JPH08306847A - Solder coating equipment of shaped ic - Google Patents
Solder coating equipment of shaped icInfo
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- JPH08306847A JPH08306847A JP7125596A JP12559695A JPH08306847A JP H08306847 A JPH08306847 A JP H08306847A JP 7125596 A JP7125596 A JP 7125596A JP 12559695 A JP12559695 A JP 12559695A JP H08306847 A JPH08306847 A JP H08306847A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は整形済ICのハンダコー
ティング装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a solder coating device for a shaped IC.
【0002】[0002]
【従来の技術】基板への電子部品実装時に半導体のリー
ドとプリント基板との電気接続を良好にするため、及び
実装作業の効率化を図るためなどの理由により、予め電
子部品のリード部分にハンダ被膜を形成することが行わ
れており、このハンダ被膜形成の一方法としてハンダデ
イップ方法(浸漬)がある。このハンダ被膜形成は、整
形済ICに対してもその要求がある。しかし一方で、近
年電子部品の高集積化に伴いパッケージの多ピン化及び
狭ピッチ化が進んでいることや、ハンダデイップ方法に
よりICなど狭ピッチの精密電子部品にブリッジを発生
させることなく均一なハンダ被膜を形成することが技術
的に困難なことがあり、IC生産ラインへ自動ハンダ被
膜形成装置の導入は皆無に等しいのが現状である。2. Description of the Related Art In order to improve the electrical connection between a semiconductor lead and a printed circuit board when mounting electronic parts on a board and to improve the efficiency of mounting work, solder is previously attached to the lead parts of the electronic parts. A film is formed, and a solder dipping method (immersion) is one method of forming the solder film. This solder film formation is also required for shaped ICs. On the other hand, on the other hand, the number of pins and the pitch of the package have been increasing along with the high integration of electronic parts in recent years, and the solder dipping method has made it possible to obtain a uniform pitch without causing a bridge in precision electronic parts such as ICs. Since it is technically difficult to form a solder coating film, the introduction of an automatic solder coating forming apparatus to an IC production line is almost zero.
【0003】図8に示す現在使用されているデイップ方
式によるハンタ被膜形成の一例では、ハンダ槽(A)中
の溶融ハンダ(B)の、表面上に発生する酸化物をスク
レーパ(C)により掻き分け、つかのま現れる低酸化状
態のハンダ表面部分に、整形済IC(D)のリード部分
を浸漬する。その後、浸漬されたリード部分を、搬送装
置(E)で静かに引き上げることによってハンダ被膜形
成をおこなっている。In an example of forming a solder coating film by the dip method which is currently used as shown in FIG. 8, the oxide generated on the surface of the molten solder (B) in the solder bath (A) is scraped off by a scraper (C). The lead portion of the shaped IC (D) is immersed in the solder surface portion in a low-oxidation state that appears for a while. Thereafter, the immersed lead portion is gently pulled up by the carrier device (E) to form a solder coating.
【0004】又、先に出願されている特開平6−899
59(図9)は、現状において整形済ICに対するハン
ダ被膜形成を行う自動機械の数少ない一例である。図9
の従来例は、装置本体(F)に垂直に架台(G)を設
け、架台(G)に移動装置(H)を取付ける。この移動
装置(H)はモータ(I)でX軸テーブル(J)を移動
させ、更にY軸テーブル(K)を移動できるように設
け、先端に設けた垂直チャック(L)で整形済IC
(P)を保持できるようになってるいる。Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-899 filed previously.
59 (FIG. 9) is one of the few automatic machines that currently forms a solder coating on a shaped IC. Figure 9
In the conventional example, the mount (G) is provided vertically on the main body (F), and the moving device (H) is attached to the mount (G). This moving device (H) is provided so that the X-axis table (J) can be moved by the motor (I), and further the Y-axis table (K) can be moved, and the shaped IC is formed by the vertical chuck (L) provided at the tip.
(P) can be held.
【0005】又、装置本体(F)上に設置したハンダ槽
(M)に設けたポンプ(N)で溶融ハンダを供給するハ
ンダブロック(O)に設けた流下溝(図示省略)に整形
済IC(P)を浸漬してハンダコーティングするように
なっている。Further, a shaped IC is formed in a flow-down groove (not shown) provided in a solder block (O) for supplying molten solder with a pump (N) provided in a solder bath (M) installed on the apparatus body (F). (P) is dipped and solder coated.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】上記のように、整形済
ICのリードへの、ハンダ被膜形成の要望は根強いが、
広く実用化されるには至っていない。その理由として、
幾つかの方法が発明されてはいるが、コスト及び品質の
面で未だ満足できるだけの結果を得られていないことが
挙げられている。例えば、上記図8に示したハンダデイ
ップ装置においては、スクレパ(C)により溶融ハンダ
表面の酸化物を除去した後、整形済IC(D)のリード
部分を浸漬する。しかしこのままの状態ではハンダ装置
は常に大気中に晒されており、溶融ハンダ表面は大気中
の酸素により酸化され、その酸化されたハンダがリード
に付着してしまうことによりブリッジの原因となってし
まう。As described above, although there is a strong demand for forming a solder coating on the leads of a shaped IC,
It has not been widely put to practical use. The reason is
Although several methods have been invented, it has been mentioned that they have not yet produced satisfactory results in terms of cost and quality. For example, in the solder dipping device shown in FIG. 8, the oxide on the surface of the molten solder is removed by the scraper (C), and then the lead portion of the shaped IC (D) is immersed. However, in this state, the soldering device is always exposed to the atmosphere, the surface of the molten solder is oxidized by oxygen in the atmosphere, and the oxidized solder adheres to the leads, causing a bridge. .
【0007】また、例え装置全体をカバーで覆い低酸素
濃度雰囲気の環境を実現したとしても、近年主流になり
つつある高集積化及び狭ピッチ化したIC(例えばリー
ドのピッチが0.3ミリメートルなど)に対しては、溶
融ハンダの固有の表面張力の作用により、ブリッジの発
生は避けられない。Even if the entire apparatus is covered with a cover to realize an environment of low oxygen concentration atmosphere, highly integrated and narrow-pitch ICs (for example, lead pitch of 0.3 mm, etc.), which are becoming the mainstream in recent years, are being used. ), Bridge formation is unavoidable due to the action of the surface tension of the molten solder.
【0008】次に、先に出願されている特開平6−89
959(図9)は、現状において狭ピッチICのハンダ
コートに対応できる数少ない一例であるが、連続でハン
ダコート作業を続けていると、ハンダブロック上にハン
ダの酸化物が蓄積され、それが原因となってブリッジが
発生することがあった。また、その原理上ハンダ厚みの
コントロールが難しく、特にリード部の曲がり部分の内
側などには表面張力によりハンダ溜まりが発生する現象
が見られた。またその構造上、一回の操作で、ICモー
ルドの同一辺上に並んでいるリードの一列だけしか処理
できないという欠点ももっていた。QFPなどの場合、
モールドの四辺それぞれにリードが並んでいるため、こ
の装置では四回処理しなければならず、処理時間短縮に
大きな制約となってしまう。Next, Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-89 filed previously.
959 (Fig. 9) is one of the few examples that can be applied to the solder coat of a narrow pitch IC at present, but if the solder coat work is continuously performed, the oxide of the solder is accumulated on the solder block, which causes Sometimes caused a bridge. Further, it is difficult to control the solder thickness due to its principle, and in particular, a phenomenon in which a solder pool occurs due to surface tension inside the bent portion of the lead portion was observed. Further, due to its structure, it has a drawback that only one row of leads arranged on the same side of the IC mold can be processed by one operation. In case of QFP,
Since the leads are lined up on each of the four sides of the mold, this apparatus must be processed four times, which is a major limitation in reducing the processing time.
【0009】そこで本発明は、従来装置に見られるこれ
らの問題を解消し、ブリッジさせることなくリード部に
均一なハンダ被膜を形成することのみならず、連続運転
においても安定した動作を維持し、かつ一工程で一つの
ICリード部すべての処理が可能となることによる、作
業時間の短縮を実現する方法および装置を提供するもの
である。Therefore, the present invention solves these problems found in the conventional apparatus and not only forms a uniform solder coating on the leads without bridging, but also maintains stable operation in continuous operation. Moreover, it is possible to provide a method and an apparatus for realizing a reduction in working time by enabling processing of all one IC lead portion in one step.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は前記課題を解決
するために、溶融ハンダを収納したハンダ槽に、低酸素
濃度ガス雰囲気を維持することが可能な処理室を連通さ
せ、処理室内に整形済ICのリード部を嵌入し、ポンプ
で送り込まれたハンダ噴流を四辺から均一に噴流させる
スリットを有するハンダブロックと、整形済ICを水平
に保持する搬送手段を設けた整形済ICのハンダコーテ
ィング装置を構成する。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention connects a processing chamber capable of maintaining a low oxygen concentration gas atmosphere to a solder tank containing molten solder, and Solder coating of shaped IC with a solder block having a slit into which the lead portion of the shaped IC is fitted and which allows a solder jet flow fed by a pump to be uniformly jetted from four sides, and a conveying means for holding the shaped IC horizontally. Configure the device.
【0011】又、処理室内に、整形済ICのリード部に
高温ガス及び冷却ガスを連続して噴射するスリットを有
するガス噴射ノズルを設置した整形済ICのハンダコー
ティング装置を構成する。Further, a solder coating apparatus for a shaped IC is provided in which a gas injection nozzle having a slit for continuously injecting a high temperature gas and a cooling gas is installed in the lead portion of the shaped IC in the processing chamber.
【0012】又、ハンダブロックに超音波振動用ホーン
を取付けた整形済ICのハンダコーティング装置を構成
する。Further, a solder coating device of a shaped IC in which a horn for ultrasonic vibration is attached to a solder block is constructed.
【0013】[0013]
【作用】本発明は上記のように構成されたもので、ハン
ダコートを低酸素濃度に保たれた処理室内部で行うた
め、ハンダ噴流上に酸化物が発生することがなく、酸化
物の付着を原因とするブリッジを防止することができ
る。又溶融ハンダにおいては、通常の大気中にある状
態、つまり表面に酸化物がある時にくらべ低酸素濃度環
境にある方が、ハンダの濡れ性が良くなることが知られ
ており、従ってハンダコートの厚み、表面状態などの品
質が向上される。The present invention is configured as described above, and since the solder coating is performed inside the processing chamber where the oxygen concentration is kept low, no oxide is generated on the solder jet flow and the oxide adheres. It is possible to prevent the bridge caused by. In the case of molten solder, it is known that the wettability of solder is better when it is in a normal atmosphere, that is, in a low oxygen concentration environment than when there is an oxide on the surface. Quality such as thickness and surface condition is improved.
【0014】一方、搬送装置により水平に保持された整
形済ICは、処理室内部に設けられたハンダブロック上
で四辺から均一に噴流するハンダ噴流中に浸漬される
が、このときICのリード部分はハンダブロックのスリ
ット内部に収められ、スリット内壁とリード部は非常に
接近した状態を保つため、リード部に必要量以上のハン
ダが付着するものを防ぐ効果を持ち、ブリッジの防止並
びに均一なハンダコートを可能とする。さらにハンダブ
ロックを用い、水平に保持されたワークを溶融ハンダ中
に浸漬はするという構造は、一工程で一つのICのリー
ド部すべてをハンダコート可能とするもので、処理時間
を短縮する。On the other hand, the shaped IC which is held horizontally by the transfer device is immersed in a solder jet which is uniformly jetted from four sides on a solder block provided inside the processing chamber. Is contained inside the slit of the solder block, and the inner wall of the slit and the lead are kept in close proximity to each other, which has the effect of preventing more than the necessary amount of solder from adhering to the lead, preventing bridges and even soldering. Allows for coats. Further, the structure in which the horizontally held work is immersed in the molten solder by using the solder block enables all the lead portions of one IC to be solder-coated in one step, which shortens the processing time.
【0015】また上記装置にガス噴射ノズルを取り付け
た場合には、整形済ICのリード部にハンダコートを施
した後、さらにリード部分に高温のガスを一定方向から
吹き付けることにより、一度形成されたハンダ被膜を溶
かしつつ、ガス流の勢いにより部分的にハンダを集め、
連続して低温のガスを噴射することでハンダが一部分に
偏った状態のままハンダ被膜を凝固させることができ
る。これにより、リード部の任意の一部分だけハンダ被
膜の厚みを増すことが可能となる。In the case where a gas injection nozzle is attached to the above-mentioned device, after the lead portion of the shaped IC is solder-coated, a high temperature gas is further blown from a certain direction to form once. While melting the solder coating, collect the solder partially due to the force of the gas flow,
By continuously injecting low-temperature gas, the solder coating can be solidified while the solder is partially biased. This makes it possible to increase the thickness of the solder coating only on an arbitrary part of the lead portion.
【0016】また、上記装置に超音波振動用ホーンを取
り付けた場合には、処理室内部のハンダブロックを超音
波振動させるため、溶融ハンダ中に超音波が伝播する際
のキャビテーション作用で、溶融ハンダはリード部の被
コーティング面を強く打つことになる。よってコーティ
ングは対象となるリード表面の一部、あるいは全てに酸
化膜が形成されていたとしても、溶融ハンダは確実にリ
ード部と接触し、緻密で均一なハンダコーティングが施
される。また、上記キャビテーションの作用により、フ
ラックスを必要としないハンダコートを実現できる。Further, when an ultrasonic vibration horn is attached to the above apparatus, the solder block in the processing chamber is ultrasonically vibrated, so that the molten solder is cavitated by the cavitation action when the ultrasonic wave propagates in the molten solder. Will hit the coated surface of the lead part strongly. Therefore, even if an oxide film is formed on a part or all of the target lead surface, the molten solder is surely brought into contact with the lead portion, and a dense and uniform solder coating is applied. Also, due to the action of the cavitation, a solder coat that does not require flux can be realized.
【0017】[0017]
【実施例】本発明の第1実施例を図1乃至図5に基づい
て詳細に説明すると、図1の正面図に示すように、装置
本体1の上面にはIC受け取りテーブル2、自動フラッ
クス塗布装置3、ハンダ槽4、超音波洗浄装置5、乾燥
装置6がそれぞれ固定されており、また装置本体1に対
し垂直に固定されている架台7には、IC保持アーム8
を備えた二方向搬送装置9が固定されている。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS A first embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 1 to 5. As shown in the front view of FIG. The device 3, the solder bath 4, the ultrasonic cleaning device 5, and the drying device 6 are fixed to each other, and an IC holding arm 8 is attached to a pedestal 7 fixed vertically to the device main body 1.
The two-way transport device 9 including is fixed.
【0018】二方向搬送装置9は図1,2に示すよう
に、水平方向に正常回転できるように設けた回転螺子棒
10に移動部材11を螺合し、上下の案内溝12,12
´に図示を省略した案内棒を嵌入して移動部材11を回
転しないように左右に移動できる。この移動部材11に
昇降部材13を昇降自在に取付け、昇降部材13に吸着
パット14を設けたIC保持アーム8を取付けている。As shown in FIGS. 1 and 2, the bidirectional transfer device 9 has a movable member 11 screwed into a rotary screw rod 10 provided so as to be normally rotated in the horizontal direction, and upper and lower guide grooves 12, 12 are provided.
A guide rod (not shown) can be fitted in the ′ to move the moving member 11 left and right without rotating. An elevating member 13 is attached to the moving member 11 so as to be able to move up and down, and an IC holding arm 8 provided with a suction pad 14 is attached to the elevating member 13.
【0019】又、ハンダ槽3は図3に示すように、上面
を蓋15で密閉できるようになっており、一部にハンダ
槽3と連通する処理室16を形成し、且つ外気から遮断
するように処理室壁17を蓋15を貫通して設けてい
る。As shown in FIG. 3, the upper surface of the solder bath 3 can be sealed with a lid 15, and a processing chamber 16 communicating with the solder bath 3 is formed at a part of the solder bath 3 and insulated from the outside air. Thus, the processing chamber wall 17 is provided so as to penetrate the lid 15.
【0020】処理室壁17の上面にはワーク出入り口1
8とそれを塞ぐシャッター19が設けられている。ま
た、処理室壁17の側面よりガス導入用の配管20を設
けてあり、ガス加熱用ヒーター21により加熱された不
活性ガスを処理室16に導入できるようなっている。一
方処理室16内には、断面を方形したハンダブロック2
2がブロツク基部23に固定されており、ブロック基部
23は支持プレート24によりハンダポンプ25に接続
され、ハンダブロック22(図5参照)に流量制御され
た溶融ハンダを供給できるようにスリット22´を周面
に設けている。On the upper surface of the processing chamber wall 17, the work entrance / exit 1
8 and a shutter 19 for closing it. Further, a pipe 20 for introducing gas is provided from the side surface of the processing chamber wall 17 so that the inert gas heated by the gas heating heater 21 can be introduced into the processing chamber 16. On the other hand, in the processing chamber 16, a solder block 2 having a rectangular cross section is provided.
2 is fixed to the block base 23, the block base 23 is connected to the solder pump 25 by the support plate 24, and the slit 22 'is provided so as to supply the flow rate-controlled molten solder to the solder block 22 (see FIG. 5). It is provided on the peripheral surface.
【0021】尚、前記ハンダブロック22は図4,5に
示すように溶融ハンダ28を均一に噴出させるスリット
22´を四辺に設け、中間に空間部22″を設けて整形
済IC27のモールド部がハンダブロック22に当たら
ないようにし、空間部22″をハンダ槽3に連通させて
溶融ハンダが溜ることがないようにしてモールド部が接
触することによる熱衝撃を回避する。As shown in FIGS. 4 and 5, the solder block 22 is provided with slits 22 'for uniformly ejecting the molten solder 28 on four sides and a space 22 "in the middle to form a molded portion of the shaped IC 27. The space portion 22 ″ is communicated with the solder bath 3 so as not to hit the solder block 22 so that molten solder does not accumulate and thermal shock due to contact of the mold portion is avoided.
【0022】尚、図3中26はハンダポンプ25を駆動
するモータ、28は溶融ハンダ、29はヒータである。In FIG. 3, 26 is a motor for driving the solder pump 25, 28 is molten solder, and 29 is a heater.
【0023】本第1実施例は前記のように構成したもの
で、まず二方向搬送装置9にてIC保持アーム8を移動
させ、IC保持アーム8の先端にある吸着パット14に
よりIC受取りテーブル2の上に置かれた整形済IC2
7を真空吸着し保持する。次に二方向搬送装置9により
整形済IC27を自動フラックス塗布装置3まで運び、
整形済IC27のリード部分に液体フラックスの塗布を
行い、終了後、整形済IC27をハンダ槽3の上方へと
移動させる。一方処理室壁17内部では、ハンダポンプ
25により制御された溶融ハンダ28の供給を受けたハ
ンダブロック22上に均一で安定したハンダ噴流ができ
ている。また外部ガスヒーター21により約300℃に
熱せられた不活性ガスが導入されているため、処理室1
6は低酸素濃度状態(酸素濃度400ppm以下)に保
たれ、溶融ハンダ28の表面に酸化物が発生する現象は
みられない。The first embodiment is constructed as described above. First, the IC holding arm 8 is moved by the bidirectional transport device 9, and the IC receiving table 2 is moved by the suction pad 14 at the tip of the IC holding arm 8. Shaped IC2 placed on top of
7 is vacuum-adsorbed and held. Next, the shaped IC 27 is carried to the automatic flux applying device 3 by the bidirectional carrying device 9,
Liquid flux is applied to the lead portion of the shaped IC 27, and after the completion, the shaped IC 27 is moved to above the solder bath 3. On the other hand, inside the processing chamber wall 17, a uniform and stable solder jet is formed on the solder block 22 supplied with the molten solder 28 controlled by the solder pump 25. Further, since the inert gas heated to about 300 ° C. is introduced by the external gas heater 21, the processing chamber 1
No. 6 was kept in a low oxygen concentration state (oxygen concentration of 400 ppm or less), and no phenomenon of oxide generation on the surface of the molten solder 28 was observed.
【0024】次に二方向搬送装置9により前記整形済I
C27を垂直方向に降下させ、シャッター19を開いた
ワーク出入口18から処理室16に整形済IC27を運
ぶ。なお、ワーク出入口18は整形済IC27が通過後
シャッター19を閉じる。また、シャッター19は閉じ
た状態でもIC保持アーム8が上下動することの可能な
構造となっており、整形済IC27が処理室16に搬入
された後は、速やかにシャッター19が閉じ処理室16
の低酸素濃度雰囲気を維持することが可能になってい
る。Next, by the bidirectional transport device 9, the shaped I
C27 is lowered in the vertical direction, and the shaped IC 27 is carried into the processing chamber 16 from the work entrance / exit 18 with the shutter 19 opened. The work entrance 18 closes the shutter 19 after the shaped IC 27 has passed. Further, the IC holding arm 8 can move up and down even when the shutter 19 is closed, and after the shaped IC 27 is loaded into the processing chamber 16, the shutter 19 is closed promptly.
It is possible to maintain a low oxygen concentration atmosphere.
【0025】次に整形済IC27はさらに降下させら
れ、ハンダブロック22の四辺に設けたスリット22´
上のハンダ噴流に浸漬される(図5参照)。図5の断面
図に示したように、この時、整形済IC27のリード部
分はハンダブロック22より1mm/sec〜5mm/
sec程度の速度で引き上げると、整形済ICリードア
レーム27のリード部に、ブリッジを生じることなく、
均一なハンダ被膜を形成することができる。Next, the shaped IC 27 is further lowered, and slits 22 'provided on the four sides of the solder block 22 are provided.
It is immersed in the upper solder jet (see Fig. 5). At this time, as shown in the cross-sectional view of FIG. 5, the lead portion of the shaped IC 27 is 1 mm / sec to 5 mm / from the solder block 22.
When pulled up at a speed of about sec, a bridge is not formed in the lead portion of the shaped IC lead alem 27,
A uniform solder coating can be formed.
【0026】以上のハンダコーティング工程終了後、整
形済IC27は処理室16より搬出され超音波洗浄装置
5にて洗浄され、乾燥装置20にて乾燥され、IC受取
りテーブル2へと運ばれる。After the above solder coating process is completed, the shaped IC 27 is carried out of the processing chamber 16, cleaned by the ultrasonic cleaning device 5, dried by the drying device 20 and conveyed to the IC receiving table 2.
【0027】次に、第2実施例を図6に基づいて説明す
ると、本実施例は、第1実施例におけるハンダ厚みを制
御するためのガス噴射ノズル30を処理室16に取付け
たものである。ガス噴射ノズル30は、円形リング状に
設けられ、中央の円形の溜り部31の下端に斜め下方に
向かって微細幅のスリットの幅を持つスリット32が設
けられており、整形済IC27の四辺のリード部に対し
同時に、接続されている導管33とノズル用ヒーター3
4により加熱された高温の窒素ガスを高速で噴射するこ
とができる。それ以外の装置の構成は第1実施例と同様
なので、同一符号を付し説明を省略する。Next, a second embodiment will be described with reference to FIG. 6. In this embodiment, a gas injection nozzle 30 for controlling the solder thickness in the first embodiment is attached to the processing chamber 16. . The gas injection nozzle 30 is provided in the shape of a circular ring, and a slit 32 having a fine slit width is provided obliquely downward at the lower end of a circular reservoir 31 at the center. At the same time, the conduit 33 and the nozzle heater 3 are connected to the lead portion.
The high-temperature nitrogen gas heated by 4 can be injected at high speed. Since the configuration of the device other than that is the same as that of the first embodiment, the same reference numerals are given and the description thereof is omitted.
【0028】本実施例は、第1実施例と同様の方法で処
理室16に整形済IC27を搬入し、ハンダブロック2
2上でハンダコーティングが行われる。その後、整形済
IC27をハンダ噴流より引上げた後、整形済IC27
は、ハンダブロック22の上方に取付けられたガス噴射
ノズル30のガス噴射位置まで運ばれる。このガス噴射
位置は、ガス噴射ノズル30のスリット32により斜め
下45度の角度で噴射される窒素ガス流が、整形済IC
リード部分に直接当たるように設定されている。In this embodiment, the shaped IC 27 is carried into the processing chamber 16 by the same method as in the first embodiment, and the solder block 2
Solder coating is applied on 2. Then, after removing the shaped IC 27 from the solder jet, the shaped IC 27
Are carried to the gas injection position of the gas injection nozzle 30 mounted above the solder block 22. At this gas injection position, the nitrogen gas flow injected at an angle of 45 degrees obliquely downward by the slit 32 of the gas injection nozzle 30 is shaped IC
It is set to directly hit the lead part.
【0029】ここで、ガス噴射ノズル30のスリット3
2より高温の窒素ガスが噴射され、噴射された窒素ガス
は整形済IC27のリード部を覆っているハンダ被膜を
溶解させ、ガスが斜めに下に吹きおろされることによ
り、リード部の下部分にハンダ溜りを集めることができ
る。この時、ガスを噴射したままの状態でガス噴射ノズ
ル用ヒータ34の電源を切れば、噴射されるガスの温度
は低下し、溶解している整形済IC上のハンダもリード
部のT部分に集まったままの状態で凝固させることが可
能となる。以上の作用で整形済IC上のハンダが凝固し
たのち、ガス噴射ノズル30からの窒素ガス噴射を停止
し、以降第1実施例と同様の操作に寄り、整形済IC2
7を処理室16より搬出し、洗浄、乾燥を行う。Here, the slit 3 of the gas injection nozzle 30
Nitrogen gas with a temperature higher than 2 is injected, and the injected nitrogen gas melts the solder coating covering the lead portion of the shaped IC 27, and the gas is blown down diagonally to the lower portion of the lead portion. You can collect solder pools. At this time, if the power of the gas injection nozzle heater 34 is turned off while the gas is still being ejected, the temperature of the ejected gas is lowered, and the melted solder on the shaped IC is also transferred to the T portion of the lead portion. It is possible to coagulate in the state of being collected. After the solder on the shaped IC is solidified by the above-mentioned action, the nitrogen gas injection from the gas injection nozzle 30 is stopped, and thereafter, the operation similar to that of the first embodiment is performed to complete the shaped IC2.
7 is carried out from the processing chamber 16 and washed and dried.
【0030】次に、第3実施例を図7に基づいて詳細に
説明すると、本実施例はハンダブロック22に超音波振
動用ホーンを取付けたものである。即ち、ハンダブロッ
ク22の側面にホーン35が固定され、断熱カラー36
を挟んでコーン37、更に断熱カラー38を挟んで超音
波振動子39が固定されている。なお、コーン37のフ
ランジ部分40は処理室壁17に固定され。超音波振動
用装置部分を支えており、コーン37及び超音波振動子
39はカバー41でカバーされている。他は第1実施例
と同様なので、同一符号を付し説明を省略する。Next, the third embodiment will be described in detail with reference to FIG. 7. In this embodiment, an ultrasonic vibration horn is attached to the solder block 22. That is, the horn 35 is fixed to the side surface of the solder block 22, and the heat insulating collar 36
The ultrasonic transducer 39 is fixed with the cone 37 sandwiched therebetween and the heat insulating collar 38 sandwiched therewith. The flange portion 40 of the cone 37 is fixed to the processing chamber wall 17. It supports the ultrasonic vibration device part, and the cone 37 and the ultrasonic vibrator 39 are covered with a cover 41. Others are the same as those in the first embodiment, and therefore, the same reference numerals are given and the description thereof is omitted.
【0031】本実施例において、第1実施例と同様に、
まず、二方向搬送装置9により整形済IC27を低酸素
濃度状態に保たれた処理室16まで運ぶ。ただしこの
時、自動フラックス塗布装置に3によるフラックス塗布
作業は行わない。処理室16に運ばれた整形済IC27
は、ハンダブロック22上のハンダ噴流に浸漬される
が、この時ハンダブロック22は超音波振動子39の働
きにより振動させられており、ブロックに噴流している
溶融ハンダはキャビテーションを起こしている。この溶
融ハンダ中に整形済IC27のリード部分が浸漬される
ことにより、フラックスのない状態でもハンダ付けが可
能となる。以降、第1実施例と同様にして整形済IC2
7は、ハンダ噴流より引き上げられ、処理室16より搬
出される。ただし、本実施例においてはフラックスを使
用していないため、洗浄と乾燥の作業は必要ない。In this embodiment, as in the first embodiment,
First, the shaped IC 27 is carried by the bidirectional carrier 9 to the processing chamber 16 kept in a low oxygen concentration state. However, at this time, the flux applying work by the automatic flux applying apparatus 3 is not performed. Shaped IC 27 carried to processing room 16
Is immersed in the solder jet flow on the solder block 22. At this time, the solder block 22 is vibrated by the action of the ultrasonic transducer 39, and the molten solder jetted into the block causes cavitation. By immersing the lead portion of the shaped IC 27 in this molten solder, soldering can be performed without flux. Thereafter, the shaped IC 2 is formed in the same manner as in the first embodiment.
7 is taken out of the solder jet stream and carried out of the processing chamber 16. However, since no flux is used in this embodiment, cleaning and drying operations are unnecessary.
【0032】[0032]
【発明の効果】本発明は、前記のような構成、作用を有
するもので、ガス雰囲気中にてハンダ付け作業を行うこ
とにより酸化物付着のない清浄なハンダコーティングを
可能とし、又ハンダブロックを使用することにより、ブ
リッジを発生させることなく、一回の工程で同時にIC
四辺のリードをハンダコートすることができる。この
時、溶融ハンダにICのモールド部分を直接浸すことが
ないため、熱衝撃を回避することができる。また、ハン
ダブロックより引き上げられる時のハンダの噴流量と引
き上げ速度の制御により、ブリッジの発生を防止するこ
とのみならず、ハンダ厚みの制御、均一性などの品質の
向上を可能とするものである。Industrial Applicability The present invention has the above-mentioned structure and operation, and by performing the soldering work in a gas atmosphere, a clean solder coating free of oxide adhesion can be achieved, and the solder block can be formed. By using it, the IC can be processed simultaneously in one process without generating a bridge.
You can solder coat the leads on all sides. At this time, since the mold portion of the IC is not directly immersed in the molten solder, thermal shock can be avoided. In addition, by controlling the flow rate and the pulling rate of the solder when pulled up from the solder block, it is possible not only to prevent the occurrence of bridges, but also to control the solder thickness and improve quality such as uniformity. .
【0033】ハンダコートの後、高温ガスをハンダコー
ティング面に噴射することにより、部分的なハンダの厚
みをコントロールすることが可能となる。After the solder coating, a high temperature gas is sprayed on the solder coating surface, whereby the partial solder thickness can be controlled.
【0034】ハンダブロックを超音波振動させているた
めフラックスを使用しないハンダ付作業が可能となり、
フラックス塗布および洗浄と乾燥の工程を省くことがで
き、より経済的かつ効率的な装置を造ることができる。Since the solder block is ultrasonically vibrated, it is possible to perform soldering work without using flux.
Flux application, washing and drying steps can be omitted, and a more economical and efficient device can be constructed.
【0035】[0035]
【図1】本発明に係る整形済ICのハンダコーティング
装置の一実施例の正面図。FIG. 1 is a front view of an embodiment of a solder coating device for a shaped IC according to the present invention.
【図2】その側面図。FIG. 2 is a side view thereof.
【図3】処理室及びハンダ槽を示す縦断面図。FIG. 3 is a vertical cross-sectional view showing a processing chamber and a solder bath.
【図4】ハンダブロックの斜視図。FIG. 4 is a perspective view of a solder block.
【図5】ハンダブロックの断面図。FIG. 5 is a sectional view of a solder block.
【図6】第2実施例の縦断面図。FIG. 6 is a vertical cross-sectional view of the second embodiment.
【図7】第3実施例の縦断正面図。FIG. 7 is a vertical sectional front view of the third embodiment.
【図8】従来装置の斜視図。FIG. 8 is a perspective view of a conventional device.
【図9】他の従来例の正面図。FIG. 9 is a front view of another conventional example.
1 装置本体 2 IC受けとりテーブル 3 自動フラックス塗布装置 4 ハンダ槽 5 超音波洗浄装置 6 乾燥装置 7 架台 8 IC保持アーム 9 二方向搬送装置 10 回転螺子棒 11 移動部材 12 案内溝 12´ 案内溝 13 昇降部材 14 吸着パット 15 蓋 16 処理室 17 処理室壁 18 ワーク出入口 19 シヤッター 20 配管 21 ガス加熱用ヒータ 22 ハンダブロック 22´ フリット 22″ 空間部 23 ブロック基部 24 支持プレート 25 ハンダポンプ 26 モータ 27 整形済IC 28 溶融ハンダ 29 モータ 30 ガス噴射ノズル 31 溜り部 32 スリット 33 導管 34 ノズル用ヒーター 35 ホーン 36 断熱カラー 37 コーン 38 断熱カラー 39 超音波振動子 40 フランジ部分 41 カバー A ハンダ槽 B 溶融ハンダ C スクレーパ D 整形済IC F 装置本体 G 架台 H 移動装置 I モータ J X軸テーブル K Y軸テーブル L 真空チャック M ハンダ槽 N ポンプ O ハンダブロック P 整形済IC 1 Device Main Body 2 IC Receiving Table 3 Automatic Flux Coating Device 4 Solder Tank 5 Ultrasonic Cleaning Device 6 Drying Device 7 Stand 8 IC Holding Arm 9 Two-Way Transfer Device 10 Rotating Screw Rod 11 Moving Member 12 Guide Groove 12 'Guide Groove 13 Lifting Member 14 Adsorption pad 15 Lid 16 Processing chamber 17 Processing chamber wall 18 Work inlet / outlet 19 Shatter 20 Pipe 21 Gas heating heater 22 Solder block 22 'Frit 22 "Space 23 Block base 24 Support plate 25 Solder pump 26 Motor 27 Preformed IC 28 Melt Solder 29 Motor 30 Gas Injection Nozzle 31 Reservoir 32 Slit 33 Conduit 34 Nozzle Heater 35 Horn 36 Insulation Collar 37 Cone 38 Insulation Collar 39 Ultrasonic Transducer 40 Flange 41 Cover A Solder Tank B Melting Solder Da C scraper D the shaped IC F apparatus main body G gantry H mobile device I motor J X-axis table K Y axis table L vacuum chuck M solder bath N pump O solder blocks P the shaped IC
Claims (3)
素濃度ガス雰囲気を維持することが可能な処理室を連通
させ、処理室内に整形済ICのリード部を嵌入し、ポン
プで送り込まれたハンダ噴流を四辺から均一に噴流させ
るスリットを有するハンダブロックと、整形済ICを水
平に保持する搬送手段を設けたことを特徴とする整形済
ICのハンダコーティング装置。1. A solder bath containing molten solder is connected to a processing chamber capable of maintaining a low oxygen concentration gas atmosphere, and a lead portion of a shaped IC is inserted into the processing chamber and pumped. A solder coating device for a shaped IC, comprising: a solder block having slits for uniformly jetting the solder jet from four sides; and a conveying means for horizontally holding the shaped IC.
高温ガス及び冷却ガスを連続して噴射するスリットを有
するガス噴射ノズルを設置したことを特徴とする請求項
1記載の整形済ICのハンダコーティング装置。2. A shaped injection nozzle according to claim 1, wherein a gas injection nozzle having a slit for continuously injecting a high temperature gas and a cooling gas into the lead portion of the shaped IC is installed in the processing chamber. IC solder coating equipment.
取付けたことを特徴とする請求項1記載の整形済ICの
ハンダコーティング装置。3. The solder coating device for a shaped IC according to claim 1, wherein an ultrasonic vibration horn is attached to the solder block.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7125596A JPH08306847A (en) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | Solder coating equipment of shaped ic |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP7125596A JPH08306847A (en) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | Solder coating equipment of shaped ic |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08306847A true JPH08306847A (en) | 1996-11-22 |
Family
ID=14914066
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP7125596A Pending JPH08306847A (en) | 1995-04-27 | 1995-04-27 | Solder coating equipment of shaped ic |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08306847A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009101395A (en) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Seitec Co Ltd | Partial soldering apparatus |
-
1995
- 1995-04-27 JP JP7125596A patent/JPH08306847A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009101395A (en) * | 2007-10-24 | 2009-05-14 | Seitec Co Ltd | Partial soldering apparatus |
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Effective date: 20040524 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 |
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A521 | Written amendment |
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A02 | Decision of refusal |
Effective date: 20050823 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 |