性ポリエチレン
グリコールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオール
ジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペ
ンチルグリコールジアクリレート、ノニルフェノキシポ
リエチレングリコールアクリレート、エチレンオキサイ
ド変性フェノキシ化リン酸アクリレート、エチレンオキ
サイド変性フタル酸アクリレート、ポリブタジエンアク
リレート、カプロラクタン変性テトラヒドロフルフリル
アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシア
ヌレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトール
ヘキサアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリ
レート、１，４−ブタジエンジオールジアクリレート、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、およびネオペ
ンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジアクリ
レート、トリエチレングリコールジビニルエーテル、シ
クロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキ
シブチルビニルエーテル、ドデシルビニルエーテル、お
よびプルぺニルエーテルプロピレンカーボネートなどを
挙げることが出来る。本発明は、これらの電子線硬化性
不飽和有機化合物を単独であるいはこれら電子線硬化性
不飽和有機化合物のうちの幾つかを組み合わせて使用す
ることができる。More specifically, as the electron beam-curable unsaturated organic compound, polyoxyethylene epichlorohydrin-modified bisphenol A diacrylate, dicyclohexyl acrylate, epichlorohydrin-modified polyethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, hydroxypivaline. Acid ester neopentyl glycol diacrylate, nonylphenoxy polyethylene glycol acrylate, ethylene oxide modified phenoxyphosphoric acid acrylate, ethylene oxide modified phthalic acid acrylate, polybutadiene acrylate, caprolactan modified tetrahydrofurfuryl acrylate, tris (acryloxyethyl) isocyanurate, tri Methylolpropane triacrylate,
Pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, polyethylene glycol diacrylate, 1,4-butadiene diol diacrylate,
Examples include neopentyl glycol diacrylate, neopentyl glycol-modified trimethylolpropane diacrylate, triethylene glycol divinyl ether, cyclohexanedimethanol divinyl ether, hydroxybutyl vinyl ether, dodecyl vinyl ether, and propenyl ether propylene carbonate. In the present invention, these electron beam-curable unsaturated organic compounds can be used alone or in combination with some of these electron beam-curable unsaturated organic compounds.
【００２７】本発明の電子線硬化樹脂被覆層は、電子線
硬化性不飽和有機化合物と、筆記性や白色度を向上さ
せ、さらに優れた印刷適性を得る目的で白色顔料を含有
させる。また、必要に応じてその他の添加剤を含有させ
てもよい。The electron beam curable resin coating layer of the present invention contains an electron beam curable unsaturated organic compound and a white pigment for the purpose of improving the writability and whiteness and obtaining excellent printability. In addition, other additives may be contained if necessary.
【００２８】本発明の電子線硬化樹脂被覆層の筆記性や
白色度を向上させる目的で使用する白色顔料は、二酸化
チタン（アナターゼ型、およびルチル型）、酸化亜鉛、
硫酸バリウム、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム、お
よび酸化マグネシウムなどが例示できる。なかでも特に
二酸化チタンは白色度に優れたものがえられるため好ま
しい。The white pigment used for the purpose of improving the writability and whiteness of the electron beam curable resin coating layer of the present invention includes titanium dioxide (anatase type and rutile type), zinc oxide,
Examples include barium sulfate, calcium carbonate, aluminum oxide, and magnesium oxide. Of these, titanium dioxide is particularly preferable because it has excellent whiteness.
【００２９】白色顔料の含有量は、電子線硬化樹脂被覆
層の全固形分重量の５〜６０重量％であり、１０〜５０
重量％がより好ましい。ただし、その含有量が６０重量
％を越えると、得られる電子線硬化樹脂被覆層の柔軟性
が低下し、膜割れを生ずる恐れもある。また塗料の流動
性も低下する場合がある。The content of the white pigment is 5 to 60% by weight based on the total solid content of the electron beam curable resin coating layer, and is 10 to 50%.
Weight percent is more preferred. However, if the content exceeds 60% by weight, the flexibility of the electron beam curable resin coating layer obtained may be lowered, and film cracking may occur. In addition, the fluidity of the paint may decrease.
【００３０】白色顔料を上記のような電子線硬化性不飽
和有機化合物中に分散するには、３本ロールミル、２本
ロールミル、カウレスディゾルバー、ホモミキサー、サ
ンドグラインダー、および超音波分散機などを使用する
ことができる。To disperse the white pigment in the electron beam-curable unsaturated organic compound as described above, use a three-roll mill, two-roll mill, cowles dissolver, homomixer, sand grinder, ultrasonic disperser and the like. Can be used.
【００３１】[0031]
【実施例】本発明を下記実施例により、更に詳しく説明
する。しかし、これらは本発明の範囲を限定するもので
はない。なお、実施例中の「部」は、特に指定しない限
り、それぞれ「重量部」を表す。EXAMPLES The present invention will be described in more detail with reference to the following examples. However, these do not limit the scope of the present invention. In addition, "part" in the examples represents "part by weight" unless otherwise specified.
【００３２】実施例１ 下記成分の電子線硬化性樹脂組成物（１）をペイントコ
ンディショナーで１時間混合分散させて電子線硬化性樹
脂組成物を調製した。 組成物（１） 成 分 配合量 ウレタンアクリレートオリゴマー ５０部 （商標：ビームセット５０５Ｂ、荒川化学工業社製） ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート ２０部 （商標：ＳＲ−４５４、サートマー社製） モルホリンアクリレート ３０部 二酸化チタン（商標：Ａ−２２０、石原産業社製） ２０部 Example 1 An electron beam curable resin composition (1) having the following components was mixed and dispersed with a paint conditioner for 1 hour to prepare an electron beam curable resin composition. Composition (1) Ingredient weight urethane acrylate oligomer 50 parts (Trademark: Beam Set 505B, manufactured by Arakawa Chemical Industries, Ltd.) EO-modified trimethylolpropane triacrylate 20 parts (Trademark: SR-454, manufactured by Sartomer Company Inc.) morpholine acrylate 30 Part Titanium dioxide (trademark: A-220, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) 20 parts
【００３３】上記塗布液を、コート紙（商標：ＯＫコー
ト紙、坪量１２７ｇ／ｍ2、王研式平滑度９９０秒 新
王子製紙社製）の１表面上に、電子線硬化樹脂被覆層の
被覆量が２０、１０、５、および１．５ｇ／ｍ2となる
ように、リバースロールコーターを用いて塗布し、成型
面として使用する平滑な面を有する厚さ７５μのＰＥＴ
フィルムと、ガイドロール（ニップロール）で貼り合わ
せキャストし、その後、電子線照射装置によりＰＥＴフ
ィルムを通過して電子線を加速電圧：３００ＫＶ、吸収
線量：３Ｍｒａｄの条件で照射し、塗布液層を硬化し、
その後、ガイドロール（リリースロール）を介して剥離
し、３種類のキャストコート紙のサンプルを得た。この
サンプルを用いて、光沢度、ピットを評価し、結果を第
１表に示した。The above coating solution was applied onto one surface of coated paper (trademark: OK coated paper, basis weight 127 g / m 2 , Oken type smoothness 990 seconds manufactured by Shin Oji Paper Co., Ltd.) to form an electron beam curable resin coating layer. PET with a thickness of 75μ, which has a smooth surface and is coated with a reverse roll coater so that the coating amount is 20, 10, 5, and 1.5 g / m 2.
The film and a guide roll (nip roll) are pasted together and cast, and then the electron beam irradiation device irradiates an electron beam through the PET film under the conditions of accelerating voltage: 300 KV and absorbed dose: 3 Mrad to cure the coating liquid layer. Then
Then, the sample was peeled off via a guide roll (release roll) to obtain three types of cast-coated paper samples. Using this sample, glossiness and pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３４】実施例２ アート紙（商標：ＯＫスーパーアート、坪量１０４．７
ｇ／ｍ2、王研式平滑度２８００秒 新王子製紙社製）
の顔料塗工層表面上に、実施例１と同様にして電子線硬
化樹脂被覆層を設けた。光沢度、ピットを評価し、結果
を表１に示した。 Example 2 Art paper (trademark: OK Super Art, basis weight 104.7)
g / m 2 , Oken smoothness 2800 seconds, manufactured by Shin Oji Paper Co., Ltd.)
An electron beam curable resin coating layer was provided on the surface of the pigment coating layer in the same manner as in Example 1. The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３５】実施例３ キャストコート紙（商標：ミラーコートゴールド、坪量
７５．６ｇ／ｍ2、王研式平滑度５０００秒 新王子製
紙社製）の顔料塗工層表面上に、実施例１と同様にして
電子線硬化樹脂被覆層を設けた。光沢度、ピットを評価
し、結果を表１に示した。 Example 3 Example 1 was applied on the surface of the pigment coating layer of cast coated paper (trademark: mirror coated gold, basis weight 75.6 g / m 2 , Oken type smoothness of 5000 seconds, manufactured by Shin Oji Paper Co., Ltd.). An electron beam curable resin coating layer was provided in the same manner as in. The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３６】比較例１ 実施例１と同様にして電子線硬化樹脂被覆層を設けた。
ただし電子線硬化樹脂被覆層の被覆量を０．６ｇ／ｍ2
になるように塗布した。光沢度、ピットを評価し、結果
を表１に示した。 Comparative Example 1 An electron beam curable resin coating layer was provided in the same manner as in Example 1.
However, the coating amount of the electron beam curing resin coating layer is 0.6 g / m 2
Was applied. The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３７】比較例２ 合成紙ユポ（商標：ＦＰＧー９５、厚さ９５μｍ、王研
式平滑度４６０秒 王子油化合成紙社製）表面上に、実
施例１と同様にして電子線硬化樹脂被覆層の被覆量が２
０、１０、および５ｇ／ｍ2となるように塗布した。光
沢度、ピットを評価し、結果を表１に示した。 Comparative Example 2 An electron beam curing resin was prepared in the same manner as in Example 1 on the surface of synthetic paper YUPO (trademark: FPG-95, thickness: 95 μm, Oken type smoothness: 460 seconds, manufactured by Oji Yuka Synthetic Paper Co., Ltd.). The coating amount of the coating layer is 2
It was applied so as to be 0, 10, and 5 g / m 2 . The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３８】比較例３ 上質紙（坪量１８２ｇ／ｍ2、厚さ１７５μｍ、王研式
平滑度４００秒）の一面上に、コロナ放電による表面活
性処理を施し、低密度ポリエチレン（商標：スミカセン
Ｌ７０５、密度０．９１８ｇ／ｃｍ3、住友化学工業社
製）６０部、直鎖状低密度ポリエチレン（商標：ＵＦ３
３１、密度０．９２２ｇ／ｃｍ3、三菱化学社製）４０
部、二酸化チタン（商標：タイペークＡ−２２０、石原
産業社製）１５部からなる組成物を混練し、被覆量が３
０ｇ／ｍ2になるように溶融押し出し被覆を行い、ポリ
エチレン樹脂被覆層を設けた。この際のクーリングロー
ルにエンボス加工を施したものを用いて、ポリエチレン
樹脂被覆層表面の王研式平滑度１７０秒となる基体（坪
量２１２ｇ／ｍ2、厚さ２００μｍ、王研式平滑度１７
０秒）を得た。この基体のエンボスラミ面上に、実施例
１と同様にして電子線硬化樹脂被覆層の被覆量が２０、
１０、および５ｇ／ｍ2となるように塗布した。光沢
度、ピットを評価し、結果を表１に示した。 Comparative Example 3 Low-density polyethylene (trademark: Sumikasen L705) was subjected to surface activation treatment by corona discharge on one surface of high- quality paper (basis weight 182 g / m 2 , thickness 175 μm, Oken type smoothness 400 seconds). , Density 0.918 g / cm 3 , 60 parts by Sumitomo Chemical Co., Ltd., linear low-density polyethylene (trademark: UF3)
31, density 0.922 g / cm 3 , manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation) 40
Part, and a composition comprising 15 parts of titanium dioxide (trademark: Taipaque A-220, manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.) were kneaded, and the coating amount was 3
Melt extrusion coating was performed so as to obtain 0 g / m 2 , and a polyethylene resin coating layer was provided. At this time, a cooling roll having an embossed finish was used to form a base body having a Oken type smoothness of 170 seconds on the surface of the polyethylene resin coating layer (basis weight 212 g / m 2 , thickness 200 μm, Oken type smoothness 17).
0 seconds). On the embossed lamella surface of this substrate, in the same manner as in Example 1, the coating amount of the electron beam curing resin coating layer was 20,
The coating amount was 10 and 5 g / m 2 . The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００３９】比較例４ ダルコート紙（商標：Ｚコート、坪量８１．４ｇ／
ｍ2、王研式平滑度４２０秒 新王子製紙社製）の１面
上に、実施例１と同様にして電子線硬化樹脂被覆層の被
覆量が２０、１０、および５ｇ／ｍ2となるように塗布
した。光沢度、ピットを評価し、結果を表１に示した。 Comparative Example 4 Dalcoat paper (trademark: Z coat, basis weight 81.4 g /
m 2, on one side of Oken type manufactured smoothness of 420 seconds Shin'ojiseishi Co.), coating amount of the electron beam curing resin coating layer is 20, 10, and 5 g / m 2 in the same manner as in Example 1 As applied. The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００４０】比較例５ 片面アート紙（商標：金藤片面、坪量７９．１ｇ／
ｍ2、裏面の王研式平滑度２３０秒 新王子製紙社製）
の紙基材の顔料塗工面と反対面上に、実施例１と同様に
して電子線硬化樹脂被覆層の被覆量が２０、１０、およ
び５ｇ／ｍ2となるように塗布した。光沢度、ピットを
評価し、結果を表１に示した。 Comparative Example 5 Single-sided art paper (Trademark: Kanto, single-sided, basis weight 79.1 g /
m 2 , Oken-type smoothness of the back side 230 seconds, manufactured by Shin Oji Paper Co., Ltd.)
On the surface of the paper base material opposite to the surface coated with pigment, the electron beam curable resin coating layer was applied in the same manner as in Example 1 so that the coating amounts were 20, 10 and 5 g / m 2 . The glossiness and the pits were evaluated, and the results are shown in Table 1.
【００４１】比較例６ キャストコート紙（商標：ミラーコートゴールド、坪量
１２７ｇ／ｍ2、裏面の王研式平滑度１０秒 新王子製
紙社製）の紙基材の顔料塗工面と反対面上に、実施例１
と同様にして電子線硬化樹脂被覆層の被覆量が２０、１
０、および５ｇ／ｍ2となるように塗布した。光沢度、
ピットを評価し、結果を表１に示した。 Comparative Example 6 On the surface opposite to the pigment coated surface of the paper substrate of cast coated paper (trademark: mirror coated gold, basis weight 127 g / m 2 , Oken type smoothness on the back side of 10 seconds, manufactured by Shin Oji Paper Co., Ltd.) Example 1
Similarly, the coating amount of the electron beam curable resin coating layer is 20, 1
It was applied so as to be 0 and 5 g / m 2 . Glossiness,
The pits were evaluated and the results are shown in Table 1.
【００４２】ここで光沢度およびピットは、次の方法で
評価した。 光沢度：ＪＩＳ Ｚ８７４１基づき日本電色製光沢度計
ＶＧＳ−１Ｄを用いて、６０度鏡面光沢度を測定した。 ピット：電子線硬化樹脂被覆層をステレオマイクロスコ
ープ（商品名：ＳＴＥＲＥＯ ＤＹＮＡ ＳＣＯＰＥ
ＭＯＤＥＬ ＴＳ−２：ＶＩＳＩＯＮ ＥＮＧＩＮＮＥ
ＥＲＩＮＧ ＬＴＤ社製）で観察し、１０ｍｍ2当たり
のピットの数を評価した。ピットの大きさが２５〜５０
μｍのものと、５０μｍより大きいものの数をカウント
し、基体の巾方向に８ヶ所測定したピットの数の合計で
表した。Here, the glossiness and the pit were evaluated by the following methods. Glossiness: A 60 degree specular glossiness was measured using a Nippon Denshoku glossmeter VGS-1D based on JIS Z8741. Pit: electron beam curable resin coating layer on stereo microscope (Product name: STEREO DYNA SCOPE
MODEL TS-2: VISION ENGINE
The number of pits per 10 mm 2 was evaluated by observing with ERING LTD. The pit size is 25-50
The number of pits and the number of pits larger than 50 μm were counted and expressed as the total number of pits measured at 8 points in the width direction of the substrate.
【００４３】[0043]
【表１】 [Table 1]
【００４４】[0044]
【発明の効果】本発明の電子線硬化樹脂被覆層を有する
強光沢キャストコート紙は、製造時にピットの発生がな
く、表面平滑性が優れ、高い光沢を有し、かつ印刷適性
に優れた印刷適性に優れたものである。EFFECTS OF THE INVENTION The strong gloss cast coated paper having the electron beam curable resin coating layer of the present invention is free from pits during production, has excellent surface smoothness, has high gloss, and has excellent printability. It has excellent suitability.
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｃ 1/76 ５０２ Ｄ２１Ｈ 1/34 Ｊ ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 6 Identification code Internal reference number FI Technical display location G03C 1/76 502 D21H 1/34 J
Claims (1)
より硬化し得る不飽和有機化合物を主成分として含む組
成物よりなる塗布液層を介して平滑な成型面とが圧着さ
れ、電子線照射により該塗布液層を硬化して電子線硬化
樹脂被覆層が形成され、次いで成型面から剥離してなる
強光沢キャストコート紙において、前記電子線硬化樹脂
被覆層の被覆量が１〜２０ｇ／ｍ2であり、かつ前記電
子線硬化樹脂被覆層を設ける側のシート状基体の表面の
王研式平滑度が５００秒以上であることを特徴とする強
光沢キャストコート紙。1. A flat molding surface is pressure-bonded to one surface of a sheet-shaped substrate and a smooth molding surface through a coating liquid layer made of a composition containing an unsaturated organic compound as a main component which is curable by electron beam irradiation. In the high-gloss cast coated paper obtained by curing the coating liquid layer by irradiation of rays to form an electron beam curable resin coating layer, and then peeling from the molding surface, the coating amount of the electron beam curable resin coating layer is 1 to 20 g. / m 2, and strong gloss cast-coated paper, wherein the Oken type smoothness of the surface of the sheet substrate on the side of providing the electron beam curing resin coating layer is not less than 500 seconds.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12276595A JPH08311798A (en) | 1995-05-22 | 1995-05-22 | Cast coated paper having high gloss |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12276595A JPH08311798A (en) | 1995-05-22 | 1995-05-22 | Cast coated paper having high gloss |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08311798A true JPH08311798A (en) | 1996-11-26 |
Family
ID=14844066
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12276595A Pending JPH08311798A (en) | 1995-05-22 | 1995-05-22 | Cast coated paper having high gloss |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08311798A (en) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4582747B2 (en) * | 2001-04-25 | 2010-11-17 | トッパン・フォームズ株式会社 | Method for manufacturing hologram sheet |
-
1995
- 1995-05-22 JP JP12276595A patent/JPH08311798A/en active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4582747B2 (en) * | 2001-04-25 | 2010-11-17 | トッパン・フォームズ株式会社 | Method for manufacturing hologram sheet |
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| A02 | Decision of refusal |
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