JPH08180386A - Magnetic recording medium and its production - Google Patents

Magnetic recording medium and its production

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JPH08180386A
JPH08180386A JP32885194A JP32885194A JPH08180386A JP H08180386 A JPH08180386 A JP H08180386A JP 32885194 A JP32885194 A JP 32885194A JP 32885194 A JP32885194 A JP 32885194A JP H08180386 A JPH08180386 A JP H08180386A
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JP
Japan
Prior art keywords
group
layer
magnetic recording
recording medium
partially fluorinated
Prior art date
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Pending
Application number
JP32885194A
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Japanese (ja)
Inventor
Tsutomu Isobe
勤 磯部
Hironobu Sato
博信 佐藤
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Kao Corp
Original Assignee
Kao Corp
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Publication date
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Publication of JPH08180386A publication Critical patent/JPH08180386A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE: To produce a magnetic recording medium having a low coeff. of friction of the surface and excellent in durability while satisfying glide height characteristics. CONSTITUTION: This magnetic recording medium has a substrate 11, a magnetic layer 13 disposed on the substrate 11, a protective layer 14 disposed on the magnetic layer 13 and a lubricant layer 15 disposed on the protective layer 14. The protective layer 14 is made of a carbon-silicon composite material and the lubricant layer 15 is made of a polymer obtd. by vapor phase polymn. and consists of a fixed layer 15a stuck on the protective layer 14 and a free layer 15b formed on the fixed layer 15a.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、摩擦係数が低く、耐久
性に優れた磁気ディスク等の磁気記録媒体及びその製造
方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a magnetic recording medium such as a magnetic disk having a low friction coefficient and excellent durability, and a method for manufacturing the same.

【0002】[0002]

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来よ
り、磁気ディスク等の磁気記録媒体には、その耐久性を
向上させるために磁気記録層の上に保護層や潤滑剤層を
設けることが広く行われている。そして、近年の記録密
度の増大等に伴って、グライドハイト特性を満足しつ
つ、更に耐久性が向上された磁気記録媒体が要求されて
いる。
2. Description of the Related Art Conventionally, a magnetic recording medium such as a magnetic disk is provided with a protective layer or a lubricant layer on the magnetic recording layer in order to improve its durability. It is widely practiced. With the recent increase in recording density and the like, there is a demand for a magnetic recording medium that satisfies the glide height characteristics and has improved durability.

【0003】保護層に関しては、特開昭53−7601
3号公報や特公昭55−29500号公報において、磁
気記録層上にポリ珪酸やSiO2 のような酸化物の硬質
保護膜を塗布手段やスパッタリング等の薄膜形成手段で
設ける技術が提案されている。ポリ珪酸やSiO2 は硬
く摩耗に対して強いものの、脆いという欠点を有する。
従って、磁気ヘッドが磁気ディスクに接触することによ
る衝撃で、ポリ珪酸やSiO2 が欠けて、破砕した粒子
が磁気ディスクの表面に付着したり、磁気ヘッドが目詰
まりを起こしたりする場合がある。
Regarding the protective layer, JP-A-53-7601
Japanese Patent Publication No. 3 and Japanese Patent Publication No. 55-29500 propose a technique of providing a hard protective film of an oxide such as polysilicic acid or SiO 2 on the magnetic recording layer by a coating means or a thin film forming means such as sputtering. . Although polysilicic acid and SiO 2 are hard and resistant to abrasion, they have the drawback of being brittle.
Therefore, due to the impact of the magnetic head coming into contact with the magnetic disk, polysilicic acid or SiO 2 may be chipped and the crushed particles may adhere to the surface of the magnetic disk or the magnetic head may be clogged.

【0004】そこで、上記欠点に対処する為、特開昭6
2−97123号公報においては、SiCから成る保護
膜を用いることが提案されている。しかしながら、磁気
記録媒体の高耐久化の要請や磁気ヘッドの高硬度化等に
伴い、SiCから成る保護膜を用いても、磁気記録媒体
の表面硬度及び潤滑性が不十分であることが次第に判明
してきた。
Therefore, in order to deal with the above-mentioned drawbacks, Japanese Patent Laid-Open No.
In 2-97123, it is proposed to use a protective film made of SiC. However, with the demand for higher durability of the magnetic recording medium and the higher hardness of the magnetic head, it is gradually found that the surface hardness and lubricity of the magnetic recording medium are insufficient even if a protective film made of SiC is used. I've been

【0005】また、特開平5−217156号公報に
は、ガラス上炭素とSiとの複合材料ターゲットを用い
て、スパッタリングにより保護層を形成することが記載
されている。しかしながら、上記公報には、上記保護層
を特定の潤滑剤層と組み合わせて使用して、磁気記録媒
体のグライドハイト特性及び耐久性の双方を向上させる
ことについては記載されていない。
Further, Japanese Unexamined Patent Publication No. 5-217156 describes that a composite material target of carbon on glass and Si is used to form a protective layer by sputtering. However, the above publication does not describe the use of the protective layer in combination with a specific lubricant layer to improve both the glide height characteristics and the durability of the magnetic recording medium.

【0006】一方、潤滑剤層に関しては、レーザー光を
用いた表面重合法により、保護層上に直接フッ素系重合
体の層を形成して、保護層の表面に固着されてなる潤滑
剤層を形成する方法等が提案されている。しかし、上述
の方法では、潤滑剤層はその全てが保護層の表面に固着
されているため上記潤滑剤層と上記保護層との密着度は
向上するものの、未だ要求されている耐久性を満足する
ものではなかった。
On the other hand, regarding the lubricant layer, a layer of a fluoropolymer is directly formed on the protective layer by a surface polymerization method using a laser beam, and the lubricant layer fixed to the surface of the protective layer is formed. A forming method and the like have been proposed. However, in the above-mentioned method, since the lubricant layer is wholly fixed to the surface of the protective layer, the degree of adhesion between the lubricant layer and the protective layer is improved, but the required durability is still satisfied. It wasn't something to do.

【0007】一方、潤滑剤層を固定層とフリー層とから
成る2層構造として耐久性を向上させる方法も提案され
ている。この場合、フリー層の厚さを厚くすると、耐久
性は要求されているレベルにまで向上する。しかし、要
求されているレベルにまで耐久性が向上されるように上
記フリー層の厚さを厚くすると、磁気記録媒体の表面粗
さが小さいため、該潤滑剤層の摩擦係数が高くなり、磁
気ヘッドが磁気記録媒体に吸着する問題がある。
On the other hand, a method has been proposed in which the lubricant layer has a two-layer structure consisting of a fixed layer and a free layer to improve durability. In this case, increasing the thickness of the free layer improves the durability to the required level. However, when the thickness of the free layer is increased so that the durability is improved to the required level, the surface roughness of the magnetic recording medium is small, so that the friction coefficient of the lubricant layer increases and There is a problem that the head sticks to the magnetic recording medium.

【0008】従って、本発明の目的は、グライドハイト
特性を満足しつつ、表面の摩擦係数が低く且つ耐久性に
優れた磁気記録媒体及びその製造方法を提供することに
ある。
Therefore, an object of the present invention is to provide a magnetic recording medium having a low surface friction coefficient and excellent durability while satisfying the glide height characteristic, and a method for manufacturing the same.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記問題
を解消するために鋭意検討した結果、特定の物質を用い
て形成された保護層と、特定の化合物を用いて形成され
且つ特定の構造を有する潤滑剤層との組み合せを具備し
て成る磁気記録媒体が上記目的を達成し得ることを知見
した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that a protective layer formed using a specific substance and a specific layer formed using a specific compound are specified. It has been found that a magnetic recording medium comprising a combination with a lubricant layer having the above structure can achieve the above object.

【0010】本発明は、上記知見に基づいてなされたも
のであり、支持体と、該支持体上に設けられた磁性層
と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保護層上に設
けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体において、
上記保護層は、炭素及び珪素の複合材料から成り、上記
潤滑剤層は、気相重合により得られた重合体により形成
されており、且つ上記保護層上に固着された固定層と該
固定層上に形成されたフリー層とからなることを特徴と
する磁気記録媒体提供することにより上記目的を達成し
たものである。
The present invention has been made on the basis of the above findings, and includes a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a protective layer provided on the magnetic layer. A magnetic recording medium comprising a lubricant layer provided on
The protective layer is made of a composite material of carbon and silicon, the lubricant layer is formed of a polymer obtained by gas phase polymerization, and the fixed layer fixed on the protective layer and the fixed layer. The above object is achieved by providing a magnetic recording medium comprising a free layer formed on the magnetic recording medium.

【0011】また、本発明は、上記磁気記録媒体の好ま
しい製造方法として、珪素を含有する炭素から成るター
ゲットを用いたフィジカルベーパーデポジション法(以
下、「PVD」という)により、炭素及び珪素の複合材
料から成る保護層を形成し、潤滑剤層の形成に際して、
真空条件下で気相重合を行い、フッ化炭素系化合物と酸
素とを重合させて潤滑剤層を形成する第1の重合工程
と、水蒸気を導入した後、真空条件下で気相重合を行
い、フッ化炭素系化合物と酸素とを重合させて潤滑剤層
を形成する第2の重合工程とを、順次行うことを特徴と
する磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
As a preferred method for manufacturing the above magnetic recording medium, the present invention uses a physical vapor deposition method (hereinafter referred to as "PVD") using a target made of carbon containing silicon to form a composite of carbon and silicon. When forming a protective layer made of a material and forming a lubricant layer,
A first polymerization step in which vapor phase polymerization is performed under vacuum conditions to polymerize a fluorocarbon compound and oxygen to form a lubricant layer, and after introducing steam, vapor phase polymerization is performed under vacuum conditions. A second method for polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen to form a lubricant layer is sequentially performed, and a method for manufacturing a magnetic recording medium is provided.

【0012】以下、本発明の磁気記録媒体について詳細
に説明する。本発明の磁気記録媒体は、支持体と、該支
持体上に設けられた磁性層と、該磁性層上に設けられた
保護層と、該保護層上に設けられた潤滑剤層とを具備す
る磁気記録媒体である。本発明の磁気記録媒体は、例え
ば、磁気ディスクとして特に有用である。
The magnetic recording medium of the present invention will be described in detail below. The magnetic recording medium of the present invention comprises a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a lubricant layer provided on the protective layer. It is a magnetic recording medium. The magnetic recording medium of the present invention is particularly useful as, for example, a magnetic disk.

【0013】本発明において用いられる上記支持体は、
磁性支持体と非磁性支持体とのいずれをも用いることが
できるが、一般的には非磁性支持体が用いられる。上記
非磁性支持体としては、例えば、ガラス状カーボン等の
カーボン、強化ガラス、結晶化ガラス、アルミニウム及
びアルミニウム合金、チタン及びチタン合金、セラミッ
クス、樹脂、並びにこれらの複合材料から成る基板が用
いられる。これらの中でも、ガラス状カーボンから成る
基板は、耐熱性、軽量性等の点において特に優れたもの
であり、本発明において特に好ましく用いることができ
る。
The above-mentioned support used in the present invention is
Either a magnetic support or a non-magnetic support can be used, but a non-magnetic support is generally used. As the non-magnetic support, for example, carbon such as glassy carbon, tempered glass, crystallized glass, aluminum and aluminum alloys, titanium and titanium alloys, ceramics, resins, and substrates made of composite materials thereof are used. Among these, the substrate made of glassy carbon is particularly excellent in heat resistance, light weight and the like, and can be particularly preferably used in the present invention.

【0014】上記支持体には、必要に応じて、各種のテ
クスチャ処理を施してもよい。かかるテクスチャ処理と
しては、例えば、研磨テープや研磨砥粒を用いての処
理、酸によるエッチング処理、熱酸化や陽極酸化処理、
シリケート化合物をスピンコートにより表面析出させる
処理、プラズマアッシングあるいは金属をスパッタリン
グして表面に凹凸を形成するスパッタテクスチャー等に
よる粗面化処理等を挙げることができる。
If necessary, the support may be subjected to various texture treatments. Examples of such a texture treatment include treatment using a polishing tape or abrasive grains, etching treatment with an acid, thermal oxidation or anodization treatment,
Examples thereof include a treatment for depositing a silicate compound on the surface by spin coating, a plasma ashing treatment, or a surface roughening treatment by sputtering texture or the like for forming irregularities on the surface by sputtering a metal.

【0015】本発明において上記支持体上に設けられる
上記磁性層としては、例えば、PVDにより形成された
金属薄膜型の磁性層を挙げることができる。該金属薄膜
型の磁性層を形成する材料としては、例えばCoCr、
CoNi、CoCrX、CoNiX及びCoWX(ここ
で、Xは、Ta、Pt、Au、Ti、V、Cr、Ni、
W、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、L
i、Si、B、Ca、As、Y、Zr、Nb、Mo、R
u、Rh、Ag、Sb及びHf等からなる群より選ばれ
る1種又は2種以上の金属を示す)等で表されるCoを
主成分とするCo系の磁性合金等を好ましく挙げること
ができる。使用に際しては、これらを単独で又は2種以
上の混合物として用いることができる。上記磁性層の厚
さは20〜50nmであることが好ましいが、かかる範
囲には限定されない。
In the present invention, examples of the magnetic layer provided on the support include a metal thin film type magnetic layer formed by PVD. As a material for forming the metal thin film type magnetic layer, for example, CoCr,
CoNi, CoCrX, CoNiX and CoWX (where X is Ta, Pt, Au, Ti, V, Cr, Ni,
W, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, L
i, Si, B, Ca, As, Y, Zr, Nb, Mo, R
Preferred examples include Co-based magnetic alloys containing Co as a main component, such as u, Rh, Ag, Sb, and Hf, which represent one or more metals selected from the group consisting of, for example. . In use, these may be used alone or as a mixture of two or more kinds. The thickness of the magnetic layer is preferably 20 to 50 nm, but is not limited to this range.

【0016】本発明において上記磁性層上に設けられる
上記保護層は、炭素及び珪素の複合材料から成る。本発
明において、「炭素及び珪素の複合材料」とは、炭素材
の中にSiの粒子が混在したものをいう。
In the present invention, the protective layer provided on the magnetic layer is made of a composite material of carbon and silicon. In the present invention, "composite material of carbon and silicon" refers to a mixture of Si particles in a carbon material.

【0017】上記保護層における炭素と珪素との割合
は、炭素が、好ましくは50原子以上99.9原子%以
下であり、より好ましくは70原子%以上90元素%以
下である。一方、珪素が、好ましくは0.1原子%以上
50原子%未満であり、より好ましくは10原子%以上
30原子%以下である。
The ratio of carbon to silicon in the protective layer is such that carbon is preferably 50 atom or more and 99.9 atom% or less, more preferably 70 atom% or more and 90 element% or less. On the other hand, silicon is preferably 0.1 atomic% or more and less than 50 atomic%, more preferably 10 atomic% or more and 30 atomic% or less.

【0018】上記保護層における炭素は、ガラス状炭素
に由来するものであることが好ましい。上記保護層を、
上記ガラス状炭素に由来する炭素及び珪素の複合材料か
ら形成することによって、本発明の磁気記録媒体の耐摩
擦性が一層向上する。なお、ガラス状炭素とは、アモル
ファス状態の炭素を含む炭素の同族体であり、一般にG
Cと呼ばれているものを包含する。
The carbon in the protective layer is preferably derived from glassy carbon. The above protective layer,
By forming the composite material of carbon and silicon derived from the above glassy carbon, the abrasion resistance of the magnetic recording medium of the present invention is further improved. Glassy carbon is a homologue of carbon including amorphous carbon, and is generally G
Includes what is called C.

【0019】また、上記保護層は、水素化されているこ
とが好ましい。即ち、上記保護層における炭素及び珪素
は、その一部が水素化されていることが好ましい。上記
保護層を水素化することで、本発明の磁気記録媒体の耐
摩耗性が一段と向上する。水素化の程度は、3〜12原
子%のHを含有していることが好ましく、3〜7原子%
のHを含有していることが特に好ましい。
The protective layer is preferably hydrogenated. That is, it is preferable that a part of carbon and silicon in the protective layer be hydrogenated. By hydrogenating the protective layer, the wear resistance of the magnetic recording medium of the present invention is further improved. The degree of hydrogenation preferably contains 3 to 12 atomic% of H, and 3 to 7 atomic%
It is particularly preferable to contain H.

【0020】本発明において特に好ましくは、上記保護
層は、上記ガラス状炭素に由来する炭素及び珪素の複合
材料であって且つ水素化されているものから成る。かか
る保護層を用いることによって、本発明の磁気記録媒体
の耐摩耗性が極めて向上する。
Particularly preferably in the present invention, the protective layer is composed of a composite material of carbon and silicon derived from the glassy carbon and hydrogenated. By using such a protective layer, the wear resistance of the magnetic recording medium of the present invention is extremely improved.

【0021】このようにして得られた上記保護層の厚さ
は、5〜25nmであることが好ましいが、かかる範囲
には限定されない。
The thickness of the protective layer thus obtained is preferably 5 to 25 nm, but is not limited to this range.

【0022】本発明において上記保護層上に設けられる
上記潤滑剤層は、気相重合により得られた重合体により
形成されている。上記潤滑剤層の形成法に特に制限はな
いが、上記潤滑剤層はフッ化炭素系化合物と酸素との気
相重合により得られた重合体により形成されていること
が好ましい。
In the present invention, the lubricant layer provided on the protective layer is formed of a polymer obtained by gas phase polymerization. The method for forming the lubricant layer is not particularly limited, but the lubricant layer is preferably formed of a polymer obtained by vapor phase polymerization of a fluorocarbon compound and oxygen.

【0023】上記フッ化炭素系化合物としては、炭素−
炭素二重結合を有するものが好ましく、特に好ましく
は、下記一般式(I)〜(III)で表される化合物から成
る群から選択される。 CF2 =CFRf 1 ・・・・(I) (式中、Rf 1 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す) CF2 =C(Rf 2)(Rf 3)・・・・(II) (式中、Rf 2 及びRf 3 は、同一の又は異なる水素原
子、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオ
ロアルケニル基、部分フッ素化アルキル基、部分フッ素
化アルケニル基、パーフルオロアリール基又は部分フッ
素化アリール基を示す) CF2 =CFO(Rf 4)・・・・(III) (式中、Rf 4 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基、部分フッ素化アリール基又はパーフルオロアルコキ
シアルキル基を示す)
The above-mentioned fluorocarbon compounds include carbon-
Those having a carbon double bond are preferable, and particularly preferably selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (I) to (III). CF 2 = CFR f 1 ... (I) (In the formula, R f 1 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, or perfluoroaryl. Group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═C (R f 2 ) (R f 3 ) ... (II) (In the formula, R f 2 and R f 3 are the same or different hydrogen atoms. , A fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═CFO (R f 4 ) ... · (III) (In the formula, R f 4 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group, a moiety. Represents a fluorinated aryl group or a perfluoroalkoxyalkyl group)

【0024】上記フッ化炭素系化合物は、それぞれ単独
で用いてもよく又は2種以上を混合して用いてもよい。
2種以上用いる場合には、上記一般式(I)〜(III)の
何れか一つの範疇から2種以上を選択して用いてもよく
又は上記一般式(I)〜(III)のうちの少なくとも2つ
の範疇からそれぞれ1種以上を選択して用いてもよい。
The above fluorocarbon compounds may be used alone or in admixture of two or more.
When two or more types are used, two or more types may be selected and used from any one of the above general formulas (I) to (III), or among the above general formulas (I) to (III). One or more types may be selected from at least two categories and used.

【0025】上記一般式(I)において、好ましいパー
フルオロアルキル基としては、パーフルオロメチル基
(CF3 −)、パーフルオロヘプチル基(C5 11−)
及びパーフルオロヘキシル基(C6 13−)が挙げら
れ;好ましいパーフルオロアルケニル基としては、パー
フルオロエチニル基(CF2 =CF−)が挙げられ;好
ましい部分フッ素化アルキル基としては、1H−パーフ
ルオロブチル基(C4 8H−)が挙げられ;好ましい
部分フッ素化アルケニル基としては、−CF2 −CF=
CH2 が挙げられ;好ましいパーフルオロアリール基と
しては、パーフルオロベンジル基(−CF2 −C6 5)
が挙げられ;そして、好ましい部分フッ素化アリール基
としては、−CFH−C6 5 及び−CF2 −C6 5
が挙げられる。
In the above general formula (I), preferable perfluoroalkyl groups are perfluoromethyl group (CF 3 —) and perfluoroheptyl group (C 5 F 11 —).
And perfluorohexyl group (C 6 F 13 -) can be mentioned; Preferred perfluoroalkenyl group, perfluoro ethynyl group (CF 2 = CF-) are exemplified; Preferred partially fluorinated alkyl group, 1H- perfluorobutyl group (C 4 F 8 H-) can be mentioned; preferred partially fluorinated alkenyl group, -CF 2 -CF =
CH 2 may be mentioned; a preferred perfluoroaryl group is a perfluorobenzyl group (—CF 2 —C 6 F 5 ).
It can be mentioned; and Preferred partially fluorinated aryl group, -CFH-C 6 F 5 and -CF 2 -C 6 H 5
Is mentioned.

【0026】従って、一般式(I)で表される化合物の
うち、好ましいものとしては、テトラフルオロエチレン
(CF2 =CF2)、ヘキサフルオロプロペン(CF2
CFCF3 )、パーフルオロヘプテン−1(CF2 =C
FC5 11)、6H−パーフルオロヘキセン−1(CF
2 =CFC4 8 H)、パーフルオロオクテン−1(C
2 =CFC6 13)、ヘキサフルオロ−1,3−ブタ
ジエン(CF2 =CFCF=CF2)、3−(ペンタフル
オロフェニル)ペンタフルオロプロペン−1(CF2
CFCF2 6 5)、CF2 =CFCHF−C6 5
CF2 =CFCF2 −C6 5 、CF2 =CFCF2
F=CH2 等が挙げられる。
Therefore, among the compounds represented by the general formula (I), preferred are tetrafluoroethylene (CF 2 ═CF 2 ), hexafluoropropene (CF 2 ═)
CFCF 3), perfluoro-heptene -1 (CF 2 = C
FC 5 F 11 ), 6H-perfluorohexene-1 (CF
2 = CFC 4 F 8 H), perfluorooctene-1 (C
F 2 = CFC 6 F 13) , hexafluoro-1,3-butadiene (CF 2 = CFCF = CF 2 ), 3- ( pentafluorophenyl) pentafluoropropene -1 (CF 2 =
CFCF 2 C 6 F 5), CF 2 = CFCHF-C 6 F 5,
CF 2 = CFCF 2 -C 6 H 5, CF 2 = CFCF 2 C
F = CH 2 and the like.

【0027】上記一般式(II)において、好ましいパー
フルオロアルキル基としては、上記一般式(I)におけ
るものの他にCF3 CF2 −が挙げられ;好ましいパー
フルオロアルケニル基としては、上記一般式(I)にお
けるものの他に−CF2 −CF=CF2 が挙げられ;好
ましい部分フッ化アルキル基としては−CF2 H及び−
CF2 CF2 Hが挙げられ;好ましい部分フッ化アルケ
ニル基としては、上記一般式(I)におけるものの他に
−CF=CH2 が挙げられ;そして、好ましいパーフル
オロアリール基及び部分フッ素化アリール基としては、
上記一般式(I)におけるものと同様のものが挙げられ
る。
In the above general formula (II), preferred perfluoroalkyl groups include CF 3 CF 2 — in addition to those in the above general formula (I); preferred perfluoroalkenyl groups include the above general formula ( In addition to those in I), mention may be made of —CF 2 —CF═CF 2 ; preferred partially fluorinated alkyl groups are —CF 2 H and —.
CF 2 CF 2 H is included; preferred partially fluorinated alkenyl groups include —CF═CH 2 in addition to those in the above general formula (I); and preferred perfluoroaryl groups and partially fluorinated aryl groups. as,
The same thing as the thing in the said General formula (I) is mentioned.

【0028】従って、一般式(II)で表される化合物の
うち、好ましいものとしては、CF 2 =C(CF3)2
CF2 =CH2 、CF2 =CHF、CF2 =CHC
3 、CF2 =CHCF2 CF3 、CF2 =CHCF=
CF2 、CF2 =CHCF2 CF=CF2 、CF2 =C
HCF2 H、CF2 =CHCF2 CF2 H、CF2 =C
HCF2 CF=CH2 、CF2 =CHCF=CH2 、C
2 =CHCFH−C6 5 、CF2 =CHCF2 −C
6 5 等が挙げられる。
Therefore, the compound represented by the general formula (II)
Of these, CF is preferable. 2= C (CF3)2,
CF2= CH2, CF2= CHF, CF2= CHC
F3, CF2= CHCF2CF3, CF2= CHCF =
CF2, CF2= CHCF2CF = CF2, CF2= C
HCF2H, CF2= CHCF2CF2H, CF2= C
HCF2CF = CH2, CF2= CHCF = CH2, C
F2= CHCFH-C6F Five, CF2= CHCF2-C
6HFiveEtc.

【0029】上記一般式(III)において、好ましいパー
フルオロアルキル基及びパーフルオロアルケニル基とし
ては、上記一般式(II)におけるものと同様のものが挙
げられ;好ましい部分フッ素化アルキル基としては、−
CF2 H、−CF2 CF2 H及び−C4 8 Hが挙げら
れ;好ましい部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロ
アリール基及び部分フッ素化アリール基としては、上記
一般式(II)におけるものと同様のものが挙げられ;そ
して、好ましいパーフルオロアルコキシアルキル基とし
ては、−CF2 CF(CF3)OC3 7 が挙げられる。
In the above general formula (III), preferable perfluoroalkyl groups and perfluoroalkenyl groups are the same as those in the above general formula (II); preferred partial fluorinated alkyl groups are:
CF 2 H, —CF 2 CF 2 H and —C 4 F 8 H may be mentioned; preferred partially fluorinated alkenyl groups, perfluoroaryl groups and partially fluorinated aryl groups are those in the above general formula (II). like can be mentioned; and, as the preferred perfluoro alkoxyalkyl group, -CF 2 CF (CF 3) OC 3 H 7 and the like.

【0030】従って、一般式(III)で表される化合物の
うち、好ましいものとしては、CF 2 =CFOCF3
CF2 =CFOC5 11、CF2 =CFOC6 13、C
2=CFOCF2 CF3 、CF2 =CFOCF=CF
2 、CF2 =CFOCF2 CF=CF2 、CF2 =C4
8 H、CF2 =CFOCF2 H、CF2 =CFOCF
2 CF2 H、CF2 =CFOCF2 −CF=CH2 、C
2 =CFOCF=CH2 、CF2 =CFOCF2 −C
6 5 、CF2 =CFOCFH−C6 5 、CF2 =C
FOCF2 −C6 5 、CF2 =CFOCF2 CF(C
3)OC3 7等が挙げられる。
Therefore, the compound represented by the general formula (III)
Of these, CF is preferable. 2= CFOCF3,
CF2= CFOCFiveF11, CF2= CFOC6F13, C
F2= CFOCF2CF3, CF2= CFOCF = CF
2, CF2= CFOCF2CF = CF2, CF2= CFour
F8H, CF2= CFOCF2H, CF2= CFOCF
2CF2H, CF2= CFOCF2-CF = CH2, C
F2= CFOCF = CH2, CF2= CFOCF2-C
6FFive, CF2= CFOCFH-C6HFive, CF2= C
FOCF2-C6HFive, CF2= CFOCF2CF (C
F3) OC3H7Etc.

【0031】また、上記フッ化炭素系化合物と酸素との
使用割合は、上記フッ化炭素系化合物/酸素(モル比)
が、好ましくは1/0.5〜1/100であり、更に好
ましくは1/1〜1/10であり、最も好ましくは1/
2〜1/8である。上記使用割合が1/100より低い
と、後述する気相重合におけるレーザー光等の吸収効率
が低下して重合が十分に進行せず、上記使用割合が1/
0.5より高いと、重合体中のエーテル結合量が低下し
て得られる潤滑剤層の耐久特性が低下するので、上記範
囲内とするのが好ましい。
The ratio of the above-mentioned fluorocarbon compound and oxygen to be used is the above-mentioned fluorocarbon compound / oxygen (molar ratio).
Is preferably 1 / 0.5 to 1/100, more preferably 1/1 to 1/10, and most preferably 1 /
It is 2-1 / 8. If the use ratio is lower than 1/100, the absorption efficiency of laser light or the like in the gas phase polymerization described below is lowered and the polymerization does not proceed sufficiently, and the use ratio is 1 /
When it is higher than 0.5, the amount of ether bond in the polymer is lowered and the durability property of the obtained lubricant layer is lowered, so that it is preferably within the above range.

【0032】上記フッ化炭素系化合物と酸素との気相重
合により得られた重合体は、主として−(CF2 O)−
の構造単位を有する重合体であり、その分子量は、好ま
しくは1500〜30000である。
The polymer obtained by gas phase polymerization of the above fluorocarbon compound and oxygen is mainly-(CF 2 O)-.
The polymer having the structural unit of (1) and its molecular weight is preferably 1,500 to 30,000.

【0033】上記重合体の構造は必ずしも明確ではない
が、例えば、下記構造式で示される重合体等が推定され
る。 X-(CF2 O) l -(CF2 CF2 CF2 O) m -(CF
(CF3)CFO) n X' 〔ここで、l、m及びnは、正の整数を示し(但し、
l》m、l》n)、X及びX’は、同一の又は異なるア
ルコール、エーテル結合、エステル結合又はウレタン結
合等を含む末端部を示す。〕 上記重合体における上記−(CF2 O)−の構造単位の
含有率は、全構造単位中70%以上であることが好まし
く、例えば、上記構造式で表される重合体においては
〔l/(l+m+n)〕×100が70%以上であるこ
とが好ましい。
Although the structure of the above-mentioned polymer is not always clear, for example, a polymer represented by the following structural formula is estimated. X- (CF 2 O) l- (CF 2 CF 2 CF 2 O) m- (CF
(CF 3 ) CFO) n X '[wherein l, m and n are positive integers (provided that
l >> m, l >> n), X and X ′ represent the same or different end portions containing alcohol, ether bond, ester bond, urethane bond or the like. ] Above in the polymer - (CF 2 O) - the content of the structural units, is preferably at least 70% in the total structural units, for example, in polymer represented by the structural formula [l / It is preferable that (l + m + n)] × 100 is 70% or more.

【0034】また、上記潤滑剤層は、上記保護層に固着
された固定層と該固定層上に形成されたフリー層とから
なる。ここで、上記固定層とは、上記保護層に化学的又
は物理的に強固に固着されている層を意味し、例えば商
品名「フロン113」等のフッ素系溶媒を用いて洗浄し
ても洗い流されない層のことをいう。一方、上記フリー
層とは、上記フッ素系溶媒を用いて洗浄した場合に洗い
流されてしまう層のことをいう。
The lubricant layer comprises a fixed layer fixed to the protective layer and a free layer formed on the fixed layer. Here, the fixed layer means a layer that is chemically or physically firmly fixed to the protective layer, and is washed off even if it is washed with a fluorine-based solvent such as a trade name “CFC 113”. It refers to the layer that does not exist. On the other hand, the free layer refers to a layer that is washed away when washed with the fluorine-based solvent.

【0035】上記固定層の厚さ(重さ)と上記フリー層
の厚さ(重さ)との比は、フリー層の厚さ(重さ)/固
定層の厚さ(重さ)が好ましくは1/10〜10/1、
更に好ましくは2/5〜5/1である。
The ratio of the thickness (weight) of the fixed layer to the thickness (weight) of the free layer is preferably (thickness of free layer) / (thickness of fixed layer). Is 1/10 to 10/1,
More preferably, it is 2/5 to 5/1.

【0036】上記固定層の厚さは、5〜30Åであるこ
とが好ましい。厚さが5Å未満であると、上記潤滑剤層
の耐摩耗性が不十分で耐久性が低下し、厚さ30Åを超
えると、上記固定層の構造が乱れて上記潤滑剤層の耐摩
耗性が低下するので上記範囲内とすることが好ましい。
The thickness of the fixing layer is preferably 5 to 30Å. When the thickness is less than 5Å, the wear resistance of the lubricant layer is insufficient and the durability is deteriorated. When the thickness exceeds 30Å, the structure of the fixed layer is disturbed and the wear resistance of the lubricant layer is deteriorated. Is decreased, so that it is preferably within the above range.

【0037】上記フリー層の厚さは、2〜80Åである
ことが好ましい。厚さが2Å未満であると、上記潤滑剤
層の耐久性が不十分で、厚さが80Åを超えると、上記
潤滑剤層の摩擦係数が増大するので上記範囲内とするこ
とが好ましい。
The thickness of the free layer is preferably 2 to 80Å. If the thickness is less than 2Å, the durability of the lubricant layer is insufficient, and if the thickness exceeds 80Å, the coefficient of friction of the lubricant layer increases, so it is preferable to set it within the above range.

【0038】このように、本発明の磁気記録媒体におい
ては、上記フリー層の厚さを従来のフリー層の厚さ(8
〜20Å)よりも厚くしても、磁気記録媒体表面の摩擦
係数が高くならない(吸着しにくい)ものであるため、
本発明の磁気記録媒体における上記フリー層の厚さは、
従来の磁気記録媒体におけるフリー層の厚さよりも厚く
することができる。
As described above, in the magnetic recording medium of the present invention, the thickness of the free layer is set to the conventional free layer thickness (8
Even if it is thicker than 20 Å), the friction coefficient of the surface of the magnetic recording medium does not become high (it is difficult to adsorb),
The thickness of the free layer in the magnetic recording medium of the present invention is
It can be thicker than the thickness of the free layer in the conventional magnetic recording medium.

【0039】上記固定層及び上記フリー層からなる上記
潤滑剤層の厚さは、好ましくは2〜200Å、より好ま
しくは10〜100Å、更に好ましくは20〜80Å、
最も好ましくは20〜50Åである。上記厚さが100
Åを超えるとスペーシングロスが大きくなり、上記厚さ
が10Å未満であると潤滑効果が乏しくなるので、上記
範囲内であることが好ましい。
The thickness of the lubricant layer composed of the fixed layer and the free layer is preferably 2 to 200Å, more preferably 10 to 100Å, further preferably 20 to 80Å,
Most preferably, it is 20 to 50Å. The thickness is 100
When it exceeds Å, the spacing loss becomes large, and when the thickness is less than 10 Å, the lubricating effect becomes poor, so that it is preferably within the above range.

【0040】また、本発明の磁気記録媒体には、上記支
持体と上記磁性層との間に下地層を形成してもよい。上
記下地層は、Cr、Ti、Al又はこれらの合金等を用
い、スパッタ等のPVDにより設けることができる。上
記下地層の厚さは、10〜100nmとすることが好ま
しい。
In the magnetic recording medium of the present invention, an underlayer may be formed between the support and the magnetic layer. The underlayer can be provided by PVD such as sputtering using Cr, Ti, Al or alloys thereof. The thickness of the underlayer is preferably 10 to 100 nm.

【0041】次に、本発明の磁気記録媒体の好ましい製
造方法について説明する。本発明の磁気記録媒体の好ま
しい製造方法は、珪素を含有する炭素から成るターゲッ
トを用いたPVDにより、炭素及び珪素の複合材料から
成る保護層を形成し、上記潤滑剤層の形成に際して、真
空条件下で気相重合を行い、上記フッ化炭素系化合物と
酸素とを重合させて上記潤滑剤層を形成する第1の重合
工程と、水蒸気を導入した後、真空条件下で気相重合を
行い、上記フッ化炭素系化合物と酸素とを重合させて上
記潤滑剤層を形成する第2の重合工程とを、順次行うこ
とにより実施することができる。
Next, a preferred method for manufacturing the magnetic recording medium of the present invention will be described. A preferred method for producing the magnetic recording medium of the present invention is that a protective layer made of a composite material of carbon and silicon is formed by PVD using a target made of carbon containing silicon, and a vacuum condition is applied when forming the lubricant layer. The first polymerization step of forming a lubricant layer by polymerizing the fluorocarbon-based compound and oxygen under the vapor phase polymerization, and performing vapor phase polymerization under vacuum conditions after introducing steam. The second polymerization step of polymerizing the fluorocarbon compound and oxygen to form the lubricant layer can be carried out sequentially.

【0042】まず、上記保護層の形成について説明す
る。上述の通り、上記保護層は、珪素を含有する炭素か
ら成るターゲットを用いたPVDにより形成される。
First, the formation of the protective layer will be described. As described above, the protective layer is formed by PVD using a target made of carbon containing silicon.

【0043】本発明において、「珪素を含有する炭素」
とは、珪素化合物又は金属珪素を含有する炭素の双方を
包含するものである。上記珪素化合物としては、例えば
SiCなどが挙げられるが、これに限定されるものでは
ない。
In the present invention, "carbon containing silicon"
The term includes both a silicon compound and carbon containing metallic silicon. Examples of the silicon compound include SiC, but are not limited thereto.

【0044】上記ターゲットにおける炭素と珪素との割
合は、炭素が、好ましくは50原子以上99.9原子%
以下であり、より好ましくは70原子%以上90元素%
以下である。一方、珪素が、好ましくは0.1原子%以
上50原子%未満であり、より好ましくは10原子%以
上30原子%以下である。
The ratio of carbon to silicon in the above target is such that carbon is preferably 50 atoms or more and 99.9 atomic%.
Or less, more preferably 70 atomic% or more and 90 element%
It is the following. On the other hand, silicon is preferably 0.1 atomic% or more and less than 50 atomic%, more preferably 10 atomic% or more and 30 atomic% or less.

【0045】上記PVDとしては、例えば、スパッタリ
ングや蒸着を用いることができる。本発明においては、
スパッタリングを用いることが好ましい。スパッタリン
グは、従来公知の条件を用いて行うことができる。例え
ば、キャリアガスとしては、Arを用いることができ
る。チャンバー内のキャリアガスの圧力は、2〜10m
Torrであることが好ましい。上記PVDを行う際に
は、チャンバー内に設置された上記支持体を加熱してお
くことが好ましく、例えば、上記支持体を25〜300
℃程度に維持しておくことが望ましい。このようにし
て、所望の厚さの保護層が形成されるまでPVDを行
う。
As the PVD, for example, sputtering or vapor deposition can be used. In the present invention,
It is preferable to use sputtering. Sputtering can be performed using conventionally known conditions. For example, Ar can be used as the carrier gas. The pressure of the carrier gas in the chamber is 2 to 10 m
It is preferably Torr. When performing the PVD, it is preferable to heat the support provided in the chamber, and for example, the support may be 25 to 300.
It is desirable to keep the temperature at around ℃. Thus, PVD is performed until a protective layer having a desired thickness is formed.

【0046】本発明において好ましくは、PVDのター
ゲットとして珪素を含有するガラス状炭素を用いる。か
かるターゲットを用いたPVDによって、ガラス状炭素
に由来する炭素及び珪素の複合材料から成る保護層を形
成することができる。かかる保護層を有する本発明の磁
気記録媒体は、上述の通り、耐摩耗性が一層向上したも
のとなる。また、かかるターゲットを用いることによっ
て、PVDの際、ターゲット上にコーン状生成物が発生
することを防止でき、安定な放電を維持でき、しかも、
極めて均質な保護層を形成することができる。
In the present invention, glassy carbon containing silicon is preferably used as a PVD target. By PVD using such a target, a protective layer made of a composite material of carbon and silicon derived from glassy carbon can be formed. The magnetic recording medium of the present invention having such a protective layer has further improved abrasion resistance as described above. Further, by using such a target, it is possible to prevent a cone-shaped product from being generated on the target during PVD, and to maintain a stable discharge, and moreover,
A very homogeneous protective layer can be formed.

【0047】また、本発明において好ましくは、上記保
護層は、H原子を有する化合物とArとを含むガス雰囲
気下でのPVDにより形成される。このようにすること
で、上記保護層を水素化することができ、該保護層の耐
摩耗性を一層向上させることができる。PVDにおける
上記H原子を有する化合物とArとの混合比に特に制限
はないが、好ましくは50/50〜1/99(v/v)
であり、特に好ましくは20/80〜5/95(v/
v)である。
Further, in the present invention, preferably, the protective layer is formed by PVD in a gas atmosphere containing a compound having an H atom and Ar. By doing so, the protective layer can be hydrogenated, and the abrasion resistance of the protective layer can be further improved. There is no particular limitation on the mixing ratio of the compound having an H atom and Ar in PVD, but preferably 50/50 to 1/99 (v / v)
And particularly preferably 20/80 to 5/95 (v /
v).

【0048】本発明において特に好ましくは、上記保護
層は、珪素を含有するガラス状炭素から成るターゲット
を用い、H原子を有する化合物とArとを含むガス雰囲
気下でのPVDにより形成される。このようにして形成
された保護層は、上記ガラス状炭素に由来する炭素及び
珪素の複合材料であって且つ水素化されているものから
成る。かかる保護層を有する本発明の磁気記録媒体は、
上述の通り、耐摩耗性が極めて向上したものとなる。
In the present invention, particularly preferably, the protective layer is formed by PVD in a gas atmosphere containing a compound containing H atoms and Ar using a target made of glassy carbon containing silicon. The protective layer thus formed is a composite material of carbon and silicon derived from the above glassy carbon and is hydrogenated. The magnetic recording medium of the present invention having such a protective layer,
As described above, the wear resistance is extremely improved.

【0049】上記H原子を有する化合物としては、H2
並びに脂肪族及び芳香族炭化水素が好ましく用いられ
る。上記脂肪族炭化水素としては、飽和脂肪族炭化水素
及び不飽和脂肪族炭化水素の双方共に使用することがで
きる。これらの化合物は、単独で又は2種以上の混合物
として用いることができる。
As the compound having the above H atom, H 2
And aliphatic and aromatic hydrocarbons are preferably used. As the aliphatic hydrocarbon, both saturated aliphatic hydrocarbon and unsaturated aliphatic hydrocarbon can be used. These compounds can be used alone or as a mixture of two or more kinds.

【0050】上記飽和脂肪族炭化水素としては、メタ
ン、エタン及びプロパンのような低級飽和脂肪族炭化水
素を使用することが好ましい。
As the saturated aliphatic hydrocarbon, it is preferable to use a lower saturated aliphatic hydrocarbon such as methane, ethane and propane.

【0051】上記不飽和脂肪族炭化水素としては、エチ
レン及びプロピレン並びにアセチレンのような低級不飽
和脂肪族炭化水素を使用することが好ましい。
As the unsaturated aliphatic hydrocarbon, it is preferable to use lower unsaturated aliphatic hydrocarbons such as ethylene and propylene and acetylene.

【0052】上記芳香族炭化水素としては、例えば、ト
ルエン、キシレンを用いることが好ましい。
As the aromatic hydrocarbon, it is preferable to use, for example, toluene or xylene.

【0053】PVDを行う際のチャンバー内における上
記H原子を有する化合物の分圧は、好ましくは0.06
〜2mTorrであり、特に好ましくは0.1〜0.5
mTorrである。また、Arの分圧は、好ましくは2
〜14mTorrであり、特に好ましくは2〜10mT
orrである。更に、上記H原子を有する化合物とAr
との全圧は、好ましくは2〜15mTorrであり、特
に好ましくは2〜10mTorrである。
The partial pressure of the above H atom-containing compound in the chamber during PVD is preferably 0.06.
To 2 mTorr, particularly preferably 0.1 to 0.5
It is mTorr. The partial pressure of Ar is preferably 2
To 14 mTorr, particularly preferably 2 to 10 mT
orr. Further, the compound having the above H atom and Ar
The total pressure of and is preferably 2 to 15 mTorr, and particularly preferably 2 to 10 mTorr.

【0054】次に、上記潤滑剤層の形成について説明す
る。上記潤滑剤層の形成に際しては、真空条件下で気相
重合を行い、上記フッ化炭素系化合物と酸素とを重合さ
せて上記潤滑剤層を形成する第1の重合工程と、水蒸気
を導入した後、真空条件下で気相重合を行い、上記フッ
化炭素系化合物と酸素とを重合させて上記潤滑剤層を形
成する第2の重合工程とを順次行う。
Next, the formation of the lubricant layer will be described. In forming the lubricant layer, vapor phase polymerization is performed under vacuum conditions to polymerize the fluorocarbon compound and oxygen to form the lubricant layer, and steam is introduced. Then, vapor phase polymerization is performed under vacuum conditions, and the second polymerization step of polymerizing the fluorocarbon compound and oxygen to form the lubricant layer is sequentially performed.

【0055】ここで、上記第1の重合工程は、主として
上記固定層を形成する工程であり、上記第2の重合工程
は、主として上記フリー層を形成する工程である。即
ち、上記第1の重合工程においても上記フリー層が形成
されることがあり、上記第2の重合工程においても上記
固定層が形成されることがある。
Here, the first polymerization step is a step of mainly forming the fixed layer, and the second polymerization step is a step of mainly forming the free layer. That is, the free layer may be formed in the first polymerization step, and the fixed layer may be formed in the second polymerization step.

【0056】上記の第1及び第2の重合工程において行
われる上記気相重合について説明する。上記気相重合と
は、上記フッ化炭素系化合物と上記酸素とを気相にガス
状態で保持した系で重合を行い、重合反応を気相のみで
生ぜしめる重合方法を意味する。重合に際して採用する
ことができる手法としては、例えば、プラズマ重合や光
化学的気相成長法(以下、「CVD」という)等のCV
Dを採用することができるが、本発明においては、装置
・設備が簡単なもので済む点から光CVDが好ましく採
用される。
The gas phase polymerization carried out in the first and second polymerization steps will be described. The gas phase polymerization means a polymerization method in which the fluorocarbon compound and the oxygen are held in a gas phase in a gas state to carry out the polymerization to cause the polymerization reaction only in the gas phase. Examples of the method that can be used for the polymerization include CV such as plasma polymerization and photochemical vapor deposition (hereinafter referred to as “CVD”).
Although D can be adopted, in the present invention, photo-CVD is preferably adopted from the viewpoint that equipment and facilities are simple.

【0057】上記光CVDにより重合を行う場合には、
レーザ光を被析出物表面(即ち、上記保護層の表面)に
は直接照射せず、上記フッ化炭素系化合物と上記酸素と
の混合ガス中にのみ照射して行う。
When the polymerization is carried out by the above photo-CVD,
The surface of the deposit (that is, the surface of the protective layer) is not directly irradiated with the laser light, but is irradiated only in the mixed gas of the fluorocarbon compound and the oxygen.

【0058】上記光CVDの際に用いることができる光
源としては、例えば紫外線及び赤外線が挙げられる。こ
こで、赤外線を光源とする赤外レーザによる反応は、基
本的に振動励起による反応であるから、本質的に熱反応
と同じであり、サイドリアクションが生じて目的物以外
の生成物が生成し、形成する上記潤滑剤層の構造制御が
困難となる場合がある。これに対して、紫外線を光源と
する紫外レーザは、電子励起により重合反応を起こすも
のであり、反応の選択性が良く、更には、熱反応の関与
が極めて低いため、サイドリアクションの生じるおそれ
が低い。従って、上記光CVDの際に用いる光源として
は、紫外線を用いることが好ましく、具体的には、例え
ば193nmのエキシマレーザ光等を好ましく用いるこ
とができる。
Examples of the light source that can be used in the photo CVD include ultraviolet rays and infrared rays. Here, the reaction by an infrared laser using infrared light as a light source is basically a reaction by vibration excitation, and is essentially the same as a thermal reaction, and a side reaction occurs to generate a product other than the target product. In some cases, it may be difficult to control the structure of the lubricant layer formed. On the other hand, an ultraviolet laser using an ultraviolet ray as a light source causes a polymerization reaction by electronic excitation, has good selectivity in the reaction, and further, since the thermal reaction is extremely low in involvement, side reaction may occur. Low. Therefore, it is preferable to use ultraviolet rays as a light source used in the photo-CVD, and specifically, for example, excimer laser light of 193 nm can be preferably used.

【0059】また、上記気相重合を行う際における被析
出物(即ち保護層及び磁性層が設けられた磁気記録媒
体)の温度は10〜90℃に設定されていることが好ま
しく、更には15〜50℃であることが好ましい。上記
範囲外であると上記潤滑剤層が形成されない場合がある
ので、上記範囲内とすることが好ましい。
The temperature of the deposit (that is, the magnetic recording medium provided with the protective layer and the magnetic layer) during the vapor phase polymerization is preferably set to 10 to 90 ° C., further 15 It is preferably -50 ° C. If the content is out of the above range, the lubricant layer may not be formed. Therefore, the content is preferably in the above range.

【0060】次に、上記の第1及び第2の重合工程につ
いて、図1を参照して更に具体的に説明する。ここで図
1は、上記潤滑剤層を形成する際に用いることのできる
光反応用のチャンバーを示す模式図である。
Next, the first and second polymerization steps described above will be described more specifically with reference to FIG. Here, FIG. 1 is a schematic diagram showing a photoreaction chamber that can be used when forming the lubricant layer.

【0061】図1に示す光反応用のチャンバー1は、そ
の上方の左右両側面に設けられたレーザ光を透過するレ
ーザ透過窓2と、下部に設けられた磁気記録媒体として
の磁気ディスク3(支持体上に上記磁性層及び上記保護
層が設けられたもの)を一定間隔をおいて立設させるこ
とができる媒体設置部材4と、上記チャンバー1の上部
に設けられたチャンバー内部の減圧及び大気解放を行う
ためのバルブ5とを有する。
The photoreaction chamber 1 shown in FIG. 1 is provided with a laser transmission window 2 for transmitting laser light, which is provided on both left and right side surfaces above the chamber 1, and a magnetic disk 3 (a magnetic recording medium provided below the window). A medium setting member 4 on which the above-mentioned magnetic layer and the above-mentioned protective layer are provided on a support) can be erected at regular intervals, and decompression and atmospheric air inside the chamber provided above the chamber 1. And a valve 5 for performing the release.

【0062】そして、上記の第1の重合工程に際して
は、先ず、上記バルブ5を真空ポンプ(図示せず)に接
続して、一旦、チャンバー1内を減圧して真空(例え
ば、1×10-5〜1Torr)にした後、上記フッ化炭
素系化合物及び酸素を導入して後述する真空条件とす
る。次に、エキシマレーザ光等を磁気ディスク3上部と
チャンバー天井との間の中央を透過し且つ該磁気ディス
ク3には当たらないように、図1に示す矢印方向に照射
する。上記真空条件とは、真空状態のチャンバー1内に
上記フッ化炭素系化合物と酸素とを導入した状態を意味
し、この状態におけるチャンバー1内の圧力は、5〜2
00Torrとすることが好ましい。また、上記潤滑剤
層が、磁気ディスク3の全面にわたって均一に形成され
るようにするために、上記媒体設置部材4は、各磁気デ
ィスク3をその円周方向に向けて回転させることができ
るようになされている。
In the first polymerization step, first, the valve 5 is connected to a vacuum pump (not shown) and the inside of the chamber 1 is temporarily depressurized to a vacuum (for example, 1 × 10 −2). 5 to 1 Torr), and then the above-mentioned fluorocarbon compound and oxygen are introduced to obtain a vacuum condition described later. Next, excimer laser light or the like is irradiated in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so as to pass through the center between the upper part of the magnetic disk 3 and the chamber ceiling and not hit the magnetic disk 3. The vacuum condition means a state in which the fluorocarbon compound and oxygen are introduced into the chamber 1 in a vacuum state, and the pressure in the chamber 1 in this state is 5 to 2
It is preferably set to 00 Torr. Further, in order to form the lubricant layer uniformly over the entire surface of the magnetic disk 3, the medium mounting member 4 can rotate each magnetic disk 3 in the circumferential direction. Has been done.

【0063】また、上記の第1の重合工程は、数回繰り
返されてもよい。
The above first polymerization step may be repeated several times.

【0064】次いで、上記の第2の重合工程に際して
は、上記の第1の重合工程の終了後、上記バルブ5を大
気開放して、該第1の重合工程における上記真空条件を
大気圧条件に戻して、チャンバー1内に水蒸気を導入し
た後、上記の第1の重合工程と同様に、減圧して真空に
した後、上記フッ化炭素系化合物及び酸素を導入して上
記真空条件とし、エキシマレーザー光等を照射する。こ
こで、第2の重合工程における「真空条件」も、上記の
第1の重合工程における「真空条件」と同じである。
Next, in the second polymerization step, after the completion of the first polymerization step, the valve 5 is opened to the atmosphere, and the vacuum condition in the first polymerization step is changed to the atmospheric pressure condition. After returning and introducing water vapor into the chamber 1, the pressure was reduced to a vacuum and then the fluorocarbon-based compound and oxygen were introduced to make the vacuum condition as in the first polymerization step. Irradiate with laser light. Here, the “vacuum condition” in the second polymerization step is the same as the “vacuum condition” in the first polymerization step.

【0065】また、本発明において、上記の水蒸気の導
入は、上述の如く、上記チャンバー1を大気圧条件とす
ることにより大気を導入して行うことが好ましい。この
際導入される該大気の相対湿度は、30〜90%である
ことが好ましく、40〜80%であることが更に好まし
い。
In the present invention, the introduction of the water vapor is preferably carried out by introducing the atmosphere by setting the chamber 1 under the atmospheric pressure condition as described above. The relative humidity of the air introduced at this time is preferably 30 to 90%, more preferably 40 to 80%.

【0066】また、上記の第2の重合工程も、数回繰り
返されてもよい。尚、上記の第2の重合工程の後に、再
度上記の第1の重合工程を行うこともできる。
The above second polymerization step may also be repeated several times. The first polymerization step may be performed again after the second polymerization step.

【0067】なお、上記第1及び第2の重合工程におい
てチャンバー1内に導入される上記フッ化炭素系化合物
は、同一でもよく又は異なっていてもよい。特に、上記
第1の重合工程において使用される上記フッ化炭素系化
合物が上記一般式(I)で表される化合物である場合に
は、上記第2の重合工程において使用される上記フッ化
炭素系化合物も上記一般式(I)で表される化合物であ
ることが好ましい。同様に、上記第1の重合工程におい
て使用される上記フッ化炭素系化合物が上記一般式(I
I)又は(III)で表される化合物である場合には、上記
第2の重合工程において使用される上記フッ化炭素系化
合物もそれぞれ上記一般式(II)又は(III)で表される
化合物であることが好ましい。最も好ましくは、上記第
1及び第2の重合工程において使用される上記フッ化炭
素系化合物は同じものである。
The fluorocarbon compounds introduced into the chamber 1 in the first and second polymerization steps may be the same or different. Particularly, when the fluorocarbon compound used in the first polymerization step is a compound represented by the general formula (I), the fluorocarbon used in the second polymerization step is used. The system compound is also preferably a compound represented by the above general formula (I). Similarly, the fluorocarbon-based compound used in the first polymerization step is represented by the general formula (I
When the compound is represented by I) or (III), the fluorocarbon compound used in the second polymerization step is also a compound represented by the general formula (II) or (III), respectively. Is preferred. Most preferably, the fluorocarbon-based compounds used in the first and second polymerization steps are the same.

【0068】尚、上記保護層及び上記潤滑剤層の形成以
外の工程に関しては、通常公知の磁気記録媒体の製造方
法と同様の方法を特に制限なく、採用することができ
る。
With respect to the steps other than the formation of the protective layer and the lubricant layer, the same method as a generally known method for producing a magnetic recording medium can be adopted without any particular limitation.

【0069】[0069]

【実施例】以下、実施例により本発明を更に具体的に説
明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the present invention is not limited thereto.

【0070】〔実施例1〕磁性層の作製 密度1.5g/cm3 のガラス状カーボン製のディスク
支持体(サイズ1.8インチ、厚さ25ミル)を研磨
し、中心線平均粗さRaを1.0nmにした。このディ
スク支持体上に、Arガス圧2mTorr、ディスク支
持体の温度を250℃の条件でDCマグネトロンスパッ
タリングにより100nm厚さのTi層を設けた。この
Ti層の表面はRaが1.0nmであった。次いで、A
rガス圧2mTorr、ディスク支持体の温度を260
℃の条件でDCマグネトロンスパッタリングによりTi
層上に20nm厚さのAl−10wt%Si合金のテクス
チャー層を設けた。尚、Ti層を設けず、基板上に直接
このAl−10wt%Si合金のテクスチャー層のみを形
成した後の表面はRaが1.8nmであった。次いで、
Al−Si合金のテクスチャー層上にArガス圧2mT
orr、ディスク支持体温度250℃の条件で、DCマ
グネトロンスパッタリングにより5nm厚さのアモルフ
ァスカーボンから成る第1の下地層を設けた。さらにD
CマグネトロンスパッタによりArガス雰囲気中で厚さ
50nmのTiから成る第2の下地層と厚さ50nmの
Crからなる第3の下地層を設け、その上に、厚さ40
nmのCoCrPt系の磁性層を設けた。なお、上記R
a(中心線平均粗さ)は、触針式粗さ計(TENCOR P2)に
より、下記の条件で測定した。 ・触針径:0.6μm(針曲率半径) ・触針押し付け圧力:7mg ・測定長:250μm×8ヶ所 ・トレース速度:2.5μm/秒 ・カットオフ:1.25μm(ローパスフィルタ)
Example 1 Preparation of Magnetic Layer A disk support made of glassy carbon (size 1.8 inch, thickness 25 mil) having a density of 1.5 g / cm 3 was polished to obtain a center line average roughness Ra. Was 1.0 nm. A Ti layer having a thickness of 100 nm was formed on the disk support by DC magnetron sputtering under the conditions of Ar gas pressure of 2 mTorr and the temperature of the disk support of 250 ° C. The surface of this Ti layer had Ra of 1.0 nm. Then A
r gas pressure 2 mTorr, disk support temperature 260
Ti by DC magnetron sputtering at ℃
A 20 nm thick Al-10 wt% Si alloy texture layer was provided on the layer. Incidentally, Ra was 1.8 nm on the surface after directly forming only the texture layer of the Al-10 wt% Si alloy on the substrate without providing the Ti layer. Then
Ar gas pressure 2mT on the texture layer of Al-Si alloy
A first underlayer made of amorphous carbon having a thickness of 5 nm was provided by DC magnetron sputtering under the conditions of orr and disk support temperature of 250 ° C. Furthermore D
A second underlayer made of Ti having a thickness of 50 nm and a third underlayer made of Cr having a thickness of 50 nm are provided in an Ar gas atmosphere by C magnetron sputtering, and a thickness of 40 is provided on the third underlayer.
A CoCrPt-based magnetic layer having a thickness of 1 nm was provided. The above R
The a (center line average roughness) was measured under the following conditions using a stylus roughness meter (TENCOR P2).・ Stylus diameter: 0.6μm (needle curvature radius) ・ Stylus pressing pressure: 7mg ・ Measuring length: 250μm x 8 places ・ Trace speed: 2.5μm / sec ・ Cutoff: 1.25μm (low pass filter)

【0071】保護層の作製 上記ディスク支持体をインライン型スパッタ装置のチャ
ンバー内に配置し、該チャンバー内を真空にした後に、
2mTorrのArを導入し、金属珪素を含有する黒鉛
をターゲット(珪素含有量:13原子%)としてスパッ
タリングを行い、上記磁性層上に厚さ15nmの保護層
を設けた。なお、スパッタリングの間、上記ディスク支
持体を180℃に維持した。この保護層は、85原子%
の炭素と15原子%の珪素とから成っていた。
Preparation of Protective Layer The above-mentioned disk support was placed in a chamber of an in-line type sputtering apparatus, and the inside of the chamber was evacuated.
2 mTorr of Ar was introduced, and sputtering was performed using graphite containing metallic silicon as a target (silicon content: 13 atomic%) to provide a protective layer having a thickness of 15 nm on the magnetic layer. The disk support was maintained at 180 ° C. during sputtering. This protective layer is 85 atomic%
Of carbon and 15 atomic% of silicon.

【0072】潤滑剤層の作製 上記保護層が形成されたディスク支持体を、CVD装置
である図1に示す光反応用のチャンバー1内に所定の間
隔を設けて図1に示すように並列配置し、チャンバー1
内を5×10- 2 Torrに排気した後、分圧が10T
orrのヘキサフルオロプロペン(CF3 CF=CF2)
と分圧が60Torrの酸素とを導入し、ArFエキシ
マレーザ(波長193nm)からのレーザ光(パワー1
50mJ、繰り返し速度2Hz)を12.5分間かけて
1500パルス照射し、第1の重合工程を1度行った。
Preparation of Lubricant Layer The disk supports on which the above-mentioned protective layer is formed are arranged in parallel in a photo-reaction chamber 1 shown in FIG. And chamber 1
The inner 5 × 10 - After evacuating to 2 Torr, partial pressure 10T
orr hexafluoropropene (CF 3 CF = CF 2)
And oxygen having a partial pressure of 60 Torr are introduced, and laser light (power of 1 nm) from the ArF excimer laser (wavelength 193 nm) is introduced.
The first polymerization step was performed once by irradiating 1500 pulses at 50 mJ and a repetition rate of 2 Hz for 12.5 minutes.

【0073】次いで、チャンバー1をリークして湿度6
0%の大気を導入し、大気圧条件にした。この後、再
び、チャンバー1内を5×10- 2 Torrに排気した
後、分圧が10Torrのヘキサフルオロプロペンと分
圧が60Torrの酸素とを導入し、上記レーザを1
2.5分間かけて1500パルス照射し、第2の重合工
程を1度行った。その結果、上記保護層上に厚さ3nm
の潤滑剤層を設けた。尚、上記レーザはディスク支持体
に直接照射されないよう、図1に示す矢印方向に向けて
照射した。また、上記光CVDに際して、ディスク支持
体の温度は室温(22℃)とした。
Then, the chamber 1 is leaked to a humidity of 6
Atmospheric pressure was introduced by introducing 0% air. Thereafter, again, the inside of the chamber 1 5 × 10 - After evacuating to 2 Torr, hexafluoropropene and partial pressures of the 10Torr is introduced and oxygen 60 Torr, the laser 1
The second polymerization step was performed once by irradiating 1500 pulses for 2.5 minutes. As a result, a thickness of 3 nm is formed on the protective layer.
Of the lubricant layer. The laser was applied in the direction of the arrow shown in FIG. 1 so that the laser was not directly applied to the disk support. In the photo-CVD, the temperature of the disk support was room temperature (22 ° C).

【0074】このようにして、図2に示す磁気記録媒体
10としての磁気ディスク、即ち、支持体11と、該支
持体11上に設けられたテクスチャー層16と、該テク
スチャー層16に設けられた下地層12a〜cと、該下
地層12a〜c上に設けられた磁性層13と、該磁性層
13上に設けられた保護層14と、該保護層14上に設
けられた潤滑剤層15とを具備し、該潤滑剤層15が、
該保護層14の表面に化学結合により重合体分子が固着
されてなる固定層15aと、該固定層15a上に形成さ
れたフリー層15bとからなる磁気ディスクを得た。
In this way, the magnetic disk as the magnetic recording medium 10 shown in FIG. 2, that is, the support 11, the texture layer 16 provided on the support 11, and the texture layer 16 were provided. Underlayers 12a to 12c, magnetic layers 13 provided on the underlayers 12a to 12c, a protective layer 14 provided on the magnetic layer 13, and a lubricant layer 15 provided on the protective layer 14. And the lubricant layer 15 comprises
A magnetic disk comprising a fixed layer 15a having polymer molecules fixed to the surface of the protective layer 14 by chemical bonding and a free layer 15b formed on the fixed layer 15a was obtained.

【0075】尚、上記潤滑剤層15が固定層15aとフ
リー層15bとからなることは、下記及びにより確
認した。 上記磁気ディスクをフロン113で10分間超音波洗
浄して、重量変化の有無を確認したところ、重量減少が
認められたこと。 上記の洗浄の後にESCA(VGサイエンス社製のE
SCALAB200C、AlKα線使用)分析して、磁
気ディスクの表面における上記重合体の分子の残存の有
無を確認したところ、残存が認められたこと。 その結果、上記固定層15aの厚さは2nmであり、上
記フリー層の厚さは1nmであった。
The fact that the lubricant layer 15 is composed of the fixed layer 15a and the free layer 15b was confirmed by the following and. The above magnetic disk was ultrasonically cleaned with Freon 113 for 10 minutes and checked for weight change. After the above washing, ESCA (E manufactured by VG Science Co., Ltd.
SCALAB200C, using AlKα ray) was analyzed to confirm the presence or absence of residual molecules of the polymer on the surface of the magnetic disk. As a result, the fixed layer 15a had a thickness of 2 nm, and the free layer had a thickness of 1 nm.

【0076】また、上記潤滑剤層15についてのESC
A分析によればClsについて294.7eV付近にピ
ークが認められ、これは市販のパープルオロポリエーテ
ル潤滑剤を用いて作成したデータベースにおける(CF
2 O)n ユニットのClsスペクトルと一致したので、
潤滑剤分子は主として−(CF2 O)n −の構造単位を
有するものであることが判った。尚、292及び289
eV付近にも小さなピークが観測されることから−(C
2 O)n −の構造単位以外の構造単位も少量共存する
と考えられる。
The ESC of the lubricant layer 15 is also
According to the A analysis, a peak was observed around 294.7 eV for Cls, which is (CF) in a database prepared using a commercially available purple oropolyether lubricant.
2 O) n unit was in agreement with the Cls spectrum,
Lubricant molecules primarily - (CF 2 O) n - was found to be those having a structural unit. 292 and 289
Since a small peak is observed near eV,-(C
It is considered that a small amount of structural units other than the structural unit of F 2 O) n − also coexist.

【0077】〔実施例2〕実施例1の保護層の作製にお
いて、金属珪素を含有する黒鉛ターゲットに代えて、以
下に述べるSiCを含有するガラス状炭素ターゲットを
用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い磁気ディス
クを作製した。
Example 2 Example 1 was repeated except that a glassy carbon target containing SiC described below was used in place of the graphite target containing metallic silicon in the production of the protective layer of Example 1. The same operation was performed to produce a magnetic disk.

【0078】SiCを含有するガラス状炭素ターゲット
の作製 フルフリルアルコール(花王クエーカー(株)製)10
00重量部に0.011NのHCl水溶液を5重量部添
加し、96℃で6時間反応させた後、減圧脱水して熱硬
化性樹脂を得た。この熱硬化性樹脂に一次粒子の平均粒
径が約20nmのSiC粒子を加え、ボールミルで分散
混合した。得られたフルフリルアルコール初期縮合物樹
脂100重量部に対して70重量%のp−トルエンスル
ホン酸水溶液1.5重量部を添加し、充分に撹拌した。
これを厚さ4mmの板状の型に注入して減圧脱泡した。次
に、50〜60℃で3時間、更に90℃で5時間加熱
し、板状の複合硬化樹脂を得た。この複合硬化樹脂を焼
成炉に入れ、窒素気流中にて10℃/hrの昇温速度で
1200℃まで昇温し、この温度で2時間保持した後に
冷却してSiCを含有するガラス状炭素を得た。このS
iCを含有するガラス状炭素を所定の形状に加工し、タ
ーゲットとした。このターゲットにおける珪素の含有量
は13原子%であった。
Glassy carbon target containing SiC
Preparation of furfuryl alcohol (Kao Quaker Co., Ltd.) 10
5 parts by weight of 0.011N HCl aqueous solution was added to 00 parts by weight, reacted at 96 ° C. for 6 hours, and then dehydrated under reduced pressure to obtain a thermosetting resin. SiC particles having an average primary particle size of about 20 nm were added to this thermosetting resin, and the particles were dispersed and mixed by a ball mill. To 100 parts by weight of the obtained furfuryl alcohol initial condensate resin, 1.5 parts by weight of a 70% by weight aqueous p-toluenesulfonic acid solution was added and sufficiently stirred.
This was poured into a plate-shaped mold having a thickness of 4 mm and degassed under reduced pressure. Next, it was heated at 50 to 60 ° C. for 3 hours and further at 90 ° C. for 5 hours to obtain a plate-shaped composite cured resin. This composite cured resin was put in a firing furnace, heated to 1200 ° C. at a temperature rising rate of 10 ° C./hr in a nitrogen stream, held at this temperature for 2 hours, and then cooled to obtain SiC-containing glassy carbon. Obtained. This S
Glassy carbon containing iC was processed into a predetermined shape and used as a target. The content of silicon in this target was 13 atomic%.

【0079】〔実施例3〕実施例1の保護層の作製にお
いて、2mTorrのArに代えて、分圧1.9mTo
rrのAr及び分圧0.1mTorrのメタンを導入し
て水素化された保護層を作製した以外は、実施例1と同
様の操作を行い磁気ディスクを作製した。
Example 3 In the production of the protective layer of Example 1, a partial pressure of 1.9 mTor was used instead of 2 mTorr of Ar.
A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1, except that Ar of rr and methane having a partial pressure of 0.1 mTorr were introduced to prepare a hydrogenated protective layer.

【0080】〔実施例4〕実施例2の保護層の作製にお
いて、2mTorrのArに代えて、分圧1.9mTo
rrのAr及び分圧0.1mTorrのメタンを導入し
て水素化された保護層を作製した以外は、実施例2と同
様の操作を行い磁気ディスクを作製した。
Example 4 In the production of the protective layer of Example 2, a partial pressure of 1.9 mTor was used instead of 2 mTorr of Ar.
A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 2, except that Ar of rr and methane having a partial pressure of 0.1 mTorr were introduced to produce a hydrogenated protective layer.

【0081】〔比較例1〕実施例1の保護層の作製にお
いて、金属珪素を含む黒鉛ターゲットに代えて、黒鉛タ
ーゲットを用い、潤滑剤層の作製において、光CVD気
相重合に代えて、以下に述べる浸漬法/プラズマ処理法
を用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い磁気ディ
スクを作製した。
Comparative Example 1 In the production of the protective layer of Example 1, a graphite target was used instead of the graphite target containing metallic silicon, and in the production of the lubricant layer, instead of photo-CVD vapor phase polymerization, A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 1 except that the dipping method / plasma treatment method described in 1. was used.

【0082】浸漬法/プラズマ処理法による潤滑剤層の
作製 保護層が形成されたディスク支持体を、パーフルオロポ
リエーテル系潤滑剤(モンテカチーニ社製の「Fomb
lin AM200l」、商品名)溶液に浸漬した。上
記溶液から取り出した後、低圧水銀灯(150W)を配
設した箱型チャンバ内に上記ディスク支持体を寝かせて
セットし、上記チャンバー内を真空排気した後、10T
orrのヘキサフルオロエタン及び10Torrのフッ
素を導入し、更に3Torrのパーフルオロプロペンを
導入した。引き続きArFエキシマレーザ(波長193
nm)からのレーザ光(パワー150mJ、繰り返し速
度2Hz)を石英レンズを介して集光してディスク支持
体の面に照射し、誘導破壊を5分間行い、ラジカル処理
を行って潤滑剤層を得た。得られた潤滑剤層の厚さは4
0Åで、固定層は39Å、フリー層は1Åであった。
Of the lubricant layer by the dipping method / plasma treatment method
The disk support on which the protective layer was formed was replaced with a perfluoropolyether lubricant (“Fomb” manufactured by Montecatini Co., Ltd.).
lin AM200l ”, trade name). After being taken out of the solution, the disk support was laid down in a box-shaped chamber in which a low pressure mercury lamp (150 W) was arranged, and the chamber was evacuated to 10T.
Ortho hexafluoroethane and 10 Torr fluorine were introduced, and further 3 Torr perfluoropropene was introduced. Continued ArF excimer laser (wavelength 193
nm) laser light (power 150 mJ, repetition rate 2 Hz) is condensed through a quartz lens and irradiated on the surface of the disk support, and induced destruction is performed for 5 minutes to perform radical treatment to obtain a lubricant layer. It was The thickness of the obtained lubricant layer is 4
It was 0Å, the fixed layer was 39Å, and the free layer was 1Å.

【0083】〔比較例2〕実施例3の保護層の作製にお
いて、金属珪素を含む黒鉛ターゲットに代えて、黒鉛タ
ーゲットを用い、潤滑剤層の作製において、光CVD気
相重合に代えて、比較例1における浸漬法/プラズマ処
理法を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行い磁気
ディスクを作製した。
Comparative Example 2 In the production of the protective layer of Example 3, a graphite target was used in place of the graphite target containing metallic silicon, and in the production of the lubricant layer, instead of photo-CVD vapor phase polymerization, a comparison was made. A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 3 except that the dipping method / plasma treatment method in Example 1 was used.

【0084】〔比較例3〕実施例1の保護層の作製にお
いて、金属珪素を含む黒鉛ターゲットに代えて、黒鉛タ
ーゲットを用いた以外は、実施例1と同様の操作を行い
磁気ディスクを作製した。
Comparative Example 3 A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 1 except that a graphite target was used instead of the graphite target containing metallic silicon in the preparation of the protective layer of Example 1. .

【0085】〔比較例4〕実施例3の保護層の作製にお
いて、金属珪素を含む黒鉛ターゲットに代えて、黒鉛タ
ーゲットを用いた以外は、実施例3と同様の操作を行い
磁気ディスクを作製した。
[Comparative Example 4] A magnetic disk was manufactured in the same manner as in Example 3 except that a graphite target was used instead of the graphite target containing metallic silicon in the production of the protective layer of Example 3. .

【0086】〔比較例5〕実施例3の潤滑剤層の作製に
おいて、光CVD気相重合に代えて、以下に述べるCV
D表面重合を用いた以外は、実施例3と同様の操作を行
い磁気ディスクを作製した。本比較例における潤滑剤層
の厚さは37Åであり、固定層は37Å、フリー層は0
Åであった。
[Comparative Example 5] In the production of the lubricant layer of Example 3, the CV described below was used instead of the photo-CVD vapor phase polymerization.
A magnetic disk was produced in the same manner as in Example 3 except that D surface polymerization was used. The thickness of the lubricant layer in this comparative example was 37Å, the fixed layer was 37Å, and the free layer was 0.
Was Å.

【0087】CVD表面重合による潤滑剤層の作製 特開平4−186524号公報に記載の実施例1に準じ
て潤滑剤層を作製した。即ち、上記磁性層及び上記保護
層が作製されたディスク支持体をチャンバ内に配置し、
真空排気した後、ヘキサフルオロプロペンと酸素との混
合ガス(1:1)を100Torr導入し、上記ディス
ク支持体を−20℃に冷却してから、上記ディスク支持
体に向けてArFエキシマレーザ(波長193nm)か
らのレーザ光(パワー150mJ、繰り返し速度2H
z)1500パルスを照射し、その後、チャンバを真空
に引きながら、上記ディスク支持体を室温にもどし、副
生成物である低分子量のフッ化炭素化合物を上記ディス
ク支持体から除去した。このようにして、上記保護層上
に潤滑剤層を作製した。
Preparation of Lubricant Layer by CVD Surface Polymerization A lubricant layer was prepared according to Example 1 described in JP-A-4-186524. That is, the disk support on which the magnetic layer and the protective layer are prepared is placed in a chamber,
After evacuation, a mixed gas of hexafluoropropene and oxygen (1: 1) was introduced at 100 Torr to cool the disk support to −20 ° C., and then an ArF excimer laser (wavelength: Laser light from 193 nm (power 150 mJ, repetition rate 2H
z) After irradiating 1500 pulses, while the chamber was evacuated, the disc support was returned to room temperature to remove a by-product, a low molecular weight fluorocarbon compound, from the disc support. In this way, a lubricant layer was formed on the protective layer.

【0088】〔性能評価〕実施例1〜4及び比較例1〜
5で得られた磁気ディスクについて以下に述べる手順に
てCSS(コンタクト・スタート・ストップ)テスト及
びGHT(グライドハイト)特性の測定を行った。その
結果を表1に示す。
[Performance Evaluation] Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1 to 1
The CSS (contact start stop) test and the GHT (glide height) characteristic of the magnetic disk obtained in Example 5 were measured by the following procedure. Table 1 shows the results.

【0089】CSSテスト Al2 3 ・TiCスライダヘッド(重量3.5g)を
用い、浮上量2.8マイクロインチ、磁気ディスクの回
転数4500rpmで5秒間駆動、5秒間停止のサイク
ルを繰り返して行い、静摩擦係数が0.6を超えた回数
を計測した。
CSS test Using an Al 2 O 3 .TiC slider head (weight: 3.5 g), a flying height of 2.8 micro inches, a magnetic disk rotation speed of 4500 rpm, and driving for 5 seconds were repeated for 5 seconds. The number of times the coefficient of static friction exceeded 0.6 was measured.

【0090】GHT特性 PROQUIP社製MG150Tを用い、50%スライ
ダヘッドを用いて行った。1.3マイクロインチの浮上
高さの通過率が90%以上のものをS、通過率が50〜
90%のものをA、通過率が30〜50%のものをB、
通過率が30%以下のものをCで表示した。
GHT characteristics MG150T manufactured by PROQUIP was used, and a 50% slider head was used. S with a flying rate of 90% or more at a flying height of 1.3 micro inches, and a passing rate of 50-
A of 90%, B of 30% to 50%,
Those having a passage rate of 30% or less are indicated by C.

【表1】 [Table 1]

【0091】表1に示す結果から明らかなように、本発
明の磁気記録媒体は、1.3マイクロインチという極め
て厳しいグライドハイト条件下でもCSS特性に優れた
ものであることが判る。即ち、本発明の磁気記録媒体
は、磁気ヘッドと磁性層との間のスペーシングロスを少
なくすることができ、電磁変換特性に優れるものであ
り、更には、耐久性にも優れたものである。これに対し
て、保護層の形成を黒鉛のターゲットを用いたPVDで
行った比較例3及び4では、CSS特性が上記実施例よ
りも劣っていることが判る。更に潤滑剤を塗布し、次い
でプラズマ処理、紫外線照射により潤滑剤層を形成した
比較例1及び2の磁気ディスクや、CVD表面重合によ
り潤滑剤層を形成した比較例5の磁気ディスクは、CS
S特性が上記実施例よりも極めて劣っていることが判
る。
As is clear from the results shown in Table 1, the magnetic recording medium of the present invention has excellent CSS characteristics even under the extremely severe glide height condition of 1.3 micro inches. That is, the magnetic recording medium of the present invention can reduce the spacing loss between the magnetic head and the magnetic layer, is excellent in electromagnetic conversion characteristics, and is also excellent in durability. . On the other hand, in Comparative Examples 3 and 4 in which the protective layer was formed by PVD using a graphite target, it can be seen that the CSS characteristics are inferior to those in the above Examples. The magnetic disks of Comparative Examples 1 and 2 in which a lubricant was further applied and then a lubricant layer was formed by plasma treatment and ultraviolet irradiation, and the magnetic disk of Comparative Example 5 in which a lubricant layer was formed by CVD surface polymerization were CS
It can be seen that the S characteristics are extremely inferior to the above examples.

【0092】[0092]

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体はグライドハイト
特性を満足しつつ、表面の摩擦係数が低く且つ耐久性に
優れたものである。また、本発明の磁気記録媒体の製造
方法によれば、本発明の磁気記録媒体を簡便に製造する
ことができる。
The magnetic recording medium of the present invention has a low friction coefficient on the surface and excellent durability while satisfying the glide height characteristic. Further, according to the method of manufacturing the magnetic recording medium of the present invention, the magnetic recording medium of the present invention can be easily manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の磁気記録媒体の製造方法に用いられる
反応容器の一例としての光反応用チャンバーを示す模式
図である。
FIG. 1 is a schematic view showing a photoreaction chamber as an example of a reaction container used in the method for producing a magnetic recording medium of the present invention.

【図2】本発明の磁気記録媒体の一例を示す概略断面図
である。
FIG. 2 is a schematic sectional view showing an example of a magnetic recording medium of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 チャンバー 2 レーザー透過窓 3 磁気ディスク 4 媒体設置部材 5 バルブ 10 磁気記録媒体 11 支持体 12 下地層 12a第1の下地層 12b第2の下地層 12c第3の下地層 13 磁性層 14 保護層 15 潤滑剤層 15a固定層 15bフリー層 1 Chamber 2 Laser Transmission Window 3 Magnetic Disk 4 Medium Setting Member 5 Valve 10 Magnetic Recording Medium 11 Support 12 Underlayer 12a First Underlayer 12b Second Underlayer 12c Third Underlayer 13 Magnetic Layer 14 Protective Layer 15 Lubricant layer 15a Fixed layer 15b Free layer

Claims (11)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 支持体と、該支持体上に設けられた磁性
層と、該磁性層上に設けられた保護層と、該保護層上に
設けられた潤滑剤層とを具備する磁気記録媒体におい
て、 上記保護層は、炭素及び珪素の複合材料から成り、 上記潤滑剤層は、気相重合により得られた重合体により
形成されており、且つ上記保護層上に固着された固定層
と該固定層上に形成されたフリー層とからなることを特
徴とする磁気記録媒体。
1. A magnetic recording comprising a support, a magnetic layer provided on the support, a protective layer provided on the magnetic layer, and a lubricant layer provided on the protective layer. In the medium, the protective layer is made of a composite material of carbon and silicon, the lubricant layer is formed of a polymer obtained by gas phase polymerization, and a fixed layer fixed on the protective layer. A magnetic recording medium comprising a free layer formed on the fixed layer.
【請求項2】 上記潤滑剤層が、フッ化炭素系化合物と
酸素との気相重合により形成されることを特徴とする請
求項1記載の磁気記録媒体。
2. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the lubricant layer is formed by vapor phase polymerization of a fluorocarbon compound and oxygen.
【請求項3】 上記フッ化炭素系化合物が、下記一般式
(I)〜(III)で表される化合物から成る群から選択さ
れることを特徴とする請求項2記載の磁気記録媒体。 CF2 =CFRf 1 ・・・・(I) (式中、Rf 1 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す) CF2 =C(Rf 2)(Rf 3)・・・・(II) (式中、Rf 2 及びRf 3 は、同一の又は異なる水素原
子、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオ
ロアルケニル基、部分フッ素化アルキル基、部分フッ素
化アルケニル基、パーフルオロアリール基又は部分フッ
素化アリール基を示す) CF2 =CFO(Rf 4)・・・・(III) (式中、Rf 4 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基、部分フッ素化アリール基又はパーフルオロアルコキ
シアルキル基を示す)
3. The magnetic recording medium according to claim 2, wherein the fluorocarbon compound is selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (I) to (III). CF 2 = CFR f 1 ... (I) (In the formula, R f 1 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, or perfluoroaryl. Group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═C (R f 2 ) (R f 3 ) ... (II) (In the formula, R f 2 and R f 3 are the same or different hydrogen atoms. , A fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═CFO (R f 4 ) ... · (III) (In the formula, R f 4 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group, a moiety. Represents a fluorinated aryl group or a perfluoroalkoxyalkyl group)
【請求項4】 上記重合体が、主として−(CF2 O)
−の構造単位を有することを特徴とする請求項1記載の
磁気記録媒体。
4. The polymer is mainly-(CF 2 O).
The magnetic recording medium according to claim 1, having a structural unit of-.
【請求項5】 上記炭素がガラス状炭素に由来する炭素
であることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
5. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the carbon is derived from glassy carbon.
【請求項6】 上記保護層が水素化されていることを特
徴とする請求項1記載の磁気記録媒体。
6. The magnetic recording medium according to claim 1, wherein the protective layer is hydrogenated.
【請求項7】 請求項1記載の磁気記録媒体の製造方法
であって、 珪素を含有する炭素から成るターゲットを用いたフィジ
カルベーパーデポジション法により、炭素及び珪素の複
合材料から成る保護層を形成し、 潤滑剤層の形成に際して、真空条件下で気相重合を行
い、フッ化炭素系化合物と酸素とを重合させて潤滑剤層
を形成する第1の重合工程と、水蒸気を導入した後、真
空条件下で気相重合を行い、フッ化炭素系化合物と酸素
とを重合させて潤滑剤層を形成する第2の重合工程と
を、順次行うことを特徴とする磁気記録媒体の製造方
法。
7. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 1, wherein a protective layer made of a composite material of carbon and silicon is formed by a physical vapor deposition method using a target made of carbon containing silicon. Then, in forming the lubricant layer, vapor phase polymerization is performed under vacuum conditions to form a lubricant layer by polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen, and after introducing water vapor, A method for producing a magnetic recording medium, which comprises sequentially performing a vapor phase polymerization under a vacuum condition and polymerizing a fluorocarbon compound and oxygen to form a lubricant layer.
【請求項8】 上記の水蒸気の導入を、上記の第1の重
合工程の終了後、該第1の重合工程における真空条件を
大気圧条件下に戻すことにより行うことを特徴とする請
求項7記載の磁気記録媒体の製造方法。
8. The method according to claim 7, wherein the introduction of the steam is performed by returning the vacuum condition in the first polymerization step to the atmospheric pressure condition after the completion of the first polymerization step. A method for manufacturing the magnetic recording medium described.
【請求項9】 上記フッ化炭素系化合物が、下記一般式
(I)〜(III )で表される化合物から成る群から選択
されることを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体の
製造方法。 CF2=CFRf 1 ・・・・(I) (式中、Rf 1 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基又は部分フッ素化アリール基を示す) CF2 =C(Rf 2)(Rf 3)・・・・(II) (式中、Rf 2 及びRf 3 は、同一の又は異なる水素原
子、フッ素原子、パーフルオロアルキル基、パーフルオ
ロアルケニル基、部分フッ素化アルキル基、部分フッ素
化アルケニル基、パーフルオロアリール基又は部分フッ
素化アリール基を示す) CF2 =CFO(Rf 4)・・・・(III) (式中、Rf 4 は、フッ素原子、パーフルオロアルキル
基、パーフルオロアルケニル基、部分フッ素化アルキル
基、部分フッ素化アルケニル基、パーフルオロアリール
基、部分フッ素化アリール基又はパーフルオロアルコキ
シアルキル基を示す)
9. The magnetic recording medium according to claim 7, wherein the fluorocarbon compound is selected from the group consisting of compounds represented by the following general formulas (I) to (III). Method. CF 2 = CFR f 1 ... (I) (In the formula, R f 1 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, or perfluoroaryl. Group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═C (R f 2 ) (R f 3 ) ... (II) (In the formula, R f 2 and R f 3 are the same or different hydrogen atoms. , A fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group or a partially fluorinated aryl group) CF 2 ═CFO (R f 4 ) ... · (III) (In the formula, R f 4 is a fluorine atom, a perfluoroalkyl group, a perfluoroalkenyl group, a partially fluorinated alkyl group, a partially fluorinated alkenyl group, a perfluoroaryl group, a moiety. Represents a fluorinated aryl group or a perfluoroalkoxyalkyl group)
【請求項10】 上記ターゲットが珪素を含有するガラ
ス状炭素から成ることを特徴とする請求項7記載の磁気
記録媒体の製造方法。
10. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 7, wherein the target is made of glassy carbon containing silicon.
【請求項11】 H原子を有する化合物とArとを含む
ガス雰囲気下で、上記フィジカルベーパーデポジション
法を行うことを特徴とする請求項7記載の磁気記録媒体
の製造方法。
11. The method of manufacturing a magnetic recording medium according to claim 7, wherein the physical vapor deposition method is performed in a gas atmosphere containing a compound having an H atom and Ar.
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