JPH08306040A - Production of magnetic recording medium - Google Patents

Production of magnetic recording medium

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JPH08306040A
JPH08306040A JP11057095A JP11057095A JPH08306040A JP H08306040 A JPH08306040 A JP H08306040A JP 11057095 A JP11057095 A JP 11057095A JP 11057095 A JP11057095 A JP 11057095A JP H08306040 A JPH08306040 A JP H08306040A
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JP
Japan
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recording medium
magnetic recording
layer
magnetic
medium according
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Application number
JP11057095A
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Japanese (ja)
Inventor
Yuzo Yamamoto
裕三 山本
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Abstract

PURPOSE: To prevent the occurrence of flows on the surface of a disk and to improve error characteristics and sliding durability to a head by carrying out a vanishing process by oxidation treatment and forming a lubricant layer by vapor phase polymn. CONSTITUTION: This magnetic recording medium is produced through a process for forming a magnetic layer on a nonmagnetic substrate, a process for forming a protective layer on the magnetic layer, a vanishing process for reducing the height of abnormal protrusions existing on the surface of the protective layer and a process for forming a lubricant layer on the protective layer. The vanishing process is carried out by oxidation treatment by heating the substrate at 400-600 deg.C in an oxidizing atmosphere of air, ozone, CO2 , steam, etc. The lubricant layer is formed by bringing a fluorocarbon compd., preferably this compd. and oxygen into vapor phase polymn. under vacuum conditions.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、磁気記録媒体の製造方
法に関するものである。更に詳しくは、非磁性基板上に
乾式めっき等の方法により磁性層が形成されたハードデ
ィスクに代表される磁気記録媒体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a magnetic recording medium. More specifically, it relates to a magnetic recording medium represented by a hard disk in which a magnetic layer is formed on a non-magnetic substrate by a method such as dry plating.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気ディスクシステムにおいて、再生出
力を考慮した場合、磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間隔
(浮上量)が小さい、すなわちスペーシングロスは少な
い方が有利である。言い換えると、磁気ディスク表面は
平滑であることが望ましい。
2. Description of the Related Art In a magnetic disk system, when reproduction output is taken into consideration, it is advantageous that the distance (flying height) between the magnetic recording medium and the magnetic head is small, that is, the spacing loss is small. In other words, it is desirable that the magnetic disk surface be smooth.

【0003】しかし、一般に磁気ディスクは、保護層形
成後、あるいは潤滑剤を塗布した後の表面に「異常突
起」と呼ばれる微小突起が存在するためにこれを研磨テ
ープにより除去して適当に突起の高さを低くして表面を
仕上げることが行われている。このように物理的な手段
によりディスク表面の異常突起を除去する操作は通常
「バーニッシュ」と呼ばれている。
However, in general, a magnetic disk has minute projections called "abnormal projections" on the surface after formation of a protective layer or after application of a lubricant. The height is lowered to finish the surface. Such an operation of removing the abnormal protrusion on the disk surface by a physical means is usually called "burnish".

【0004】研磨テープによるバーニッシュ工程は、基
本的にはアミルナ、ダイヤモンド等の砥粒を有機バイン
ダーにより可撓性の支持体上に設けた研磨テープを磁気
ディスク表面に適当な圧力をかけて当接させ、ディスク
と研磨テープを走行させることにより行なわれる。この
ようなバーニッシュ工程として、たとえば磁気ディスク
媒体の製造工程において、該磁気ディスク媒体表面を研
磨テープを用いて加工した後、表面に介在する微小突起
のみを有効に除去するために、研磨テープを用い、媒体
の周速250m/min以上、テープ加工圧力を50g
/mm2 以下とした磁気ディスク媒体の製造方法が提案
(特開昭59−148134号公報、特公平2−104
86号公報)されている。
The burnishing process using a polishing tape is basically performed by applying an appropriate pressure to the surface of the magnetic disk with a polishing tape in which abrasive grains such as amylna and diamond are provided on a flexible support by an organic binder. It is carried out by bringing them into contact with each other and running the disk and the polishing tape. As such a burnishing process, for example, in the manufacturing process of a magnetic disk medium, after the surface of the magnetic disk medium is processed using a polishing tape, a polishing tape is used in order to effectively remove only minute projections existing on the surface. Using a medium peripheral speed of 250 m / min or more, tape processing pressure of 50 g
/ Mm 2 or less, a method of manufacturing a magnetic disk medium is proposed (Japanese Patent Laid-Open No. 59-148134, Japanese Patent Publication No. 2-104).
No. 86).

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、研磨テ
ープを用いたバーニッシュ加工では、研磨テープの砥粒
の粒径が均一でなく粒径に分布(ムラ)があるため、粒
径の大きな砥粒やテープから脱落した砥粒がディスク表
面を傷つけてエラーの原因をつくり収率の低下を招くと
いう問題があった。
However, in the burnishing process using a polishing tape, since the abrasive grains in the polishing tape are not uniform in grain size but have a distribution (unevenness) in the grain size, the abrasive grains having a large grain size are large. There is a problem in that the abrasive grains dropped from the tape or the tape damage the disk surface and cause an error, resulting in a decrease in yield.

【0006】また、研磨により生じた研磨粉あるいは研
削粉がディスク表面に残存するとヘッドと衝突して摺動
耐久性を低下させたり、磁性層や保護層を傷つけたりす
る。しかも研磨粉あるいは研削粉がディスク表面に残っ
ていると、液体の潤滑剤や水が毛管現象により残存粒子
の周りに寄せ集められ、ヘッド吸着の原因となる。
Further, if the polishing powder or grinding powder generated by polishing remains on the disk surface, it collides with the head to lower the sliding durability and damage the magnetic layer and the protective layer. Moreover, if the polishing powder or the grinding powder remains on the disk surface, the liquid lubricant or water is gathered around the remaining particles due to the capillary phenomenon, which causes head adsorption.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、磁気記
録媒体表面の異常突起を除去する際に、上記したような
研磨テープによるバーニッシュ加工の問題点を解消でき
る優れたバーニッシュ方法を提供することであり、本発
明者らの鋭意研究の結果、従来の研磨テープによるバー
ニッシュのような物理的なバーニッシュ法ではなく、酸
化処理による化学的なバーニッシュ法がこの要求を満た
すことを見出し、更に、このようなバーニッシュ処理を
施した基板上に気相重合により潤滑剤層を形成すること
により、更に摺動耐久性を向上できることを見出し、本
発明を完成するに至った。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide an excellent burnishing method capable of solving the above-mentioned problems of burnishing with a polishing tape when removing abnormal protrusions on the surface of a magnetic recording medium. As a result of earnest research by the present inventors, a chemical burnishing method by oxidation treatment satisfies this requirement, not a physical burnishing method like burnishing by a conventional polishing tape. Further, it was found that the sliding durability can be further improved by forming a lubricant layer on the substrate which has been subjected to such burnishing treatment by vapor phase polymerization, and completed the present invention.

【0008】すなわち本発明は、少なくとも非磁性基板
上に磁性層を形成する工程と、磁性層上に保護層を形成
する工程と、保護層表面に存在する異常突起の高さを低
くするバーニッシュ工程と、前記保護層上に潤滑剤層を
形成する工程を有する磁気記録媒体の製造方法におい
て、前記バーニッシュ工程を酸化処理により行ない、且
つ前記潤滑剤層の形成を真空条件下での気相重合により
行なうことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供
するものである。
That is, according to the present invention, at least a step of forming a magnetic layer on a non-magnetic substrate, a step of forming a protective layer on the magnetic layer, and a burnish for reducing the height of abnormal protrusions existing on the surface of the protective layer. In the method for manufacturing a magnetic recording medium having a step and a step of forming a lubricant layer on the protective layer, the burnishing step is performed by an oxidation treatment, and the lubricant layer is formed in a vapor phase under vacuum conditions. The present invention provides a method for manufacturing a magnetic recording medium, which is characterized in that polymerization is performed.

【0009】通常のハードディスクの製造工程は、基板
をテクスチャー(表面を適度に粗面化する)処理した
後、洗浄し、基板上に磁性層を成膜し、次いで磁性層上
に保護層を形成した後、ディスク表面の異常突起を除去
して適当な高さに調節するバーニッシュ工程が施された
後、保護層上に潤滑層が形成される。このような製造工
程において、必要に応じて磁性層の下の下地層等を設け
る工程が加えられる。本発明の製造方法は、公知の製造
工程において、いわゆるバーニッシュ工程を酸化処理に
より行ない、且つ潤滑剤層を真空下での気相重合により
行なうことを特徴とするものである。
In a usual hard disk manufacturing process, a substrate is textured (the surface is appropriately roughened), washed, a magnetic layer is formed on the substrate, and then a protective layer is formed on the magnetic layer. After that, after performing a burnishing step of removing abnormal protrusions on the disk surface and adjusting the height to an appropriate height, a lubricating layer is formed on the protective layer. In such a manufacturing process, a step of providing an underlayer or the like under the magnetic layer is added if necessary. The manufacturing method of the present invention is characterized in that in the known manufacturing process, a so-called burnishing process is performed by an oxidation treatment, and the lubricant layer is subjected to gas phase polymerization under vacuum.

【0010】(A)酸化バーニッシュ工程 本発明において、酸化処理によるバーニッシュ工程は、
空気、オゾン、二酸化炭素、水蒸気等の酸化性雰囲気下
で基板を加熱することにより実施される。加熱方法は、
ニクロム線ヒーター等の電熱線加熱、赤外線ランプによ
る加熱等が挙げられる。加熱温度は300〜1000
℃、とくに400〜600℃が好ましい。加熱温度が高
いと装置に歪みが生じる場合があるので装置の材料を考
慮する必要がある。また加熱温度が高すぎると、保護層
をダイヤモンドライクカーボン等のカーボンで形成する
場合、カーボンが磁性層に拡散して保磁力(Hc)が低
下するおそれがある。また、加熱時間は0.1〜60分
であり、生産性を考慮するととくに0.5〜5分が好ま
しい。酸化処理による異常突起の高さの低下量(突起の
除去量)は酸化温度や時間等を操作することにより、精
密に制御することが可能である。また、本発明でいう
「酸化処理」とは厳密な酸化ではなく、加熱により異常
突起が分解・気化・蒸発するような現象も含む。したが
って、真空中で基板を加熱するようなバーニッシュ処理
方法も本発明の酸化バーニッシュに含まれる。
(A) Oxidation burnishing step In the present invention, the burnishing step by oxidation treatment is
It is carried out by heating the substrate in an oxidizing atmosphere such as air, ozone, carbon dioxide or water vapor. The heating method is
Examples include heating of heating wires such as a nichrome wire heater and heating by an infrared lamp. Heating temperature is 300-1000
C., especially 400 to 600.degree. C. are preferred. When the heating temperature is high, the device may be distorted, so it is necessary to consider the material of the device. If the heating temperature is too high, when the protective layer is formed of carbon such as diamond-like carbon, the carbon may diffuse into the magnetic layer and the coercive force (Hc) may decrease. The heating time is 0.1 to 60 minutes, and 0.5 to 5 minutes is particularly preferable in consideration of productivity. The amount of reduction in the height of abnormal protrusions (removal amount of protrusions) due to the oxidation treatment can be precisely controlled by operating the oxidation temperature, time, and the like. Further, the “oxidation treatment” in the present invention does not mean strict oxidation but also includes a phenomenon in which abnormal protrusions are decomposed / vaporized / vaporized by heating. Therefore, the burnishing method of heating the substrate in a vacuum is also included in the oxide burnish of the present invention.

【0011】(B)気相重合工程 本発明では保護層上に気相重合により潤滑剤層を形成す
る工程を含む。気相重合は、フッ化炭素系化合物の単独
で行なってもよいが、好ましくはフッ化炭素系化合物と
酸素の反応により行なわれる。
(B) Gas Phase Polymerization Step The present invention includes a step of forming a lubricant layer on the protective layer by gas phase polymerization. The gas phase polymerization may be carried out using a fluorocarbon compound alone, but is preferably carried out by reacting a fluorocarbon compound with oxygen.

【0012】上記フッ化炭素系化合物としては、炭素−
炭素二重結合を有するものが好ましく、とくに好ましく
は、下記一般式(I)〜(III) で表される化合物からな
る群から選択される。
The above-mentioned fluorocarbon compounds include carbon-
Those having a carbon double bond are preferable, and particularly preferably selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (I) to (III).

【0013】CF2=CFRf 1 ・・・・(I) (式中、Rf 1は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基または部分フッ素化アリール基を示す) CF2=C(Rf 2)(Rf 3)・・・・(II) (式中、Rf 2及びRf
3は、同一または異なる水素原子、フッ素原子、パーフ
ルオロアルキル基、パーフルオロアルケニル基、部分フ
ッ素化アルキル基、部分フッ素化アルケニル基、パーフ
ルオロアリール基または部分フッ素化アリール基を示す
CF 2=CFO(Rf4)・・・・(III) (式中、Rf 4は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基または部分フッ素化アリール基を示す) 上記フッ化炭素系化合物は、それぞれ単独で用いてもよ
くまたは2種以上を混合して用いてもよい。2種以上用
いる場合には、上記一般式(I)〜(III) の何れか一つ
の範疇から2種以上を選択して用いてもよくまたは上記
一般式(I)〜(III) のうちの少なくとも2つの範疇か
らそれぞれ1種以上を選択してもよい。
CF 2 = CFR f 1 ... (I) (wherein R f 1 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, CF 2 ═C (R f 2 ) (R f 3 ) ... (II) (wherein R f 2 and R f are represented by a perfluoroaryl group or a partially fluorinated aryl group)
3 is the same or different hydrogen atom, fluorine atom, perf
Luoroalkyl group, perfluoroalkenyl group, partial group
Fluorinated alkyl group, partially fluorinated alkenyl group, perf
Indicates a fluoroalkyl group or a partially fluorinated aryl group
) CF 2 = CFO (R f 4 ) ... (III) (In the formula, R f 4 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group or a partially fluorinated alkenyl group. Represents a perfluoroaryl group or a partially fluorinated aryl group) The fluorocarbon compounds may be used alone or in combination of two or more. When two or more kinds are used, two or more kinds may be selected and used from any one of the general formulas (I) to (III), or among the general formulas (I) to (III). One or more kinds may be selected from each of at least two categories.

【0014】上記一般式(I)のRf 1において、好まし
いパーフルオロアルキル基としては、パーフルオロメチ
ル基(CF3−)、パーフルオロヘプチル基(C5
11−)、パーフルオロヘキシル基 (C613−)が挙げら
れ、好ましくはパーフルオロアルケニル基としては、パ
ーフルオロエチニル(CF2=CF−)が挙げられ、好ま
しい部分フッ素化アルキル基としては、1H−パーフル
オロブチル基 (C48H−)が挙げられ、好ましい部分
フッ素化アルケニル基としては、−CF2−CF=CH2
が挙げられ、好ましいパーフルオロアリール基として
は、パーフルオロベンジル基 (−CF2−C65)が挙げ
られ、そして、好ましい部分フッ素化アリール基として
は、−CFH−C65及び−CF2−C65が挙げられ
る。
In R f 1 of the general formula (I), preferable perfluoroalkyl groups are perfluoromethyl group (CF 3 —) and perfluoroheptyl group (C 5 F).
11 -), perfluorohexyl group (C 6 F 13 -). Examples of the preferably perfluoroalkenyl group, perfluoro ethynyl (CF 2 = CF-). Preferable examples of partially fluorinated alkyl group , 1H-perfluorobutyl group (C 4 F 8 H-). preferable examples of partially fluorinated alkenyl group, -CF 2 -CF = CH 2
And examples of the preferred perfluoro aryl group, perfluoro benzyl group (-CF 2 -C 6 F 5) and the like, and, as a preferred partially fluorinated aryl group, -CFH-C 6 H 5 and - CF 2 -C 6 H 5 and the like.

【0015】したがって、一般式(I)で表される化合
物のうち、好ましいものとしては、テトラフルオロエチ
レン (CF2=CF2)、ヘキサフルオロプロペン(CF2
=CFCF3 )、パーフルオロヘプテン−1(CF2
CFC511)、6H−パーフルオロヘキセン−1 (C
2=CFC48H)、パーフルオロオクテン−1(CF
=CFC613)、ヘキサフルオロ−1,3−ブタジエン
(CF2=CFCF=CF2)、3−(ペンタフルオロフェ
ニル)ペンタフルオロプロペン−1(CF2=CFCF2
65)、CF2=CFCHF−C65、CF2=CFC
2−C65、CF2=CFCF2CF=CH2等が挙げら
れる。
Therefore, among the compounds represented by the general formula (I), preferred are tetrafluoroethylene (CF 2 ═CF 2 ), hexafluoropropene (CF 2).
= CFCF 3 ), perfluoroheptene-1 (CF 2 =
CFC 5 F 11 ), 6H-perfluorohexene-1 (C
F 2 = CFC 4 F 8 H), perfluorooctene-1 (CF
= CFC 6 F 13), hexafluoro-1,3-butadiene
(CF 2 = CFCF = CF 2 ), 3- ( pentafluorophenyl) pentafluoropropene -1 (CF 2 = CFCF 2
C 6 F 5), CF 2 = CFCHF-C 6 H 5, CF 2 = CFC
F 2 -C 6 H 5, CF 2 = CFCF 2 CF = CH 2 and the like.

【0016】上記一般式(II)のRf 2,Rf 3 において、
好ましいパーフルオロアルキル基としては、上記一般式
(I)におけるものの他に−CF2CF3が挙げられ、好
ましいパーフルオロアルケニル基としては、上記一般式
(I) におけるものの他に−CF2−CF=CF2が挙げ
られ、好ましい部分フッ素化アルキル基としては−CF
2H及び−CF2CF2Hが挙げられ、好ましい部分フッ
素化アルケニル基としては、−CF2−CF=CH2が挙
げられ、そして好ましいパーフルオロアリール基及び部
分フッ素化アリール基としては、上記一般式(I)にお
けるものと同様のものが挙げられる。
In R f 2 and R f 3 of the general formula (II),
Preferred perfluoroalkyl groups include —CF 2 CF 3 in addition to those in the above general formula (I), and preferred perfluoroalkenyl groups include the above general formula
In addition to those in (I), -CF 2 -CF = CF 2 may be mentioned, and preferable partially fluorinated alkyl group is -CF
2 H and —CF 2 CF 2 H, preferred partially fluorinated alkenyl groups include —CF 2 —CF═CH 2 , and preferred perfluoroaryl groups and partially fluorinated aryl groups include the above. The same thing as the thing in general formula (I) is mentioned.

【0017】したがって、一般式(II)で表される化合物
のうち、好ましいものとしては、CF2=C(CF3)2
CF2=CH2、CF2=CHF、CF2=CHCF3、C
2 =CHCF2CF3、CF2=CHCF=CF2、CF
2=CHCF2CF=CF2 、CF2=CHCF2H、CF
2=CHCF2CF2H、CF2=CHCF2CF=CH2
CF2=CHCF=CH2、CF2=CHCFH−C
65、CF2=CHCF2−C65等が挙げられる。
Therefore, among the compounds represented by the general formula (II), preferred ones are CF 2 ═C (CF 3 ) 2 ,
CF 2 = CH 2 , CF 2 = CHF, CF 2 = CHCF 3 , C
F 2 = CHCF 2 CF 3 , CF 2 = CHCF = CF 2 , CF
2 = CHCF 2 CF = CF 2 , CF 2 = CHCF 2 H, CF
2 = CHCF 2 CF 2 H, CF 2 = CHCF 2 CF = CH 2,
CF 2 = CHCF = CH 2, CF 2 = CHCFH-C
6 F 5, CF 2 = CHCF 2 -C 6 H 5 and the like.

【0018】上記一般式(III) のRf 4において、好まし
いパーフルオロアルキル基及びパーフルオロアルケニル
基としては、上記一般式(II)におけるものと同様のも
のが挙げられ、好ましい部分フッ素化アルキル基として
は−CF2H、−CF2CF2H及び−C48Hが挙げら
れ、好ましい部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロ
アリール基及び部分フッ素化アリール基としては、上記
一般式(II)におけるものと同様のものが挙げられ、そ
して、好ましいパーフルオロアルコキシアルキル基とし
ては、−CF2CF(CF3)OC37 が挙げられる。
In R f 4 of the above general formula (III), preferable perfluoroalkyl groups and perfluoroalkenyl groups are the same as those in the above general formula (II). the -CF 2 H, -CF 2 CF 2 H and -C 4 F 8 H, and the like, preferably partially fluorinated alkenyl group, a perfluoro aryl and partially fluorinated aryl group, the general formula (II) It can be mentioned those similar to the ones in and preferred perfluoro alkoxyalkyl group, -CF 2 CF (CF 3) OC 3 H 7 and the like.

【0019】したがって、一般式(III) で表される化合
物のうち好ましいものとしては、CF2=CFOCF3
CF2=CFOC511、CF2=CFOC613、CF2
=CFOCF2CF3、CF2=CFOCF=CF2、CF
2=CFOCF2CF=CF2、CF2=C48H、CF2
=CFOCF2H、CF2=CFOCF=CF2H、CF2
=CFOCF2−CF=CH2、CF2=CFOCF=C
2、CF2=CFOCF2−C65、CF2=CFOCF
H−C65 、CF2=CFOCF2−C65、CF2
CFOCF2CF(CF3)OC37等が挙げられる。
Therefore, among the compounds represented by the general formula (III), preferred ones are CF 2 ═CFOCF 3 ,
CF 2 = CFOC 5 F 11 , CF 2 = CFOC 6 F 13 , CF 2
= CFOCF 2 CF 3 , CF 2 = CFOCF = CF 2 , CF
2 = CFOCF 2 CF = CF 2 , CF 2 = C 4 F 8 H, CF 2
= CFOCF 2 H, CF 2 = CFOCF = CF 2 H, CF 2
= CFOCF 2 -CF = CH 2, CF 2 = CFOCF = C
H 2, CF 2 = CFOCF 2 -C 6 F 5, CF 2 = CFOCF
H-C 6 H 5, CF 2 = CFOCF 2 -C 6 H 5, CF 2 =
CFOCF 2 CF (CF 3) OC 3 H 7 , and the like.

【0020】フッ化炭素系化合物と酸素との使用割合
は、フッ化炭素系化合物/酸素(モル比)が好ましくは
1/0.5〜1/100、更に好ましくは1/1〜1/
10、最も好ましくは1/2〜1/8である。上記使用
割合が上記の範囲にあると、レーザー光等の吸収効率が
良く、重合反応が円滑に進行するため耐久性のより優れ
た潤滑層が形成されるので好ましい。
The ratio of the fluorocarbon compound to oxygen used is preferably a fluorocarbon compound / oxygen (molar ratio) of 1 / 0.5 to 1/100, more preferably 1/1 to 1/1.
10, most preferably 1/2 to 1/8. When the use ratio is within the above range, the absorption efficiency of laser light and the like is good, and the polymerization reaction proceeds smoothly, so that a lubricating layer having more excellent durability is formed, which is preferable.

【0021】そして、フッ化炭素系化合物と酸素との重
合体は、主として−(CF2O)−の構造単位を有する重
合体であり、その分子量は好ましくは1500〜300
00である。
The polymer of a fluorocarbon compound and oxygen is a polymer mainly having a-(CF 2 O)-structural unit, and its molecular weight is preferably 1500 to 300.
00.

【0022】上記重合体の構造は完全には判っていない
が、たとえば、下記構造式で示される重合体等が推定さ
れる。 X-(CF2O)l-(CF2CF2CF2O)m-(CF(CF3)CFO)nX' 〔ここで、l、m及びnは、正の整数を示し(但し、l
≫m、n)、また、x及びx’は、アルコールまたはエ
ーテル結合、エステル結合、ウレタン結合等を含む末端
部を示す。〕 そして、上記重合体における上記−(CF2O)−の構造
単位の含有率は、全構造単位中70%以上であるのが好ま
しく、たとえば、上記構造式で表される重合体において
は(l/l+m+n)×100が70%以上であるのが
好ましい。
Although the structure of the above polymer is not completely known, for example, a polymer represented by the following structural formula is presumed. X- (CF 2 O) l- (CF 2 CF 2 CF 2 O) m- (CF (CF 3 ) CFO) n X '[wherein l, m and n are positive integers (provided that l
>> m, n), and x and x'represent an end portion containing an alcohol or ether bond, an ester bond, a urethane bond or the like. ] Then, the in the polymer - (CF 2 O) - the content of the structural units is preferably at least 70% in the total structural units, for example, in a polymer represented by the structural formula ( It is preferable that 1 / l + m + n) × 100 is 70% or more.

【0023】また、本発明の磁気記録媒体の潤滑剤層
は、上記保護層に固着された固定層と該固定層上に形成
されたフリー層とからなる。ここで、上記固定層とは、
上記最大層に化学的または物理的に強固に固着されてお
り、たとえば商品名「フロン113」等のフッ素系溶媒
を用いて洗浄しても洗い流されない層であり、上記フリ
ー層とは、上記フッ素系溶媒を用いて洗浄した場合に洗
い流されてしまう層である。
The lubricant layer of the magnetic recording medium of the present invention comprises a fixed layer fixed to the protective layer and a free layer formed on the fixed layer. Here, the fixed layer is
The layer that is chemically or physically strongly fixed to the maximum layer and is not washed off by washing with a fluorine-based solvent such as a product name "CFC113", and the free layer is the above. It is a layer that is washed away when washed with a fluorine-based solvent.

【0024】上記固定層の厚さ(重さ)と上記フリー層
の厚さ(重さ)との比は、フリー層の厚さ(重さ)/固
定層の厚さ(重さ)が好ましくは1/10〜10/1、
更に好ましくは2/5〜5/1である。上記固定層の膜
厚は、5〜30Åであると耐摩耗性に優れるので好まし
い。また上記フリー層の膜厚は、2〜80Åであると耐
久性に優れ、かつ摩擦係数が小さくなるので好ましい。
The ratio of the thickness (weight) of the fixed layer to the thickness (weight) of the free layer is preferably (thickness of free layer) / (thickness of fixed layer). Is 1/10 to 10/1,
More preferably, it is 2/5 to 5/1. The fixed layer preferably has a thickness of 5 to 30 liters because it has excellent wear resistance. Further, it is preferable that the thickness of the free layer is 2 to 80 liters because the durability is excellent and the friction coefficient is small.

【0025】このように、本発明の磁気記録媒体は、上
記フリー層の膜厚を従来のフリー層の膜厚(8〜20
Å)よりも厚くしても、磁気記録媒体表面の摩擦係数が
高くならない(吸着しにくい)ものであるため、本発明
における上記フリー層の膜厚は、従来の磁気記録媒体に
おけるフリー層の膜厚よりも厚くすることができる。
As described above, in the magnetic recording medium of the present invention, the thickness of the above free layer is set to the conventional free layer thickness (8 to 20).
The thickness of the free layer in the present invention is the same as that of the free layer in the conventional magnetic recording medium because the friction coefficient of the surface of the magnetic recording medium does not become high (difficult to adsorb) even if it is thicker than Å. It can be thicker than the thickness.

【0026】また、上記の固定層及びフリー層からなる
上記潤滑剤層の膜厚は、2〜200Åとすると潤滑性が
良く、スペーシングロスが小さくなるので好ましく、よ
り好ましくは10〜100Å、更に好ましくは20〜8
0Å、最も好ましくは20〜50Åである。
The thickness of the lubricant layer comprising the fixed layer and the free layer is preferably 2 to 200 Å because the lubricity is good and the spacing loss is small, and more preferably 10 to 100 Å, Preferably 20-8
It is 0Å, most preferably 20 to 50Å.

【0027】本発明の気相重合工程は、フッ化炭素系化
合物の気相重合によって潤滑剤を合成し、これを垂直方
向に立てた、あるいは水平方向に寝かせた被析出物体の
表面に析出させることによって潤滑剤層が形成される。
つまり、気相で重合したフッ素系化合物(潤滑剤組成
物)は拡散により表面に到達して付着し、固定される。
これによって潤滑剤層が形成される。そして、この重合
反応は気相中で進行するので、ディスク表面の不均一性
に左右されず、また、表面凝縮を促進させるためにディ
スクを冷却する必要がなく、生産性にも優れている。
In the vapor-phase polymerization step of the present invention, a lubricant is synthesized by vapor-phase polymerization of a fluorocarbon compound, and the lubricant is deposited on the surface of the object to be deposited which is erected vertically or laid horizontally. As a result, a lubricant layer is formed.
That is, the fluorine-based compound (lubricant composition) polymerized in the gas phase reaches the surface by diffusion, adheres, and is fixed.
This forms a lubricant layer. Since this polymerization reaction proceeds in the gas phase, it is not affected by the non-uniformity of the disk surface, and there is no need to cool the disk to promote surface condensation, resulting in excellent productivity.

【0028】なお、本発明において、気相重合とは、反
応物質が気相に保たれていて、重合反応(とくに、高分
子量化)が気相のみで起こる反応を意味する。たとえ
ば、プラズマ重合やCVD(とくに、光CVD)によっ
て行われる。光CVDで行う場合、レーザ光を被析出物
体表面には直接照射せず、原料ガス中にのみ照射して行
う。
In the present invention, the gas phase polymerization means a reaction in which the reactants are kept in the gas phase and the polymerization reaction (particularly, high molecular weight) takes place only in the gas phase. For example, it is performed by plasma polymerization or CVD (in particular, photo CVD). In the case of performing photo CVD, the surface of the object to be precipitated is not directly irradiated with the laser beam, but is irradiated only in the source gas.

【0029】本発明のポイントは、気相重合で潤滑剤層
を形成し、かつ、潤滑剤層が保護層に固定された固定潤
滑剤分子と保護層に固定されていないフリーなフリー潤
滑剤分子とが共存している点にある。たとえば、フリー
な潤滑剤分子が存在しなかった場合には、ファインな表
面粗度を与えるテクスチャ表面を持つものでは、CSS
テストにおいて摩擦係数が大きくなり、昨今のニーズを
満たさない。すなわち、特開平6−220185号公報
などで提案されている末端が固定された固定潤滑剤分子
のみで潤滑剤層を形成した場合には、CSSテストに優
秀な成績が得られなかった。
The point of the present invention is that a lubricant layer is formed by gas phase polymerization, and the lubricant layer is fixed to the protective layer and the free lubricant molecule is not fixed to the protective layer. The point is that and coexist. For example, CSS with a textured surface that gives a fine surface roughness when no free lubricant molecules are present
The friction coefficient increases in the test, and it does not meet the recent needs. That is, when a lubricant layer was formed only with fixed lubricant molecules whose ends were fixed as proposed in JP-A-6-220185, excellent results could not be obtained in the CSS test.

【0030】本発明のように固定潤滑剤分子とフリー潤
滑剤分子との混成でなる混成潤滑剤層を気相重合で形成
した磁気ディスクは、極性基を持つ潤滑剤と極性基を持
たない潤滑剤とからなる混成潤滑剤層を塗布により設け
た従来の磁気ディスクに比べて、CSSテストが高いレ
ベルで安定したものであり、格段に優れた特性を示すこ
とが判明した。しかも、気相重合により潤滑剤層を形成
することにより、酸化バーニッシュにより向上した摺動
耐久性が更にする。
As in the present invention, a magnetic disk having a mixed lubricant layer composed of a mixture of fixed lubricant molecules and free lubricant molecules formed by gas phase polymerization has a lubricant having a polar group and a lubricant having no polar group. It was found that the CSS test was stable at a high level and showed significantly excellent characteristics as compared with a conventional magnetic disk provided with a mixed lubricant layer containing a lubricant. Moreover, by forming the lubricant layer by vapor phase polymerization, the sliding durability improved by the oxide burnishing is further improved.

【0031】尚、潤滑剤層の厚さ、とくにフリー潤滑剤
分子からなる潤滑剤層の厚さは、気相重合工程の条件
(原料ガス圧、光照射条件や時間)や気相重合工程の繰
り返し回数によって制御できる。
The thickness of the lubricant layer, particularly the thickness of the lubricant layer composed of free lubricant molecules, depends on the conditions of the gas phase polymerization process (raw material gas pressure, light irradiation conditions and time) and the gas phase polymerization process. It can be controlled by the number of repetitions.

【0032】本発明においては、とくに、真空条件下で
フッ化炭素系化合物と酸素とを重合させて上記潤滑剤層
を形成する第1の重合工程と、水蒸気を導入した後、真
空条件下で気相重合を行い、フッ化炭素系化合物と酸素
とを重合させて上記潤滑剤層を形成する第2の重合工程
とを、順次行うことにより実施することができる。ここ
で、上記第1の重合工程は、主として上記固定層を形成
する工程であり、上記第2の重合工程は、主として上記
フリー層を形成する工程である。
In the present invention, in particular, the first polymerization step of polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen under vacuum conditions to form the lubricant layer, and, after introducing steam, under vacuum conditions. It can be carried out by sequentially performing the second polymerization step of performing vapor phase polymerization to polymerize the fluorocarbon compound and oxygen to form the lubricant layer. Here, the said 1st superposition | polymerization process is a process of mainly forming the said fixed layer, and the said 2nd superposition | polymerization process is a process of mainly forming the said free layer.

【0033】即ち、上記第1の重合工程においてもフリ
ー層が形成されることがあり、上記第2の重合工程にお
いても固定層が形成されることがある。
That is, the free layer may be formed in the first polymerization step, and the fixed layer may be formed in the second polymerization step.

【0034】尚、上記潤滑剤層の形成以外の工程に関し
ては、通常公知の磁気記録媒体の製造方法と同様の方法
をとくに制限なく、採用することができる。
With respect to the steps other than the formation of the lubricant layer, the same method as the conventionally known method for producing a magnetic recording medium can be adopted without any particular limitation.

【0035】先ず、上記の第1及び第2の重合工程にお
いて行われる上記気相重合について説明する。
First, the gas phase polymerization carried out in the first and second polymerization steps will be described.

【0036】上記気相重合とは、フッ化炭素系化合物と
酸素とを気相にガス状態で保持した系で重合を行い、重
合反応を気相のみで生ぜしめる重合方法を意味する。重
合に際して採用することができる手法としては、たとえ
ば、プラズマ重合や光CVD(化学的気相成長)等のC
VDを採用することができるが、本発明においては、装
置・設備が簡単なもので済む点から光CVDが好ましく
採用される。
The above-mentioned vapor phase polymerization means a polymerization method in which a fluorocarbon compound and oxygen are polymerized in a system in which the gas phase is maintained in a gas state, and the polymerization reaction is caused only in the gas phase. As a method that can be adopted for the polymerization, for example, C such as plasma polymerization or photo CVD (chemical vapor deposition) is used.
Although VD can be adopted, in the present invention, photo-CVD is preferably adopted because the equipment and facilities can be simple.

【0037】上記光CVDにより重合を行う場合には、
レーザ光を被析出物体表面(即ち、上記保護層の表面)
には直接照射せず、原料ガス中にのみ照射して行うのが
好ましい。
When polymerization is carried out by the above photo-CVD,
Laser light is deposited on the surface of the object (that is, the surface of the protective layer)
It is preferable to irradiate the raw material gas only and not directly irradiate it.

【0038】この際、用いることができる光源として
は、紫外線及び赤外線が挙げられるが、下記する理由に
より、紫外線を用いるのが好ましく、具体的には、たと
えば193nmのエキシマレーザ光等を好ましく用いる
ことができる。
At this time, examples of the light source that can be used include ultraviolet rays and infrared rays, but it is preferable to use ultraviolet rays for the following reasons. Specifically, for example, excimer laser light of 193 nm is preferably used. You can

【0039】即ち、赤外線を光源とする赤外レーザによ
る反応は、基本的に振動励起による反応であるから、本
質的に熱反応と同じであり、サイドリアクションが生じ
て目的物以外の生成物が生成し、形成膜の構造制御が困
難である。
That is, since the reaction by the infrared laser using infrared light as the light source is basically a reaction by vibration excitation, it is essentially the same as a thermal reaction, and a side reaction occurs and products other than the target product are generated. It is difficult to control the structure of the formed film.

【0040】一方、紫外線を光源とする紫外線レーザ
は、電子励起により重合反応を起こすものであり、反応
の選択性が良く、更には、熱反応の関与が極めて低いた
め、サイドリアクションが生じる恐れが低い。
On the other hand, an ultraviolet laser using an ultraviolet ray as a light source causes a polymerization reaction by electronic excitation and has a good reaction selectivity. Further, since the thermal reaction is extremely low in involvement, a side reaction may occur. Low.

【0041】また、上記気相重合を行う際における基板
(保護層まで設けられたものも含めて)の温度は10〜
90℃に設定されていることが好ましく、更には15〜
50℃であるのが好ましい。上記範囲外であると上記潤
滑層が形成されない場合があるので、上記範囲内とする
のが好ましい。
The temperature of the substrate (including the one provided with the protective layer) at the time of carrying out the vapor phase polymerization is 10 to 10.
The temperature is preferably set to 90 ° C, and further 15 to
It is preferably 50 ° C. If it is out of the above range, the lubricating layer may not be formed, so it is preferable to set it in the above range.

【0042】次に、上記の第1及び第2の重合工程につ
いて、図1を参照して更に具体的に説明する。
Next, the first and second polymerization steps described above will be described more specifically with reference to FIG.

【0043】ここで図1は、本発明の磁気記録媒体の製
造方法において用いることができる光反応用のチャンバ
ーを示す模式図である。
Here, FIG. 1 is a schematic diagram showing a photoreaction chamber that can be used in the method of manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.

【0044】図1に示す光反応用のチャンバー1は、そ
の上方の左右両側面に設けられたレーザー光を透過する
レーザー透過窓2と、下部に設けられた磁気記録媒体と
しての磁気ディスク基板3(保護層まで設けられたも
の)を一定間隔をおいて立説させることができる媒体設
置部材4と、上部に設けられたチャンバー内部の減圧及
び大気解放を行うためのバルブ5と有する。
The photoreaction chamber 1 shown in FIG. 1 is provided with a laser transmission window 2 for transmitting laser light, which is provided on both left and right side surfaces above it, and a magnetic disk substrate 3 as a magnetic recording medium provided below. The medium setting member 4 (provided up to the protective layer) can be set up at regular intervals, and the valve 5 for depressurizing the inside of the chamber and opening to the atmosphere provided at the upper part.

【0045】そして、上記の第1の重合工程に際して
は、先ず、上記バルブ5を解放して、一旦、チャンバー
1内を真空ポンプ(図示せず)で減圧して真空にした
後、フッ化炭素系化合物及び酸素を導入して上記真空条
件とする。次に、エキシマレーザ光等を磁気ディスク基
板3上部とチャンバ天井との間の中央を透過し且つ該磁
気ディスク基板3には当たらないように、図1に示す矢
印方向に照射する。
In the first polymerization step, first, the valve 5 is opened, the inside of the chamber 1 is once decompressed by a vacuum pump (not shown) to be evacuated, and then fluorocarbon is added. A system compound and oxygen are introduced to make the above vacuum conditions. Next, excimer laser light or the like is irradiated in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so as to pass through the center between the upper part of the magnetic disk substrate 3 and the chamber ceiling and not hit the magnetic disk substrate 3.

【0046】したがって、上記真空条件とは、真空状態
の反応容器内(1×10-6〜1Torr)にフッ化炭素
系化合物と上記酸素とを導入した状態を意味し、この状
態における気圧は5〜200Torrとするのが好まし
い。
Therefore, the above-mentioned vacuum condition means a condition in which the fluorocarbon compound and the oxygen are introduced into the reaction vessel (1 × 10 −6 to 1 Torr) in a vacuum state, and the atmospheric pressure in this state is 5 It is preferably set to 200 Torr.

【0047】また、上記媒体設置部材4は、各磁気ディ
スク基板3をその円周方向に向けて回転させることがで
きるようになされている。また、上記の第1の重合工程
は、数回繰り返されてもよい。
The medium mounting member 4 is adapted to rotate each magnetic disk substrate 3 in the circumferential direction. Moreover, the above-mentioned first polymerization step may be repeated several times.

【0048】次いで、上記の第2の重合工程に際して
は、上記の第1の重合工程の終了後、上記バルブ5を解
放して、該第1の重合工程における上記真空条件を大気
圧条件に戻して、チャンバー1内に水蒸気を導入した
後、上記の第1の重合工程と同様に、減圧して真空にし
た後、フッ化炭素系化合物及び酸素を導入して上記真空
条件とし、エキシマレーザー光等を照射する。
Then, in the second polymerization step, after the completion of the first polymerization step, the valve 5 is opened to return the vacuum condition in the first polymerization step to the atmospheric pressure condition. Then, after introducing water vapor into the chamber 1, the pressure is reduced to a vacuum and then a fluorocarbon compound and oxygen are introduced to make the vacuum condition as described in the first polymerization step. Etc.

【0049】ここで、第2の重合工程における「真空条
件」も、上記の第1の重合工程における「真空条件」と
同じである。
The "vacuum conditions" in the second polymerization step are the same as the "vacuum conditions" in the first polymerization step.

【0050】また、本発明において、上記の水蒸気の導
入は、上述の如く、上記チャンバー1を大気圧条件とす
ることにあり、大気を導入して行うのが好ましく、この
際導入される該大気の相対湿度は、30〜90%である
のが好ましく、40〜80%であるのが更に好ましい。
また、上記の第2の重合工程も、数回繰り返されてもよ
い。尚、上記の第2の重合工程の後に、再度上記の第1
の重合工程を行うこともできる。
Further, in the present invention, the introduction of the water vapor is carried out under the atmospheric pressure condition of the chamber 1 as described above, and it is preferable to introduce the atmosphere, and the atmosphere introduced at this time is preferable. The relative humidity of is preferably 30 to 90%, and more preferably 40 to 80%.
The second polymerization step may also be repeated several times. In addition, after the second polymerization step, the first
It is also possible to carry out the polymerization step.

【0051】(C)その他 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、酸化処理によるバ
ーニッシュ工程及び気相重合工程以外の工程は従来の製
造方法に準じて行なうことができる。即ち、本発明では
酸化処理により表面に存在する異常突起を除去する工程
の前に、磁気記録媒体は既にその基本が構成されてい
る。たとえば、カーボン製の基板上に蒸着やスパッタ手
段のような乾式めっき手段により磁性層を設ける工程、
磁性層上に蒸着やスパッタ手段のような乾式めっき手段
あるいはディッピングやスピンコート法により保護層を
設ける工程などを経て、磁気記録媒体が構成されてお
り、このような磁気記録媒体に対して表面に存在する異
常突起を除去する作業が施される。また、磁性層が設け
られる前にカーボン製の基板上に蒸着やスパッタ手段の
ような乾式めっき手段により下地層を設ける工程なども
経て磁気記録媒体が製造される。
(C) Others In the method of manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, the steps other than the burnishing step by the oxidation treatment and the gas phase polymerization step can be carried out in accordance with the conventional manufacturing method. That is, in the present invention, the basics of the magnetic recording medium are already configured before the step of removing the abnormal protrusion existing on the surface by the oxidation treatment. For example, a step of providing a magnetic layer on a carbon substrate by dry plating means such as vapor deposition or sputtering means,
The magnetic recording medium is configured through the steps of providing a protective layer on the magnetic layer by dry plating means such as vapor deposition or sputtering means, or by dipping or spin coating method. Work is performed to remove the existing abnormal protrusions. Further, before the magnetic layer is provided, a magnetic recording medium is manufactured through a step of providing an underlayer on a carbon substrate by dry plating means such as vapor deposition or sputtering means.

【0052】尚、成膜には乾式めっき手段を採用するこ
とが好ましい。すなわち、乾式めっき手段は湿式めっき
手段に比べて高品質な磁性膜が得られ易い。また、磁性
膜の組成変更も容易であり、磁性膜の設計変更も容易と
なる。
Incidentally, it is preferable to employ dry plating means for film formation. That is, the dry plating means is more likely to obtain a high-quality magnetic film than the wet plating means. Further, the composition of the magnetic film can be easily changed, and the design of the magnetic film can be easily changed.

【0053】本発明のバーニッシュ工程は、前述の如
く、基板を酸化性雰囲気中に配置することにより保護層
を酸化させるものであるが、その際、異常突起が優先的
に酸化気化されて除去される。また除去される異常突起
の高さ(酸化の程度)も酸化条件(温度や時間)を調節
することにより精密に制御可能である。したがって、本
発明では保護層の構成材料として、酸化により気化、分
解できかつその際にディスク製造工程に悪影響を及ぼさ
ないものであれば何れも使用できる。とくに本発明にお
いては、保護層はダイヤモンドライクカーボン、ガラス
状カーボン、グラファイト等のカーボンを主な構成成分
とするものがに好ましい。これらのカーボン保護層は、
従来公知の方法、たとえばスパッタ等の蒸着により形成
され、その厚さは5〜25nm程度である。
As described above, the burnishing process of the present invention oxidizes the protective layer by placing the substrate in an oxidizing atmosphere. At this time, the abnormal protrusions are preferentially oxidized and vaporized and removed. To be done. Further, the height (degree of oxidation) of the abnormal projections to be removed can be precisely controlled by adjusting the oxidation conditions (temperature and time). Therefore, in the present invention, any material can be used as the constituent material of the protective layer as long as it can be vaporized and decomposed by oxidation and does not adversely affect the disk manufacturing process at that time. In particular, in the present invention, the protective layer is preferably composed mainly of carbon such as diamond-like carbon, glassy carbon and graphite. These carbon protective layers are
It is formed by a conventionally known method, for example, vapor deposition such as sputtering, and its thickness is about 5 to 25 nm.

【0054】そして、上記のような工程を経ることによ
り、磁気記録媒体表面に残されていた異常突起が除去さ
れる。これにより、磁気ヘッドの浮上量を小さいものと
でき、スペーシングロスが少なくなるから、再生出力の
面で好ましいものとなる。
Then, through the above steps, the abnormal protrusions left on the surface of the magnetic recording medium are removed. As a result, the flying height of the magnetic head can be reduced and the spacing loss is reduced, which is preferable in terms of reproduction output.

【0055】本発明においては、基板上の磁性層などの
構成はこれまでの技術がそのまま用いられる。すなわ
ち、基板上に設けられる下地層(下地膜)、磁性層(磁
性膜)、保護層(保護膜)などの構成については、従来
の技術をそのまま利用できる。たとえば、特開平5−1
8952号公報、特開平5−137822号公報、特開
平5−211769号公報、特開平5−289496号
公報などに記載の技術を利用できる。
In the present invention, the conventional technology is used as it is for the structure of the magnetic layer on the substrate. That is, as for the structure of the underlayer (underlayer film), the magnetic layer (magnetic film), the protective layer (protective film) and the like provided on the substrate, the conventional technique can be used as it is. For example, Japanese Patent Laid-Open No. 5-1
The techniques described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 8952, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-137822, Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-212769, and Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-289494 can be used.

【0056】本発明に用いられる基板としては、たとえ
ば、ガラス状カーボン等のカーボン、強化ガラス、結晶
化ガラス、アルミニウム及びアルミニウム合金、チタン
及びチタン合金、セラミックス、樹脂、あるいはこれら
の複合材料からなるものが挙げられる。これらの中で
も、とくにガラス状カーボンが好ましく、たとえば特開
昭60−35333号に記載されたものを用いることが
できる。
The substrate used in the present invention comprises, for example, carbon such as glassy carbon, tempered glass, crystallized glass, aluminum and aluminum alloys, titanium and titanium alloys, ceramics, resins, or composite materials thereof. Is mentioned. Among these, glassy carbon is particularly preferable, and for example, those described in JP-A-60-35333 can be used.

【0057】本発明の磁気記録媒体の製造方法におい
て、酸化バーニッシュ工程は、磁性層、保護層の形成と
連続的に実施することができる。更に、気相重合工程も
磁性層、保護層の形成及び酸化バーニッシュ工程と連続
的に実施することができる。例えば、酸化処理及び/又
は気相重合反応を、磁性層、保護層の形成と同一の製造
ラインで、内部が画定された同一の成膜チャンバ内で行
なうことができる。またバーニッシュ工程も気相重合工
程も真空中でも実施でき、蒸着等の乾式めっきによる磁
性層、保護層の形成に引き続き同一の真空系でバーニッ
シュ工程及び/又は気相重合工程を実施できる。したが
って、磁気ディスクの主要な製造工程である成膜工程
(磁性層→保護層)及びバーニッシュ工程を同一の成膜
チャンバ内で実施できるため、装置面や工程面から生産
性の向上が可能となる。
In the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention, the oxide burnishing step can be carried out continuously with the formation of the magnetic layer and the protective layer. Further, the gas phase polymerization step can be continuously performed with the formation of the magnetic layer and the protective layer and the oxidation burnishing step. For example, the oxidation treatment and / or the vapor-phase polymerization reaction can be performed in the same production line in which the magnetic layer and the protective layer are formed, in the same film-forming chamber whose interior is defined. Further, both the burnishing step and the vapor phase polymerization step can be performed in vacuum, and the burnishing step and / or the vapor phase polymerization step can be performed in the same vacuum system after the formation of the magnetic layer and the protective layer by dry plating such as vapor deposition. Therefore, since the film forming process (magnetic layer → protective layer) and burnishing process, which are the main manufacturing processes of the magnetic disk, can be performed in the same film forming chamber, it is possible to improve the productivity in terms of the device and the process. Become.

【0058】[0058]

【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
EXAMPLES The present invention will be described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.

【0059】実施例1〜8及び比較例1〜3 成膜工程 基板として、(1) 直径1.8インチ、25ミル、比重
1.5のガラス状カーボン製基板(表中「GC」と表記
する)、(2) 基板(1) と同サイズのガラス基板(強化ガ
ラスまたは結晶性ガラス)を用意した。用いた基板を表
1〜3に示す。
Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 3 Film forming step As a substrate, (1) a glassy carbon substrate having a diameter of 1.8 inches, 25 mils and a specific gravity of 1.5 (indicated as "GC" in the table) (2) A glass substrate (tempered glass or crystalline glass) of the same size as the substrate (1) was prepared. The substrates used are shown in Tables 1 to 3.

【0060】これらの基板上に、Arガス圧2mTor
r、基板温度250℃の条件でDCマグネトロンスパッ
タリングにより厚さ100nmのTi層を形成した。次
いでArガス圧2mTorr、基板温度260℃の条件
でDCマグネトロンスパッタリングにより前記Ti層上
に厚さ20nmのAl−Si合金(Al:Si=10:
90/重量%)層を形成した。これらの層により基板に
凹凸(テクスチャー)が形成される。
Ar gas pressure of 2 mTor was applied on these substrates.
A Ti layer having a thickness of 100 nm was formed by DC magnetron sputtering under the conditions of r and the substrate temperature of 250 ° C. Then, a 20 nm-thick Al-Si alloy (Al: Si = 10 :) was deposited on the Ti layer by DC magnetron sputtering under the conditions of Ar gas pressure of 2 mTorr and substrate temperature of 260 ° C.
90 / wt%) layer was formed. These layers form unevenness (texture) on the substrate.

【0061】次に、Arガス圧2mTorr、基板温度
260℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングによ
り、前記Al−Si合金層上に厚さ25nmのアモルフ
ァスカーボン(ダイヤモンドライクカーボン)層を形成
した。次いで、Arガス圧2mTorr、基板温度20
0℃の条件下でDCマグネトロンスパッタ装置を用い
て、前記アモルファスカーボン層上に、厚さ100nm
のTi層を設け、その後該Ti層上に厚さ40nmのC
r層を設けた。
Next, an amorphous carbon (diamond-like carbon) layer having a thickness of 25 nm was formed on the Al-Si alloy layer by DC magnetron sputtering under the conditions of Ar gas pressure of 2 mTorr and substrate temperature of 260 ° C. Next, Ar gas pressure 2 mTorr, substrate temperature 20
Using a DC magnetron sputtering device under the condition of 0 ° C., a thickness of 100 nm is formed on the amorphous carbon layer.
A Ti layer of 40 nm thick, and then a 40 nm thick C layer is formed on the Ti layer.
An r layer was provided.

【0062】更に、Arガス圧2mTorr、基板温度
260℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングによ
り、前記Cr層上に厚さ400nmのCo−Cr−Pt
−B系磁性層を設けた。
Further, a 400 nm-thick Co-Cr-Pt layer was formed on the Cr layer by DC magnetron sputtering under the conditions of Ar gas pressure of 2 mTorr and substrate temperature of 260 ° C.
A -B type magnetic layer was provided.

【0063】続いて、ガラス状カーボン製ターゲットを
装着した対向ターゲット型のスパッタ装置を用い、室内
を排気し、そして2mTorrのガス圧となるようAr
ガスを導入してスパッタを行い、磁性層上に20nm厚
のアモルファスカーボン(ダイヤモンドライクカーボ
ン)からなる保護層を設けた。
Subsequently, the interior of the chamber was evacuated using a facing target type sputtering apparatus equipped with a glassy carbon target, and Ar was adjusted to a gas pressure of 2 mTorr.
A gas was introduced to perform sputtering, and a protective layer made of amorphous carbon (diamond-like carbon) having a thickness of 20 nm was provided on the magnetic layer.

【0064】バーニッシュ工程 上記のようにして各種膜が成膜される基板を表1〜3に
示す条件にてバーニッシュ処理を施した。各実施例のバ
ーニッシュ処理は上記の成膜工程と同一チャンバ内(内
部が画定されている)で実施した。なお、比較例1のテ
ープバーニッシュは、回転するロールに研磨テープをゴ
ムロールで押しつけることにより行なったが、その条件
は以下の通りである。 研磨テープ:WA#10000 相対速度:100m/秒 時間:1秒 ロール硬度:25ショア硬度 ロール押し付け圧:0.8kgf また、比較例2では研磨テープとしてWA#8000を
用いた以外は比較例1と同じであり、比較例3ではバー
ニッシュ処理を行なわなかった。
Burnishing Process The substrates on which various films were formed as described above were burnished under the conditions shown in Tables 1 to 3. The burnishing process of each example was carried out in the same chamber (the inside is defined) as the film forming process described above. The tape burnish of Comparative Example 1 was carried out by pressing the polishing tape against a rotating roll with a rubber roll, under the following conditions. Abrasive tape: WA # 10000 Relative speed: 100 m / sec Time: 1 sec Roll hardness: 25 Shore hardness Roll pressing pressure: 0.8 kgf Further, in Comparative Example 2 and Comparative Example 1 except that WA # 8000 was used as the abrasive tape. In the same manner, Comparative Example 3 did not carry out the burnishing treatment.

【0065】気相重合工程 得られた磁気ディスク基板3を用いて、図1に示すよう
に、CVD装置である光反応用のチャンバー1内に所定
の間隔を設けて図1に示すように並列配置し、チャンバ
ー1内を5×10-2Torrに排気した後、CF2=C
FCF310Torrと酸素60Torrとを導入し、
ArFエキシマレーザ(波長193nm)からのレーザ
光(パワー150mJ、繰り返し速度2Hz)を12.
5分間かけて1500パルス照射し、第1の重合工程を
1度行った。この後、チャンバー1をリークして湿度6
0%の大気を導入し、大気条件にした。この後、再び、
チャンバー1内を5×10-2Torrに排気した後、C
2=CFCF3 10Torrと酸素60Torrを導
入し、上記レーザ光を12.5分間かけて1500パル
ス照射し、第2の重合工程を2度行った。尚、レーザ光
は磁気ディスク基板3に直接照射されないよう、図1に
示す矢印方向に向けて照射した。また、上記光CVDに
際して、磁気ディスク基板3の温度は室温(22℃)とし
た。
Gas Phase Polymerization Step Using the magnetic disk substrate 3 thus obtained, as shown in FIG. 1, a chamber 1 for photoreaction, which is a CVD device, is arranged in parallel at a predetermined interval as shown in FIG. After arranging and evacuating the chamber 1 to 5 × 10 -2 Torr, CF 2 = C
FCF 3 10 Torr and oxygen 60 Torr were introduced,
12. Laser light (power 150 mJ, repetition rate 2 Hz) from ArF excimer laser (wavelength 193 nm) was used.
The first polymerization step was performed once by irradiating 1500 pulses for 5 minutes. After this, the chamber 1 is leaked and the humidity 6
Atmospheric conditions were introduced by introducing 0% air. After this, again
After evacuating the chamber 1 to 5 × 10 -2 Torr, C
F 2 = CFCF 3 10 Torr and oxygen 60 Torr were introduced, and the laser beam was irradiated for 1500 pulses over 12.5 minutes, and the second polymerization step was performed twice. The laser light was irradiated in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so that the magnetic disk substrate 3 was not directly irradiated with the laser light. The temperature of the magnetic disk substrate 3 was room temperature (22 ° C.) during the photo-CVD.

【0066】実施例2〜8は表1,2に示す条件にて同
様に行なった。なお、比較例1〜3は、潤滑剤層をパー
フルオロポリエーテル系潤滑剤(モンテカチーニ社製の
Fomblin AM2001)溶液を、乾燥後の厚さ
が25Åとなるように塗布して形成した。
Examples 2 to 8 were similarly performed under the conditions shown in Tables 1 and 2. In Comparative Examples 1 to 3, the lubricant layer was formed by applying a solution of a perfluoropolyether lubricant (Fomblin AM2001 manufactured by Montecatini Co., Ltd.) so that the thickness after drying was 25 Å.

【0067】特性評価 上記により得られた磁気ディスクについて、以下の特性
評価を行なった。その結果を表1〜3に示す。
Characteristic Evaluation The magnetic disk obtained as described above was evaluated for the following characteristics. The results are shown in Tables 1 to 3.

【0068】(i)Rp(中心線最大高さ) Rpは、触針式粗さ計(TENCOR社製、型式 P
2)により、下記の条件で測定した。 触針径:0.6μm(針曲率半径) 触針押し付け圧力:7mg 測定長:250μm×8ヶ所 トレース速度:2.5μm/秒 カットオフ:1.25μm(ローパスフィルタ) (ii)外観検査 明るい照明下で、目視観察を行い、スクラッチ傷等をチ
ェックし、実用上問題ない程度の外観を有するものを合
格とし、下記の基準で評価した。 S:合格率が80%以上〜100% A:合格率が50%以上〜80%未満 B:合格率が30%以上〜50%未満 C:合格率が0%以上〜30%未満 (iii)GHT Proquip社製MG150T装置を用い、50%ス
ライダヘッドを用いて行った。1.3μインチの浮上高
さの通過率により、以下ように評価した。 S:通過率が90%以上 A:通過率が70%以上〜90%未満 B:通過率が50%以上〜70%未満 C:通過率が30%以上〜50%未満 D:通過率が30%未満 (iv)MCF(エラー特性) エラー特性はProquip社製MG150T装置を用
い、70%スライダヘッドを使用し、記録密度51KF
CZの条件で評価した。スライスレベルは70%とし、
16ビット未満のミッシングエラーの個数をカウント
し、以下のように評価した。 S:評価ディスクの50%以上がエラー個数が0〜5個
である。 A:評価ディスクの50%以上がエラー個数が6〜15
個である。 B:評価ディスクの50%以上がエラー個数が16〜4
5個である。 C:評価ディスクの50%以上がエラー個数が46個以
上である。
(I) Rp (center line maximum height) Rp is a stylus roughness meter (manufactured by TENCOR, model P
According to 2), it measured on the following conditions. Stylus diameter: 0.6 μm (needle curvature radius) Stylus pressing pressure: 7 mg Measurement length: 250 μm x 8 places Trace speed: 2.5 μm / sec Cut-off: 1.25 μm (low pass filter) (ii) Appearance inspection Bright illumination Visual inspection was performed under the following conditions to check for scratches and scratches, and those having an appearance with no problem in practical use were regarded as acceptable and evaluated according to the following criteria. S: Pass rate is 80% or more to 100% A: Pass rate is 50% to less than 80% B: Pass rate is 30% to less than 50% C: Pass rate is 0% to less than 30% (iii) It was performed using a MG150T device manufactured by GHT Proquip, using a 50% slider head. The following evaluation was made based on the passing rate at a flying height of 1.3 μ inches. S: Passage is 90% or more A: Passage is 70% or more and less than 90% B: Passage is 50% or more and less than 70% C: Passage is 30% or more and less than 50% D: Passage is 30 Less than% (iv) MCF (error characteristic) The error characteristic was measured using a MG150T device manufactured by Proquip, using a 70% slider head, and a recording density of 51 KF.
It was evaluated under the condition of CZ. Slice level is 70%,
The number of missing errors of less than 16 bits was counted and evaluated as follows. S: 50% or more of the evaluation disks have 0 to 5 errors. A: The number of errors is 6 to 15 in 50% or more of the evaluation disks
Individual. B: The number of errors is 16 to 4 in 50% or more of the evaluation disks
There are five. C: 50% or more of the evaluation disks have 46 or more errors.

【0069】(v)CSS ヤマハ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッド荷重3.5g、
ヘッド浮上量2.8μインチ、4500rpmで5秒間
稼働、5秒間停止のサイクルを繰り返して行い、その際
の静摩擦係数(μs)が0.6になるまでの回数を調べ
た。
(V) CSS Using a thin film head manufactured by Yamaha Corporation, head load 3.5 g,
A cycle in which the head flying height was 2.8 μ inches, operating at 4500 rpm for 5 seconds and stopping for 5 seconds was repeated, and the number of times until the static friction coefficient (μs) reached 0.6 was examined.

【0070】[0070]

【表1】 [Table 1]

【0071】[0071]

【表2】 [Table 2]

【0072】[0072]

【表3】 [Table 3]

【0073】注)上記表1〜3において、X1及びX2は以
下の化合物である。 X1;テトラフルオロエチレン X2;ヘキサフルオロエチレン これらの結果からわかる通り、本発明の製造方法による
磁気記録媒体は、表面の異常な突起が効果的に除去され
ており、また、エラーが起き難いものとなっていること
が判る。また、本発明の製造方法による磁気記録媒体
は、CSS特性が格段に向上しており、摺動耐久性が向
上していることも明らかである。
Note) In Tables 1 to 3 above, X 1 and X 2 are the following compounds. X 1 ; Tetrafluoroethylene X 2 ; Hexafluoroethylene As can be seen from these results, in the magnetic recording medium according to the production method of the present invention, the abnormal protrusions on the surface are effectively removed, and the error hardly occurs. You can see that it has become a thing. It is also apparent that the magnetic recording medium manufactured by the manufacturing method of the present invention has markedly improved CSS characteristics and improved sliding durability.

【0074】[0074]

【発明の効果】本発明の製造方法によれば、磁気記録媒
体表面の異常な突起を効果的に除去でき、サーティファ
イ(エラー)収率が向上し、また外観不良が顕著に減少
する。また、バーニッシュ処理を連続的に複数処理が可
能となり、且つ比較的安価な装置で実施できるため、生
産性が飛躍的に向上する。しかも製造された磁気ディス
クは、ヘッドとの摺動耐久性が向上する、ヘッドの吸着
が抑止される等の効果が奏される。とくに、摺動耐久性
の向上効果が維持される。
According to the manufacturing method of the present invention, abnormal protrusions on the surface of a magnetic recording medium can be effectively removed, the certifying (error) yield is improved, and the appearance defect is significantly reduced. Further, since a plurality of burnishing processes can be continuously performed and the burnishing process can be performed by a relatively inexpensive device, the productivity is dramatically improved. Moreover, the manufactured magnetic disk has the effects of improving the sliding durability with the head, suppressing the adsorption of the head, and the like. In particular, the effect of improving sliding durability is maintained.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の製造方法に用いられるCVD装置の要
部を示す概略図
FIG. 1 is a schematic diagram showing a main part of a CVD apparatus used in a manufacturing method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チャンバ 2 レーザー透過窓 3 磁気ディスク基板 4 媒体設置部材 5 バルブ 1 Chamber 2 Laser Transmission Window 3 Magnetic Disk Substrate 4 Medium Setting Member 5 Valve

Claims (12)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 少なくとも、非磁性基板上に磁性層を形
成する工程と、磁性層上に保護層を形成する工程と、保
護層表面に存在する異常突起の高さを低くするバーニッ
シュ工程と、前記保護層上に潤滑剤層を形成する工程を
有する磁気記録媒体の製造方法において、前記バーニッ
シュ工程を酸化処理により行ない、且つ前記潤滑剤層の
形成を真空条件下での気相重合により行なうことを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法。
1. At least a step of forming a magnetic layer on a non-magnetic substrate, a step of forming a protective layer on the magnetic layer, and a burnishing step of reducing the height of abnormal protrusions present on the surface of the protective layer. In the method for manufacturing a magnetic recording medium having a step of forming a lubricant layer on the protective layer, the burnishing step is performed by an oxidation treatment, and the formation of the lubricant layer is performed by gas phase polymerization under vacuum conditions. A method for manufacturing a magnetic recording medium, which is characterized by being performed.
【請求項2】 酸化処理が熱酸化である請求項1記載の
磁気記録媒体の製造方法。
2. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the oxidation treatment is thermal oxidation.
【請求項3】 保護層の主な構成成分がカーボンである
請求項1または2記載の磁気記録媒体の製造方法。
3. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the main constituent component of the protective layer is carbon.
【請求項4】 保護層の形成工程及びバーニッシュ工程
を連続的に行なう請求項1〜3の何れか1項記載の磁気
記録媒体の製造方法。
4. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the protective layer forming step and the burnishing step are continuously performed.
【請求項5】 磁性層の形成工程、保護層の形成工程及
びバーニッシュ工程を連続的に行なう請求項1〜3の何
れか1項記載の磁気記録媒体の製造方法。
5. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the magnetic layer forming step, the protective layer forming step and the burnishing step are continuously performed.
【請求項6】 気相重合工程が、フッ化炭素系化合物と
酸素とを重合させて潤滑剤層を形成する第一の重合工程
と、水蒸気を導入したあと、真空条件下で気相重合を行
い、フッ化炭素系化合物と酸素とを重合させて潤滑剤層
を形成する第二の重合工程とを順次行なうことを特徴と
する請求項1〜5の何れか1項記載の磁気記録媒体の製
造方法。
6. The vapor phase polymerization step comprises a first polymerization step of polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen to form a lubricant layer, and a vapor phase polymerization after introducing steam. 6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the second polymerization step of forming a lubricant layer by polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen is sequentially performed. Production method.
【請求項7】 前記水蒸気の導入を、前記第一の重合工
程終了後、該第一の重合工程における真空条件を大気圧
条件にもどすことにより行なう請求項6記載の磁気記録
媒体の製造方法。
7. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 6, wherein the introduction of the water vapor is performed by returning the vacuum condition in the first polymerization step to an atmospheric pressure condition after the completion of the first polymerization step.
【請求項8】 前記気相重合を、10〜90℃の温度で
行なう請求項1〜7の何れか1項記載の磁気記録媒体の
製造方法。
8. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the gas phase polymerization is carried out at a temperature of 10 to 90 ° C.
【請求項9】 前記気相重合を、フッ化炭素系化合物と
酸素との混合ガスに紫外線レーザを照射する方法により
行なう請求項1〜8の何れか1項記載の磁気記録媒体の
製造方法。
9. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the gas phase polymerization is performed by irradiating a mixed gas of a fluorocarbon compound and oxygen with an ultraviolet laser.
【請求項10】 前記気相重合を、CVDにより行なう
請求項1〜9の何れか1項記載の磁気記録媒体の製造方
法。
10. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the vapor phase polymerization is performed by CVD.
【請求項11】 前記気相重合を、光CVDにより行な
う請求項1〜9の何れか1項記載の磁気記録媒体の製造
方法。
11. The method for manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein the vapor phase polymerization is performed by photo-CVD.
【請求項12】 前記フッ化炭素系化合物と酸素との割
合(モル比)が、フッ化炭素系/酸素=1/0.5〜1
/100である請求項6〜11の何れか1項記載の磁気
記録媒体の製造方法。
12. The ratio (molar ratio) of the fluorocarbon compound and oxygen is fluorocarbon system / oxygen = 1 / 0.5 to 1.
The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 6, wherein the magnetic recording medium is / 100.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009224456A (en) * 2008-03-14 2009-10-01 National Institute Of Advanced Industrial & Technology Oxide thin-film forming apparatus
US9312141B2 (en) 2013-11-21 2016-04-12 HGST Netherlands B.V. Vapor phase chemical mechanical polishing of magnetic recording disks

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