JPH08306741A - Film carrier for tab and its production - Google Patents

Film carrier for tab and its production

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JPH08306741A
JPH08306741A JP10586995A JP10586995A JPH08306741A JP H08306741 A JPH08306741 A JP H08306741A JP 10586995 A JP10586995 A JP 10586995A JP 10586995 A JP10586995 A JP 10586995A JP H08306741 A JPH08306741 A JP H08306741A
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JP
Japan
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film
tab
reinforcing
insulating base
slit
Prior art date
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JP10586995A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Okabe
宏之 岡部
Hironori Shimazaki
洋典 嶋崎
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Hitachi Cable Ltd
Original Assignee
Hitachi Cable Ltd
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Publication of JPH08306741A publication Critical patent/JPH08306741A/en
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Abstract

PURPOSE: To provide film a carrier for TAB in which no restriction is put on the shape of slit being made at a bending part and the reliability is enhanced by improving the bending characteristics. CONSTITUTION: A reinforcing film 4 is applied to the rear of a flexible insulating basic material film 1 having the surface formed with a wiring pattern 2. The reinforcing film 4 is removed partially from the part 12 to be bent at the time of mounting thus making a slit 5. A material excellent in flexibility is employed for the insulating basic material film 1 and a material having sufficiently high mechanical strength is selected for the reinforcing film 4. A polyimide resin is preferably employed as these materials.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、基材フィルムの表面に
配線パターンを形成したTAB用フィルムキャリア及び
その製造方法に係り、特に実装時に折曲げを必要とする
ものに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a TAB film carrier in which a wiring pattern is formed on the surface of a base film and a method for manufacturing the same, and more particularly to a TAB film carrier which requires bending during mounting.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、IC・LSI等と共に、TABと
呼ばれるフィルムキャリア方式の半導体実装技術が注目
され始めている。TABとは、Tape Automa
tedBondingの略であり、その特徴として高効
率な一括ボンディング、超ファインピッチ化が可能なこ
と、さらに可とう性に富み折曲げ基盤実装が可能なこと
などが挙げられ、液晶ドライバ等に良く用いられてい
る。
2. Description of the Related Art In recent years, a film carrier type semiconductor mounting technique called TAB has been attracting attention along with IC / LSI and the like. TAB is Tape Automa
Ted Bonding is an abbreviation of ted Bonding, and its features include high-efficiency batch bonding, ultra-fine pitch, and flexibility of bending board mounting. It is often used for liquid crystal drivers. ing.

【0003】TAB用フィルムキャリアは、主として金
属配線パターンが絶縁基材フィルムに接着剤を介して接
着された構造をもつ。その代表的な製造法は、まず、3
5mmまたは70mmの幅の接着剤付き絶縁基材フィルム
に、パーフォレーションホールと呼ばれるガイド孔や、
半導体チップとボンディングするためのデバイスホー
ル、アウタリードの基盤接合のためのアウタホール等を
プレス打抜きにより加工する。次に、この接着剤付き絶
縁基材フィルムに銅箔等の導電金属箔を加熱接着する。
その後、感光性有機レジスト塗料を金属箔面上に塗布
し、配線パターンの焼付け・現像を行い、エッチング法
によりレジストパターンに沿って配線パターンを絶縁基
材フィルム上に形成する。さらに、必要に応じてパター
ン保護のためのソルダレジストを配線パターン上に形成
し、最後に錫めっき、金めっき、はんだめっき等の表面
処理を施して完成とする。
The TAB film carrier mainly has a structure in which a metal wiring pattern is adhered to an insulating base film via an adhesive. The typical manufacturing method is 3
A guide hole called a perforation hole or an insulating base film with an adhesive having a width of 5 mm or 70 mm,
A device hole for bonding to a semiconductor chip, an outer hole for joining a substrate of outer leads, and the like are processed by press punching. Next, a conductive metal foil such as a copper foil is heat-bonded to this adhesive base film with an adhesive.
Then, a photosensitive organic resist paint is applied on the metal foil surface, the wiring pattern is baked and developed, and the wiring pattern is formed on the insulating base film along the resist pattern by an etching method. Further, if necessary, a solder resist for pattern protection is formed on the wiring pattern, and finally surface treatment such as tin plating, gold plating, solder plating is performed to complete the process.

【0004】上述したTAB用フィルムキャリアは、そ
の可とう性を生かして、液晶パネル等に折曲げて実装さ
れることが多く、そのようなTAB用フィルムキャリア
には、その折曲げ部位の基材フィルムにスリットを設け
て、折曲げ性を良くするものがある。ところが、このス
リット部位で折り曲げた際に、スリットのエッジで曲げ
半径が小さくなり配線パターンが破断してしまう事故が
多い。
The above-mentioned TAB film carrier is often folded and mounted on a liquid crystal panel or the like by taking advantage of its flexibility, and such a TAB film carrier has a base material at its bent portion. There is a film in which a slit is provided to improve bendability. However, when bent at this slit portion, the bending radius becomes small at the edge of the slit and the wiring pattern is often broken.

【0005】この折曲げ時の配線パターン破断を防止す
るために、フレックス樹脂充填型TAB用フィルムキャ
リアが提案されている。これは、図4に示すように、実
装時に折曲げを必要とする部位の絶縁基材フィルム21
に形成した折曲げ用のスリット24に、フレックス性の
樹脂25を充填したもので、折曲げ時にスリット24の
エッジでの配線パターン22の折れ曲がりを防止し、曲
げをスリット全体に分担することで曲げ半径を大きく取
ること狙いとしたものである。
In order to prevent the breakage of the wiring pattern at the time of bending, a flex resin-filled type TAB film carrier has been proposed. As shown in FIG. 4, this is the insulating base film 21 at a portion that needs to be bent at the time of mounting.
The bending slit 24 formed in the above is filled with a flexible resin 25, which prevents the wiring pattern 22 from being bent at the edge of the slit 24 at the time of bending, and the bending is shared by the entire slit. The aim is to have a large radius.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】しかるに、このフレッ
クス樹脂充填型TAB用フィルムキャリアにおいても、
製造上の制約が幾つかある。フレックス樹脂は、通常、
印刷によりスリットに充填されるが、スリット幅が1.
0〜3.0mmの範囲では比較的問題はないが、幅1mm以
下の狭いスリットになると充填しづらい。また、逆に幅
3mm以上の広いスリットになると、折曲げ性を確保でき
るだけの十分な厚さのフレックス樹脂を充填することが
非常に難しい。加えて、スリットへの均一な充填が難し
く、フレックス樹脂のピンホールや導体との密着不良等
の不良が避けられない。
However, even in the flex resin-filled type TAB film carrier,
There are some manufacturing constraints. Flex resin is usually
The slit is filled by printing, but the slit width is 1.
There is no problem in the range of 0 to 3.0 mm, but it is difficult to fill when the slit has a narrow width of 1 mm or less. On the contrary, if the slit has a wide width of 3 mm or more, it is very difficult to fill the flex resin with a sufficient thickness to ensure bendability. In addition, it is difficult to uniformly fill the slits, and defects such as pinholes in the flex resin and poor adhesion with the conductor cannot be avoided.

【0007】本発明の目的は、前述した従来技術の欠点
を解消し、スリット形状の制約がなく、折曲げ特性を良
好にし、信頼性を向上できるTAB用フィルムキャリア
を提供する。また、本発明の目的は、印刷の必要のない
製造の簡単なTAB用フィルムキャリアの製造方法を提
供することにある。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned drawbacks of the prior art, to provide a TAB film carrier which has no slit shape restriction, has good bending characteristics and can be improved in reliability. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing a TAB film carrier which does not require printing and is easy to manufacture.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明のTAB用フィル
ムキャリアは、配線パターンを表面に形成した可とう性
の絶縁基材フィルムの裏面に補強用フィルムを貼り付
け、補強用フィルムの実装時に折曲げを必要とする折曲
げ部位にスリットを形成したものである。
A film carrier for TAB of the present invention has a reinforcing film attached to the back surface of a flexible insulating substrate film having a wiring pattern formed on the surface thereof, and is folded at the time of mounting the reinforcing film. A slit is formed at a bent portion that requires bending.

【0009】また、本発明のTAB用フィルムキャリア
の製造方法は、可とう性の絶縁基材フィルム及びこれを
補強する補強用フィルムにパーフォレーションホール、
デバイスホール、アウタホールなどの必要な孔を同一サ
イズ、同一配置に形成し、補強用フィルムにはさらに実
装時に折曲げを必要とする折曲げ部位にスリット状の孔
を形成し、パーフォレーションホール、デバイスホー
ル、アウタホールなどの必要な孔同士を位置合わせして
絶縁基材フィルムと補強用フィルムを貼り付け、補強用
フィルムを貼り付けた裏面と反対側の絶縁基材フィルム
の表面に配線パターンを形成したものである。
Further, the method for producing a TAB film carrier of the present invention comprises a flexible insulating base film and a reinforcing film for reinforcing the perforation hole,
Necessary holes such as device holes and outer holes are formed in the same size and arrangement, and the reinforcing film is further provided with slit-shaped holes at the bent portions that require bending at the time of mounting. , A wiring pattern is formed on the surface of the insulating base film on the side opposite to the back side where the reinforcing film is pasted, by aligning the necessary holes such as outer holes with each other Is.

【0010】[0010]

【作用】実装時に、TAB用フィルムキャリアを折り曲
げると、その折曲げ部位は、可とう性の絶縁基材フィル
ムで構成されているので、柔軟性があって曲率半径を大
きく取ることができ、折曲げ部位を走る配線パターンの
破断を防止することができる。
When the TAB film carrier is bent at the time of mounting, since the bent portion is made of a flexible insulating base material film, it is flexible and can have a large radius of curvature. It is possible to prevent breakage of the wiring pattern running on the bent portion.

【0011】また、折曲げ部位に形成されたスリット
は、可とう性の絶縁基材フィルムで裏打ちされているの
で、スリットにフレックス樹脂を充填する必要がなく、
したがってスリット幅に制約がない。
Further, since the slit formed at the bent portion is lined with a flexible insulating base material film, it is not necessary to fill the slit with flex resin,
Therefore, there is no restriction on the slit width.

【0012】基材フィルムは、折曲げ時の屈曲性に富ん
だ材質と厚みを選定する。材質は、例えばポリイミド樹
脂が好ましい。また、厚さは、折曲げを必要とする部位
に形成されるスリットの幅と密接に関係するが、その厚
さを十分薄くする。例えば、スリット幅が1mm未満の幅
狭スリットの場合は、5〜20μm程度が好ましい。1
mm以上の広幅スリットの場合には、絶縁基材フィルムと
しての強度も勘案して、15〜50μm程度の厚さが好
ましい。
For the base film, a material and a thickness that are highly flexible when bent are selected. The material is preferably polyimide resin, for example. Further, the thickness is closely related to the width of the slit formed in the portion requiring bending, but the thickness is made sufficiently thin. For example, in the case of a narrow slit having a slit width of less than 1 mm, about 5 to 20 μm is preferable. 1
In the case of a wide slit of mm or more, a thickness of about 15 to 50 μm is preferable in consideration of strength as an insulating base film.

【0013】また、補強用フィルムは、フィルム材とし
ての強度を十分確保できる材質と厚みを選定する。材質
は、例えばポリイミド樹脂が好ましい。また、厚さは、
絶縁基材フィルムと貼り付けて構成されるフィルムキャ
リアの用途によって決まるが、絶縁基材フィルムの厚さ
との合計が接着剤を含めて75μm〜150μmとなる
ことが好ましい。厚さの合計が75μm以下であるとフ
ィルムキャリアとしての機械的強度が保てず、150μ
m以上になると可とう性に乏しくなり、フィルムキャリ
アのメリットがなくなるからである。
Further, as the reinforcing film, a material and a thickness which can sufficiently secure the strength as a film material are selected. The material is preferably polyimide resin, for example. Also, the thickness is
The total thickness of the insulating base film including the adhesive is preferably 75 μm to 150 μm, although it depends on the use of the film carrier formed by attaching the insulating base film. If the total thickness is 75 μm or less, the mechanical strength as a film carrier cannot be maintained, and
If it is more than m, flexibility becomes poor and the merit of the film carrier is lost.

【0014】[0014]

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。図1は本
実施例のTAB用フィルムキャリアを示し、(a)は斜
視図、(b)はA−B線断面図である。
Embodiments of the present invention will be described below. 1A and 1B show a TAB film carrier of the present embodiment. FIG. 1A is a perspective view, and FIG. 1B is a sectional view taken along the line AB.

【0015】TAB用フィルムキャリアは、表面に配線
パターン2を接着剤3で貼り付けた可とう性の絶縁基材
フィルム1の裏面に、絶縁基材フィルム1の強度を補強
する補強用フィルム4を接着剤6で貼り付けたものであ
る。絶縁基材フィルム1及び補強用フィルム4には、パ
ーフォレーションホール7、デバイスホール8、アウタ
ホール9が共通に設けられる。配線パターン2は、略中
央に位置するデバイスホール8に突き出したインナリー
ド10と、その左右に延出したアウタリード11を有す
る。
In the film carrier for TAB, a reinforcing film 4 for reinforcing the strength of the insulating base film 1 is provided on the back surface of the flexible insulating base film 1 having the wiring pattern 2 attached to the front surface with an adhesive 3. It is attached with an adhesive 6. The insulating base film 1 and the reinforcing film 4 are provided with a perforation hole 7, a device hole 8 and an outer hole 9 in common. The wiring pattern 2 has an inner lead 10 projecting into the device hole 8 located substantially in the center, and outer leads 11 extending left and right thereof.

【0016】このTAB用フィルムキャリアは、実装時
に折曲げを必要とする折曲げ部位12をもち、その部位
12は、通常、延出しているアウタリード11の途中に
なる。その折曲げ部位12の補強用フィルム4は、図示
するように部分的に除去されてスリット5が形成され
る。
This TAB film carrier has a bent portion 12 that needs to be bent at the time of mounting, and the portion 12 is usually located in the middle of the extending outer lead 11. The reinforcing film 4 at the bent portion 12 is partially removed to form the slit 5 as illustrated.

【0017】絶縁基材フィルム1は、例えば厚さ50μ
mのポリイミド樹脂、商品名で挙げれば東レデュポン株
式会社製のカプトンV(登録商標)であり、配線パター
ン2は厚さ19μmの接着剤3を介して絶縁基材フィル
ム1の表面に接着されている。補強用フィルム4は厚さ
50μmのポリイミド樹脂、商品名で挙げれば宇部興産
株式会社製のユーピレックスS(登録商標)が用いられ
る。折曲げ部位12の補強用フィルム4には、幅3mmの
スリット5が形成される。この補強用フィルム4は、絶
縁基材フィルム1の裏面に厚さ19μmの接着剤6を介
して接着されている。なお、接着剤3及び6はポリイミ
ド系の樹脂からなるものである。
The insulating base film 1 has a thickness of, for example, 50 μm.
m polyimide resin, Kapton V (registered trademark) manufactured by Toray DuPont Co., Ltd. as a trade name, and the wiring pattern 2 is adhered to the surface of the insulating base film 1 through an adhesive 3 having a thickness of 19 μm. There is. The reinforcing film 4 is made of a polyimide resin having a thickness of 50 μm, and Upilex S (registered trademark) manufactured by Ube Industries, Ltd. is used as a trade name. A slit 5 having a width of 3 mm is formed on the reinforcing film 4 at the bent portion 12. The reinforcing film 4 is adhered to the back surface of the insulating base film 1 with an adhesive 6 having a thickness of 19 μm. The adhesives 3 and 6 are made of polyimide resin.

【0018】上記のように構成されたTAB用フィルム
キャリアは、図2に示すように、デバイスホール8に突
き出したインナリード10に半導体チップ13を、また
アウタリード11に液晶14等を実装し、これをスリッ
ト5の部位で折曲げて使用する。
As shown in FIG. 2, the TAB film carrier constructed as described above has a semiconductor chip 13 mounted on the inner leads 10 protruding in the device hole 8 and a liquid crystal 14 mounted on the outer leads 11, and the like. Is bent at the slit 5 and used.

【0019】ここで、本実施例のTAB用フィルムキャ
リアの性能を確認するために、スリット5の部位におけ
るアウタリード11の耐折れ性の評価を行った。耐折れ
性の評価は、100gの加重を加えた場合の90°両側
曲げ試験を行ったときの、アウタリード破断までの折曲
げ回数で示す。比較のために、図4に示す従来のフレッ
クス樹脂充填型TAB用フィルムキャリアについても試
験した。試験に用いるTAB用フィルムキャリアは、い
ずれも同一配線パターン(折曲げ部アウタリード幅80
μm)のものであり、また、スリット幅も同一(1.0
mm)とした。
Here, in order to confirm the performance of the TAB film carrier of this embodiment, the bending resistance of the outer lead 11 at the slit 5 portion was evaluated. The evaluation of the fold resistance is indicated by the number of folds until the outer lead is broken when a 90 ° both-sides bending test is performed with a load of 100 g. For comparison, the conventional flex resin-filled TAB film carrier shown in FIG. 4 was also tested. The TAB film carriers used in the tests all had the same wiring pattern (folded outer lead width 80
μm) and the slit width is the same (1.0
mm).

【0020】その結果、本実施例の耐折れ性は、従来例
の100回に対して200回以上であり、従来例に比べ
て2倍以上良いことがわかった。
As a result, it was found that the fold resistance of this example was 200 times or more compared to 100 times of the conventional example, which was more than twice as good as that of the conventional example.

【0021】次に、上述した本実施例のTAB用フィル
ムキャリアの製造方法について説明する。図3に示すよ
うに、まず、表面に接着剤3を付けた可とう性の絶縁基
材フィルム1、及び表面に接着剤6を付けた補強用フィ
ルム4にパーフォレーションホール、デバイスホール
8、アウタホール9などの必要な孔を、打抜きパンチン
グ加工で同一サイズ、同一配置に形成する。このとき、
補強用フィルム4にはさらに実装時に折曲げを必要とす
る折曲げ部位12にスリット5を形成する(図3
(a))。スリット5の形状は、補強用フィルムの打抜
きパンチング加工の精度のみに依存し、補強用フィルム
としての強度が保てれば、基本的にその形状に制約はな
い。
Next, a method of manufacturing the TAB film carrier of this embodiment described above will be described. As shown in FIG. 3, first, a perforation hole, a device hole 8 and an outer hole 9 are formed on a flexible insulating base film 1 having an adhesive 3 on its surface and a reinforcing film 4 having an adhesive 6 on its surface. Necessary holes such as are formed in the same size and the same arrangement by punching and punching. At this time,
Further, the reinforcing film 4 is provided with a slit 5 at a bent portion 12 which requires bending at the time of mounting (see FIG. 3).
(A)). The shape of the slit 5 depends only on the precision of the punching punching process of the reinforcing film, and basically there is no restriction on the shape as long as the strength as the reinforcing film can be maintained.

【0022】その後、パーフォレーションホール、デバ
イスホール8、アウタホール9などの必要な孔同士を位
置合わせして絶縁基材フィルム1に補強用フィルム4を
接着剤6で貼り付ける(図3(b))。そして、補強用
フィルム4を貼り付けた裏面と反対側の絶縁基材フィル
ム1の表面に、接着剤3を用いて銅箔等の導電金属箔を
加熱接着する。その後、前述したように配線パターン2
を絶縁基材フィルム1上に形成する(図3(c))。
After that, necessary holes such as the perforation hole, the device hole 8 and the outer hole 9 are aligned with each other, and the reinforcing film 4 is attached to the insulating base film 1 with the adhesive 6 (FIG. 3 (b)). Then, a conductive metal foil such as a copper foil is heat-bonded to the surface of the insulating base material film 1 on the opposite side of the back surface to which the reinforcing film 4 is attached by using the adhesive 3. Then, as described above, the wiring pattern 2
Is formed on the insulating substrate film 1 (FIG. 3C).

【0023】これによれば、補強用フィルムに形成した
スリットにフレックス樹脂を充填する必要がないので、
製造が容易となる。また、スリット幅は、打抜きパンチ
ング加工の精度によって決まるが、0.1mm以上は可能
であり、従来のような制約がない。
According to this, since it is not necessary to fill the slit formed in the reinforcing film with the flex resin,
Manufacturing is easy. Further, the slit width is determined by the accuracy of punching and punching processing, but it can be 0.1 mm or more, and there is no restriction as in the past.

【0024】なお、上述した製造方法例では、TAB用
フィルムキャリアを製造するに際して、絶縁基材フィル
ムに補強用フィルムを貼り付けてから配線パターンを形
成するようにしたが、絶縁基材フィルム上に配線パター
ンを形成してから、補強用フィルムを貼り付けるように
してもよい。
In the above-mentioned manufacturing method example, when the TAB film carrier is manufactured, the reinforcing film is attached to the insulating base film before the wiring pattern is formed. The reinforcing film may be attached after the wiring pattern is formed.

【0025】[0025]

【発明の効果】本発明によれば、折曲げ部に形成するス
リット形状に制約がなく、また折曲げ特性が良好で、耐
折れ性も従来のフレックス樹脂充填型TABに比べ2倍
以上改善でき、信頼性に優れる。
According to the present invention, there is no restriction on the slit shape formed in the bent portion, the bending characteristics are good, and the bending resistance can be improved more than twice as compared with the conventional flex resin-filled TAB. , Excellent in reliability.

【0026】また、本発明方法によれば、形成したスリ
ットにフレックス樹脂を充填する必要がないので、製造
が容易である。
Further, according to the method of the present invention, since it is not necessary to fill the formed slit with the flex resin, the manufacturing is easy.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のTAB用フィルムキャリアの実施例を
示す図であって、(a)は斜視図、(b)はA−B線断
面図である。
1A and 1B are views showing an embodiment of a TAB film carrier of the present invention, in which FIG. 1A is a perspective view and FIG. 1B is a sectional view taken along line AB.

【図2】本実施例のTAB用フィルムキャリアの使用状
態を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a usage state of the TAB film carrier of the present embodiment.

【図3】本実施例のTAB用フィルムキャリアの製造方
法を示す説明図である。
FIG. 3 is an explanatory view showing a method for manufacturing a TAB film carrier of the present embodiment.

【図4】従来例のフレックス樹脂充填型TAB用フィル
ムキャリアの断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view of a conventional flex resin-filled TAB film carrier.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 絶縁基材フィルム 2 配線パターン 3 接着剤 4 補強用フィルム 5 スリット 6 接着剤 7 パーフォレーションホール 8 デバイスホール 9 アウタホール 10 インナリード 11 アウタリード 12 折曲げ部位 1 Insulating Base Film 2 Wiring Pattern 3 Adhesive 4 Reinforcing Film 5 Slit 6 Adhesive 7 Perforation Hole 8 Device Hole 9 Outer Hole 10 Inner Lead 11 Outer Lead 12 Bent Part

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】配線パターンを表面に形成した可とう性の
絶縁基材フィルムの裏面に補強用フィルムを貼り付け、
補強用フィルムの実装時に折曲げを必要とする折曲げ部
位にスリットを形成したTAB用フィルムキャリア。
1. A reinforcing film is attached to the back surface of a flexible insulating substrate film having a wiring pattern formed on the surface,
A film carrier for TAB having slits formed at the bending portions that require bending when mounting the reinforcing film.
【請求項2】上記絶縁基材フィルムが折曲げ時の屈曲性
に富んだポリイミド樹脂から構成され、補強用フィルム
材は機械的強度を十分確保できるポリイミド樹脂から構
成されている請求項1に記載のTAB用フィルムキャリ
ア。
2. The insulating base material film is composed of a polyimide resin having a high flexibility when bent, and the reinforcing film material is composed of a polyimide resin capable of sufficiently securing mechanical strength. TAB film carrier.
【請求項3】可とう性の絶縁基材フィルム及びこれを補
強する補強用フィルムにパーフォレーションホール、デ
バイスホール、アウタホールなどの必要な孔を同一サイ
ズ、同一配置に形成し、補強用フィルムにはさらに実装
時に折曲げを必要とする折曲げ部位にスリットを形成
し、上記パーフォレーションホール、デバイスホール、
アウタホールなどの必要な孔同士を位置合わせして絶縁
基材フィルムに補強用フィルムを貼り付け、補強用フィ
ルムを貼り付けた裏面と反対側の絶縁基材フィルムの表
面に配線パターンを形成したTAB用フィルムキャリア
の製造方法。
3. A flexible insulating base film and a reinforcing film for reinforcing the insulating base film are formed with necessary holes such as perforation holes, device holes and outer holes in the same size and the same arrangement. Slits are formed in the bending part that requires bending at the time of mounting, and the perforation hole, device hole,
For TAB in which necessary holes such as outer holes are aligned and a reinforcing film is attached to the insulating base film, and a wiring pattern is formed on the surface of the insulating base film opposite to the back side on which the reinforcing film is attached. Film carrier manufacturing method.
JP10586995A 1995-04-28 1995-04-28 Film carrier for tab and its production Pending JPH08306741A (en)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6633002B2 (en) 1999-05-20 2003-10-14 Nec Lcd Technologies, Ltd. Tape carrier having high flexibility with high density wiring patterns
KR100651788B1 (en) * 2000-04-25 2006-11-30 삼성테크윈 주식회사 Manufacturing method of TBGA semiconductor package

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