JPH08147675A - Magnetic recording medium and its manufacture - Google Patents
Magnetic recording medium and its manufactureInfo
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- JPH08147675A JPH08147675A JP28694094A JP28694094A JPH08147675A JP H08147675 A JPH08147675 A JP H08147675A JP 28694094 A JP28694094 A JP 28694094A JP 28694094 A JP28694094 A JP 28694094A JP H08147675 A JPH08147675 A JP H08147675A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、摩擦係数が低く、耐久
性に優れた磁気ディスク等の磁気記録媒体及びその製造
方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium such as a magnetic disk having a low friction coefficient and excellent durability, and a method for manufacturing the same.
【0002】[0002]
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、磁気ディスク等の磁気記録媒体には、その耐久性を
向上させるために潤滑剤層を設けることが広く行われて
いるが、近年の記録密度の増大等に伴って、グライドハ
イト特性を満足しつつ、更に耐久性が向上された磁気記
録媒体が要求されている。2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic recording medium such as a magnetic disk has been widely provided with a lubricant layer in order to improve its durability. With an increase in recording density and the like, there is a demand for a magnetic recording medium which satisfies the glide height characteristics and has further improved durability.
【0003】そこで、上記の要求を満足すべく、種々提
案がなされており、例えば、レーザー光を用いた気相重
合法により、磁気ディスク等の磁気記録媒体の表面に直
接フッ素系重合体を形成して、該表面に固着されてなる
潤滑剤層を形成する方法等が提案されている。しかし、
上述の方法では、潤滑剤層はその全てが磁気記録媒体の
表面に固着されているため上記潤滑剤層の密着度は向上
するものの、未だ要求されている耐久性を満足するもの
ではなかった。Therefore, various proposals have been made in order to satisfy the above requirements. For example, a fluoropolymer is directly formed on the surface of a magnetic recording medium such as a magnetic disk by a gas phase polymerization method using a laser beam. Then, a method of forming a lubricant layer adhered to the surface has been proposed. But,
In the above-mentioned method, since the lubricant layer is wholly adhered to the surface of the magnetic recording medium, the degree of adhesion of the lubricant layer is improved, but the durability required is not yet satisfied.
【0004】一方、潤滑剤層を固定層とフリー層との2
層構造として耐久性を向上させる方法も提案されてお
り、このうちフリー層の膜厚を厚くした場合には、耐久
性は要求されているレベルにまで向上する。しかし、要
求されているレベルにまで耐久性が向上されるように上
記フリー層の膜厚を厚くすると、ディスクの表面粗さが
小さいため、該潤滑剤層の摩擦係数が高くなり、磁気記
録媒体の使用時に磁気ヘッドに対するヘッド吸着を起こ
すという問題がある。On the other hand, the lubricant layer is composed of a fixed layer and a free layer.
A method of improving durability as a layer structure has also been proposed, and when the thickness of the free layer is increased, the durability is improved to a required level. However, if the thickness of the free layer is increased so that the durability is improved to the required level, the surface roughness of the disk is small, so that the friction coefficient of the lubricant layer becomes high, and the magnetic recording medium There is a problem in that the head is attracted to the magnetic head when used.
【0005】従って、本発明の目的は、グライドハイト
特性を満足しつつ、表面の摩擦係数が低く且つ耐久性に
優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供することに
ある。Accordingly, it is an object of the present invention to provide a magnetic recording medium having a low surface friction coefficient and excellent durability while satisfying the glide height characteristic, and a method for manufacturing the same.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解消するために鋭意検討した結果、特定の化合物を用
いて形成した特定構造の潤滑剤層を具備する磁気記録媒
体が上記目的を達成しうることを知見した。DISCLOSURE OF THE INVENTION As a result of intensive studies for solving the above problems, the present inventors have found that a magnetic recording medium having a lubricant layer of a specific structure formed by using a specific compound has the above object. We have found that
【0007】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
のであり、支持体と、該支持体上に設けられた磁性層
と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保護層上に設
けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体において、
上記潤滑剤層は、下記一般式(I)で表される化合物と
酸素との気相重合により得られた重合体により形成され
ており、且つ上記保護層上に固着された固定層と該固定
層上に形成されたフリー層とからなることを特徴とする
磁気記録媒体を提供するものである。 CF2 =CFRf ・・・・(I) (式中、Rf は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す)The present invention has been made on the basis of the above findings, and includes a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a protective layer provided on the magnetic layer. A magnetic recording medium comprising a lubricant layer provided on
The lubricant layer is formed of a polymer obtained by vapor phase polymerization of a compound represented by the following general formula (I) and oxygen, and a fixed layer fixed on the protective layer and the fixed layer. A magnetic recording medium characterized by comprising a free layer formed on the layer. CF 2 = CFR f ··· (I) (In the formula, R f represents a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or Indicates a partially fluorinated aryl group)
【0008】また、本発明は、上記磁気記録媒体の好ま
しい製造方法として、潤滑剤層の形成に際して、真空条
件下で気相重合を行い、下記一般式(I)で表される化
合物と酸素とを重合させて潤滑剤層を形成する第1の重
合工程と、水蒸気を導入した後、真空条件下で気相重合
を行い、下記一般式(I)で表される化合物と酸素とを
重合させて潤滑剤層を形成する第2の重合工程とを、順
次行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法を提供
するものである。 CF2 =CFRf ・・・・(I) (式中、Rf は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す)As a preferred method for producing the above-mentioned magnetic recording medium, the present invention performs vapor phase polymerization under a vacuum condition when forming a lubricant layer to obtain a compound represented by the following general formula (I) and oxygen. In a first polymerization step of polymerizing the above to form a lubricant layer, and after introducing steam, gas phase polymerization is performed under vacuum conditions to polymerize the compound represented by the following general formula (I) with oxygen. And a second polymerization step of forming a lubricant layer in order to provide a method for manufacturing a magnetic recording medium. CF 2 = CFR f ··· (I) (In the formula, R f represents a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or Indicates a partially fluorinated aryl group)
【0009】以下、本発明の磁気記録媒体について詳細
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、支持体と、該支
持体上に設けられた磁性層と、該磁性層上に設けられた
保護層と、該保護層上に設けられた潤滑剤層とを具備す
る磁気ディスク等の磁気記録媒体である。The magnetic recording medium of the present invention will be described in detail below. The magnetic recording medium of the present invention comprises a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a lubricant layer provided on the protective layer. It is a magnetic recording medium such as a magnetic disk.
【0010】本発明において用いられる上記支持体は、
磁性支持体と非磁性支持体とのいずれをも用いることが
できるが、一般的には非磁性支持体が用いられる。上記
非磁性支持体としては、例えば、ガラス状カーボン等の
カーボン、強化ガラス、結晶化ガラス、アルミニウム及
びアルミニウム合金、チタン及びチタン合金、セラミッ
クス、樹脂、あるいはこれらの複合材料からなる基板が
用いられる。これらの中でも、ガラス状カーボン製の基
板は、耐熱性、軽量性等の点において特に優れたもので
あり、本発明において特に好ましく用いることができ
る。The above-mentioned support used in the present invention is
Either a magnetic support or a non-magnetic support can be used, but a non-magnetic support is generally used. As the non-magnetic support, for example, carbon such as glassy carbon, tempered glass, crystallized glass, aluminum and aluminum alloy, titanium and titanium alloy, ceramics, resin, or a substrate made of a composite material thereof is used. Among these, the glassy carbon substrate is particularly excellent in heat resistance, light weight, etc., and can be particularly preferably used in the present invention.
【0011】また、上記支持体には、必要に応じて、各
種のテクスチャ処理を施してもよい。上記テクスチャ処
理としては、例えば、研磨テープや研磨砥粒を用いての
処理、酸によるエッチング処理、熱酸化や陽極酸化処
理、シリケート化合物をスピンコートにより表面析出さ
せる処理、プラズマアッシング等による粗面化処理等を
挙げることができる。If desired, the support may be subjected to various texture treatments. Examples of the texture treatment include treatment with a polishing tape or abrasive grains, etching treatment with an acid, thermal oxidation or anodic oxidation treatment, treatment for depositing a silicate compound on the surface by spin coating, and roughening by plasma ashing. Examples include treatment.
【0012】本発明において上記支持体上に設けられる
上記磁性層としては、例えば、PVD(物理的気相成
長)手段により形成された金属薄膜型の磁性層を挙げる
ことができる。該金属薄膜型の磁性層を形成する材料と
しては、例えばCoCr、CoNi、CoCrX、Co
NiX、CoWX(ここで、Xは、Ta、Pt、Au、
Ti、V、Cr、Ni、W、La、Ce、Pr、Nd、
Pm、Sm、Eu、Li、Si、B、Ca、As、Y、
Zr、Nb、Mo、Ru、Rh、Ag、Sb及びHf等
からなる群より選ばれる一種又は二種以上を示す)等で
表されるCoを主成分とするCo系の磁性合金等を好ま
しく挙げることができ、使用に際しては、単独又は2種
以上の混合物として用いることができる。上記磁性層の
膜厚は、20〜50nmであるのが好ましい。In the present invention, examples of the magnetic layer provided on the support include a metal thin film type magnetic layer formed by PVD (Physical Vapor Deposition) means. Examples of the material for forming the metal thin film type magnetic layer include CoCr, CoNi, CoCrX, and Co.
NiX, CoWX (where X is Ta, Pt, Au,
Ti, V, Cr, Ni, W, La, Ce, Pr, Nd,
Pm, Sm, Eu, Li, Si, B, Ca, As, Y,
Zr, Nb, Mo, Ru, Rh, Ag, Sb, and Hf are one or two or more selected from the group consisting of) and the like, and a Co-based magnetic alloy containing Co as a main component is preferably exemplified. It can be used alone or as a mixture of two or more. The thickness of the magnetic layer is preferably 20 to 50 nm.
【0013】本発明において上記磁性層上に設けられる
上記保護層は、例えば、PVDやスピンコーティング等
により形成される層であり、耐磨耗性の観点から力学的
強度の高い材料で形成されているのが好ましい。上記保
護層を形成する材料としては、例えば、Al、Si、T
i、Cr、Zr、Nb、Mo、Ta、W等の金属の酸化
物(酸化ケイ素、酸化ジルコニウム等);該金属の窒化
物(窒化ホウ素等);該金属の炭化物(炭化ケイ素、炭
化タングステン等);ダイヤモンドライクカーボン等の
カーボン(炭素)又はボロンナイトライド等ならなる群
より選択される一種以上が用いられる。また、上記材料
の中でも、カーボン、炭化ケイ素、炭化タングステン、
酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、窒化ホウ素又はこれら
の複合材料が好ましく、更に好ましくはカーボンであ
り、中でも特にダイヤモンドライクカーボンが好まし
い。また、上記保護層の膜厚は、5〜25nmであるの
が好ましい。In the present invention, the protective layer provided on the magnetic layer is, for example, a layer formed by PVD, spin coating, or the like, and is formed of a material having high mechanical strength from the viewpoint of abrasion resistance. Is preferred. As the material for forming the protective layer, for example, Al, Si, T
Oxides of metals such as i, Cr, Zr, Nb, Mo, Ta, W (silicon oxide, zirconium oxide, etc.); nitrides of the metal (boron nitride, etc.); carbides of the metal (silicon carbide, tungsten carbide, etc.) ); One or more selected from the group consisting of carbon such as diamond-like carbon or boron nitride is used. Further, among the above materials, carbon, silicon carbide, tungsten carbide,
Silicon oxide, zirconium oxide, boron nitride, or a composite material thereof is preferable, carbon is more preferable, and diamond-like carbon is particularly preferable. The thickness of the protective layer is preferably 5 to 25 nm.
【0014】而して、本発明の磁気記録媒体は、上記保
護層上に設けられる上記潤滑剤層が下記一般式(I)で
表される化合物(以下、「化合物A」と称す)と酸素と
の重合体により形成されている。In the magnetic recording medium of the present invention, the lubricant layer provided on the protective layer contains a compound represented by the following general formula (I) (hereinafter referred to as "compound A") and oxygen. And a polymer.
【0015】CF2 =CFRf ・・・・(I) (式中、Rf は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す)CF 2 = CFR f ··· (I) (wherein R f is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, perfluoro). Indicates an aryl group or a partially fluorinated aryl group)
【0016】上記一般式(I)において、好ましいパー
フルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル(C
F3−)、パーフルオロヘプチル(C5F11−)、パーフ
ルオロヘキシル(C6F13−)、好ましいパーフルオロ
アルケニル基としては、パーフルオロエチニル(CF2
=CF−)、好ましい部分フッ素化アルキル基として
は、1H−パーフルオロブチル(C4F8H−)、好まし
い部分フッ素化アルケニル基としては、−CF2−CF
=CH2 、好ましいパーフルオロアリール基としては、
パーフルオロベンジル(−CF2−C6F5)、好ましい
部分フッ素化アリール基としては、−CFH−C6F5、
−CF2−C6H5がそれぞれ挙げられる。In the above general formula (I), a preferable perfluoroalkyl group is perfluoromethyl (C
F 3 −), perfluoroheptyl (C 5 F 11 −), perfluorohexyl (C 6 F 13 −), and preferable perfluoroalkenyl groups include perfluoroethynyl (CF 2
= CF-), 1H-perfluorobutyl (C 4 F 8 H-) is a preferable partially fluorinated alkyl group, and -CF 2 -CF is a preferable partially fluorinated alkenyl group.
= CH 2 , and as a preferable perfluoroaryl group,
Perfluoro benzyl (-CF 2 -C 6 F 5) , Preferred partially fluorinated aryl group, -CFH-C 6 F 5,
-CF 2 -C 6 H 5 and the like, respectively.
【0017】従って、好ましい上記化合物Aとしては、
テトラフルオロエチレン(CF2=CF2)、ヘキサフル
オロプロペン(CF2=CFCF3)、パーフルオロヘプ
テン−1(CF2=CFC5F11)、6H−パーフルオロ
ヘキセン−1(CF2=CFC4F8H)、パーフルオロ
オクテン−1(CF2=CFC6F13)、ヘキサフルオロ
−1,3−ブタジエン(CF2=CFCF=CF2)、3
−(ペンタフルオロフェニル)ペンタフルオロプロペン
−1(CF2=CFCF2C6F5)、CF2=CFCHF
−C6F5、CF2=CFCF2−C6H5、CF2=CFC
F2CF=CH 2等が挙げられる。Therefore, as the preferable compound A,
Tetrafluoroethylene (CF2= CF2), Hexaful
Oropropene (CF2= CFCF3), Perfluorohep
Ten-1 (CF2= CFCFiveF11), 6H-perfluoro
Hexen-1 (CF2= CFCFourF8H), perfluoro
Octene-1 (CF2= CFC6F13), Hexafluoro
-1,3-Butadiene (CF2= CF CF = CF2) 3
-(Pentafluorophenyl) pentafluoropropene
-1 (CF2= CFCF2C6FFive), CF2= CFCHF
-C6FFive, CF2= CFCF2-C6HFive, CF2= CFC
F2CF = CH 2Etc.
【0018】また、上記化合物Aと酸素との使用割合
は、化合物A/酸素(モル比)が好ましくは1/0.5
〜1/100、更に好ましくは1/1〜1/10、最も
好ましくは1/2〜1/8である。上記使用割合が1/
100より低いと、レーザー光等の吸収効率が低下し、
重合が十分とはいえず、1/0.5より高いと、重合体
中のエーテル結合量が低下し、耐久特性が低下するの
で、上記範囲内とするのが好ましい。The ratio of the compound A to oxygen used is preferably compound A / oxygen (molar ratio) of 1 / 0.5.
To 1/100, more preferably 1/1 to 1/10, most preferably 1/2 to 1/8. The above usage rate is 1 /
If it is lower than 100, the absorption efficiency of laser light and the like decreases,
It cannot be said that the polymerization is sufficient, and if it is higher than 1 / 0.5, the amount of ether bond in the polymer is lowered and the durability property is lowered. Therefore, it is preferably within the above range.
【0019】そして、上記化合物Aと酸素との重合体
は、主として−(CF2O)−の構造単位を有する重合
体であり、その分子量は、好ましくは1500〜300
00である。上記重合体の構造は完全には判っていない
が、例えば、下記構造式で示される重合体等が推定され
る。 X-(CF2O)l-(CF2CF2CF2O) m -(CF(CF3)CFO) n X' 〔ここで、l、m及びnは、正の整数を示し(但し、l
≫m、n)、また、x及びx’は、アルコール又はエー
テル結合、エステル結合、ウレタン結合等を含む末端部
を示す。〕 そして、上記重合体における上記−(CF2O)−の構
造単位の含有率は、全構造単位中70%以上であるのが
好ましく、例えば、上記構造式で表される重合体におい
ては(l/l+m+n)×100が70%以上であるの
が好ましい。The polymer of the compound A and oxygen is a polymer mainly having a-(CF 2 O)-structural unit, and the molecular weight thereof is preferably 1500 to 300.
00. Although the structure of the above polymer is not completely known, for example, a polymer represented by the following structural formula is estimated. X- (CF 2 O) l- (CF 2 CF 2 CF 2 O) m- (CF (CF 3 ) CFO) n X '[wherein l, m and n are positive integers (provided that l
>> m, n), and x and x'represent an end portion containing an alcohol or ether bond, an ester bond, a urethane bond or the like. ] Then, the in the polymer - (CF 2 O) - the content of the structural units is preferably at least 70% in the total structural units, for example, in a polymer represented by the structural formula ( It is preferable that 1 / l + m + n) × 100 is 70% or more.
【0020】また、上記潤滑剤層は、上記保護層に固着
された固定層と該固定層上に形成されたフリー層とから
なる。ここで、上記固定層とは、上記保護層に化学的又
は物理的に強固に固着されており、例えば商品名「フロ
ン113」等のフッ素系溶媒を用いて洗浄しても洗い流
されない層であり、上記フリー層とは、上記フッ素系溶
媒を用いて洗浄した場合に洗い流されてしまう層であ
る。The lubricant layer is composed of a fixed layer fixed to the protective layer and a free layer formed on the fixed layer. Here, the fixed layer is a layer which is firmly fixed chemically or physically to the protective layer and which is not washed off even if it is washed with a fluorine-based solvent such as a trade name “CFC113”. The free layer is a layer that is washed away when washed with the fluorine-based solvent.
【0021】上記固定層の厚さ(重さ)と上記フリー層
の厚さ(重さ)との比は、フリー層の厚さ(重さ)/固
定層の厚さ(重さ)が好ましくは1/10〜10/1、
更に好ましくは2/5〜5/1である。上記固定層の膜
厚は、5〜30Åであるのが好ましい。5Å未満である
と、耐摩耗性が悪く耐久性が劣り、30Åを超えると、
膜の構造が乱れ、再び耐摩耗性が劣化するので上記範囲
内とするのが好ましい。また上記フリー層の膜厚は、2
〜80Åであるのが好ましい。2Å未満であると、耐久
性が悪く、80Åを超えると、摩擦係数が増大するので
上記範囲内とするのが好ましい。このように、本発明の
磁気記録媒体は、上記フリー層の膜厚を従来のフリー層
の膜厚(8〜20Å)よりも厚くしても、磁気記録媒体
表面の摩擦係数が高くならないものであるため、本発明
における上記フリー層の膜厚は、従来の磁気記録媒体に
おけるフリー層の膜厚よりも厚くすることができる。The ratio of the thickness (weight) of the fixed layer to the thickness (weight) of the free layer is preferably (thickness of free layer) / (thickness of fixed layer). Is 1/10 to 10/1,
More preferably, it is 2/5 to 5/1. The thickness of the fixed layer is preferably 5 to 30 Å. If it is less than 5Å, wear resistance is poor and durability is poor, and if it exceeds 30Å,
Since the structure of the film is disturbed and the abrasion resistance is deteriorated again, it is preferably within the above range. The thickness of the free layer is 2
It is preferably ˜80Å. When it is less than 2Å, durability is poor, and when it exceeds 80Å, the coefficient of friction increases, so it is preferable to set it within the above range. As described above, in the magnetic recording medium of the present invention, even if the thickness of the free layer is larger than that of the conventional free layer (8 to 20Å), the friction coefficient of the surface of the magnetic recording medium does not increase. Therefore, the film thickness of the free layer in the present invention can be made larger than the film thickness of the free layer in the conventional magnetic recording medium.
【0022】また、上記の固定層及びフリー層からなる
上記潤滑剤層の膜厚は、好ましくは2〜200Å、より
好ましくは10〜100Å、更に好ましくは20〜80
Å、最も好ましくは20〜50Åである。上記膜厚が1
00Åを超えるとスペーシングロスが大きくなり、10
Å未満であると潤滑効果が乏しくなるので、上記範囲内
であるのが好ましい。The thickness of the lubricant layer comprising the fixed layer and the free layer is preferably 2 to 200Å, more preferably 10 to 100Å, further preferably 20 to 80.
Å, most preferably 20 to 50Å. The film thickness is 1
If it exceeds 00Å, the spacing loss becomes large and 10
If it is less than Å, the lubricating effect will be poor, so it is preferably in the above range.
【0023】また、本発明の磁気記録媒体には、上記支
持体と上記磁性層との間に下地層を形成してもよい。上
記下地層は、Cr、Ti、Al又はこれらの合金等を用
い、スパッタ等のPVD手段により設けることができ
る。上記下地層の膜厚は、10〜100nmとするのが
好ましい。In the magnetic recording medium of the present invention, an underlayer may be formed between the support and the magnetic layer. The underlayer can be provided by PVD means such as sputtering using Cr, Ti, Al or alloys thereof. The thickness of the underlayer is preferably 10 to 100 nm.
【0024】次に、本発明の磁気記録媒体の好ましい製
造方法について説明する。本発明の磁気記録媒体の製造
方法は、上記潤滑剤層の形成に際して、真空条件下で気
相重合を行い、上記化合物Aと酸素とを重合させて上記
潤滑剤層を形成する第1の重合工程と、水蒸気を導入し
た後、真空条件下で気相重合を行い、上記化合物Aと酸
素とを重合させて上記潤滑剤層を形成する第2の重合工
程とを、順次行うことにより実施することができる。こ
こで、上記第1の重合工程は、主として上記固定層を形
成する工程であり、上記第2の重合工程は、主として上
記フリー層を形成する工程である。即ち、上記第1の重
合工程においてもフリー層が形成されることがあり、上
記第2の重合工程においても固定層が形成されることが
ある。尚、上記潤滑剤層の形成以外の工程に関しては、
通常公知の磁気記録媒体の製造方法と同様の方法を特に
制限なく、採用することができる。Next, a preferred method for manufacturing the magnetic recording medium of the present invention will be described. In the method for producing a magnetic recording medium of the present invention, in the formation of the lubricant layer, vapor phase polymerization is performed under a vacuum condition to polymerize the compound A and oxygen to form the lubricant layer. It is carried out by sequentially performing a step and a second polymerization step in which vapor phase polymerization is performed under a vacuum condition after introducing water vapor to polymerize the compound A and oxygen to form the lubricant layer. be able to. Here, the said 1st superposition | polymerization process is a process of mainly forming the said fixed layer, and the said 2nd superposition | polymerization process is a process of mainly forming the said free layer. That is, a free layer may be formed in the first polymerization step, and a fixed layer may be formed in the second polymerization step. Regarding the steps other than the formation of the lubricant layer,
The same method as a generally known method for manufacturing a magnetic recording medium can be used without particular limitation.
【0025】先ず、上記の第1及び第2の重合工程にお
いて行われる上記気相重合について説明する。上記気相
重合とは、上記化合物Aと上記酸素とを気相にガス状態
で保持した系で重合を行い、重合反応を気相のみで生ぜ
しめる重合方法を意味する。重合に際して採用すること
ができる手法としては、例えば、プラズマ重合や光CV
D(化学的気相成長)等のCVDを採用することができ
るが、本発明においては、装置・設備が簡単なもので済
む点から光CVDが好ましく採用される。First, the gas phase polymerization carried out in the first and second polymerization steps will be described. The gas phase polymerization means a polymerization method in which the compound A and the oxygen are polymerized in a system in which the gas state is maintained in a gas state, and the polymerization reaction is caused only in the gas phase. Techniques that can be adopted for the polymerization include, for example, plasma polymerization and optical CV.
Although CVD such as D (Chemical Vapor Deposition) can be adopted, in the present invention, photo-CVD is preferably used from the viewpoint that equipment and facilities are simple.
【0026】上記光CVDにより重合を行う場合には、
レーザ光を被析出物体表面(即ち、上記保護層の表面)
には直接照射せず、原料ガス中にのみ照射して行うのが
好ましい。When polymerization is carried out by the above photo-CVD,
Laser light is deposited on the surface of the object (that is, the surface of the protective layer)
It is preferable to irradiate the raw material gas only and not directly irradiate it.
【0027】この際、用いることができる光源として
は、紫外線及び赤外線が挙げられるが、下記する理由に
より、紫外線を用いるのが好ましく、具体的には、例え
ば193nmのエキシマレーザ光等を好ましく用いるこ
とができる。即ち、赤外線を光源とする赤外レーザによ
る反応は、基本的に振動励起による反応であるから、本
質的に熱反応と同じであり、サイドリアクションが生じ
て目的物以外の生成物が生成し、形成膜の構造制御が困
難である。一方、紫外線を光源とする紫外レーザは、電
子励起により重合反応を起こすものであり、反応の選択
性が良く、更には、熱反応の関与が極めて低いため、サ
イドリアクションが生じる恐れが低い。At this time, examples of the light source that can be used include ultraviolet rays and infrared rays, but it is preferable to use ultraviolet rays for the following reasons. Specifically, for example, excimer laser light of 193 nm is preferably used. You can That is, the reaction by the infrared laser using the infrared light source is basically a reaction by vibrational excitation, and is essentially the same as the thermal reaction, and a side reaction occurs to generate a product other than the target product, It is difficult to control the structure of the formed film. On the other hand, an ultraviolet laser using an ultraviolet ray as a light source causes a polymerization reaction by electronic excitation, has a good reaction selectivity, and further, since the thermal reaction is extremely low in involvement, side reaction is unlikely to occur.
【0028】また、上記気相重合を行う際における基板
(保護層まで設けられたもの)の温度は10〜90℃に
設定されていることが好ましく、更には15〜50℃で
あるのが好ましい。上記範囲外であると上記潤滑剤層が
形成されない場合があるので、上記範囲内とするのが好
ましい。The temperature of the substrate (provided with the protective layer) at the time of carrying out the gas phase polymerization is preferably set to 10 to 90 ° C., more preferably 15 to 50 ° C. . If the content is out of the above range, the lubricant layer may not be formed, so the content is preferably in the above range.
【0029】次に、上記の第1及び第2の重合工程につ
いて、図1を参照して更に具体的に説明する。ここで図
1は、本発明の磁気記録媒体の製造方法において用いる
ことができる光反応用のチャンバーを示す模式図であ
る。Next, the first and second polymerization steps described above will be described more specifically with reference to FIG. Here, FIG. 1 is a schematic view showing a photoreaction chamber that can be used in the method for manufacturing a magnetic recording medium of the present invention.
【0030】図1に示す光反応用のチャンバー1は、そ
の上方の左右両側面に設けられたレーザー光を透過する
レーザー透過窓2と、下部に設けられた磁気記録媒体と
しての磁気ディスク基板3(保護層まで設けられたも
の)を一定間隔をおいて立設させることができる媒体設
置部材4と、上部に設けられたチャンバー内部の減圧及
び大気解放を行うためのバルブ5と有する。The photoreaction chamber 1 shown in FIG. 1 is provided with a laser transmission window 2 for transmitting laser light, which is provided on both left and right side surfaces above the chamber 1, and a magnetic disk substrate 3 as a magnetic recording medium provided below. It has a medium setting member 4 that can stand upright (provided up to the protective layer) at regular intervals, and a valve 5 provided at the upper part for decompressing the inside of the chamber and releasing to the atmosphere.
【0031】そして、上記の第1の重合工程に際して
は、先ず、上記バルブ5を解放して、一旦、チャンバー
1内を真空ポンプ(図示せず)で減圧して真空にした
後、上記化合物A及び酸素を導入して上記真空条件とす
る。次に、エキシマレーザ光等を磁気ディスク基板3上
部とチャンバ天井との間の中央を透過し且つ該磁気ディ
スク基板3には当たらないように、図1に示す矢印方向
に照射する。従って、上記真空条件とは、真空状態の反
応容器内(1×10-5〜1Torr)に上記化合物Aと
上記酸素とを導入した状態を意味し、この状態における
気圧は、5〜200Torrとするのが好ましい。ま
た、上記媒体設置部材4は、各磁気ディスク基板3をそ
の円周方向(図1の矢印D方向)に向けて回転させるこ
とができるようになされている。In the first polymerization step, first, the valve 5 is opened, the inside of the chamber 1 is once decompressed by a vacuum pump (not shown) to be a vacuum, and then the compound A is removed. And oxygen are introduced to the above vacuum conditions. Next, excimer laser light or the like is irradiated in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so as to pass through the center between the upper part of the magnetic disk substrate 3 and the chamber ceiling and not hit the magnetic disk substrate 3. Therefore, the vacuum condition means a state in which the compound A and the oxygen are introduced into a reaction vessel (1 × 10 −5 to 1 Torr) in a vacuum state, and the atmospheric pressure in this state is 5 to 200 Torr. Is preferred. The medium mounting member 4 is adapted to rotate each magnetic disk substrate 3 in the circumferential direction (direction of arrow D in FIG. 1).
【0032】また、上記の第1の重合工程は、数回繰り
返されてもよい。The above first polymerization step may be repeated several times.
【0033】次いで、上記の第2の重合工程に際して
は、上記の第1の重合工程の終了後、上記バルブ5を解
放して、該第1の重合工程における上記真空条件を大気
圧条件に戻して、チャンバー1内に水蒸気を導入した
後、上記の第1の重合工程と同様に、減圧して真空にし
た後、上記化合物A及び酸素を導入して上記真空条件と
し、エキシマレーザー光等を照射する。ここで、第2の
重合工程における「真空条件」も、上記の第1の重合工
程における「真空条件」と同じである。また、本発明に
おいて、上記の水蒸気の導入は、上述の如く、上記チャ
ンバー1を大気圧条件とすることにより大気を導入して
行うのが好ましく、この際導入される該大気の相対湿度
は、30〜90%であるのが好ましく、40〜80%で
あるのが更に好ましい。Next, in the second polymerization step, after the completion of the first polymerization step, the valve 5 is opened to return the vacuum condition in the first polymerization step to the atmospheric pressure condition. Then, after introducing water vapor into the chamber 1, a vacuum is applied to reduce the pressure in the same manner as in the first polymerization step, and then the compound A and oxygen are introduced to make the vacuum condition, and the excimer laser light is applied. Irradiate. Here, the “vacuum condition” in the second polymerization step is the same as the “vacuum condition” in the first polymerization step. Further, in the present invention, the introduction of the water vapor is preferably carried out by introducing the atmosphere by setting the chamber 1 to the atmospheric pressure condition as described above, and the relative humidity of the atmosphere introduced at this time is It is preferably 30 to 90%, more preferably 40 to 80%.
【0034】また、上記の第2の重合工程も、数回繰り
返されてもよい。尚、上記の第2の重合工程の後に、再
度上記の第1の重合工程を行うこともできる。The above second polymerization step may also be repeated several times. The first polymerization step may be performed again after the second polymerization step.
【0035】[0035]
【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.
【0036】〔実施例1〕密度1.5g/cm3 のガラ
ス状カーボン製の支持体(サイズ1.8インチ、厚さ2
5ミル)11を研磨し、中心線平均粗さRaを1.0n
mにした。この後、テクスチャ処理(Al−Si合金を
スパッタ)してRaを15Åにした。この後、DCマグ
ネトロンスパッタによりArガス雰囲気中で厚さ50n
mのCrからなる下地層12を支持体11の表面に設
け、次いで厚さ40nmのCoCrTa系の磁性層13
を設けた。続いて、ガラス状カーボン製ターゲットを装
着した対向ターゲット型のスパッタ装置を用い、室内を
排気し、そして2mTorrのガス圧となるようArガ
スを導入してスパッタを行い、磁性層13上に200Å
厚のガラス状カーボンからなる保護層14を設け、磁気
ディスク基板3を得た。Example 1 A support made of glassy carbon having a density of 1.5 g / cm 3 (size 1.8 inch, thickness 2)
5 mil) 11 is polished and the center line average roughness Ra is 1.0 n
It was set to m. Then, texture treatment (sputtering of Al-Si alloy) was performed to set Ra to 15 Å. After this, DC magnetron sputtering is performed to a thickness of 50 n in an Ar gas atmosphere.
An underlayer 12 made of Cr of m is provided on the surface of the support 11, and then a CoCrTa-based magnetic layer 13 having a thickness of 40 nm is formed.
Was provided. Then, using a facing target type sputtering apparatus equipped with a glassy carbon target, the interior of the chamber was evacuated, and Ar gas was introduced so as to have a gas pressure of 2 mTorr to perform sputtering, and 200 Å on the magnetic layer 13.
A protective layer 14 made of thick glassy carbon was provided to obtain a magnetic disk substrate 3.
【0037】得られた磁気ディスク基板3を用いて、図
1に示すように、CVD装置である図1に示す光反応用
のチャンバー1内に所定の間隔を設けて図1に示すよう
に並列配置し、チャンバー1内を5×10-2Torrに
排気した後、テトラフルオロエチレン(CF2=CF2) 10T
orrと酸素60Torrとを導入し、ArFエキシマ
レーザ(波長193nm)からのレーザ光(パワー15
0mJ、繰り返し速度2Hz)を12.5分間かけて1
500パルス照射し、第1の重合工程を1度行った。Using the magnetic disk substrate 3 thus obtained, as shown in FIG. 1, a CVD apparatus, which is a chamber for photoreaction shown in FIG. 1, is arranged in parallel with a predetermined interval as shown in FIG. After arranging and evacuating the chamber 1 to 5 × 10 -2 Torr, tetrafluoroethylene (CF 2 = CF 2 ) 10T
orr and oxygen 60 Torr were introduced, and laser light (power 15 nm) from ArF excimer laser (wavelength 193 nm) was introduced.
0mJ, repetition rate 2Hz) over 12.5 minutes 1
The first polymerization step was performed once by irradiation with 500 pulses.
【0038】この後、チャンバー1をリークして湿度6
0%の大気を導入し、大気圧条件にした。この後、再
び、チャンバー1内を5×10-2Torrに排気した
後、テトラフルオロエチレン10Torrと酸素60T
orrを導入し、上記レーザ光を12.5分間かけて1
500パルス照射し、第2の重合工程を1度行った。
尚、レーザ光は磁気ディスク基板3に直接照射されない
よう、図1に示す矢印方向に向けて照射した。また、上
記光CVDに際して、磁気ディスク基板3の温度は室温
(22℃)とした。After this, the chamber 1 is leaked and the humidity 6
Atmospheric pressure was introduced by introducing 0% air. Then, the chamber 1 was evacuated to 5 × 10 -2 Torr again, and then tetrafluoroethylene (10 Torr) and oxygen (60 Torr) were added.
orr is introduced, and the laser light is applied for 12.5 minutes to 1
The second polymerization step was performed once by irradiation with 500 pulses.
The laser light was irradiated in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so that the magnetic disk substrate 3 was not directly irradiated with the laser light. The temperature of the magnetic disk substrate 3 was room temperature (22 ° C.) during the photo-CVD.
【0039】そして、上記光CVD処理により、図2に
示す磁気記録媒体10としての磁気ディスク、即ち、支
持体11と、該支持体11上に設けられた下地層12
と、該下地層12上に設けられた磁性層13と、該磁性
層13上に設けられた保護層14と、該保護層14上に
設けられた潤滑剤層15とを具備し、該潤滑剤層15
が、該保護層14の表面に化学結合により重合体分子が
固着されてなる固定層15aと、該固定層15a上に形
成されたフリー層15bとからなる磁気ディスクを得
た。Then, by the photo-CVD process, the magnetic disk as the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 2, that is, the support 11, and the underlayer 12 provided on the support 11.
A magnetic layer 13 provided on the underlayer 12, a protective layer 14 provided on the magnetic layer 13, and a lubricant layer 15 provided on the protective layer 14. Agent layer 15
However, a magnetic disk comprising a fixed layer 15a having polymer molecules fixed to the surface of the protective layer 14 by a chemical bond and a free layer 15b formed on the fixed layer 15a was obtained.
【0040】尚、上記潤滑剤層15が固定層15aとフ
リー層15bとからなることは、下記及びにより確
認した。 上記磁気ディスクをフロン113で10分間超音波洗
浄して、重量変化の有無を確認したところ、重量減少が
認められたこと。 上記の洗浄の後にESCA(VGサイエンス社製のE
SCALAB200C、AlKα線使用)分析して、磁
気ディスクの表面における上記重合体の分子の残存の有
無を確認したところ、残存が認められたこと。また、潤
滑剤層についてのESCA分析によればClsについて
294.7eV付近にピークが認められ、これは市販の
パープルオロポリエーテル潤滑剤を用いて作成したデー
タベースにおける(CF2O)n ユニットのClsスペクトル
と一致したので、潤滑剤分子は主として-(CF2O) n - の
構造単位を有するものであることが判った。尚、29
2、289eV付近にも小さなピークが観測されること
から-(CF2O) n - の構造単位以外の構造単位も少し共存
すると考えられる。The fact that the lubricant layer 15 is composed of the fixed layer 15a and the free layer 15b was confirmed by the following and. The above magnetic disk was ultrasonically cleaned with Freon 113 for 10 minutes and checked for weight change. After the above washing, ESCA (E manufactured by VG Science Co., Ltd.
SCALAB200C, using AlKα ray) was analyzed to confirm the presence or absence of residual molecules of the polymer on the surface of the magnetic disk. In addition, according to ESCA analysis of the lubricant layer, a peak of Cls was found around 294.7 eV, which was due to the Cls of (CF 2 O) n unit in the database prepared using a commercially available purple olopolyether lubricant. since consistent with spectrum, lubricant molecules primarily - (CF 2 O) n - was found to be those having a structural unit. Incidentally, 29
Since a small peak is observed near 2,289 eV, it is considered that some structural units other than the structural unit of-(CF 2 O) n- coexist.
【0041】〔実施例2〜19〕実施例1の光CVD処
理を〔表1〕に示す条件で行った以外は実施例1と同様
にして、それぞれ、図2に示す構造の磁気ディスクを得
た。[Examples 2 to 19] Magnetic disks each having the structure shown in FIG. 2 were obtained in the same manner as in Example 1 except that the photo-CVD treatment of Example 1 was carried out under the conditions shown in [Table 1]. It was
【0042】[0042]
【表1】 [Table 1]
【0043】〔比較例1〕実施例1において、磁気ディ
スク基板を−20℃に冷却し、かつ、CVD工程とし
て、実施例1における第1の重合工程と同様の工程を1
回行うのみとした以外は、実施例1と同様にして磁気デ
ィスクを得た。COMPARATIVE EXAMPLE 1 In Example 1, the magnetic disk substrate was cooled to −20 ° C., and the CVD process was performed by the same process as the first polymerization process in Example 1.
A magnetic disk was obtained in the same manner as in Example 1 except that the operation was repeated only once.
【0044】〔比較例2〕特開平4−186524号公
報に記載の実施例1に準じて磁気ディスクの製造を行っ
た。すなわち、Ni−PメッキしたAl基板に実施例1
に準じたテクスチャ処理、下地層、磁性層および保護層
の成膜を行い、磁気ディスク基板3を得た。この磁気デ
ィスク基板3をチャンバ内に配置し、真空排気した後、
ヘキサフルオロプロペンと酸素との混合ガス(1:1)
を100Torr導入し、そして磁気ディスク基板3に
向けてArFエキシマレーザ(波長193nm)からの
レーザ光(パワー150mJ、繰り返し速度2Hz)を
照射し、潤滑剤層を構成して磁気ディスクを得た。Comparative Example 2 A magnetic disk was manufactured according to Example 1 described in JP-A-4-186524. That is, Example 1 was applied to a Ni-P plated Al substrate.
The magnetic disk substrate 3 was obtained by performing the texture treatment according to the above, and forming the underlayer, the magnetic layer and the protective layer. After placing this magnetic disk substrate 3 in the chamber and evacuating it,
Mixed gas of hexafluoropropene and oxygen (1: 1)
Was introduced at 100 Torr and laser light (power 150 mJ, repetition rate 2 Hz) from an ArF excimer laser (wavelength 193 nm) was irradiated toward the magnetic disk substrate 3 to form a lubricant layer to obtain a magnetic disk.
【0045】〔比較例3〕特開平6−220185号公
報に記載の実施例5に準じて磁気ディスクの製造を行っ
た。すなわち、Ni−PメッキしたAl基板に実施例1
に準じたテクスチャ処理、下地層、磁性層および保護層
の成膜を行い、磁気ディスク基板を得た。この磁気ディ
スク基板をチャンバ内に配置し、−50℃に冷却すると
共に真空排気し、CF2CF=CF2 と酸素との混合ガス(3:
1)を100Torr導入し、又、1TorrのCF3OCF
3 を導入し、炭酸ガスレーザ(波長1020〜1060
cm -1)からのレーザ光(パワー300mJ、繰り返し
速度0.7Hz)を12分間照射し、潤滑剤層を構成し
て磁気ディスクを得た。[Comparative Example 3] JP-A-6-220185
A magnetic disk was manufactured according to Example 5 described in the report.
Was. That is, Example 1 was applied to a Ni-P plated Al substrate.
Texture processing, base layer, magnetic layer and protective layer according to
Was deposited to obtain a magnetic disk substrate. This magnetic disk
When the disk substrate is placed in the chamber and cooled to -50 ° C,
Both are evacuated and CF2CF = CF2Mixed gas of oxygen and oxygen (3:
Introduced 1) 100 Torr, and 1 Torr CF3OCF
3Of carbon dioxide gas (wavelength 1020 to 1060)
cm -1Laser light (power 300 mJ, repeated
Irradiation at a speed of 0.7 Hz) for 12 minutes to form a lubricant layer.
I got a magnetic disk.
【0046】〔比較例4〕特開平5−174354号公
報に記載の実施例3に準じて磁気ディスクの製造を行っ
た。すなわち、Ni−PメッキしたAl基板に実施例1
に準じたテクスチャ処理、下地層、磁性層および保護層
の成膜を行い、磁気ディスク基板を得た。この磁気ディ
スク基板をパーフルオロポリエーテル系潤滑剤(モンテ
カチーニ社製の「FomblinAM200l」,商品
名)溶液に浸漬した。この後、取り出し、低圧水銀灯
(150W)を設けた箱型チャンバ内に寝かせてセット
し、真空排気した後、10Torrのヘキサフルオロエ
タン及び10Torrのフッ素を導入し、更に3Tor
rのペルフルオロプロペンを導入し、ArFエキシマレ
ーザ(波長193nm)からのレーザ光(パワー150
mJ、繰り返し速度2Hz)を石英レンズを介して集光
・照射し、誘導破壊を5分間行い、ラジカル処理を行
い、磁気ディスクを得た。尚、この間、低圧水銀灯を点
灯し、磁気ディスクに原体に直接照射した。[Comparative Example 4] A magnetic disk was manufactured according to Example 3 described in JP-A-5-174354. That is, Example 1 was applied to a Ni-P plated Al substrate.
According to the above, the texture treatment was performed, and the underlayer, the magnetic layer and the protective layer were formed to obtain a magnetic disk substrate. This magnetic disk substrate was dipped in a solution of a perfluoropolyether lubricant (“Fomblin AM200l” manufactured by Montecatini Co., trade name). After that, it was taken out, set in a box-shaped chamber equipped with a low-pressure mercury lamp (150 W), evacuated, then introduced with 10 Torr hexafluoroethane and 10 Torr fluorine, and further with 3 Torr.
Laser light from ArF excimer laser (wavelength 193 nm) (power 150
mJ, repetition rate 2 Hz) was condensed and irradiated through a quartz lens, induction destruction was performed for 5 minutes, and radical treatment was performed to obtain a magnetic disk. During this period, the low-pressure mercury lamp was turned on, and the magnetic disk was directly irradiated onto the raw material.
【0047】〔比較例5〕特開平4−311812号公
報に記載の実施例1に準じて磁気ディスクの製造を行っ
た。すなわち、実施例1と同様の磁気ディスク基板3に
活性基を持つパーフルオロポリエーテル系潤滑剤(ダイ
キン工業社製の「DemunmSP」,商品名)溶液を
ディップコート法により塗布し、この後150℃で30
分間熱処理を行った。冷却後、フッ素系溶剤で10分間
超音波洗浄した。この後、化学的に不活性なパーフルオ
ロポリエーテル系潤滑剤(ダイキン工業社製の「Dem
numS−100」,商品名)溶液をディップコート法
により塗布して、潤滑剤層を形成し、磁気ディスクを得
た。Comparative Example 5 A magnetic disk was manufactured according to Example 1 described in JP-A-4-311812. That is, the same magnetic disk substrate 3 as in Example 1 was coated with a solution of a perfluoropolyether-based lubricant (“DemunmSP”, trade name, manufactured by Daikin Industries, Ltd.) having an active group by a dip coating method, and then 150 ° C. 30
Heat treatment was performed for a minute. After cooling, ultrasonic cleaning was performed with a fluorine-based solvent for 10 minutes. Then, a chemically inert perfluoropolyether lubricant (“Dem manufactured by Daikin Industries, Ltd.
numS-100 ", trade name) solution was applied by a dip coating method to form a lubricant layer, and a magnetic disk was obtained.
【0048】〔比較例6〕特開平3−104015号公
報に記載の実施例1に準じて磁気ディスクの製造行っ
た。すなわち、Ni−PメッキしたAl基板に実施例1
と同様のテクスチャ処理、下地層、磁性層および保護層
の成膜を行い、磁気ディスク基板を得た。これをチャン
バ内にセットし、真空排気した後、5Torrのテトラ
フルオロメタンを導入し、炭酸ガス赤外レーザ光をレン
ズで集光し、磁気ディスク基板に照射し、潤滑剤層を構
成し、磁気ディスクを得た。Comparative Example 6 A magnetic disk was manufactured according to Example 1 described in JP-A-3-104015. That is, Example 1 was applied to a Ni-P plated Al substrate.
A magnetic disk substrate was obtained by carrying out the same texture treatment, film formation of the underlayer, the magnetic layer and the protective layer in the same manner as in. This was set in the chamber, vacuum exhausted, 5 Torr of tetrafluoromethane was introduced, carbon dioxide infrared laser light was focused by a lens, and the magnetic disk substrate was irradiated to form a lubricant layer. I got a disc.
【0049】〔比較例7〕特開平2−81319号公報
に記載の実施例1に準じて磁気ディスクの製造を行っ
た。すなわち、Ni−PメッキしたAl基板に実施例1
に準じたテクスチャ処理、下地層、磁性層および保護層
の成膜を行い、磁気ディスク基板を得た。これをチャン
バ内にセットし、真空排気した後、0.05Torrの
メタンを導入し、そして磁気ディスク基板に1000W
の高周波電源を接続し、四フッ化エチレンを導入して
0.3Torrとなし、そして電圧を5Wに急激に低下
させ、潤滑剤層を構成し磁気ディスクを得た。Comparative Example 7 A magnetic disk was manufactured according to Example 1 described in JP-A-2-81319. That is, Example 1 was applied to a Ni-P plated Al substrate.
According to the above, the texture treatment was performed, and the underlayer, the magnetic layer and the protective layer were formed to obtain a magnetic disk substrate. This was set in the chamber, evacuated, methane of 0.05 Torr was introduced, and 1000 W was applied to the magnetic disk substrate.
Was connected to the high frequency power source of No. 3 and ethylene tetrafluoride was introduced to obtain 0.3 Torr, and the voltage was drastically reduced to 5 W to form a lubricant layer to obtain a magnetic disk.
【0050】〔特性〕上記実施例1〜17及び比較例1
〜7で得られた磁気ディスクについて、それぞれ、潤滑
剤層の厚さ、及びフリー層の厚さ/固定層の厚さとの比
を調べたので、その結果を〔表2〕に示す。また、得ら
れた磁気ディスクについて、下記のCSSテスト及びグ
ライドハイト特性試験(GHT)を行った。その結果も
〔表2〕に示す。 *CSSテスト;ヤマハ社製の薄膜ヘッドを用い、ヘッ
ド荷重3.5g、ヘッド浮上量2.8μインチ、450
0rpmで5秒間可動、5秒間停止のサイクルを2満開
繰り返して行い、その際の静摩擦係数を測定した。 *GHT;PROQUIP社製「MG150T」を用
い、50%スライダヘッドを用いて試験を行い、この
際、1.2μインチの浮上高さの通過率が90%以上の
ものをS、通過率が50〜90%のものをA、通過率が
40%以下のものをBとした。[Characteristics] Examples 1 to 17 and Comparative Example 1
The thickness of the lubricant layer and the ratio of the thickness of the free layer / the thickness of the fixed layer of the magnetic disks obtained in Examples 1 to 7 were examined, and the results are shown in [Table 2]. Further, the following CSS test and glide height characteristic test (GHT) were performed on the obtained magnetic disk. The results are also shown in [Table 2]. * CSS test; using a Yamaha thin film head, head load 3.5g, head flying height 2.8μ inch, 450
A cycle of moving at 0 rpm for 5 seconds and stopping for 5 seconds was repeated twice in full, and the static friction coefficient at that time was measured. * GHT: PROQUIP's "MG150T" was used and a test was carried out using a 50% slider head. A of 90% or less was designated as A, and a material having a passage rate of 40% or less was designated as B.
【0051】[0051]
【表2】 [Table 2]
【0052】〔表2〕に示す結果から明らかなように、
本発明の磁気記録媒体は、1.2μインチの極めて厳し
いグライドハイト特性を満たすものであり且つCSSテ
ストに優れたものであるることが判る。即ち、本発明の
磁気記録媒体は、ヘッドと磁性層との間のスペーシング
ロスを少なくすることができ、電磁変換特性に優れるも
のであり、更には、耐久性にも優れたものである。これ
に対して、固定層とフリー層とからなる潤滑剤層が形成
されていても、角例5の磁気ディスクのように、塗布方
式により該潤滑剤層を形成したものではCSS特性が悪
いことが判る。また、磁気ディスク基板を冷却した後、
通常の光CVD工程を1工程のみ行うことにより潤滑剤
層を形成したものである、比較例1及び3の磁気ディス
クでは、潤滑層にムラがあり、GHT特性が悪いことが
判る。また、光CVD工程において、光を磁気ディスク
基板に直接照射して、表面重合を行い、潤滑剤層を形成
したものである、比較例2の磁気ディスクも、潤滑層に
ムラがあり、GHT特性が悪いことが判る。また、潤滑
剤を塗布し、次いで、プラズマ処理、紫外線照射により
潤滑剤層を構成した比較例4の磁気ディスクは、CSS
特性が悪いことが判る。また、保護層表面をフッ素ラジ
カルで処理して潤滑剤層を形成した、比較例6及び7の
磁気ディスクもCSS特性が悪いことが判る。As is clear from the results shown in [Table 2],
It can be seen that the magnetic recording medium of the present invention satisfies the extremely severe glide height characteristic of 1.2 μ inch and is excellent in the CSS test. That is, the magnetic recording medium of the present invention can reduce the spacing loss between the head and the magnetic layer, is excellent in electromagnetic conversion characteristics, and is also excellent in durability. On the other hand, even if the lubricant layer including the fixed layer and the free layer is formed, the CSS characteristics are poor in the case where the lubricant layer is formed by the coating method like the magnetic disk of Example 5. I understand. Also, after cooling the magnetic disk substrate,
It can be seen that in the magnetic disks of Comparative Examples 1 and 3, in which the lubricant layer was formed by performing only one normal photo-CVD process, the lubricant layer was uneven and the GHT characteristics were poor. Also, in the photo-CVD process, the magnetic disk substrate was directly irradiated with light to carry out surface polymerization to form a lubricant layer. The magnetic disk of Comparative Example 2 also had unevenness in the lubricant layer and GHT characteristics. It turns out that is bad. In addition, the magnetic disk of Comparative Example 4 in which the lubricant layer was formed by applying a lubricant, and then performing plasma treatment and ultraviolet irradiation was a CSS.
It can be seen that the characteristics are poor. Further, it can be seen that the magnetic disks of Comparative Examples 6 and 7 in which the surface of the protective layer was treated with fluorine radicals to form a lubricant layer also had poor CSS characteristics.
【0053】[0053]
【発明の効果】本発明の磁気記録媒体はグライドハイト
特性を満足しつつ、表面の摩擦係数が低く且つ耐久性に
優れたものである。また、本発明の磁気記録媒体の製造
方法によれば、本発明の磁気記録媒体を簡便に製造する
ことができる。The magnetic recording medium of the present invention has a low friction coefficient on the surface and excellent durability while satisfying the glide height characteristic. Further, according to the method of manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, the magnetic recording medium of the present invention can be easily manufactured.
【図1】図1は、本発明の磁気記録媒体の製造方法に用
いられる反応容器の1例としての光反応用チャンバーを
示す模式図である。FIG. 1 is a schematic diagram showing a photoreaction chamber as an example of a reaction container used in the method for producing a magnetic recording medium of the present invention.
【図2】図2は、本発明の磁気記録媒体の1例を示す概
略断面図である。FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of a magnetic recording medium of the present invention.
1 チャンバー 2 レーザー透過窓 3 磁気ディスク基板 4 媒体設置部材 5 バルブ 10 磁気記録媒体 11 支持体 12 下地層 13 磁性層 14 保護層 15 潤滑剤層 15a固定層 15bフリー層 1 Chamber 2 Laser Transmission Window 3 Magnetic Disk Substrate 4 Medium Setting Member 5 Valve 10 Magnetic Recording Medium 11 Support 12 Underlayer 13 Magnetic Layer 14 Protective Layer 15 Lubricant Layer 15a Fixed Layer 15b Free Layer
Claims (4)
層と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保護層上に
設けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体におい
て、 上記潤滑剤層は、下記一般式(I)で表される化合物と
酸素との気相重合により得られた重合体により形成され
ており、且つ上記保護層上に固着された固定層と該固定
層上に形成されたフリー層とからなることを特徴とする
磁気記録媒体。 CF2 =CFRf ・・・・(I) (式中、Rf は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す)1. A magnetic recording comprising a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a lubricant layer provided on the protective layer. In the medium, the lubricant layer is formed of a polymer obtained by vapor phase polymerization of a compound represented by the following general formula (I) and oxygen, and is a fixed layer fixed on the protective layer. And a free layer formed on the fixed layer, the magnetic recording medium. CF 2 = CFR f ··· (I) (In the formula, R f represents a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or Indicates a partially fluorinated aryl group)
−の構造単位を有することを特徴とする請求項1記載の
磁気記録媒体。2. The polymer is mainly-(CF 2 O).
The magnetic recording medium according to claim 1, having a structural unit of-.
であって、 潤滑剤層の形成に際して、真空条件下で気相重合を行
い、下記一般式(I)で表される化合物と酸素とを重合
させて潤滑剤層を形成する第1の重合工程と、水蒸気を
導入した後、真空条件下で気相重合を行い、下記一般式
(I)で表される化合物と酸素とを重合させて潤滑剤層
を形成する第2の重合工程とを、順次行うことを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法。 CF2 =CFRf ・・・・(I) (式中、Rf は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す)3. The method for producing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein in forming the lubricant layer, gas phase polymerization is carried out under a vacuum condition, and a compound represented by the following general formula (I) and oxygen. And a first polymerization step in which a lubricant layer is formed by polymerizing with, and vapor phase polymerization is performed under a vacuum condition after introducing steam to polymerize a compound represented by the following general formula (I) and oxygen. And a second polymerization step of forming a lubricant layer by sequentially performing the same, thereby producing a magnetic recording medium. CF 2 = CFR f ··· (I) (In the formula, R f represents a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or Indicates a partially fluorinated aryl group)
合工程の終了後、該第1の重合工程における真空条件を
大気圧条件下に戻すことにより行うことを特徴とする請
求項3記載の磁気記録媒体の製造方法。4. The introduction of water vapor is performed by returning the vacuum condition in the first polymerization step to atmospheric pressure after the completion of the first polymerization step. A method for manufacturing the magnetic recording medium described.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP28694094A JPH08147675A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP28694094A JPH08147675A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JPH08147675A true JPH08147675A (en) | 1996-06-07 |
Family
ID=17710927
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP28694094A Pending JPH08147675A (en) | 1994-11-21 | 1994-11-21 | Magnetic recording medium and its manufacture |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JPH08147675A (en) |
-
1994
- 1994-11-21 JP JP28694094A patent/JPH08147675A/en active Pending
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